CN102648093A - 脱模膜 - Google Patents

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Abstract

提供一种脱模膜,其在粘接剂涂布工序、干燥工序、脱模膜贴合工序等的各制造工序中,从脱模膜的各膜表面析出的寡聚物量极少,能够有助于连续生产性提高。该脱模膜在聚酯膜的两面具有包含含铵盐基聚合物、含聚乙二醇聚合物和交联剂的涂布层,在至少一面的涂布层上叠层有脱模层。

Description

脱模膜
技术领域
本发明涉及一种脱模膜,涉及适合需要更高度的透明性的光学用途例如用于触摸面板制造、液晶偏光板制造的脱模膜。
背景技术
以往,以聚酯膜为基材的脱模膜在各种用途中所使用。例如,在触摸面板制造工序中,例示有(A)硬涂层/聚酯膜/粘接剂层/脱模层/聚酯膜(B)的结构等(专利文献1、2)。
伴随脱模膜的热处理,聚酯膜中含有的低分子量物(特别是环状三聚体)在膜表面析出、结晶化,通过涂布缺陷等的发生,有难以得到高精度的透明导电性薄膜的情况。
在加工工序中,使用脱模膜时,特别或许因为搬运用导向辊和未设置脱模层的膜面(例如,上述构成事例中所说的(B)面)接触、摩擦,所以在加工中,有来自聚酯膜的寡聚物在搬运用辊上附着、沉积的情况。因此,处于将生产线暂时停止、进行清扫作业等难以确保连续生产性的状况。
作为防止上述寡聚物析出的对策,例如,提出在聚酯膜上设置由有机硅树脂和异氰酸酯类树脂的交联体构成的固化性树脂层的方案(专利文献3)。但是,该固化性树脂层是通过热固化形成的层,为了异氰酸酯类树脂的嵌段化剂的解离而必须要高温处理,在加工中处于容易发生卷曲或松弛的状况,在操作中需要注意。
另外,作为防止寡聚物析出的对策,可以列举如下方法:使用从构成聚酯膜的聚酯原料出发,使用固相聚合而预先使含有的寡聚物量减少的聚酯原料来制造膜。但是,该方法在膜制造工序中,有在聚酯原料的熔融工序中,伴随热劣化,防止寡聚物析出效果达不到所希望的水平而不充分的情况。
另一方面,在寻求由涂布层防止寡聚物析出的对策时,用途上就需要比以往具有更高度的耐热性,且涂布层本身的透明性和寡聚物密封性能良好。
特别在触摸面板用途中,近年来,在手机、PDA(个人数字助理:Personal Digital Assistance)等通信信息仪器、游戏机等中的搭载频率有增加的倾向,伴随该领域的市场增长,有比以往偏好更为高度的视觉辨认性的倾向。
其结果,在该领域所使用的脱模膜中,在具有粘接剂涂布工序、干燥工序、贴合工序等的一系列加工工序中,伴随来自构成脱模膜的聚酯膜的寡聚物析出的、制造工序的污染问题可以作为生产性下降的原因之一列举,成为越来越严重的问题。
作为对于上述问题的对策,例如,有如下情况:在构成脱模膜的未设置脱模层的膜面,以防止寡聚物析出为目的而设置硬涂层等涂布层。此时,虽然防止寡聚物析出性能良好,但是,在以辊状缠绕制品时有发生膜表面的滑动性下降等的不良的情况。另外,在硬涂层时,因为必须离线设置,所以因制造工序增加1个工序而有生产性下降的倾向。
另外,在要对应退火处理工序等以高温进行长时间热处理的制造工序的情况下,在涂布层本身的耐热性不充分时,寡聚物析出防止性能达不到所希望的水平,随着连续生产,有发生伴随寡聚物随时间从没有设置脱模层的膜面或设置有脱模层的膜面向搬运用辊表面的附着、沉积的不良的情况。
因此,例如在用作触摸面板制造用脱模膜时,必须要如下的脱模膜:在加工工序中,从构成脱模膜的各膜表面的寡聚物析出极少,制造工序的污染极少,能够有助于连续生产性提高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-144858号公报
专利文献2:日本特开2007-200823号公报
专利文献3:日本特开2007-320144号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本发明是鉴于上述实际情况而完成的,其解决课题在于提供一种脱模膜,其在粘接剂涂布工序、干燥工序、脱模膜贴合工序等各制造工序中,从构成脱模膜的膜表面(在本发明中,主要指没有设置脱模层的膜面,但也包含设置有脱模层的膜面)的寡聚物析出极少,能够有助于连续生产性提高。
用于解决课题的方法
本发明的发明者们鉴于上述实际情况,深入研讨的结果,发现如果使用以具有特定涂布层的聚酯膜为基材的脱模膜,就能够容易解决上述课题,从而完成了本发明。
