JP2006268972A - 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 垂直磁気記録に用いる磁気ディスク10であって、基体12と、下地層18と、グラニュラー構造の微細化促進層20(非磁性グラニュラー層)と、グラニュラー構造の強磁性層32を有する磁気記録層22とを備え、微細化促進層20は、無機酸化物のマトリックスと、非磁性の金属結晶粒子とを有し、強磁性層32は、無機酸化物のマトリックスと、金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有する。
【選択図】図1
Description
T.Oikawa et.a1.,IEEE Trans.Magn,vol.38,1976−1978(2002)` Y.Sonobe etal.,IEEE Trans.Magn,vol.37,1667−1670(2001)
しかし、構成1のようにした場合、非磁性グラニュラー層における金属結晶粒子は、例え下地層との界面付近において分布に乱れを生じていたとしても、強磁性層との界面付近では、ほぼ均一に分布することとなる。そのため、このように構成すれば、強磁性層における磁性結晶粒子の結晶配向性を高め、磁性結晶粒子を適切に微細化することができる。
また、下地層と強磁性層との間の層を非磁性にすることにより、強磁性層の磁性に影響が生じるのを防ぐことができる。尚、非磁性とは、完全に非磁性の場合の他、磁気ディスクの機能上問題とならない程度の弱い磁性を有する場合も含む。非磁性グラニュラー層は、例えば、強磁性層と比べて無視できる程度の弱い磁性を有してもよい。
また、無機酸化物のマトリックスにより個々の磁性結晶粒子が磁気的に分断された偏析状態となるため、磁性結晶粒子間の磁気的相互作用を低減できる。そのため、磁気的相互作用の低減により、磁気記録層の磁化遷移領域ノイズ(媒体ノイズ)を低減できる。また、磁気ディスクのS/N比を向上させることができる。
更には、構成1のようにすれば、非磁性グラニュラー層及び強磁性層を、低温のプロセスにより形成できる。そのため、磁気記録層の配向性の劣化や媒体表面性の劣化等を防ぐことができる。
また、非磁性グラニュラー層及び強磁性層を、例えばCoCr合金又はCoCrPT合金等を組成分離させた偏析構造により形成することも考えられる。しかし、この場合には、組成分離を生じさせるため、非磁性グラニュラー層及び強磁性層を高温のプロセスにより形成する必要がある。高温のプロセスにより強磁性層等を形成した場合には、磁気記録層の配向性の劣化や媒体表面性の劣化等を生じてしまうおそれがある。
これに対し、構成1のようにすれば、コバルトとクロムとが層分離する温度よりも低い温度の低温のプロセスを用いて、磁性結晶粒子を適切に微細化できる。そのため、磁気記録層の配向性の劣化や媒体表面性の劣化等を防ぐことができる。
そのため、下地層のRu、非磁性グラニュラー層のCoCr、及び強磁性層のCo alloyは結晶学的につながることとなる。また、強磁性層のCo alloyの結晶配向は、下地層のRu、及び非磁性グラニュラー層のCoCrにより制御されることになる。そのため、このように構成すれば、下地層のRuの厚みを低減できる。また、これにより、磁気ディスクのコストを著しく低減することができる。尚、非磁性グラニュラー層は、例えば非磁性CoCr−SiO2層である。強磁性層は、例えばCCP−SiO2磁性層である。
また、下地層のRuとCCP−SiO2磁性層の間に、非磁性CoCr−SiO2層を挿入することによって、磁性結晶粒子を適切に微細化できる。また、磁性結晶粒子の間にSiO2を偏析させることにより、S/N比を向上させることができる。
更には、このように構成した場合、非磁性グラニュラー層及び強磁性層を、低Arガス圧スパッタプロセスにより形成することができる。低Arガス圧スパッタプロセスを利用した場合には、磁気ディスクに生じる媒体表面粗さの劣化を抑えることができる。また、これにより、安定したヘッド浮上が得られる磁気ディスクを製造することができる。尚、低Arガス圧スパッタプロセスとは、例えば、Arガス圧力が1〜20mTorr、更に好ましくはArガス圧力が2〜10mTorrにて行うスパッタリングプロセスである。
(構成6)非磁性グラニュラー層のマトリックスは、少なくとも珪素を含有し、非磁性グラニュラー層中の珪素の含有量が、4原子%〜20原子%である。
(構成7)強磁性層のマトリックスは、少なくとも珪素を含有し、強磁性層中の珪素の含有量が、8原子%〜15原子%である。
(構成8)非磁性グラニュラー層のマトリックス、及び強磁性層のマトリックスは、少なくとも珪素を含有し、非磁性グラニュラー層中の珪素の含有量をA原子%、強磁性層中の珪素の含有量をB原子%とした場合、AとBとの比A/Bは0.7〜1.5の範囲である。
ここで、強磁性層中の珪素の含有量が8原子%より少ないと、媒体ノイズを低減させる効果が小さく、高密度記録時のS/Nを十分に向上させることができない。また、15原子%より多いと、垂直磁気異方性の劣化が起こり始め、それに伴い高記録密度時の熱安定性の劣化やDCノイズの増大が生じる。同様の理由から、強磁性層中の珪素の含有量は、更に好ましくは10〜15原子%である。また、強磁性層の膜厚は、20nm以下が好ましい。より好ましくは、8〜16nmが好適である。
非磁性グラニュラー層の膜厚は2〜30nmが好ましい。より好ましくは、5〜20nmが好適である。また、非磁性グラニュラー層中の珪素の含有量は、4〜20原子%、更に好ましくは10〜15原子%である。このように構成すれば、強磁性層を、非磁性グラニュラー層上に適切に成長させることができる。
(構成10)基体と下地層との間に、アモルファスの軟磁性層を備える。
(構成11)基体はアモルファスガラスである。
構成9〜11ようにすれば、垂直磁気記録に用いる磁気ディスクを適切に製造できる。
交換エネルギー制御層は、Co系磁性材料からなる強磁性層に対しては、具体的には、コバルト(Co)若しくはその合金とパラジウム(Pd)との交互積層膜、又は、コバルト(Co)若しくはその合金と白金(Pt)との交互積層膜からなることが好適である。このような材料からなる交互積層膜は磁気的なKuが大きいため、交換エネルギー制御層にできる磁壁幅を薄くすることができる。その膜厚は、1〜8nmが好ましい。より好ましくは、2〜5nmが好適である。尚、交換エネルギー制御層の材料は、上記多層膜の他に、Pt含有量の多いCoCrPtや、CoPt、CoPd,FePt,CoPt3、CoPd3を用いても同様の効果が得られる。
また、交換結合による好適な垂直磁気記録特性を発揮するには、強磁性層の膜厚を増加させた場合は、交換エネルギー制御層の膜厚を増加させ、かつ、強磁性層の膜厚を減少させた場合は、交換エネルギー制御層の膜厚を減少させ、両層を好適な膜厚比に設定する必要がある。強磁性層の膜厚をA、交換エネルギーの制御層の膜厚をBとした場合、AとBとの比A/Bは2〜5の範囲が好ましい。より好ましくは3〜4が好適である。
