CN105764651A - 用于校准盘抛光机的测力传感器的系统和方法 - Google Patents

用于校准盘抛光机的测力传感器的系统和方法 Download PDF

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CN105764651A CN201480051817.XA CN201480051817A CN105764651A CN 105764651 A CN105764651 A CN 105764651A CN 201480051817 A CN201480051817 A CN 201480051817A CN 105764651 A CN105764651 A CN 105764651A
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Abstract

本申请提供用于执行设置在盘抛光机内的测力传感器的原地测试的系统和方法。一种此类系统包括附接至盘抛光机的部件的测力传感器托架，其中，所述测力传感器安装在所述测力传感器托架内并具有力测量表面。所述测力传感器托架可以经取向，使得所述力测量表面面向与重力方向大约相反的方向。所述系统还可以包括预选砝码和砝码支架，所述砝码支架经构造容纳预选砝码、安装至所述测力传感器托架并与所述测力传感器对齐。所述预选砝码可以放置在所述砝码支架内和所述测力传感器的力测量表面上。根据需要，可以测试、校准和/或替换所述测力传感器。

Description

用于校准盘抛光机的测力传感器的系统和方法
技术领域
盘抛光/擦拭机器往往用来抛光/擦拭盘表面的两侧(诸如，经制造用于硬盘驱动器的磁记录系统的盘基片)，以确保去除颗粒和其它碎屑，从而使盘表面更清洁。在此过程中，盘被夹紧至心轴，在抛光过程中，所述心轴转动所述盘。在所述盘正在旋转时，带有非常精细研磨带的抛光单元的接触辊(垫)的两侧同时向所述盘表面移动，并且以一定的压力/力促使所述带表面抵靠所述盘表面以抛光所述盘表面的两侧。从而去除和/或减少在所述盘表面上的颗粒。在以类似的方式操作的后续处理步骤中，可以应用带有编织棉带的擦拭单元以去除被抛光盘表面上的碎屑，因此使得盘表面更光滑和清洁。
背景技术
在抛光/擦拭过程中，用于过程质量的显著参数是由抛光/擦拭单元通过接触辊或垫施加在所述盘表面上的加载力。为了高产品产率和积极的测试结果，最好是所施加的加载力非常精确和一致。更具体而言，最好是面与面的加载力变化和机器与机器的加载力变化是最小的或不存在的。为了实现这一点，需要精确和重复地校准测量加载力的测力传感器。
在常用的抛光/擦拭机器中，小的测力传感器被紧紧粘在测力传感器托架中，所述测力传感器托架以垂直方向附接至载荷力调节机构。测力传感器的控制和反馈线路通过各种机器部件路由，并因此隐藏在里面。因此，由于多种原因，可能难以校准测力传感器。首先，在抛光机中的空间限制往往不允许使用现有的测力传感器校准工具。其次，测力传感器体积小并往往垂直定位在抛光机中，使得在不拆卸它的情况下，校准极其困难或几乎不可能。同时，测力传感器被紧紧粘至测力传感器托架，因此拆卸它很可能会损坏测力传感器。第三，测力传感器控制/反馈线路被隐藏在机器内部，断开此线路是麻烦的。第四，有效作为测力传感器的力测量表面的测力传感器表面上的小突出部可能使得在所述突出部上平衡任何校准工具变得困难。还没有开发出有效解决这些问题的校准方法或工具。
由于这些原因，用于这类测力传感器的校准方法是盘制造行业高度期望的。另外，期望可行的任何此类校准方法具有高精度和良好的可重复性。
附图说明
图1是用于进行盘抛光机的测力传感器的现场测试的校准系统的示意横截面视图，其中校准系统包含根据本发明的一个实施例的砝码支架、砝码和盘抛光机的各种部件。
图2是根据本发明的一个实施例的图1的测力传感器校准系统的砝码的横截面视图。
图3a是根据本发明的一个实施例的图1的测力传感器校准系统的砝码支架和砝码的顶部透视图，其中，所述砝码支架包括加工孔和调节螺钉且与所述砝码隔开。
图3b是根据本发明的一个实施例的图1的测力传感器校准系统的砝码支架和砝码的底部透视图。
图3c是根据本发明的一个实施例的在砝码已插入砝码支架的加工孔之后的图1的测力传感器校准系统的砝码支架和砝码的顶部透视图。
图4a-4d根据本发明的一个实施例示出在用于测试盘抛光机内的测力传感器的原地过程期间的盘抛光机、砝码支架和砝码的一系列透视图。
具体实施方式
现参考附图，其示出用于执行设置在盘抛光机内的测力传感器的原地测试的系统和方法的实施例。所述系统可以包括附接至盘抛光机的部件的测力传感器托架，其中，待测试的测力传感器安装在所述测力传感器托架内并具有力测量表面。所述测力传感器托架可以经安置，使得所述测力传感器的力测量表面面向与重力方向大约相反的方向。所述系统还可以包括预选砝码和经构造容纳所预选砝码的砝码支架，其中，所述砝码支架经构造安装至所述测力传感器托架并与所述测力传感器对齐。一旦砝码支架已经安装和对齐，预选砝码可以安置在所述砝码支架内，并且在所述测力传感器的力测量表面上。根据需要，可以测试、校准和/或替换所述测力传感器。
所述方法可以包括：提供附接至所述盘抛光机的部件的测力传感器托架，其中，所述测力传感器安装在所述测力传感器托架内并具有力测量表面，移动所述测力传感器托架，使得所述测力传感器的力测量表面面向与重力方向大约相反的方向，在所述测力传感器托架上对齐和安装砝码支架，在所述砝码支架内和所述测力传感器的力测量表面上安装预选砝码，并确定所述测力传感器的重量测量是否在所预选砝码的重量的预选公差内。在一些实施例中，如果所述测力传感器不在所预选的重量公差内，则可以替换所述测力传感器。
所述系统和方法可以提供具有良好可重复性的快速、现场精确校准。在若干实施例中，所述砝码支架经构造在精确加工的圆孔中容纳校准砝码。这个孔保持所述砝码，并且还使所述砝码在所述测力传感器的突出部(例如，力测量表面)上平衡。所述精确加工孔和在突出部上的适当平衡的能力可以实现精确且可重复的加载力读数。
根据本公开，本领域的技术人员应当明白，虽然各种示例性制造方法在本文参考磁记录盘来讨论，但是具有某些更改或没有更改的方法可以用于制造其它类型的记录盘，例如，光记录盘，诸如光盘(CD)和数字多功能盘(DVD)或磁光记录盘或铁电数据存储装置。
图1是根据本发明的一个实施例的用于执行盘抛光机的测力传感器102的原地测试的校准系统100的横截面视图，其中，所述校准系统100包括砝码支架104、砝码106和盘抛光机的各种部件。砝码支架104包括圆孔104a，其被精确加工用于容纳砝码106。砝码支架104安装在抛光机的测力传感器托架108上。测力传感器托架108安装至盘抛光机的一个或多个其它部件110。测力传感器102被粘至测力传感器托架108内并从而有效嵌入所述测力传感器托架。测力传感器102通过传感器线路114耦接至数字指示器112。砝码106已被放置在砝码支架104的加工孔104a内，并且置于测力传感器102的测量表面102a上(例如，位于中心的小突出部的顶部表面上)。校准系统的用户可以从这个位置确定测力传感器102的所测重量是否在砝码106(例如，具有熟知和精确确定重量的预选砝码)的预选公差内。如果所测的重量不在预选公差内，则用户可以替换所述测力传感器。在一些实施例中，用户可代替地再次校准测力传感器102和/或数字指示器110以便具有基于测力传感器102的误差度的更精确的读数。
图2是根据本发明的一个实施例的图1的测力传感器校准系统100的砝码106的横截面视图。砝码106经精确加工以具有适于与砝码支架104的加工孔104a间隙配合的高度(H)和直径(D)。在多个实施例中，砝码106具有支持另外砝码116的平坦或大致平坦的顶部表面。
图3a是图1的测力传感器校准系统100的砝码支架104和砝码106的顶部透视图，其中根据本发明的一个实施例，砝码支架104包括加工孔104a和调节螺钉104b且与砝码106隔开。在操作中，调节螺钉104b可以用于将砝码支架104固定至测力传感器托架108。一旦砝码支架104安装至测力传感器托架108，则砝码106可以放置在孔104a中并放置在测力传感器102上(例如参见图1的构造)，使得可以精确测试所述测力传感器。
至于砝码支架104的圆形加工孔104a的设计，加工孔104a起砝码外壳和砝码106的导向装置的作用。因此，在若干实施例中，它可以被精确加工。例如，在若干实施例中，所述孔应当用允许的尺寸公差(直径、高度)、形状公差和位置公差(例如，圆形度、圆柱度和垂直度公差)来精确加工，以确保砝码106在测力传感器102a上平衡或大致平衡。
在一些实施例中，限定孔104a的侧表面应当被加工得足够光滑，以允许所述砝码以平滑的方式且相对小间隙地插入内部。在若干实施例中，所述孔的高度应当被适当地控制(不太高和不太低)以避免使所述砝码倾斜，并且从而在测力传感器指示器上生成不精确的读数。
在一个实施例中，例如，加工孔104a具有正负15微米(例如，约15微米)的圆度公差、正负15微米(例如，约15微米)的圆柱度公差、小于1.6微米(例如，约1.6微米)的平均表面粗糙度(Ra)以及正负15微米(例如，约15微米)的相对于所述孔的底部表面的垂直度公差。孔104a也可以具有正负20微米(例如，约20微米)的位置公差。其中，在此使用的术语“约”描述本领域内可能会预期的参数、5％-10％的公差或其它定制公差。
在一个实施例中，砝码支架104的各表面中的每个表面可以具有正负25微米(例如，约25微米)的平面度公差。在一个实施例中，砝码106可以具有正负15微米(例如，约15微米)的圆度公差、正负15微米(例如，约15微米)的圆柱度公差以及小于1.6微米(例如，约1.6微米)的平均表面粗糙度(Ra)。
在其它实施例中，砝码支架104和砝码106可以具有其它合适的公差。
砝码106可以经设计为如图3a和图2所示(也可以参见图3b和图3c)。在若干实施例中，所示的砝码提供了用一个或多个砝码校准所述测力传感器的解决方案。就是说，额外的砝码可以放置在砝码106的顶部表面上以确保更大总体重量的适当校准。
在如图3a和图2所示的实施例中，砝码106具有由第一圆柱部和第二圆柱部限定的预选形状，其中，第一圆柱部(例如，头部)的直径大于第二圆柱部(例如，轴部)的直径。在此情况下，第二圆柱/轴部经构造以在孔104a内配合，以及第一圆柱/头部包括经构造支持第二砝码的基本上平坦的顶部表面区域。
至于砝码106的第二圆柱部(例如，轴部)，它可以以如上所述的可允许的尺寸公差、形状和位置公差以及良好的平滑度来精确加工。在若干实施例中，所述砝码的轴部的直径应当经加工稍微小于砝码支架104的孔104a的直径，同时期望所述轴部的高度稍微大于所述孔的高度，以避免在校准期间使所述头部倚靠在所述砝码支架上。在一个实施例中，砝码106具有正负0.1克(例如，约0.1克)的重量公差。
如上所述，砝码106可以经设计以具有允许添加额外的砝码的平坦顶部表面以用于对测力传感器102进行一系列的加载力校准。例如，在一些实施例中，校准过程可包括以20克的砝码开始并接着添加另外的10或20克砝码一直达到约100克。在一个此类实施例中，20、40和60克的砝码可以用于校准。在一些实施例中，砝码顶部表面可以具有有利于支持一个或多个精确的砝码的其它形状。例如，在一个实施例中，砝码具有简单的圆柱形状。
图3b是根据本发明的一个实施例的图1的测力传感器校准系统100的砝码支架104和砝码106的底部透视图。如图3a和图3b所可以看到的，砝码支架104具有主体，所述主体是具有顶部表面和底部表面的矩形块形状，其中，孔104a从顶部表面延伸到底部表面，并且其中，顶部表面和底部表面中的每个都具有比所述块形状的其它侧面更大的表面面积。另外，砝码支架104具有沿底部表面的较长边缘从主体的底部表面延伸的两个侧壁。砝码支架104的孔104a包括在底部表面的沉头孔部104c。这个沉头孔部104c可以提供间隙以确保在对齐和安装后砝码支架104不接触测力传感器102(参见图1)。调节螺钉104b可通过转动螺钉104b穿过砝码支架104的一个侧壁内的螺纹孔推进。
至于定位表面(例如，将与测力传感器托架接触的底部表面)的设计，它的形状经设计有效配合测力传感器托架108的顶部表面(参见图1)。调节螺钉104b提供微调和水平固定砝码支架104的能力(参见图3a-3c)。更具体地，调节螺钉104b可以向测力传感器托架108提供侧向力，以将砝码支架104固定至测力传感器托架108和/或在测力传感器102上对齐砝码支架104的孔104a(也参见图4c)。