即,本发明的要点在于一种脱模膜,其特征在于,在聚酯膜的两面具有包含含铵盐基聚合物、含聚乙二醇聚合物和交联剂的涂布层,在至少一面的涂布层上叠层有脱模层。
发明的效果
根据本发明,能够提供一种脱模膜,其例如,在150℃或180℃等的热处理条件下连续生产时,从脱模膜的各膜表面析出的寡聚物量极少,能够极力抑制寡聚物向搬运用辊的附着、沉积或来自寡聚物的杂质向制品的混入,并且有助于连续生产性提高,该脱模膜特别适合用于极端避免杂质的混入、必须要更高度的视觉辨认性的光学用途,例如,适合用于触摸面板制造、液晶偏光板制造,本发明的工业价值高。
具体实施方式
以下,更详细地说明本发明。
在本发明中,构成脱模膜的聚酯膜既可以是单层结构,也可以是多层结构,除2层、3层结构以外,只要不超越本发明的要点,也可以是4层或其以上的多层,没有特别限定。
在本发明中使用的聚酯,优选使芳香族二元羧酸与脂肪族二醇缩聚得到的聚酯,既可以是由1种芳香族二元羧酸和1种脂肪族二醇构成的聚酯,也可以是使1种以上的其它成分共聚得到的共聚聚酯。作为芳香族二元羧酸,可以列举对苯二甲酸、2,6-萘二甲酸等,作为脂肪族二醇,可以列举乙二醇、二甘醇、1,4-环己烷二甲醇等。作为代表性的聚酯,可以例示聚对苯二甲酸乙二醇酯等。另一方面,作为共聚聚酯的成分使用的二元羧酸,可以列举间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2,6-萘二甲酸、己二酸、癸二酸,作为二醇成分,可以列举乙二醇、二甘醇、丙二醇、丁二醇、1,4-环己烷二甲醇、季戊二醇等。另外,也可以使用对氧代苯甲酸等的氧代羧酸。
另外,在构成本发明的脱模膜的聚酯膜中,为了减少由膜加工中的热履历等而膜中含有的寡聚物在膜表面析出、结晶化的量,也可以在多层结构膜的最外层使用低寡聚物化的聚酯。作为减少聚酯中的寡聚物量的方法,例如能够使用固相聚合法等。
在构成本发明的脱模膜的聚酯膜中,以赋予滑动性和防止在各工序产生伤痕作为主要目的,必须配合颗粒。配合的颗粒种类,只要是能够赋予滑动性的颗粒,就没有特别限制,作为具体例子,例如,可以列举二氧化硅、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钡、硫酸钙、磷酸钙、磷酸镁、高岭土、氧化铝、氧化钛等的颗粒。另外,也可以使用在日本特公昭59-5216号公报、日本特开昭59-217755号公报等中记载的耐热性有机颗粒。作为该其它耐热性有机颗粒的例子,可以列举热固化性尿素树脂、热固化性酚醛树脂、热固化性环氧树脂、苯代三聚氰二胺树脂等。在聚酯制造工序中,也能够使用使催化剂等金属化合物的一部分沉淀、微分散得到的析出颗粒。
另一方面,关于使用的颗粒形状也没有特别限定,可以使用球状、块状、棒状、扁平状等任意形状。另外,关于其硬度、比重、色泽等,也没有特别限制。这些颗粒,根据需要可以并用2种以上。
另外,使用的颗粒的平均粒径,通常为0.01~3μm,优选为0.01~2μm的范围。在平均粒径小于0.01μm时,有颗粒容易凝集、分散性不充分的情况,另一方面,在大于3μm时,膜的表面粗糙度变得过于粗糙,在后续工序中涂布设置各种表面功能层的情况等时,有产生不良的情况。
而且聚酯层中的颗粒含量通常为0.001~5重量%的范围,优选为0.005~3重量%的范围。在颗粒含量小于0.001重量%时,有膜的滑动性不充分的情况,另一方面,如果大于5重量%,则有膜的透明性不充分的情况。
作为在聚酯中添加颗粒的方法,没有特别限定,可以采用现有公知的方法。例如,能够在制造构成各层的聚酯的任意阶段中添加,但优选在酯化或酯交换反应结束后添加。
还可以通过如下方法等进行:使用带有通风口的混炼挤出机,掺合使颗粒分散在乙二醇或水等中得到的浆料与聚酯原料的方法或使用混炼挤出机,掺合干燥的颗粒与聚酯原料的方法。
另外,在本发明的聚酯膜中,在上述颗粒以外,根据需要,可以添加现有公知的紫外线吸收剂、抗氧化剂、防静电剂、热稳定剂、润滑剂、染料、颜料等。
构成本发明的脱模膜的聚酯膜的厚度,只要是能够作为膜成膜的范围,就没有特别限定,通常为25~250μm,优选为38~188μm,更优选为50~125μm的范围。