また、強磁性層と交換エネルギー制御層との間に、磁気的結合制御層を有することが好適である。磁気的結合制御層を設けることにより、強磁性層と交換エネルギー制御層との間の交換結合を好適に制御することができる。磁気的結合制御層としては、例えば、Pd層又はPt層が好適に用いられる。その膜厚は、2mm以下であることが好ましく、より好ましくは、0.5〜1.5nmの範囲である。尚、強磁性層と交換エネルギー制御層とは隣接して、或いは磁気的結合制御層を介して配置されるが、基体から見て交換エネルギー制御層を強磁性層の上方に配置する場合が好ましい。
(構成16)強磁性層の磁性結晶粒子は、少なくともコバルトとクロムとを含有する結晶粒子であり、磁性結晶粒子におけるコバルトとクロムとが層分離する温度よりも低い温度で、強磁性層を形成する。
構成15、16のようにすれば、非磁性グラニュラー層及び強磁性層を、低温のプロセスにより形成できる。そのため、磁気記録層の配向性の劣化や媒体表面性の劣化等を防ぐことができる。
図1は、本発明の一実施形態に係る磁気ディスク10の構成の一例を示す。本実施形態において、磁気ディスク10は、基体12、付着層14、軟磁性層16、下地層18、微細化促進層20、磁気記録層22、保護膜24、及び潤滑層26をこの順で備える。尚、磁気ディスク10は、軟磁性層16と下地層18との間に、アモルファスのシード層を更に備えてもよい。シード層とは、下地層18の結晶配向性を向上させるための層である。例えば、下地層18がRuの場合、シード層は、hcp結晶構造のC軸配向性を向上させるための層である。
ガラスディスクを作成した。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ディスク状の基体12を得た。基体12の主表面の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で測定したところ、Rmaxが4.8nm、Raが0.42nmという平滑な表面形状であった。得られた基体12上に、真空引きを行った成膜装置を用いて、DCマグネトロンスパッタリング法にて、Ar雰囲気中で、付着層14、及び軟磁性層16を順次成膜した。
のCoCrPt−SiO2媒体と比較するために、比較例として、非磁性CoCr−SiO2膜を形成していない媒体を作成した。
Claims (16)
- 垂直磁気記録に用いる磁気ディスクであって、
基体と、
上層の結晶方向を制御するための下地層であって、前記基体上に形成された下地層と、
前記下地層上に形成されたグラニュラー構造の非磁性グラニュラー層と、
前記非磁性グラニュラー層上に形成されたグラニュラー構造の強磁性層を有する磁気記録層と
を備え、
前記非磁性グラニュラー層は、
無機酸化物のマトリックスと、
前記非磁性グラニュラー層の前記マトリックス中に分散する金属結晶粒子であって、前記下地層の結晶方位に応じた所定の方位に結晶方位が向く非磁性の金属結晶粒子と
を有し、
前記強磁性層は、
無機酸化物のマトリックスと、
前記強磁性層の前記マトリックス中に分散する磁性結晶粒子であって、前記金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子と
を有することを特徴とする磁気ディスク。 - 垂直磁気記録に用いる磁気ディスクであって、
基体と、
上層の結晶方向を制御するための下地層であって、前記基体上に形成された下地層と、
前記下地層上に形成されたグラニュラー構造の非磁性グラニュラー層と、
前記非磁性グラニュラー層上に形成されたグラニュラー構造の強磁性層を有する磁気記録層と
を備え、
前記非磁性グラニュラー層は、
珪素又は酸化珪素を含むマトリックスと、
前記非磁性グラニュラー層の前記マトリックス中に分散する金属結晶粒子であって、前記下地層の結晶方位に応じた所定の方位に結晶方位が向く非磁性の金属結晶粒子と
を有し、
前記強磁性層は、
珪素又は酸化珪素を含むマトリックスと、
前記非磁性グラニュラー層における前記金属結晶粒子と接するように前記強磁性層の前記マトリックス中に分散しており、前記金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子と
を有することを特徴とする磁気ディスク。 - 前記下地層は、少なくともルテニウムを含有する層であり、
前記非磁性グラニュラー層の前記マトリックスは少なくとも酸化珪素を含有し、
前記非磁性グラニュラー層の前記金属結晶粒子は、少なくともコバルトとクロムとを含有する結晶粒子であり、
前記強磁性層の前記マトリックスは少なくとも酸化珪素を含有し、
前記強磁性層の前記磁性結晶粒子は、少なくともコバルトを含有する結晶粒子であることを特徴とする請求項1又は2に記載の磁気ディスク。 - 前記下地層は、SiO2、Al2O3、ZrO2、Cr2O3のうちから選ばれる少なくとも1種の物質をルテニウムに添加した層であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 前記非磁性グラニュラー層の前記金属結晶粒子は、B、Ta、Nb、Ruのうちから選ばれる少なくとも1種の元素と、コバルトと、クロムとを含有する結晶粒子であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 前記非磁性グラニュラー層の前記マトリックスは、少なくとも珪素を含有し、
前記非磁性グラニュラー層中の珪素の含有量が、4原子%〜20原子%であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。 - 前記強磁性層の前記マトリックスは、少なくとも珪素を含有し、
前記強磁性層中の珪素の含有量が、8原子%〜15原子%であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。 - 前記非磁性グラニュラー層の前記マトリックス、及び前記強磁性層の前記マトリックスは、少なくとも珪素を含有し、
前記非磁性グラニュラー層中の珪素の含有量をA原子%、前記強磁性層中の珪素の含有量をB原子%とした場合、AとBとの比A/Bは0.7〜1.5の範囲であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。 - 前記基体と前記下地層との間に、アモルファスのシード層を備えることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 前記基体と前記下地層との間に、アモルファスの軟磁性層を備えることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 前記基体はアモルファスガラスであることを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 前記磁気記録層は、磁化容易軸が前記強磁性層と略同一方向に揃った交換エネルギー制御層を更に有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれかに記載の垂直磁気記録ディスク。
- 垂直磁気記録に用いる磁気ディスクの製造方法であって、
上層の結晶方向を制御するための下地層を基体上に形成し、
無機酸化物のマトリックスと、当該マトリックス中に分散する金属結晶粒子であって、前記下地層の結晶方位に応じた所定の方位に結晶方位が向く非磁性の金属結晶粒子とを有するグラニュラー構造の非磁性グラニュラー層を前記下地層上に形成し、