在多个实施例中，砝码支架104经成形(例如，具有孔104a和沉头孔部104c的定位表面)，使得砝码支架104在对齐后不接触测力传感器102。
图3c是根据本发明的一个实施例的在砝码106已插入砝码支架104的加工孔104a之后的图1的测力传感器校准系统100的砝码支架104和砝码106的顶部透视图。
图4a-4d示出根据本发明的一个实施例的在用于测试盘抛光机200内的测力传感器202的原地过程300期间的盘抛光机200、砝码支架204和砝码206的一系列透视图。
在图4a中，过程300首先提供(302)盘抛光机200，其经构造抛光盘并包括附接至盘抛光机200的部件的测力传感器托架208。在此情况下，测力传感器202(在图4a中不可见但是在图4b和图4c中可见)被安装在测力传感器托架208内，并且包括力测量表面202a(在图4a中不可见但是在图4b和图4c中可见)。在过程的这个阶段(302)，测力传感器托架208垂直取向，使得测力传感器202虽然不可见，但是垂直取向以测量指向测力传感器托架208的与弹簧加载轴相关联的力。
在图4b中，所述过程移动/转动(304)测力传感器托架208，使得测力传感器202的力测量表面202a(例如，中心突出部)面向与重力的方向大致相反的方向。在此情况下，测力传感器托架208和测力传感器202已经被有效地水平取向。在若干实施例中，测力传感器托架208的这种调节可以使其准备容纳砝码支架并且最终容纳校准砝码。在一个实施例中，测力传感器托架208的移动/转动可以包括轻轻拆卸托架208和相关的弹簧加载轴。
在图4c中，所述过程使砝码支架204在测力传感器托架208上对齐和安装(306)。调节螺钉204b可以用于将砝码支架204固定安装至测力传感器托架208。用户可能使用调节螺钉204b来使砝码支架204的孔204a对齐在测力传感器202的正上方。
在图4d中，所述过程将预选砝码206安装(308)在砝码支架204内和所述测力传感器(在图4d中不可见，但是在图4b中见202)的力测量表面(在图4d中不可见，但是在图4b中见202a)上。在若干实施例中，所述过程接着确定(310)测力传感器的重量测量是否在预选砝码206的预期重量的预选公差内。在许多实施例中，如果所述测量不在预期重量的预选公差内，则测力传感器被替换。在其它实施例中，测力传感器和/或显示器可被校准和调节以补偿测力传感器的不精确性。
在若干实施例中，校准过程300可有利地不需要拆卸盘抛光机。
在一个实施例中，所述过程可以以不同次序执行所述顺序的动作。在另一个实施例中，所述过程可以省略一个或多个动作。在其它实施例中，可以同时执行一个或多个动作。在一些实施例中，可以执行附加的动作。
本发明的实施例可以提供许多优点。例如，在若干实施例中，本发明提供高精确度和良好的可重复性，其中，本文所述的方法的实施例将校准的砝码用作量器并且将精确加工的圆孔用作砝码导向装置，以确保精确和可重复的校准。在若干实施例中，本发明实现了原地校准而无需拆卸测力传感器。更具体地，这些实施例可以适应盘抛光机的有限空间并且不需要完全拆卸测力传感器和/或其控制/反馈线路，这使得现有机器的测力传感器数字指示器可用于校准。除了其它事情之外，这避免引入另外的指示器并实现了快速的原地校准。
在若干实施例中，本发明也可以包括设计和制造的简化，其中，校准工具可以仅由圆柱形砝码及其保持夹具有效地组成。在此情况下，校准工具可以以相对低的成本易于制造。在若干实施例中，可以很容易采用本文所述的校准工具，使得校准工具提供容易和实际可行的方式来定位(例如，附接至)测力传感器托架。在若干实施例中，通过将标准砝码直接添加在砝码的平坦顶部表面上，本文所述的校准工具很容易提供一系列加载力的校准。
虽然上述描述包括本发明的许多具体实施例，但是这些不应解释为用于限制本发明的范围，而仅仅是具体实施例的示例。因此，本发明的范围不应当由所示的实施例来确定，而是由附属的权利要求及其等同权利要求来确定。
上述的各种特征和过程可以彼此单独使用，或可以以各种方式组合。所有可能的组合和子组合旨在落入本公开的范围内。此外，在某些实施中，可省略特定方法、事件、状态或过程块。本文所述的方法和过程也不限于任何特定顺序，并且与此有关的块或状态可以以其他适当的顺序执行。例如，所描述的任务或事件可以以不同于具体公开的次序的次序执行，或多个任务或事件可以被组合在单个块或状态中。示例任务或事件可以以串行、并行或以某些其它合适的方式执行。任务或事件可被添加到所公开的示例实施例中或从所公开的示例实施例去除。本文所述的示例系统和部件可以不同于所描述的来构造。例如，与所公开的示例实施例相比，元件可以被添加、去除或重新布置。

Claims (28)

1.一种用于执行盘抛光机的测力传感器的原地测试的系统，所述系统包括：
经构造抛光盘的盘抛光机，所述盘抛光机包括：
测力传感器托架，其附接至所述盘抛光机的部件；以及
其中，所述测力传感器安装在所述测力传感器托架内并包括力测量表面，以及
其中，所述测力传感器托架经构造取向使得所述测力传感器的力测量表面面向与重力方向大约相反的方向；
预选砝码；以及
砝码支架，其经构造容纳所述预选砝码，其中所述砝码支架经构造安装至所述测力传感器托架并与所述测力传感器对齐，
其中所述预选砝码经构造放置在所述砝码支架内和所述测力传感器的力测量表面上。
2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述砝码支架包括用于容纳所述预选砝码的孔。
3.根据权利要求2所述的系统，其中，所述砝码支架的孔包括圆柱形的形状并经加工以具有：
正负约15微米的圆度公差，
正负约15微米的圆柱度公差，
小于约1.6微米的平均表面粗糙度，以及
正负约15微米的相对于所述孔的底部表面的垂直度公差。
4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述预选砝码包括正负约0.1克的重量公差。
5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述砝码支架经成形使得所述砝码支架在对齐后不接触所述测力传感器。
6.根据权利要求5所述的系统：
其中，所述砝码支架包括用于容纳所述预选砝码的孔；
其中，所述砝码支架的孔包括在所述孔的端部的沉头孔部，所述端部经构造毗邻所述测力传感器安装；以及
其中，所述沉头孔部提供间隙以确保所述砝码支架在对齐后不接触所述测力传感器。
7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述预选砝码包括经构造支持第二预选砝码的基本上平坦的顶部表面区域。
8.根据权利要求1所述的系统：
其中，所述预选砝码包括第一圆柱部和第二圆柱部；
其中，所述第一圆柱部的直径大于所述第二圆柱部的直径；
其中，所述第二圆柱部经构造以在所述孔内配合；以及
其中，所述第一圆柱部包括经构造支持第二预选砝码的基本上平坦的顶部表面区域。
9.根据权利要求1所述的系统，其中，所述砝码支架包括调节螺钉，其用于使所述砝码支架和所述测力传感器对齐并将所述砝码支架安装至所述测力传感器托架。
10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述砝码支架包括：
具有矩形块形状的主体，所述矩形块形状具有顶部表面和底部表面，其中，孔从所述顶部表面延伸至所述底部表面，并且其中，所述顶部表面和底部表面中的每个都具有比所述块形状的其它侧面的面积更大的表面面积；以及
沿所述底部表面的较长边缘从所述主体的底部表面延伸的两个侧壁，
其中，所述砝码支架的孔包括在所述底部表面的沉头孔部。
11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述砝码支架包括穿过所述两个侧壁中的一个侧壁内的孔的调节螺钉，所述调节螺钉用于使所述砝码支架和所述测力传感器对齐并将所述砝码支架安装至所述测力传感器托架。
12.根据权利要求1所述的系统，其中，所述盘抛光机还包括测力传感器指示器，其经构造显示对应于施加至所述测力传感器的力测量表面的力的重量。
13.根据权利要求1所述的系统，其中，所述盘包括经构造存储信息的磁记录层。
14.一种用于执行盘抛光机的测力传感器的原地测试的方法，所述方法包括：
提供经构造抛光盘的盘抛光机，所述盘抛光机包括：
附接至所述盘抛光机的部件的测力传感器托架；并且
其中，所述测力传感器安装在所述测力传感器托架内并包括力测量表面，
移动所述测力传感器托架，使得所述测力传感器的力测量表面面向与重力方向大约相反的方向；
在所述测力传感器托架上对齐并安装砝码支架；
在所述砝码支架内和所述测力传感器的力测量表面上安装预选砝码；以及
确定所述测力传感器的重量测量是否在所述预选砝码的重量的预选公差内。
15.根据权利要求14所述的方法，还包括如果所述测力传感器的重量测量不在所述预选公差内，则替换所述测力传感器。
16.根据权利要求14所述的方法，其中，所述砝码支架包括用于容纳所述预选砝码的孔。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述砝码支架的孔包括圆柱形的形状并经加工具有：
正负约15微米的圆度公差，
正负约15微米的圆柱度公差，
小于约1.6微米的平均表面粗糙度，以及
正负约15微米的相对于所述孔的中心线的垂直度公差。
18.根据权利要求14所述的方法，其中，所述预选砝码包括正负约0.1克的重量公差。
19.根据权利要求14所述的方法，其中，所述砝码支架经成形使得所述砝码支架在对齐后不接触所述测力传感器。
20.根据权利要求19所述的方法：
其中，所述砝码支架包括用于容纳所述预选砝码的孔；
其中，所述砝码支架的孔包括毗邻所述测力传感器安装的在所述孔的端部的沉头孔部；以及
其中，所述沉头孔部提供间隙以确保所述砝码支架在对齐后不接触所述测力传感器。
21.根据权利要求14所述的方法，其中，所述预选砝码包括经构造支持第二预选砝码的基本上平坦的顶部表面区域。
22.根据权利要求14所述的方法：
其中，所述预选砝码包括第一圆柱部和第二圆柱部；
其中，所述第一圆柱部的直径大于所述第二圆柱部的直径；
其中，所述第二圆柱部经构造在所述孔内配合；以及
其中，所述第一圆柱部包括经构造支持第二预选砝码的基本上平坦的顶部表面区域。
23.根据权利要求14所述的方法，其中，所述砝码支架包括调节螺钉，其用于使所述砝码支架和所述测力传感器对齐并将所述砝码支架安装至所述测力传感器托架。
24.根据权利要求14所述的方法，其中，所述砝码支架包括：
具有矩形块形状的主体，所述矩形块形状具有顶部表面和底部表面，其中，孔从所述顶部表面延伸到所述底部表面，并且其中所述顶部表面和底部表面中的每个都具有比所述块形状的其它侧面的面积的更大的表面面积；以及
沿所述底部表面的较长边缘从所述主体的底部表面延伸的两个侧壁，
其中，所述砝码支架的孔包括在所述底部表面内的沉头孔部。
25.根据权利要求24所述的方法，其中，所述砝码支架包括穿过所述两个侧壁中的一个侧壁内的孔的调节螺钉，所述调节螺钉用于使所述砝码支架和所述测力传感器对齐并将所述砝码支架安装至所述测力传感器托架。
26.根据权利要求14所述的方法，其中，所述盘抛光机还包括测力传感器指示器，其经构造显示对应于施加至所述测力传感器的力测量表面的力的重量。
27.根据权利要求14所述的方法，其中，所述盘包括经构造存储信息的磁记录层。
28.根据权利要求14所述的方法，其中，所述方法不需要拆卸所述盘抛光机。
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Country Link
US (1) US9389135B2 (zh)
CN (1) CN105764651A (zh)
WO (1) WO2015048358A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110333032A (zh) * 2019-06-13 2019-10-15 中国科学院测量与地球物理研究所 用于弱力测试的悬挂标定装置及标定方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105043633B (zh) * 2015-07-13 2017-08-22 大连理工大学 一种立式一体化推力矢量测试装置