接着,具体说明本发明的聚酯膜的制造例,但不受以下的制造例任何限定。即,优选使用前面提到的聚酯原料,将从模头挤出的熔融片以冷却辊冷却固化,得到未拉伸片的方法。此时,为了使片的平面性提高,优选提高片和旋转冷却鼓的附着力,优选采用静电施加附着法和/或液体涂布附着法。接着,得到的未拉伸片在双轴方向被拉伸。此时,首先在1个方向上由辊或拉幅机方式的拉伸机拉伸上述未拉伸片。拉伸温度通常为70~120℃,优选为80~110℃,拉伸倍率通常为2.5~7倍,优选为3.0~6倍。接着,在与第1段的拉伸方向垂直相交的方向上拉伸,此时,拉伸温度通常为70~170℃,拉伸倍率通常为3.0~7倍,优选为3.5~6倍。然后,继续在180~270℃温度在紧张下或30%以内的松弛下进行热处理,得到双轴取向膜。在上述拉伸中,也可以采用以2阶段以上进行1个方向的拉伸的方法。此时,优选以最终2个方向的拉伸倍率分别在上述范围的方式进行。
另外,在本发明中,关于聚酯膜制造,也可以采用同时双轴拉伸法。同时双轴拉伸法是将上述未拉伸片通常以温度被控制在70~120℃、优选控制在80~110℃的状态,在机械方向和宽度方向同时拉伸使其进行取向的方法,作为拉伸倍率,以面积倍率计为4~50倍,优选为7~35倍,更优选为10~25倍。然后,继续在170~250℃的温度在紧张下或30%以内的松弛下进行热处理,得到拉伸取向膜。关于采用上述拉伸方式的同时双轴拉伸装置,可以采用螺旋方式、缩放方式、线性驱动方式等一直以来公知的拉伸方式。
还可以在上述的聚酯膜的拉伸工序中施加处理膜表面的所谓涂布拉伸法(在线涂布)。在由涂布拉伸法在叠层聚酯膜上设置涂布层时,能够与拉伸同时进行涂布并且根据拉伸倍率将涂布层的厚度减小,能够制造作为聚酯膜适合的膜。
接着,说明本发明的脱模层的形成。
所谓构成本发明的脱模膜的脱模层,指的是具有脱模性的层,具体而言在本发明的用途上优选丙烯酸类粘接胶带与脱模层的剥离力(F)为10~300mN/cm的范围,优选为10~200mN/cm的范围。
构成本发明的脱模膜的脱模层,既可以在上述的涂布拉伸法(在线涂布)等的膜制造工序内,设置在聚酯膜上,也可以采用在系统外涂布在暂时制造的膜上的所谓离线涂布,可以采用任意方法。关于涂布拉伸法(在线涂布),不限定于下面的方法,例如,在依次双轴拉伸中,特别可以在第1段拉伸结束、第2段拉伸前施加涂布处理。通过涂布拉伸法在聚酯膜上设置脱模层时,能够与拉伸同时进行涂布并且根据拉伸倍率将涂布层的厚度减小,能够制造作为聚酯膜适合的膜。
另外,构成本发明的脱模膜的脱模层,为了使脱模性变得良好,优选含有固化型有机硅树脂。既可以是以固化型有机硅树脂为主要成分的类型,也可以使用由与聚氨酯树脂、环氧树脂、醇酸树脂等有机树脂的接枝聚合等产生的改性有机硅类型等。
作为固化型有机硅树脂的种类,可以使用加成型、缩合型、紫外线固化型、电子束固化型、无溶剂型等任意的固化反应类型。如果列举具体例子,可以例示信越化学工业(株)生产的KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-847H、KS-856、X-62-2422、X-62-2461、X-62-1387、KNS-3051、X-62-1496、KNS320A、KNS316、X-62-1574A/B、X-62-7052、X-62-7028A/B、X-62-7619、X-62-7213,Dow Corning AsiaLtd.(株)生产的DKQ3-202、DKQ3-203、DKQ3-204、DKQ3-205、DKQ3-210,GE Toshiba Silicones(株)生产的YSR-3022、TPR-6700、TPR-6720、TPR-6721、TPR6500、TPR6501、UV9300、UV9425、XS56-A2775、XS56-A2982、UV9430、TPR6600、TPR6604、TPR6605,Dow Corning Toray Co.,Ltd.(株)生产的SRX357、SRX211、SD7220、LTC750A、LTC760A、SP7259、BY24-468C、SP7248S、BY24-452等。为了调整脱模层的剥离性等,还可以并用剥离控制剂。
在本发明中,作为在聚酯膜上设置脱模层的方法,可以使用逆向照相凹版涂布、直接照相凹版涂布、辊式涂布、口模式涂布、棒式涂布、幕式涂布等现有公知的涂布方式。关于涂布方式,在“コーテフィング方式(译文:涂布方式)”槇书店,原崎勇次著1979年发行中有记载例。