無機酸化物のマトリックスと、当該マトリックス中に分散しており、前記金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有するグラニュラー構造の強磁性層を有する磁気記録層を前記非磁性グラニュラー層上に形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 垂直磁気記録に用いる磁気ディスクの製造方法であって、
上層の結晶方向を制御するための下地層を基体上に形成し、
珪素又は酸化珪素を含むマトリックスと、当該マトリックス中に分散する金属結晶粒子であって、前記下地層の結晶方位に応じた所定の方位に結晶方位が向く非磁性の金属結晶粒子とを有するグラニュラー構造の非磁性グラニュラー層を前記下地層上に形成し、
珪素又は酸化珪素を含むマトリックスと、当該マトリックス中に前記非磁性グラニュラー層における前記金属結晶粒子と接するように分散しており、前記金属結晶粒子の結晶方位に応じた所定の方位に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子とを有するグラニュラー構造の強磁性層を有する磁気記録層を前記非磁性グラニュラー層上に形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 前記非磁性グラニュラー層の前記金属結晶粒子は、少なくともコバルトとクロムとを含有する結晶粒子であり、
前記金属結晶粒子におけるコバルトとクロムとが層分離する温度よりも低い温度で、前記非磁性グラニュラー層を形成することを特徴とする請求項13又は14に記載の磁気ディスクの製造方法。 - 前記強磁性層の前記磁性結晶粒子は、少なくともコバルトとクロムとを含有する結晶粒子であり、
前記磁性結晶粒子におけるコバルトとクロムとが層分離する温度よりも低い温度で、前記強磁性層を形成することを特徴とする請求項13乃至15のいずれかに記載の磁気ディスクの製造方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007335034A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Hoya Corp | 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法 |
JP2008262675A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP2008293559A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP2009134804A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2009170052A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
WO2009119636A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Hoya株式会社 | 垂直磁気記録媒体 |
JP2010060668A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 光変調素子、光変調器、表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置 |
JP2010108582A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-05-13 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
US8057927B2 (en) | 2008-07-11 | 2011-11-15 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and information storage apparatus |
US8057926B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-11-15 | WD Media(Singapore) Pte. Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium |
Families Citing this family (73)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008210446A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2008293552A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Fujitsu Ltd | 基板、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記憶装置 |
WO2008149813A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Hoya Corporation | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP5117895B2 (ja) | 2008-03-17 | 2013-01-16 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2009238299A (ja) | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体および垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP5453666B2 (ja) | 2008-03-30 | 2014-03-26 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気ディスク及びその製造方法 |
US9177586B2 (en) | 2008-09-30 | 2015-11-03 | WD Media (Singapore), LLC | Magnetic disk and manufacturing method thereof |
WO2010064724A1 (ja) | 2008-12-05 | 2010-06-10 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
WO2010116908A1 (ja) | 2009-03-28 | 2010-10-14 | Hoya株式会社 | 磁気ディスク用潤滑剤化合物及び磁気ディスク |
US8431258B2 (en) | 2009-03-30 | 2013-04-30 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