CN106017793B (zh) * 2016-07-29 2019-08-02 昆山市创新科技检测仪器有限公司 一种用于力标准机的精度检测装置、力值比对机以及力标准机精度检测方法
US20210131256A1 (en) * 2019-11-04 2021-05-06 Enercorp Sand Solutions Inc. Sand quantification skid

Family Cites Families (292)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US298704A (en) * 1884-05-13 And michael neil
US3263496A (en) 1963-03-14 1966-08-02 Radson Engineering Corp Load cell and weighing system
US4553872A (en) * 1984-02-15 1985-11-19 Fmc Corporation Load cell clamping apparatus
US4759493A (en) * 1985-04-30 1988-07-26 The A. H. Emery Company Method of manufacturing a hydraulic load cell
US4716979A (en) * 1985-04-30 1988-01-05 The A. H. Emery Company Load cell with welded components
US4660663A (en) 1986-05-27 1987-04-28 Ncr Corporation Method of calibrating a weighing apparatus within an enclosure
US4722407A (en) 1987-04-13 1988-02-02 Eaton Corporation Calibrating device for load cells
US5210706A (en) 1989-08-25 1993-05-11 Tokyo Electric Co. Ltd. Device for measuring a physical force
JP2874298B2 (ja) 1990-07-24 1999-03-24 日本板硝子株式会社 磁気記録媒体およびその製造方法
US5245872A (en) 1991-07-12 1993-09-21 Cooper William L Device for precise measurement of force
US6287429B1 (en) 1992-10-26 2001-09-11 Hoya Corporation Magnetic recording medium having an improved magnetic characteristic
US6099981A (en) 1993-12-28 2000-08-08 Hoya Corporation Magnetic recording medium having a lubricant film coated on optimum conditions and method of evaluating the lubricant film
US6156404A (en) 1996-10-18 2000-12-05 Komag, Inc. Method of making high performance, low noise isotropic magnetic media including a chromium underlayer
JPH0850715A (ja) 1994-01-28 1996-02-20 Komag Inc 低ノイズ，高い保磁力および優れた方形度を有する磁気記録媒体および磁気記録媒体形成方法
US5640334A (en) 1994-02-23 1997-06-17 Pitney Bowes Inc. Method of recalibrating electronic scales
US5855746A (en) 1996-02-28 1999-01-05 Western Digital Corporation Buffered nitrogenated carbon overcoat for data recording disks and method for manufacturing the same
US5703334A (en) 1996-03-08 1997-12-30 Hbm, Inc. Load measuring device with a load cell and method for introducing a load into the load cell
US6309765B1 (en) 1996-03-25 2001-10-30 Asahi Komag Co., Ltd. Magnetic recording medium and process for its production
US6103404A (en) 1996-06-03 2000-08-15 Komag, Inc. Laser textured magnetic disk comprising NiNb
US6117499A (en) 1997-04-09 2000-09-12 Komag, Inc. Micro-texture media made by polishing of a selectively irradiated surface
US6068891A (en) 1997-08-15 2000-05-30 Komag, Inc. Method for laser texturing a glass ceramic substrate and the resulting substrate
US6200441B1 (en) 1997-08-27 2001-03-13 Western Digital Corporation Multiple station vacuum deposition apparatus for texturing a substrate using a scanning beam
US6149696A (en) 1997-11-06 2000-11-21 Komag, Inc. Colloidal silica slurry for NiP plated disk polishing
JP3099790B2 (ja) 1997-11-17 2000-10-16 日本電気株式会社 垂直磁気記録媒体
US6150015A (en) 1997-12-04 2000-11-21 Komag, Incorporated Ultra-thin nucleation layer for magnetic thin film media and the method for manufacturing the same
US6387483B1 (en) 1997-12-18 2002-05-14 Nec Corporation Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing process therefor
JP3087715B2 (ja) 1998-02-19 2000-09-11 日本電気株式会社 磁気ディスク装置
US6261681B1 (en) 1998-03-20 2001-07-17 Asahi Komag Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6683754B2 (en) 1998-05-21 2004-01-27 Komag, Inc. Hard disk drive head-media system having reduced stiction and low fly height
US6381090B1 (en) 1998-05-21 2002-04-30 Komag, Incorporated Hard disk drive head-media system having reduced stiction and low fly height
US6159076A (en) 1998-05-28 2000-12-12 Komag, Inc. Slurry comprising a ligand or chelating agent for polishing a surface
US6210819B1 (en) 1998-07-24 2001-04-03 Hmt Technology Corporation Magnetic recording media having a CrTi underlayer deposited under a substrate bias
GB9818678D0 (en) 1998-08-28 1998-10-21 Weighing Logistics Limited Calibrating weighing installations
JP3090128B2 (ja) 1998-08-28 2000-09-18 日本電気株式会社 垂直磁気記録媒体
US6216709B1 (en) 1998-09-04 2001-04-17 Komag, Inc. Method for drying a substrate
US6571806B2 (en) 1998-09-04 2003-06-03 Komag, Inc. Method for drying a substrate
US6146737A (en) 1998-09-18 2000-11-14 Hmt Technology Corporation Magnetic recording medium having a nitrogen-containing barrier layer
US6164118A (en) 1998-09-30 2000-12-26 Komag Incorporated Calibration disk having discrete bands of calibration bumps
US6408677B1 (en) 1998-09-30 2002-06-25 Komag Corporation Calibration disk having discrete bands of composite roughness
US6303217B1 (en) 1998-10-02 2001-10-16 Hmt Technology, Corporation Longitudinal recording medium with a dual underlayer
US6358636B1 (en) 1998-11-05 2002-03-19 Hmt Technology Corporation Thin overlayer for magnetic recording disk
US6274063B1 (en) 1998-11-06 2001-08-14 Hmt Technology Corporation Metal polishing composition
US6063248A (en) 1998-11-12 2000-05-16 Hmt Technology Corporation Process chamber isolation system in a deposition apparatus
US6145849A (en) 1998-11-18 2000-11-14 Komag, Incorporated Disk processing chuck