在本发明中,关于在聚酯膜上形成脱模层时的固化条件,没有特别限定,例如,在由离线涂布设置脱模层时,通常以120~200℃、3~40秒钟,优选以100~180℃、3~40秒钟作为大致标准进行热处理。另外,根据需要,也可以并用热处理和紫外线照射等活性能量线照射。另外,作为用于由活性能量线照射引起的固化的能量源,可以使用现有公知的装置、能量源。从涂布性方面出发,脱模层的涂布量通常为0.005~1g/m2,优选为0.005~0.5g/m2,更优选为0.005~0.1g/m2的范围。涂布量小于0.005g/m2时,从涂布性方面看欠缺稳定性,有难以得到均匀涂膜的情况。另一方面,在大于1g/m2而制成厚涂层时,有脱模层本身的涂膜附着力、固化性等下降的情况。
另外,也可以在构成脱模膜的聚酯膜上预先施加电晕处理、等离子体处理等的表面处理。
接着,构成本发明的脱模膜的涂布层的形成,可以通过在膜上涂覆涂布液设置,也可以通过在膜制造工序内进行的在线涂布设置,还可以采用在系统外涂布在暂时制造的膜上的所谓离线涂布。
在本发明中,在构成脱模膜的涂布层中,为了降低由从外部对涂布层的热损害造成的寡聚物析出量的增加,将含有含铵盐基聚合物作为必要条件。
关于在本发明中使用的含铵盐基聚合物,将具有在分子中的主链或侧链中包含铵盐基这一构成要素的聚合物作为对象。作为具体例子,可以列举吡咯烷鎓环、烷基季铵化物,还可以列举将它们与丙烯酸或甲基丙烯酸共聚的共聚物、N-烷基氨基丙烯酸的季铵化物、乙烯基苄基三甲基铵盐、2-羟基3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲基铵盐等。还可以将它们组合,或使其与其它粘合剂聚合物共聚。另外,作为这些季铵盐的平衡离子的阴离子,可以列举卤素、烷基硫酸盐、烷基磺酸盐、硝酸等的离子。其中,卤素以外的平衡离子,特别在耐热性良好的方面,在本发明的用途上优选。
在本发明中,关于含铵盐基聚合物的分子量,分子量过低时,有容易从涂布层中除去、性能随时间下降或发生涂布层的粘连等不良的情况。另外,如果分子量低,就有耐热稳定性差的情况。从这样的观点出发,含有铵盐基的化合物的数均分子量通常为1000以上,优选为2000以上,更优选为5000以上。另一方面,数均分子量过高时,有发生涂布液的粘度变得过高等的不良的情况。从这样的观点出发,数均分子量的上限优选将500000以下作为大致标准。另外,这些化合物既可以单独使用,也可以组合2种以上使用。
在涂布层中的含铵盐基聚合物的配合量优选为20~70重量%的范围,更优选为40~70重量%的范围。偏离该范围时,有难以得到所希望的寡聚物密封效果的情况。
在本发明的脱模膜中,出于通过确保比以往更高度的涂布性,使涂布层形成时的延伸追随性良好的目的,在涂布层中必须含有含聚乙二醇的聚合物。例如,作为具体例子,可以例示以如下物质为起始原料制成的聚合物:聚乙二醇单丙烯酸酯、聚丙二醇单丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯(优选聚乙二醇单元的聚合度为4~14的范围)、聚丙二醇二丙烯酸酯、聚丁二醇二丙烯酸酯、聚(乙二醇-丁二醇)二丙烯酸酯、聚(丙二醇-丁二醇)二丙烯酸酯、聚乙二醇-聚丙二醇-聚乙二醇二丙烯酸酯、聚丙二醇-聚丁二醇单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇-聚丙二醇单甲基丙烯酸酯、辛氧基聚乙二醇-聚丙二醇单丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、月桂氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、硬脂氧基聚乙二醇单丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇单甲基丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇单丙烯酸酯等。
在本发明中的含聚乙二醇聚合物的数均分子量通常为1000以上,优选为2000以上,更优选为5000以上。另一方面,数均分子量过高时,有产生涂布液的粘度变得过高等的不良的情况。从这样的观点出发,数均分子量的上限优选以500000以下为大致标准。另外,这些化合物既可以单独使用,也可以组合2种以上使用。
在构成本发明的脱模膜的涂布层中,为了进一步使延伸追随性良好,可以使用含有聚乙二醇的烷基丙烯酸酯聚合物。关于烷基链的链长,一直以来只要在能够作为聚合物聚合的范围,就没有特别限定。为了使延伸追随性良好,关于构成本发明中的涂布层的含聚乙二醇聚合物的含量,优选5~40重量%的范围。偏离该范围时,有产生涂布层形成时的延伸追随性变得不充分等的不良的情况。