US20100300884A1 (en) | 2009-05-26 | 2010-12-02 | Wd Media, Inc. | Electro-deposited passivation coatings for patterned media |
US9330685B1 (en) | 2009-11-06 | 2016-05-03 | WD Media, LLC | Press system for nano-imprinting of recording media with a two step pressing method |
US8496466B1 (en) | 2009-11-06 | 2013-07-30 | WD Media, LLC | Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media |
JP5643516B2 (ja) | 2010-01-08 | 2014-12-17 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 垂直磁気記録媒体 |
JP5574414B2 (ja) | 2010-03-29 | 2014-08-20 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 磁気ディスクの評価方法及び磁気ディスクの製造方法 |
JP5634749B2 (ja) | 2010-05-21 | 2014-12-03 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 垂直磁気ディスク |
JP5645476B2 (ja) | 2010-05-21 | 2014-12-24 | ダブリュディ・メディア・シンガポール・プライベートリミテッド | 垂直磁気ディスク |
JP2011248967A (ja) | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 垂直磁気ディスクの製造方法 |
JP2011248969A (ja) | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 垂直磁気ディスク |
JP2011248968A (ja) | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 垂直磁気ディスク |
JP2012009086A (ja) | 2010-06-22 | 2012-01-12 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
US8889275B1 (en) | 2010-08-20 | 2014-11-18 | WD Media, LLC | Single layer small grain size FePT:C film for heat assisted magnetic recording media |
US9093101B2 (en) * | 2011-02-28 | 2015-07-28 | Seagate Technology Llc | Stack including a magnetic zero layer |
US8743666B1 (en) | 2011-03-08 | 2014-06-03 | Western Digital Technologies, Inc. | Energy assisted magnetic recording medium capable of suppressing high DC readback noise |
US8711499B1 (en) | 2011-03-10 | 2014-04-29 | WD Media, LLC | Methods for measuring media performance associated with adjacent track interference |
US8491800B1 (en) | 2011-03-25 | 2013-07-23 | WD Media, LLC | Manufacturing of hard masks for patterning magnetic media |
US9028985B2 (en) | 2011-03-31 | 2015-05-12 | WD Media, LLC | Recording media with multiple exchange coupled magnetic layers |
US8565050B1 (en) | 2011-12-20 | 2013-10-22 | WD Media, LLC | Heat assisted magnetic recording media having moment keeper layer |
US9029308B1 (en) | 2012-03-28 | 2015-05-12 | WD Media, LLC | Low foam media cleaning detergent |
US9269480B1 (en) | 2012-03-30 | 2016-02-23 | WD Media, LLC | Systems and methods for forming magnetic recording media with improved grain columnar growth for energy assisted magnetic recording |
US8941950B2 (en) | 2012-05-23 | 2015-01-27 | WD Media, LLC | Underlayers for heat assisted magnetic recording (HAMR) media |
US8993134B2 (en) | 2012-06-29 | 2015-03-31 | Western Digital Technologies, Inc. | Electrically conductive underlayer to grow FePt granular media with (001) texture on glass substrates |
US9034492B1 (en) | 2013-01-11 | 2015-05-19 | WD Media, LLC | Systems and methods for controlling damping of magnetic media for heat assisted magnetic recording |
US10115428B1 (en) | 2013-02-15 | 2018-10-30 | Wd Media, Inc. | HAMR media structure having an anisotropic thermal barrier layer |
US9153268B1 (en) | 2013-02-19 | 2015-10-06 | WD Media, LLC | Lubricants comprising fluorinated graphene nanoribbons for magnetic recording media structure |