US6299947B1 (en) 1999-01-20 2001-10-09 Komag, Inc. Method of forming a magnetic hard disk with elliptical shaped laser bumps
US6143375A (en) 1999-01-28 2000-11-07 Komag, Incorporated Method for preparing a substrate for a magnetic disk
US6362452B1 (en) 1999-02-04 2002-03-26 Komag, Inc. Patterned laser zone texture
US6403919B1 (en) 1999-03-01 2002-06-11 Komag, Incorporated Disk marking system
SG102651A1 (en) 1999-03-31 2004-03-26 Hoya Corp Magnetic recording medium, and thermal stability measuring method and apparatus of magnetic recording medium
US6086730A (en) 1999-04-22 2000-07-11 Komag, Incorporated Method of sputtering a carbon protective film on a magnetic disk with high sp3 content
US6248395B1 (en) 1999-05-24 2001-06-19 Komag, Inc. Mechanical texturing of glass and glass-ceramic substrates
US6395349B1 (en) 1999-05-25 2002-05-28 Komag, Inc. Method of marking disks
US6548821B1 (en) 1999-06-21 2003-04-15 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates
US6566674B1 (en) 1999-06-21 2003-05-20 Komag, Inc. Method and apparatus for inspecting substrates
US6221119B1 (en) 1999-07-14 2001-04-24 Komag, Inc. Slurry composition for polishing a glass ceramic substrate
US6363599B1 (en) 1999-08-04 2002-04-02 Komag, Inc. Method for manufacturing a magnetic disk including a glass substrate
US6429984B1 (en) 1999-08-06 2002-08-06 Komag, Inc Circuit and method for refreshing data recorded at a density sufficiently high to undergo thermal degradation
US6206765B1 (en) 1999-08-16 2001-03-27 Komag, Incorporated Non-rotational dresser for grinding stones
US6290573B1 (en) 1999-08-23 2001-09-18 Komag, Incorporated Tape burnish with monitoring device
US6664503B1 (en) 1999-09-07 2003-12-16 Asahi Glass Company, Ltd. Method for manufacturing a magnetic disk
US6795274B1 (en) 1999-09-07 2004-09-21 Asahi Glass Company, Ltd. Method for manufacturing a substantially circular substrate by utilizing scribing
US6391213B1 (en) 1999-09-07 2002-05-21 Komag, Inc. Texturing of a landing zone on glass-based substrates by a chemical etching process
US20020060883A1 (en) 1999-09-21 2002-05-23 Shoji Suzuki Hard disk drive with load/unload capability
US6482330B1 (en) 1999-10-01 2002-11-19 Komag, Inc. Method for manufacturing a data storage card
US6283838B1 (en) * 1999-10-19 2001-09-04 Komag Incorporated Burnishing tape handling apparatus and method
US6381092B1 (en) 2000-01-10 2002-04-30 Komag, Inc. Spacer rings to compensate for disk warpage
US6482505B1 (en) 2000-05-11 2002-11-19 Komag, Inc. Multi-layer texture layer
US6565719B1 (en) 2000-06-27 2003-05-20 Komag, Inc. Magnetic disk comprising a first carbon overcoat having a high SP3 content and a second carbon overcoat having a low SP3 content
JP2002056522A (ja) 2000-08-14 2002-02-22 Hoya Corp 磁気記録媒体及びその製造方法
US6557391B2 (en) * 2000-10-04 2003-05-06 Mettler-Toledo Gmbh Balance with a weighing-load carrier and a calibration device
US6408678B1 (en) 2000-10-13 2002-06-25 International Business Machines Corporation Burnishing tape testing method and device
US6730420B1 (en) 2000-10-31 2004-05-04 Komag, Inc. Magnetic thin film recording media having extremely low noise and high thermal stability
US6528124B1 (en) 2000-12-01 2003-03-04 Komag, Inc. Disk carrier
US20020067574A1 (en) 2000-12-06 2002-06-06 Gillis Donald Ray Magnetic recording head burnishing method
US7019924B2 (en) 2001-02-16 2006-03-28 Komag, Incorporated Patterned medium and recording head
US6759138B2 (en) 2001-07-03 2004-07-06 Hoya Corporation Antiferromagnetically coupled magnetic recording medium with dual-layered upper magnetic layer
US7099112B1 (en) 2001-07-25 2006-08-29 Komag, Inc. Balance ring
US6778353B1 (en) 2001-07-25 2004-08-17 Komag, Inc. Balance ring
SG108888A1 (en) 2001-12-14 2005-02-28 Hoya Corp Magnetic recording medium
US6899959B2 (en) 2002-02-12 2005-05-31 Komag, Inc. Magnetic media with improved exchange coupling
JP3912497B2 (ja) 2002-02-25 2007-05-09 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録媒体
US7119990B2 (en) 2002-05-30 2006-10-10 Komag, Inc. Storage device including a center tapped write transducer
US6857937B2 (en) 2002-05-30 2005-02-22 Komag, Inc. Lapping a head while powered up to eliminate expansion of the head due to heating
US7054442B2 (en) 2002-08-02 2006-05-30 Communication System, Inc. Wall mounted DSL adapter jack with latches for attachment
SG130014A1 (en) 2002-09-03 2007-03-20 Hoya Corp Magnetic recording disk and process for manufacturing thereof
US20040132301A1 (en) 2002-09-12 2004-07-08 Harper Bruce M. Indirect fluid pressure imprinting
US6939120B1 (en) 2002-09-12 2005-09-06 Komag, Inc. Disk alignment apparatus and method for patterned media production
US6752547B2 (en) 2002-10-28 2004-06-22 Applied Materials Inc. Liquid delivery system and method
US6972135B2 (en) 2002-11-18 2005-12-06 Komag, Inc. Texturing of magnetic disk substrates
US7147790B2 (en) 2002-11-27 2006-12-12 Komag, Inc. Perpendicular magnetic discrete track recording disk
US20050036223A1 (en) 2002-11-27 2005-02-17 Wachenschwanz David E. Magnetic discrete track recording disk
JP3651681B2 (ja) 2003-01-29 2005-05-25 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスクおよびその製造方法
JP2004247010A (ja) 2003-02-17 2004-09-02 Hoya Corp 磁気ディスク
US7016154B2 (en) 2003-03-05 2006-03-21 Komag, Inc. Magnetic recording disk having a safe zone