关于构成本发明中的脱模膜的涂布层,含铵盐基聚合物和含聚乙二醇聚合物既可以是混合物,也可以预先被共聚,只要是不损害本发明要点的范围,就没有特别限定。另外,在使其共聚时,可以使用一直以来公知的制造方法。
出于在构成本发明中的脱模膜的涂布层中涂布层的耐久性更进一步提高的目的,必要条件为在不损害本发明要点的范围内,并用交联剂。具体地可以例示羟甲基化尿素或烷基醇化尿素、三聚氰胺、鸟粪胺、噁唑啉、环氧化合物、丙烯酰胺、聚酰胺化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物、异氰酸酯化合物、钛偶合剂、铝锆偶合剂、聚碳化二亚胺等。
在交联剂中,特别在本发明的用途上,在向聚酯膜的涂布性、涂布层本身的耐久附着力变得良好方面,优选三聚氰胺交联剂。作为三聚氰胺交联剂,没有特别限定,可以使用三聚氰胺、将三聚氰胺与甲醛缩合得到的羟甲基化三聚氰胺衍生物、使低级醇与羟甲基化三聚氰胺反应而部分或完全醚化的化合物、和它们的混合物等。其中,优选将三聚氰胺与甲醛缩合得到的羟甲基化三聚氰胺衍生物,作为其商品的1个例子,可以列举DIC株式会社的“BECKAMINE MA-S”。
另外,三聚氰胺交联剂,既可以是单体或由2聚体以上的多聚体构成的缩合物中的任意1种,或者也可以使用它们的混合物。作为在上述醚化中使用的低级醇,可以优选使用甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇等。作为官能团,是在1分子中具有亚氨基、羟甲基或甲氧基甲基和丁氧基甲基等烷氧基甲基的官能团,可以使用亚氨基型甲基化三聚氰胺、羟甲基型三聚氰胺、羟甲基型甲基化三聚氰胺、完全烷基型甲基化三聚氰胺等。其中,最优选羟甲基化三聚氰胺。另外,以促进三聚氰胺交联剂的热固化为目的,例如,也可以并用对甲苯磺酸等的酸性催化剂。
作为本发明中的噁唑啉交联剂,是在分子内具有噁唑啉环的化合物,也包含具有噁唑啉环的单体、和以噁唑啉化合物作为原料单体之一所合成的聚合物。特别优选在侧链具有噁唑啉基的聚合物,这样的聚合物容易由加聚性含噁唑啉基单体与其它单体的聚合而得到。作为其它单体使用丙烯酸类单体的噁唑啉化合物商品的一个例子,可以列举作为噁唑啉基被接枝于丙烯酸类树脂的聚合物型交联剂的“EPOCROS WS-500”、“EPOCROS WS-300”(株式会社日本触媒生产)等。
作为本发明中的异氰酸酯化合物,是指在分子内具有异氰酸酯基的化合物,具体地可以列举六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、苯二甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、萘二异氰酸酯、亚苄基二异氰酸酯或它们的聚合物、衍生物等。
作为本发明中的环氧化合物,例如,可以列举在分子内包含环氧基的化合物、其预聚物和固化物等。代表性例子为环氧氯丙烷与双酚A的缩合物。特别是低分子多元醇与环氧氯丙烷的反应物可以得到水溶性优异的环氧树脂。
这些交联剂既可以单独使用,也可以混合数种使用。再考虑对在线涂布的适用等时,优选具有水溶性或水分散性。在涂布层中含有的交联剂配合量,通常为1~50重量%,优选为5~30重量%的范围。偏离该范围外时,有各涂布层的耐久附着力不充分的情况。
在构成本发明的脱模膜的涂布层中,在不损害本发明要点的范围内,也能够并用粘合剂聚合物。
在本发明中使用的“粘合剂聚合物”,根据高分子化合物安全性评价流程大纲(日语:高分子化合物安全性評価フロースキーム)(昭和60年11月,化学物质审议会主编),定义为由凝胶渗透色谱(GPC)测定的数均分子量(Mn)为1000以上的高分子物质且具有成膜性。
作为粘合剂聚合物的具体例子,可以列举聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯(聚乙烯醇、聚氯乙烯、氯乙烯乙酸乙烯共聚物等)、聚氨酯树脂、聚亚烷基二醇、聚亚烷基亚胺、甲基纤维素、羟基纤维素、淀粉类等。
另外以涂布层的固定性、滑动性改善为目的,优选含有颗粒。作为具体例子,可以列举二氧化硅、氧化铝、高岭土、碳酸钙、氧化钛、钡盐等。
在各涂布层中颗粒的配合量,通常为0.5~10重量%,优选为1~5重量%。这样的配合量小于0.5重量%时,有抗粘连性不够的情况,另一方面,如果大于10重量%,就有膜的透明性下降的情况。