US9183867B1 (en) | 2013-02-21 | 2015-11-10 | WD Media, LLC | Systems and methods for forming implanted capping layers in magnetic media for magnetic recording |
US9196283B1 (en) | 2013-03-13 | 2015-11-24 | Western Digital (Fremont), Llc | Method for providing a magnetic recording transducer using a chemical buffer |
US9190094B2 (en) | 2013-04-04 | 2015-11-17 | Western Digital (Fremont) | Perpendicular recording media with grain isolation initiation layer and exchange breaking layer for signal-to-noise ratio enhancement |
US9093122B1 (en) | 2013-04-05 | 2015-07-28 | WD Media, LLC | Systems and methods for improving accuracy of test measurements involving aggressor tracks written to disks of hard disk drives |
US8947987B1 (en) | 2013-05-03 | 2015-02-03 | WD Media, LLC | Systems and methods for providing capping layers for heat assisted magnetic recording media |
US8867322B1 (en) | 2013-05-07 | 2014-10-21 | WD Media, LLC | Systems and methods for providing thermal barrier bilayers for heat assisted magnetic recording media |
US9296082B1 (en) | 2013-06-11 | 2016-03-29 | WD Media, LLC | Disk buffing apparatus with abrasive tape loading pad having a vibration absorbing layer |
US9406330B1 (en) | 2013-06-19 | 2016-08-02 | WD Media, LLC | Method for HDD disk defect source detection |
US9607646B2 (en) | 2013-07-30 | 2017-03-28 | WD Media, LLC | Hard disk double lubrication layer |
US9389135B2 (en) | 2013-09-26 | 2016-07-12 | WD Media, LLC | Systems and methods for calibrating a load cell of a disk burnishing machine |
US9177585B1 (en) | 2013-10-23 | 2015-11-03 | WD Media, LLC | Magnetic media capable of improving magnetic properties and thermal management for heat-assisted magnetic recording |
US9581510B1 (en) | 2013-12-16 | 2017-02-28 | Western Digital Technologies, Inc. | Sputter chamber pressure gauge with vibration absorber |
US9382496B1 (en) | 2013-12-19 | 2016-07-05 | Western Digital Technologies, Inc. | Lubricants with high thermal stability for heat-assisted magnetic recording |
US9824711B1 (en) | 2014-02-14 | 2017-11-21 | WD Media, LLC | Soft underlayer for heat assisted magnetic recording media |
US9447368B1 (en) | 2014-02-18 | 2016-09-20 | WD Media, LLC | Detergent composition with low foam and high nickel solubility |
US9431045B1 (en) | 2014-04-25 | 2016-08-30 | WD Media, LLC | Magnetic seed layer used with an unbalanced soft underlayer |
US9042053B1 (en) | 2014-06-24 | 2015-05-26 | WD Media, LLC | Thermally stabilized perpendicular magnetic recording medium |
US9159350B1 (en) | 2014-07-02 | 2015-10-13 | WD Media, LLC | High damping cap layer for magnetic recording media |
US10054363B2 (en) | 2014-08-15 | 2018-08-21 | WD Media, LLC | Method and apparatus for cryogenic dynamic cooling |
US9082447B1 (en) | 2014-09-22 | 2015-07-14 | WD Media, LLC | Determining storage media substrate material type |
US9227324B1 (en) | 2014-09-25 | 2016-01-05 | WD Media, LLC | Mandrel for substrate transport system with notch |
US9685184B1 (en) | 2014-09-25 | 2017-06-20 | WD Media, LLC | NiFeX-based seed layer for magnetic recording media |
US8995078B1 (en) | 2014-09-25 | 2015-03-31 | WD Media, LLC | Method of testing a head for contamination |