DE102004010336A1 (de) 2003-03-05 2004-09-16 Komag, Inc., San Jose Magnetische Aufzeichnungsplatte mit Übergangszone
JP4180409B2 (ja) 2003-03-17 2008-11-12 株式会社日立ハイテクノロジーズ 研磨装置およびこの研磨装置を用いた磁気ディスク製造方法
JP2004319058A (ja) 2003-03-31 2004-11-11 Hoya Corp 磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク
US20040202793A1 (en) 2003-04-08 2004-10-14 Harper Bruce M. Dip-spin coater
US20040202865A1 (en) 2003-04-08 2004-10-14 Andrew Homola Release coating for stamper
US20040209123A1 (en) 2003-04-17 2004-10-21 Bajorek Christopher H. Method of fabricating a discrete track recording disk using a bilayer resist for metal lift-off
US6893748B2 (en) 2003-05-20 2005-05-17 Komag, Inc. Soft magnetic film for perpendicular recording disk
US7166319B2 (en) 2003-05-28 2007-01-23 Hoya Corporation Magnetic disk and method of producing the same
US7006323B1 (en) 2003-07-18 2006-02-28 Komag, Inc. Magnetic head for proximity recording
JP4169663B2 (ja) 2003-07-25 2008-10-22 Ｈｏｙａ株式会社 垂直磁気記録媒体
JP4203737B2 (ja) * 2003-07-28 2009-01-07 株式会社島津製作所 ロードセル式重量測定装置
US7043376B2 (en) 2003-09-19 2006-05-09 Seagate Technology Llc Vibration measurement apparatus and method
JP4247535B2 (ja) 2003-11-11 2009-04-02 Ｈｏｙａ株式会社 ロードアンロード方式用磁気ディスク、ロードアンロード方式用磁気ディスクの製造方法及びロードアンロード方式用磁気ディスクの評価方法
US7632087B2 (en) 2003-12-19 2009-12-15 Wd Media, Inc. Composite stamper for imprint lithography
US6967798B2 (en) 2003-12-19 2005-11-22 Komag, Inc. Magnetic recording disk having DTR patterned CSS zone
US20050151283A1 (en) 2004-01-08 2005-07-14 Bajorek Christopher H. Method and apparatus for making a stamper for patterning CDs and DVDs
US20050151300A1 (en) 2004-01-13 2005-07-14 Harper Bruce M. Workpiece isothermal imprinting
US20050151282A1 (en) 2004-01-13 2005-07-14 Harper Bruce M. Workpiece handler and alignment assembly
US20050150862A1 (en) 2004-01-13 2005-07-14 Harper Bruce M. Workpiece alignment assembly
CN1910267B (zh) 2004-01-14 2011-01-12 Hoya株式会社 磁盘用润滑剂及其制造方法、磁盘及其制造方法
US20050155554A1 (en) 2004-01-20 2005-07-21 Saito Toshiyuki M. Imprint embossing system
US7329114B2 (en) 2004-01-20 2008-02-12 Komag, Inc. Isothermal imprint embossing system
US7686606B2 (en) 2004-01-20 2010-03-30 Wd Media, Inc. Imprint embossing alignment system
US7179549B2 (en) 2004-01-21 2007-02-20 Komag, Inc. Magnetic recording medium having novel underlayer structure
JP4078317B2 (ja) 2004-02-06 2008-04-23 Ｈｏｙａ株式会社 固体表面の評価方法、磁気ディスクの評価方法、磁気ディスクおよびその製造方法
JP4407904B2 (ja) 2004-02-06 2010-02-03 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスクの製造方法
US7004827B1 (en) 2004-02-12 2006-02-28 Komag, Inc. Method and apparatus for polishing a workpiece
US7229266B2 (en) 2004-03-23 2007-06-12 Komag, Inc. Press die alignment
US7498062B2 (en) 2004-05-26 2009-03-03 Wd Media, Inc. Method and apparatus for applying a voltage to a substrate during plating
JPWO2006003922A1 (ja) 2004-06-30 2008-04-17 Hoya株式会社 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法
US7320584B1 (en) 2004-07-07 2008-01-22 Komag, Inc. Die set having sealed compliant member
US7684152B2 (en) 2004-09-24 2010-03-23 Wd Media, Inc. Method of mitigating eccentricity in a disk drive with DTR media
JP4375617B2 (ja) 2004-09-27 2009-12-02 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスク用潤滑剤の製造方法、磁気ディスク用潤滑剤、磁気ディスクおよび磁気ディスクの製造方法
JP4044546B2 (ja) 2004-09-29 2008-02-06 Ｈｏｙａ株式会社 磁気ディスク及びその製造方法
US7301726B1 (en) 2004-11-04 2007-11-27 Komag, Inc. Banded LZT CSS zone
US20060147758A1 (en) 2005-01-06 2006-07-06 Hong-Sik Jung Perpendicular magnetic recording medium with magnetically resetable single domain soft magnetic underlayer
US7425719B2 (en) 2005-01-13 2008-09-16 Wd Media, Inc. Method and apparatus for selectively providing data from a test head to a processor
US7239970B2 (en) 2005-01-13 2007-07-03 Komag, Inc. Robotic system for optically inspecting workpieces
US7302148B2 (en) 2005-01-13 2007-11-27 Komag, Inc. Test head for optically inspecting workpieces
US7292329B2 (en) 2005-01-13 2007-11-06 Komag, Inc. Test head for optically inspecting workpieces comprising a lens for elongating a laser spot on the workpieces
US7375362B2 (en) 2005-01-13 2008-05-20 Wd Media, Inc. Method and apparatus for reducing or eliminating stray light in an optical test head
US7184139B2 (en) 2005-01-13 2007-02-27 Komag, Inc. Test head for optically inspecting workpieces
US20060181697A1 (en) 2005-01-13 2006-08-17 Komag, Inc. Circularly polarized light for optically inspecting workpieces
US7305119B2 (en) 2005-01-13 2007-12-04 Komag, Inc. Test head for optically inspecting workpieces
US7161753B2 (en) 2005-01-28 2007-01-09 Komag, Inc. Modulation of sidewalls of servo sectors of a magnetic disk and the resultant disk
US20060207890A1 (en) 2005-03-15 2006-09-21 Norbert Staud Electrochemical etching
US7569490B2 (en) 2005-03-15 2009-08-04 Wd Media, Inc. Electrochemical etching
JP2006268972A (ja) 2005-03-24 2006-10-05 Hoya Corp 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法
US7281920B2 (en) 2005-03-28 2007-10-16 Komag, Inc. Die set utilizing compliant gasket
US7955723B2 (en) 2005-03-31 2011-06-07 WD Media (Singapore) Pte.Ltd. Magnetic recording medium substrate and perpendicular magnetic recording medium
US7910159B2 (en) 2005-06-03 2011-03-22 Wd Media, Inc. Radial magnetic field reset system for producing single domain soft magnetic underlayer on perpendicular magnetic recording medium