另外,在不损害本发明要点的范围内,根据需要,可以在各涂布层中含有消泡剂、涂布性改善剂、增粘剂、有机类润滑剂、有机类高分子颗粒、抗氧化剂、紫外线吸收剂、发泡剂、染料等。
在涂布拉伸法(在线涂布)时,优选以如下要领制造两面叠层聚酯膜:将上述一系列化合物作为水溶液或水分散体,在聚酯膜上涂布将固体成分浓度以0.1重量%~50重量%左右为标准配制的涂布液。
另外,在不超越本发明要点的范围中,以改善向水的分散性、改善成膜性等为目的,在涂布液中可以含有少量的有机溶剂。作为有机溶剂,可以列举正丁醇、正丙醇、异丙醇、乙醇、甲醇等脂肪族或脂环族醇类,丙二醇、乙二醇、二甘醇等二醇类,正丁基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂、丙二醇单甲醚等二醇衍生物,二噁烷、四氢呋喃等醚类,乙酸乙酯、乙酸戊酯等酯类,甲乙酮、丙酮等酮类,N-甲基吡咯烷酮等酰胺类。有机溶剂既可以只使用1种,也可以适当使用2种以上。
构成本发明中的脱模膜的涂布层的涂布量(干燥后)通常为0.005~0.1g/m2的范围,优选为0.005~0.05g/m2的范围,更优选为0.005~0.02g/m2的范围。涂布量小于0.005g/m2时,有涂布厚度的均匀性不充分的情况,热处理后,有从涂布层表面析出的寡聚物量变多的情况。另一方面,在涂布超过0.1g/m2时,有产生涂布面状态恶化等的不良的情况。
在本发明中,作为在聚酯膜上设置各涂布层的方法,逆向照相凹版涂布、直接照相凹版涂布、辊式涂布、口模式涂布、棒式涂布、幕式涂布、喷涂等现有公知的涂布方式。关于涂布方式,在“コーテフィング方式(译文:涂布方式)”槇书店,原崎勇次著1979年发行中有记载例。
关于本发明中的脱模膜,例如,作为触摸面板用,有如下情况:即使在150℃、3小时等长时间、高温气氛下暴露后,也要求高度的透明性。由这样的观点,为了作为触摸面板用构件对应,在热处理(150℃、3小时)前后的膜浊度变化率(ΔH)优选为0.5%以下,更优选为0.3%以下,最优选为0.1%以下。ΔH大于0.5%时,伴随膜浊度上升而视觉辨认性下降,例如,有不适合用于触摸面板制造等必须具有高度的视觉辨认性的用途的情况。
由二甲基甲酰胺从本发明中的脱模膜进行热处理(150℃、3小时)前后的、没有设置脱模层的膜表面所提取的寡聚物(环状三聚体)量(OL1)优选为1.0mg/m2以下,更优选为0.8mg/m2以下。在OL1大于1.0mg/m2时,在加工工序中,例如,在150℃的热处理条件下进行连续生产时,从构成脱模膜的、没有设置脱模层的膜表面的析出寡聚物析出量变多,向搬运用辊表面的寡聚物附着、沉积量随时间增加,有难以确保所希望的连续生产性的情况。
由二甲基甲酰胺从本发明中的脱模膜进行热处理(150℃、3小时)前后的、脱模层表面所提取的寡聚物(环状三聚体)量(OL2)优选为1.0mg/m2以下,更优选为0.8mg/m2以下。在OL2大于1.0mg/m2时,在加工工序中,例如,在150℃的热处理条件下进行连续生产时,从构成脱模膜的、脱模层表面的析出寡聚物析出量变多,向搬运用辊表面的寡聚物附着、沉积量随时间增加,有难以确保所希望的连续生产性的情况。
实施例
下面,由实施例更详细地说明本发明,但本发明只要不超越其要点,就不受下面的实施例所限定。另外,在本发明中使用的测定法和评价方法如下。
(1)聚酯的固有粘度的测定方法:
精密称量1g聚酯,加入100ml苯酚/四氯乙烷=50/50(重量比)的混合溶剂,使其溶解,在30℃测定。
(2)平均粒径(d50:μm)的测定方法:
将使用离心沉降式粒度分布测定装置(株式会社岛津制作所生产的SA-CP3型)测得的等价球形分布的积算(重量基准)50%的值作为平均粒径。
(3)从构成脱模膜的、没有设置脱模层的膜表面所提取的寡聚物量(OL1)的测定方法:
在空气中、150℃将试样膜加热3小时。然后,使进行了热处理的该膜尽可能附着于上部开口的纵横10cm、高3cm的箱的内表面,制成箱形的形状。接着,在上述方法制成的箱中,以涂布层表面接触的方式加入4ml DMF(二甲基甲酰胺),放置3分钟后,回收DMF。将回收的DMF供给液相色谱(岛津制作所生产:LC-7A),求出DMF中的寡聚物量,将该值除以接触DMF的膜面积,作为膜表面寡聚物量(mg/m2)。DMF中的寡聚物量由标准试样峰面积和测定试样峰面积的峰面积之比求出(绝对校正曲线法)。