US9449633B1 (en) | 2014-11-06 | 2016-09-20 | WD Media, LLC | Smooth structures for heat-assisted magnetic recording media |
US9818442B2 (en) | 2014-12-01 | 2017-11-14 | WD Media, LLC | Magnetic media having improved magnetic grain size distribution and intergranular segregation |
US9401300B1 (en) | 2014-12-18 | 2016-07-26 | WD Media, LLC | Media substrate gripper including a plurality of snap-fit fingers |
US9218850B1 (en) | 2014-12-23 | 2015-12-22 | WD Media, LLC | Exchange break layer for heat-assisted magnetic recording media |
US9257134B1 (en) | 2014-12-24 | 2016-02-09 | Western Digital Technologies, Inc. | Allowing fast data zone switches on data storage devices |
US9990940B1 (en) | 2014-12-30 | 2018-06-05 | WD Media, LLC | Seed structure for perpendicular magnetic recording media |
US9280998B1 (en) | 2015-03-30 | 2016-03-08 | WD Media, LLC | Acidic post-sputter wash for magnetic recording media |
US9822441B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-11-21 | WD Media, LLC | Iridium underlayer for heat assisted magnetic recording media |
US9275669B1 (en) | 2015-03-31 | 2016-03-01 | WD Media, LLC | TbFeCo in PMR media for SNR improvement |
US11074934B1 (en) | 2015-09-25 | 2021-07-27 | Western Digital Technologies, Inc. | Heat assisted magnetic recording (HAMR) media with Curie temperature reduction layer |
US10276201B1 (en) | 2015-11-02 | 2019-04-30 | WD Media, LLC | Dual phase MgO-X seed layers for heat assisted magnetic recording media |
US10236026B1 (en) | 2015-11-06 | 2019-03-19 | WD Media, LLC | Thermal barrier layers and seed layers for control of thermal and structural properties of HAMR media |
US9406329B1 (en) | 2015-11-30 | 2016-08-02 | WD Media, LLC | HAMR media structure with intermediate layer underlying a magnetic recording layer having multiple sublayers |
US10121506B1 (en) | 2015-12-29 | 2018-11-06 | WD Media, LLC | Magnetic-recording medium including a carbon overcoat implanted with nitrogen and hydrogen |
DE112019001706T5 (de) * | 2018-03-30 | 2021-01-21 | Sony Corporation | Magnetisches aufzeichnungsband und kassette eines magnetischen aufzeichnungsbandes |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002025030A (ja) * | 2000-07-06 | 2002-01-25 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体とその製法および磁気記録装置 |
JP2002133645A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-10 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2002334424A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2004220737A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2004296030A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2004310910A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-04 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
JP2005322384A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Heraeus Inc | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006185511A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5851643A (en) * | 1993-11-11 | 1998-12-22 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording media and magnetic recording read-back system which uses such media |