JP4928751B2 (ja) 2005-07-14 2012-05-09 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体
JP4410747B2 (ja) 2005-09-30 2010-02-03 Ｈｏｙａ株式会社 磁気記録ディスク用潤滑剤の成分比測定方法および磁気記録ディスクの製造方法
JP2007095234A (ja) 2005-09-30 2007-04-12 Hoya Corp 磁気記録ディスクおよびその製造方法
US7993497B2 (en) 2005-11-21 2011-08-09 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic disk and magnetic disk manufacturing method
JP4654339B2 (ja) 2006-01-23 2011-03-16 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク
US7314404B2 (en) 2006-02-13 2008-01-01 Komag, Inc. Burnishing head
JP2007257756A (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Hoya Corp 磁気ディスクの製造方法及び磁気ディスク
JPWO2007116812A1 (ja) 2006-03-29 2009-08-20 Hoya株式会社 磁気ディスク及びその製造方法
US9142238B2 (en) 2006-03-30 2015-09-22 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Vertical magnetic recording disk manufacturing method and vertical magnetic recording disk
JP2007265586A (ja) 2006-03-30 2007-10-11 Hoya Corp 磁気ディスク及びその製造方法
WO2007114401A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-11 Hoya Corporation 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法
WO2007114402A1 (ja) 2006-03-31 2007-10-11 Hoya Corporation 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法
US20090191331A1 (en) 2006-03-31 2009-07-30 Hoya Corporation Perpendicular magnetic recording medium manufacturing method
JP4993677B2 (ja) 2006-09-27 2012-08-08 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気記録媒体の製造方法
JP2008084432A (ja) 2006-09-27 2008-04-10 Hoya Corp 磁気記録媒体、及び磁気記録媒体の製造方法
US8383209B2 (en) 2006-09-27 2013-02-26 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic recording medium manufacturing method and laminate manufacturing method
WO2008038664A1 (fr) 2006-09-29 2008-04-03 Hoya Corporation Support d'enregistrement magnétique
JP5483050B2 (ja) 2006-09-29 2014-05-07 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク用潤滑剤及びその製造方法、並びに磁気ディスク
SG182153A1 (en) 2007-02-13 2012-07-30 Wd Media Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium, magnetic recording medium manufacturing method, and magnetic disk
US9082444B2 (en) 2007-03-28 2015-07-14 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic recording medium and method of manufacturing a magnetic recording medium
WO2008123446A1 (ja) 2007-03-30 2008-10-16 Hoya Corporation 磁気記録媒体
US8309239B2 (en) 2007-03-30 2012-11-13 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JP5113422B2 (ja) 2007-05-23 2013-01-09 富士精工株式会社 押圧力検出装置付ローラバニシング装置
JP5260510B2 (ja) 2007-05-30 2013-08-14 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法
US8298689B2 (en) 2007-05-31 2012-10-30 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Method of manufacturing a perpendicular magnetic recording medium
JP5183134B2 (ja) 2007-09-21 2013-04-17 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク及び磁気ディスクの製造方法
US8551627B2 (en) 2007-09-28 2013-10-08 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic disk and method of manufacturing the same
WO2009041423A1 (ja) 2007-09-28 2009-04-02 Hoya Corporation 垂直磁気記録媒体およびその製造方法
US8057926B2 (en) 2007-09-28 2011-11-15 WD Media(Singapore) Pte. Ltd. Perpendicular magnetic recording medium
US8603649B2 (en) 2007-10-07 2013-12-10 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Perpendicular magnetic recording medium
US9159351B2 (en) 2007-10-15 2015-10-13 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same
US7944643B1 (en) 2007-12-05 2011-05-17 Wd Media, Inc. Patterns for pre-formatted information on magnetic hard disk media
US7755861B1 (en) 2007-12-06 2010-07-13 Western Digital (Fremont), Llc Method and system for providing a magnetic recording media
US8597723B1 (en) 2008-03-14 2013-12-03 WD Media, LLC Perpendicular magnetic recording medium with single domain exchange-coupled soft magnetic underlayer and device incorporating same
JP5117895B2 (ja) 2008-03-17 2013-01-16 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気記録媒体及びその製造方法
SG196834A1 (en) 2008-03-17 2014-02-13 Wd Media Singapore Pte Ltd Magnetic recording medium and manufacturing method of the magnetic recording medium
JP2009238298A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Hoya Corp 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法
JP2009238299A (ja) 2008-03-26 2009-10-15 Hoya Corp 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法
JP2009245478A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Hoya Corp 垂直磁気記録媒体の製造方法および垂直磁気記録媒体
JP2009245490A (ja) 2008-03-29 2009-10-22 Hoya Corp 垂直磁気記録媒体の製造方法および垂直磁気記録媒体
WO2009123043A1 (ja) 2008-03-30 2009-10-08 Hoya株式会社 磁気ディスク及びその製造方法
JP5134413B2 (ja) 2008-03-30 2013-01-30 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク及びその製造方法
JP2011034603A (ja) 2008-03-31 2011-02-17 Hoya Corp 垂直磁気記録媒体
US7944165B1 (en) 2008-05-02 2011-05-17 Wd Media, Inc. Inspection system with dual encoders
US8394243B1 (en) 2008-07-24 2013-03-12 Wd Media, Inc. Sputtered cobalt oxide for perpendicular magnetic recording medium with low media noise
WO2010032767A1 (ja) 2008-09-16 2010-03-25 Hoya株式会社 垂直磁気記録媒体
WO2010032766A1 (ja) 2008-09-16 2010-03-25 Hoya株式会社 垂直磁気記録媒体およびその製造方法
EP2166322B1 (en) 2008-09-19 2019-01-09 F.Hoffmann-La Roche Ag Method for gravimetric volume determination