标准试样的制成,准确称量预先分离提取的寡聚物(环状三聚体),溶解在准确称量的DMF中而制成。标准试样的浓度优选0.001~0.01mg/ml的范围。
另外,液相色谱的条件如下。
流动相A:乙腈
流动相B:2%乙酸水溶液
柱:三菱化学(株)生产的“MCI GEL ODS 1HU”
柱温:40℃
流速:1ml/分钟
检测波长:254nm
(4)从构成脱模膜的、脱模层表面所提取的寡聚物量(OL2)的测定方法:
在上述(3)项中,除了与DMF接触的膜面与脱模层表面不同以外,与(3)同样操作评价,求出寡聚物量(OL2)。
(5)脱模膜的浊度(H0)测定:
按照JIS-K-7136,由村上色彩研究所生产的“HM-150”,测定膜浊度。
(6)加热处理后的脱模膜的膜浊度(H1)的测定:
以规定的热处理条件(150℃、3小时)处理试样膜后,与(4)项同样操作,测定膜浊度。
(7)脱模膜的视觉辨认性代用评价(实用特性代用评价)
在试样膜中,关于透明性、视觉辨认性,由下述判断基准进行判断。
《判断基准》
◎:加热处理后的膜浊度(H1)小于0.9%,透明性、视觉辨认性特别良好(实用上无问题的水平)
○:加热处理后的膜浊度(H1)为0.9%以上、小于1.2%,透明性、视觉辨认性良好(实用上无问题的水平)
×:加热处理后的膜浊度(H1)为1.2%以上,透明性、视觉辨认性不良(实用上有问题的水平)
(8)脱模膜的耐久性评价:
在试样膜中,在涂布层表面(在两面设置有脱模层时,为脱模层表面)预先粘贴粘接胶带(日东电工生产的No.31B胶带)后,在60℃×90%RH气氛下,在恒温恒湿槽内放置24小时。接着,取出试样膜,在室温放置24小时后,剥离粘接胶带,关于各涂布层表面状态,由下述判断基准进行判断。
《判断基准》
○:在粘接胶带剥离痕迹中有涂布层(或脱模层)残留(实用上无问题的水平)
×:在粘接胶带剥离痕迹中没有涂布层(或脱模层)残留,或有残留,但极少是难以表达本来涂布层(或脱模层)具有的性能的程度(实用上有问题的水平)
(9)脱模膜的连续生产性评价(实用特性代用评价):
在试样膜(膜宽:1000mm,缠卷长度:4000m)中,在脱模面上将由下述粘接剂组成构成的粘接剂层涂布为规定的涂布厚度(干燥后)后,与规定的层压基材贴合。累计加工试样膜40000m部分后,基于下述判断基准,进行来自聚酯膜的寡聚物向与刚层压后脱模膜中的、没有设置脱模层的膜面接触的搬运用辊附着程度的判断。
<使用涂布机-层压设备>
井上金属工业株式会社生产的试验涂布机(test coater)“类型:3号机”
<线速度>60m/min
<干燥炉长>3m×3区域
<干燥温度(设定值)>D1/D2/D3=120℃/120℃/100℃
<粘接剂层的组成>
主剂:东洋油墨生产的丙烯酸类粘接剂“BPS-1109”100重量份
固化剂:东洋油墨生产的“BHS-8515”            2重量份
溶剂:甲苯/MEK(甲乙酮)                      50重量份
<粘接剂层的涂布厚度(干燥后)>    30(g/cm2)
<层压基材>          PET50μm
<层压基材>             40℃
<层压基材>           5kg/cm2
《判断基准》
○:没有由目测确认到寡聚物向搬运用辊表面的附着(实用上无问题的水平)
×:由目测确认到寡聚物向搬运用辊表面的附着(实用上有问题的水平)
××:由目测明显确认到寡聚物向搬运用辊表面的附着(实用上有问题的水平)
在实施例和比较例中使用的聚酯是按照下面操作准备的聚酯。
<聚酯(Ⅰ)的制造方法>
以100重量份对苯二甲酸二甲酯和60重量份乙二醇为起始原料,作为催化剂,在反应器中加入0.09重量份四水合乙酸镁,反应开始温度设为150℃,随着甲醇的蒸馏除去,缓慢使反应温度上升,3小时后成为230℃。4小时后,使酯交换反应实质上结束。在该反应混合物中添加0.04份酸式磷酸乙酯后,加入0.04份三氧化锑,进行4小时缩聚反应。即,将温度从230℃缓慢升温为280℃。另一方面,压力由常压缓慢降低,最终为0.3mmHg。反应开始后,通过反应槽的搅拌动力变化,在相当于特性粘度0.63的时刻停止反应,在氮气加压下使聚合物排出。得到的聚酯(Ⅰ)的特性粘度为0.63。
<聚酯(Ⅱ)的制造方法>
在聚酯(Ⅰ)的制造方法中,添加0.04份酸式磷酸乙酯后,加入0.3份分散在乙二醇中的平均粒径为1.6μm的二氧化硅颗粒、0.04份三氧化锑,在相当于特性粘度0.65的时刻停止缩聚反应,除此以外,使用与聚酯(Ⅰ)的制造方法同样的方法得到聚酯(Ⅱ)。得到的聚酯(Ⅱ),特性粘度为0.65。