JPH10149526A (ja) | 1996-11-15 | 1998-06-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP2001256640A (ja) | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記録装置 |
JP4083494B2 (ja) | 2001-08-01 | 2008-04-30 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
KR20050002805A (ko) * | 2001-11-30 | 2005-01-10 | 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 | 반-강자성 결합된 수직 자기 기록 매체 |
US7175925B2 (en) * | 2003-06-03 | 2007-02-13 | Seagate Technology Llc | Perpendicular magnetic recording media with improved crystallographic orientations and method of manufacturing same |
JP4169663B2 (ja) * | 2003-07-25 | 2008-10-22 | Hoya株式会社 | 垂直磁気記録媒体 |
US7550211B2 (en) * | 2004-08-16 | 2009-06-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
JP2006101072A (ja) | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Renesas Technology Corp | 高周波電力増幅回路 |
-
2005
- 2005-03-24 JP JP2005086220A patent/JP2006268972A/ja active Pending
-
2006
- 2006-03-20 WO PCT/JP2006/305538 patent/WO2006101072A1/ja active Application Filing
- 2006-03-20 US US11/909,598 patent/US8003237B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002025030A (ja) * | 2000-07-06 | 2002-01-25 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体とその製法および磁気記録装置 |
JP2002133645A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-10 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2002334424A (ja) * | 2001-05-09 | 2002-11-22 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置 |
JP2004220737A (ja) * | 2003-01-17 | 2004-08-05 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP2004296030A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-10-21 | Hitachi Ltd | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2004310910A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-04 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 |
JP2005322384A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Heraeus Inc | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2006185511A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007335034A (ja) * | 2006-06-16 | 2007-12-27 | Hoya Corp | 垂直磁気記録ディスク及びその製造方法 |
JP2008262675A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板 |
JP2008293559A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
US8057926B2 (en) | 2007-09-28 | 2011-11-15 | WD Media(Singapore) Pte. Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium |
JP2009134804A (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
JP2009170052A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
WO2009119636A1 (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Hoya株式会社 | 垂直磁気記録媒体 |
US8697261B2 (en) | 2008-03-28 | 2014-04-15 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Perpendicular magnetic recording medium |
US8057927B2 (en) | 2008-07-11 | 2011-11-15 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and information storage apparatus |
JP2010060668A (ja) * | 2008-09-01 | 2010-03-18 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 光変調素子、光変調器、表示装置、ホログラフィ装置及びホログラム記録装置 |
JP2010108582A (ja) * | 2008-10-03 | 2010-05-13 | Hoya Corp | 垂直磁気記録媒体及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US8003237B2 (en) | 2011-08-23 |
WO2006101072A1 (ja) | 2006-09-28 |
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