US7924519B2 (en) 2008-09-29 2011-04-12 Wd Media, Inc. Eccentricity determination for a disk
US9177586B2 (en) 2008-09-30 2015-11-03 WD Media (Singapore), LLC Magnetic disk and manufacturing method thereof
US8488276B1 (en) 2008-09-30 2013-07-16 WD Media, LLC Perpendicular magnetic recording medium with grain isolation magnetic anistropy layer
WO2010064724A1 (ja) 2008-12-05 2010-06-10 Hoya株式会社 磁気ディスク及びその製造方法
US8795790B2 (en) 2008-12-09 2014-08-05 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. Magnetic recording medium and magnetic recording medium manufacturing method
DE102008062144A1 (de) * 2008-12-16 2010-06-17 Mettler-Toledo Ag Lastträger
US8002901B1 (en) 2009-01-15 2011-08-23 Wd Media, Inc. Temperature dependent pull speeds for drying of a wet cleaned workpiece
US8562748B1 (en) 2009-01-30 2013-10-22 WD Media, LLC Multiple cleaning processes in a single tank
US8137517B1 (en) 2009-02-10 2012-03-20 Wd Media, Inc. Dual position DC magnetron assembly
US8163093B1 (en) 2009-02-11 2012-04-24 Wd Media, Inc. Cleaning operations with dwell time
JP5631604B2 (ja) 2009-02-19 2014-11-26 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスクの製造方法
JP2012069173A (ja) 2009-02-19 2012-04-05 Hoya Corp 磁気記録媒体
JP5638814B2 (ja) 2009-02-23 2014-12-10 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 片面垂直磁気記録媒体
US8171949B1 (en) 2009-03-06 2012-05-08 Wd Media, Inc. Fluid flow management
WO2010102308A1 (en) 2009-03-06 2010-09-10 Sensortech Corporation Load cell
JP2010250929A (ja) 2009-03-27 2010-11-04 Wd Media Singapore Pte Ltd 磁気ディスク用潤滑剤化合物、磁気ディスク及びその製造方法
WO2010116908A1 (ja) 2009-03-28 2010-10-14 Hoya株式会社 磁気ディスク用潤滑剤化合物及び磁気ディスク
JP5583997B2 (ja) 2009-03-30 2014-09-03 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体
SG165294A1 (en) 2009-03-30 2010-10-28 Wd Media Singapore Pte Ltd Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JP5645443B2 (ja) 2009-03-31 2014-12-24 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体
SG165302A1 (en) 2009-03-31 2010-10-28 Wd Media Singapore Pte Ltd Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same
JP5360892B2 (ja) 2009-05-24 2013-12-04 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体の製造方法
US20100300884A1 (en) 2009-05-26 2010-12-02 Wd Media, Inc. Electro-deposited passivation coatings for patterned media
US8404056B1 (en) 2009-05-27 2013-03-26 WD Media, LLC Process control for a sonication cleaning tank
US8101054B2 (en) 2009-05-28 2012-01-24 Wd Media, Inc. Magnetic particle trapper for a disk sputtering system
JP5360894B2 (ja) 2009-06-30 2013-12-04 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気記録媒体の製造方法
JP2011018426A (ja) 2009-07-10 2011-01-27 Wd Media Singapore Pte Ltd 垂直磁気記録媒体の評価方法及び垂直磁気記録媒体の製造方法
JP2011021165A (ja) 2009-07-21 2011-02-03 Wd Media Singapore Pte Ltd 磁気ディスク用潤滑剤及び磁気ディスク
US8247095B2 (en) 2009-08-21 2012-08-21 Western Digital Technologies, Inc. Energy assisted discrete track media with heat sink
US8492009B1 (en) 2009-08-25 2013-07-23 Wd Media, Inc. Electrochemical etching of magnetic recording layer
US7998912B2 (en) 2009-09-14 2011-08-16 Wd Media, Inc. Composite lubricant for hard disk media
US8206789B2 (en) 2009-11-03 2012-06-26 Wd Media, Inc. Glass substrates and methods of annealing the same
US8496466B1 (en) 2009-11-06 2013-07-30 WD Media, LLC Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media
US8402638B1 (en) 2009-11-06 2013-03-26 Wd Media, Inc. Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media
US8173282B1 (en) 2009-12-11 2012-05-08 Wd Media, Inc. Perpendicular magnetic recording medium with an ordering temperature reducing layer
US8406918B2 (en) 2009-12-21 2013-03-26 WD Media, LLC Master teaching jig
JP5643508B2 (ja) 2009-12-28 2014-12-17 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体の製造方法
US8399809B1 (en) 2010-01-05 2013-03-19 Wd Media, Inc. Load chamber with heater for a disk sputtering system
JP5643516B2 (ja) 2010-01-08 2014-12-17 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体
JP5617112B2 (ja) 2010-01-14 2014-11-05 独立行政法人物質・材料研究機構 垂直磁気記録媒体及びその製造方法
US8596287B1 (en) 2010-03-01 2013-12-03 WD Media, LLC Cross flow tank
US8833134B2 (en) * 2010-03-02 2014-09-16 National Oilwell Varco, L.P. Torque calibrating system
US8331056B2 (en) 2010-03-05 2012-12-11 Wd Media, Inc. Spin stand comprising a dual disk clamp
US8218260B2 (en) 2010-03-05 2012-07-10 Wd Media, Inc. Processing disks on a spin stand
US8125723B1 (en) 2010-03-05 2012-02-28 Wd Media, Inc. Predictive characterization of adjacent track erasure in recording media
US8125724B1 (en) 2010-03-11 2012-02-28 Wd Media, Inc. Predictive characterization of adjacent track erasure in recording media
US8608147B1 (en) 2010-03-19 2013-12-17 WD Media, LLC Workpiece carrier
JP5574414B2 (ja) 2010-03-29 2014-08-20 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスクの評価方法及び磁気ディスクの製造方法
JP5646199B2 (ja) 2010-03-31 2014-12-24 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気ディスク
JP2011216141A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Wd Media Singapore Pte Ltd 垂直磁気ディスクの製造方法
JP5916985B2 (ja) 2010-03-31 2016-05-11 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 熱アシスト記録用磁気ディスクへの磁気記録方法
JP5485770B2 (ja) 2010-03-31 2014-05-07 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク装置