实施例1:
将分别以90%、10%的比例混合聚酯(Ⅰ)、(Ⅱ)得到的混合原料作为最外层(表层)的原料,将聚酯(Ⅰ)作为中间层的原料,分别供给2台挤出机,分别在285℃熔融后,在设定为40℃的冷却辊上以2种2层(表层/中间层/表层)的层结构共挤出,使其冷却固化,得到未拉伸片。接着,利用辊圆周速度差,以膜温85℃在纵向拉伸3.4倍后,以涂布量(干燥后)为规定量的方式,在膜两面涂布由下述涂布剂组成构成的涂布层后,供给拉幅机,在横向以120℃拉伸4.3倍,以225℃进行热处理后,在横向松弛,得到厚度为75μm(表层5μm,中间层65μm)设置有涂布层的叠层膜。另外,构成涂布层的化合物例如下。
(化合物例)
·含铵盐基聚合物(A1):
2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲基铵盐聚合物
平衡离子:甲基磺酸盐数均分子量:30000
·含聚乙二醇聚合物(B1):
含有聚乙二醇的单丙烯酸酯聚合物数均分子量:20000
·含聚乙二醇聚合物(B2):
辛氧基聚乙二醇-聚丙二醇单丙烯酸酯聚合物数均分子量:32000
·含聚乙二醇聚合物(B3):
聚乙二醇:数均分子量:20000
·交联剂(C1):三聚氰胺交联剂(DIC公司生产:“BECKAMINEMA-S”)
·交联剂(C2):噁唑啉交联剂(日本触媒生产:“EPOCROSWS500”)
·颗粒(D1):氧化铝表面改性胶体二氧化硅(平均粒径:50nm)
·粘合剂(E1):聚乙烯醇(皂化度88摩尔%、聚合度500)
在得到的叠层膜的一个涂布层上由离线,以涂布量(干燥后)为0.1g/m2的方式通过逆向照相凹版涂布方式涂布由在下述表示的脱模剂组成构成的涂布剂,在180℃热处理10秒钟后,得到脱模膜。在下述表2中表示得到的脱模膜的特性。
(脱模剂组成)
固化型有机硅树脂(KS-744:信越化学生产)        100份
固化剂(PL-4:信越化学生产)                    10份
MEK/甲苯混合液(混合比例为1∶1)                1500份
实施例2~实施例7:
在实施例1中,将涂布层改变为在表1中表示的涂布剂组成,除此以外,与实施例1同样操作制造,得到脱模膜。在下述表2中表示得到的脱模膜的特性。
比较例1:
在实施例1中,在没有设置脱模层的膜面上不设置涂布层,除此以外,与实施例1同样操作制造,得到脱模膜。在下述表2中表示得到的脱模膜的特性。
比较例2:
在实施例1中,在设置有脱模层的膜面上不设置涂布层,除此以外,与实施例1同样操作制造,得到脱模膜。在下述表2中表示得到的脱模膜的特性。
比较例3~比较例5:
在实施例1中,将涂布层改变为在表1中表示的涂布剂组成,除此以外,与实施例1同样操作制造,得到脱模膜。在下述表2中表示得到的脱模膜的特性。
[表1]
Figure BDA00001645084700181
[表2]
工业上的可利用性
本发明的膜,例如,能够适合利用于触摸面板制造、液晶偏光板制造。

Claims (9)

1.一种脱模膜,其特征在于:
在聚酯膜的两面具有包含含铵盐基聚合物、含聚乙二醇聚合物和交联剂的涂布层,在至少一面的涂布层上叠层有脱模层。
2.如权利要求1所述的脱模膜,其特征在于:
涂布层的含铵盐基聚合物的含量为20~70重量%,含聚乙二醇聚合物的含量为5~40重量%,交联剂的含量为1~50重量%。
3.如权利要求1或2所述的脱模膜,其特征在于:
作为含铵盐基聚合物的季铵盐的平衡离子的阴离子为卤素以外的阴离子。
4.如权利要求1~3中任一项所述的脱模膜,其特征在于:
含聚乙二醇聚合物为含有聚乙二醇的丙烯酸酯聚合物。
5.如权利要求1~4中任一项所述的脱模膜,其特征在于:
交联剂为三聚氰胺交联剂或噁唑啉交联剂。
6.如权利要求5所述的脱模膜,其特征在于:
三聚氰胺交联剂是对三聚氰胺和甲醛进行缩合而得到的羟甲基化三聚氰胺衍生物。
7.如权利要求5所述的脱模膜,其特征在于:
噁唑啉交联剂为在侧链具有噁唑啉基的聚合物。
8.如权利要求7所述的脱模膜,其特征在于:
具有噁唑啉基的聚合物是通过加聚性含噁唑啉基单体与其它单体的聚合而得到的聚合物。
9.如权利要求8所述的脱模膜,其特征在于:
其它单体为丙烯酸类单体。
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