US8524052B1 (en) 2010-04-02 2013-09-03 WD Media, LLC Cooling shower plate for disk manufacture
US8397751B1 (en) 2010-04-15 2013-03-19 Wd Media, Inc. Vortex reducer
JP5638281B2 (ja) 2010-04-30 2014-12-10 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気ディスク
US8591709B1 (en) 2010-05-18 2013-11-26 WD Media, LLC Sputter deposition shield assembly to reduce cathode shorting
JP5645476B2 (ja) 2010-05-21 2014-12-24 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気ディスク
JP5634749B2 (ja) 2010-05-21 2014-12-03 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気ディスク
JP2011248969A (ja) 2010-05-28 2011-12-08 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気ディスク
JP2011248966A (ja) 2010-05-28 2011-12-08 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気記録媒体
JP2011248967A (ja) 2010-05-28 2011-12-08 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気ディスクの製造方法
JP2011248968A (ja) 2010-05-28 2011-12-08 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気ディスク
JP2011253597A (ja) 2010-06-03 2011-12-15 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気記録媒体及びその製造方法
US8298609B1 (en) 2010-06-14 2012-10-30 Wd Media, Inc. Method and system for interrogating the thickness of a carbon layer
JP2012003805A (ja) 2010-06-16 2012-01-05 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気記録媒体及び磁気ディスク装置
JP5807944B2 (ja) 2010-06-22 2015-11-10 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 垂直磁気記録媒体の製造方法
JP5743438B2 (ja) 2010-06-22 2015-07-01 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスク用潤滑剤、磁気ディスク及びその製造方法
JP2012009086A (ja) 2010-06-22 2012-01-12 Wd Media (Singapore) Pte. Ltd 垂直磁気記録媒体及びその製造方法
JP5835874B2 (ja) 2010-06-22 2015-12-24 ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド 磁気ディスクの製造方法
US8584687B1 (en) 2010-06-25 2013-11-19 WD Media, LLC Sonication cleaning system
US8551253B2 (en) 2010-06-29 2013-10-08 WD Media, LLC Post polish disk cleaning process
US8517657B2 (en) 2010-06-30 2013-08-27 WD Media, LLC Corner chamber with heater
US8354618B1 (en) 2010-06-30 2013-01-15 Wd Media, Inc. Load chamber with dual heaters
CN101957231B (zh) 2010-06-30 2012-06-20 福建省计量科学研究院 一种检定大型固定式电子衡器的方法
US8404369B2 (en) 2010-08-03 2013-03-26 WD Media, LLC Electroless coated disks for high temperature applications and methods of making the same
US8530065B1 (en) 2010-08-10 2013-09-10 WD Media, LLC Composite magnetic recording medium
US8316668B1 (en) 2010-09-23 2012-11-27 Wd Media, Inc. Composite magnetic recording medium
US8517364B1 (en) 2010-10-07 2013-08-27 WD Media, LLC Disk holder with replaceable inserts to retain springs
US8668953B1 (en) 2010-12-28 2014-03-11 WD Media, LLC Annealing process for electroless coated disks for high temperature applications
US8570844B1 (en) 2011-02-01 2013-10-29 Western Digital (Fremont), Llc Absorption enhanced media for energy assisted magnetic recording
US8491800B1 (en) 2011-03-25 2013-07-23 WD Media, LLC Manufacturing of hard masks for patterning magnetic media
US9028985B2 (en) 2011-03-31 2015-05-12 WD Media, LLC Recording media with multiple exchange coupled magnetic layers
US20120251842A1 (en) 2011-03-31 2012-10-04 Wd Media, Inc. Low roughness heatsink design for heat assisted magnetic recording media
US8609263B1 (en) 2011-05-20 2013-12-17 WD Media, LLC Systems and methods for forming magnetic media with an underlayer
US8619381B2 (en) 2011-05-25 2013-12-31 WD Media, LLC System and method for improving head positioning
US8834962B2 (en) 2011-06-03 2014-09-16 WD Media, LLC Methods for improving the strength of glass substrates
US8658292B1 (en) 2011-06-10 2014-02-25 Western Digital Technologies, Inc. Systems and methods for controlling damping of magnetic media for assisted magnetic recording
US8758912B2 (en) 2011-09-16 2014-06-24 WD Media, LLC Interlayers for magnetic recording media
US8685214B1 (en) 2011-09-30 2014-04-01 WD Media, LLC Magnetic shunting pads for optimizing target erosion in sputtering processes
US8556566B1 (en) 2011-09-30 2013-10-15 WD Media, LLC Disk stacking method and apparatus
US8565050B1 (en) 2011-12-20 2013-10-22 WD Media, LLC Heat assisted magnetic recording media having moment keeper layer
US8696404B2 (en) 2011-12-21 2014-04-15 WD Media, LLC Systems for recycling slurry materials during polishing processes
US8806964B2 (en) * 2012-03-23 2014-08-19 Honeywell International Inc. Force sensor
US8605555B1 (en) 2012-04-19 2013-12-10 WD Media, LLC Recording media with multiple bi-layers of heatsink layer and amorphous layer for energy assisted magnetic recording system and methods for fabricating the same
US8674327B1 (en) 2012-05-10 2014-03-18 WD Media, LLC Systems and methods for uniformly implanting materials on substrates using directed magnetic fields
US8941950B2 (en) 2012-05-23 2015-01-27 WD Media, LLC Underlayers for heat assisted magnetic recording (HAMR) media
US20140050843A1 (en) 2012-08-17 2014-02-20 Wd Media, Inc. Dual single sided sputter chambers with sustaining heater
CN202885961U (zh) * 2012-10-18 2013-04-17 台衡精密测控(昆山)股份有限公司 一种带内校砝码结构的电子天平
US9709436B2 (en) * 2013-03-15 2017-07-18 Illinois Tool Works Inc. Load cell that is symmetrical about a central vertical axis

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110333032A (zh) * 2019-06-13 2019-10-15 中国科学院测量与地球物理研究所 用于弱力测试的悬挂标定装置及标定方法

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