CN101844121B

CN101844121B - 涂布装置

Info

Publication number: CN101844121B
Application number: CN201010147565.4A
Authority: CN
Inventors: 三浦秀宣
Original assignee: FUJI MECHANICAL INDUSTRY Co Ltd
Current assignee: FUJI MECHANICAL INDUSTRY Co Ltd
Priority date: 2009-03-25
Filing date: 2010-03-25
Publication date: 2015-07-01
Anticipated expiration: 2030-03-25
Also published as: JP2010221204A; TWI548463B; JP4820427B2; TW201034760A; CN101844121A; KR101677763B1; KR20100107401A

Abstract

本发明提供一种以简单且紧凑的结构就能够对基材的表背两面分别恰当地涂布涂布剂的涂布装置。该涂布装置包括：上游侧导辊(1)及下游侧导辊(2)，引导并支撑基材(S)；两个涂布辊(3、4)，设置在两导辊之间，在上游侧与下游侧彼此隔开指定距离，且在向与搬送方向相反的方向旋转的状态下，对基材的其中一面及另一面涂布涂布剂；涂布单元(5、5)，分别设于两个涂布辊上，向对应的涂布辊供应涂布剂。涂布单元包括：涂布盒(7)，沿着对应的涂布辊的一部分周面设置，形成有涂布剂积聚部(6)；涂布剂输送机构(10)，将涂布剂输送至涂布剂积聚部内；密封部件(8、9)，在对应的涂布辊的旋转方向上游侧及下游侧密封涂布剂积聚部。

Description

涂布装置

技术领域

本发明涉及将涂布剂涂布在树脂薄膜或纸等片状基材的两面上的涂布装置，特别涉及该涂布装置的改良。

背景技术

以往，已提出有各种对片状基材涂布涂布剂的涂布装置以及涂布方法。例如，日本专利公开公报特开2001-179151号(以下称作“专利文献1”)揭示了如下的凹版涂布机及凹版涂布方法，即，对往指定方向被搬送的片状基材，通过直径约20mm～约50mm的一对平行且旋转自如的姿势控制辊来支撑该片状基材的上表面，并且在两姿势控制辊之间，将凹版辊与两姿势控制辊平行地配置在基材下方。凹版辊的直径为约20mm～约50mm，其整个外周面上形成有凹版图案，以与基材的搬送速度不同的圆周速度旋转而进行涂布。在涂布前，从凹版辊的表面刮去多余的涂布剂，在基材的上表面处于自由状态的位置，将一定量的涂布剂涂布于基材的下表面。

此外，日本专利公开公报特开平10-151391号(以下称作“专利文献2”)揭示了以如下目的而作的凹版涂布装置以及凹版涂布方法，即，通过任意设定基材的移动方向，以便能够节约设置空间，且通过防止涂布剂的劣化以便能够恰当地进行涂布。此装置中，在向指定方向被搬送的片状基材的两侧设置有凹版辊，在凹版辊的附近设置有涂布剂贮留盒。涂布剂贮留盒利用刮刀与凹版辊的周面的一部分形成将涂布剂贮留在内部的封闭空间。通过使该凹版辊旋转而将涂布剂贮留盒内部的涂布剂涂布于凹版辊的外周面，并且通过刮刀刮去涂布在该凹版辊外周面的剩余涂布剂，以将一定量的涂布剂涂布到上述基材上。

在专利文献1所揭示的凹版涂布机中，由于涂布剂的收容部呈敞开状态，因此必须将凹版辊及向该凹版辊供应涂布剂的涂布剂收容部设置在基材的下方。因此，必须在由姿势控制辊将基材以大致水平状态引导并支撑来进行搬送的状态下，由凹版辊涂布涂布剂。亦即，无法将凹版辊设置在基材的上下两侧来对基材的表背两面涂布涂布剂。另外，为了通过凹版辊高精度地对基材涂布涂布剂，必须由设置在凹版辊相反侧的一对姿势控制辊恰当地支撑基材的上表面，因而无法避免结构变得复杂。

另一方面，在专利文献2所揭示的装置中，向凹版辊供应涂布剂的涂布剂贮留盒被密封。在此种装置中，可以在利用导辊引导并支撑基材的状态下向垂直方向搬送该基材，沿着基材的搬送路径配置一对凹版辊，从而可对基材的表背两面分别涂布剂。这样，为了对基材的表背两面分别均匀地涂布涂布剂，必须对基材施加指定的伸张力。作为施加伸张力的手段，必须设置一对导辊(伸张辊)。当对两面进行涂布时，就必须设置两对以上此种导辊对。由此存在无法避免装置大型化的问题。

具体而言，在基材的搬送方向的上游侧，沿基材的搬送方向配置一对导辊来引导基材，并且在该一对导辊的相对侧配置涂布机构，由此，对上述基材的其中一面涂布涂布剂。进而，在下游侧，在与设有上游导辊对的一侧相反的一侧设置另一导辊对来引导基材，并且在与设有上游的涂布机构的一侧相反的一侧设置另一涂布机构，以对基材的另一面涂布涂布剂，从而在基材的表背两面分别涂布涂布剂。

例如，如图13所示，通过设置在基材S的搬送方向上游侧的一对导辊41、42引导基材S，并且在其对面侧设置第1涂布机构43以对基材的其中一面涂布涂布剂。进而，在下游侧设置另一对导辊44、45以引导基材S，并且在其对面侧设置第2涂布机构46以对基材的另一面涂布涂布剂。此时，由于第1涂布机构43与设在第2涂布机构46的相对侧的导辊对44、45被设置在基材S的同一面侧，因此，在由上述第1涂布机构43涂布了涂布剂的基材S的其中一面到达上述导辊对44、45之前，必须通过加热等使上述涂布剂干燥。因此设置有干燥器47。因此，无法将第1涂布机构43与第2涂布机构46靠近设置。另外，在第2涂布机构46的下游侧，也必须设置使由第2涂布机构46涂布了涂布剂的基材S的另一面干燥的另一干燥器48。因此，存在无法避免涂布装置会大型化且其结构会变得复杂的问题。

发明内容

本发明鉴于上述问题而作，其目的在于提供一种以简单且紧凑的结构就能够对基材的表背两面分别恰当地涂布涂布剂的涂布装置。

本发明的涂布装置，将涂布剂涂布于向指定的搬送方向被搬送的片状基材的两面，其包括：上游侧导辊及下游侧导辊，引导并支撑上述基材；两个涂布辊，彼此隔开指定距离设置在上述上游侧导辊和上述下游侧导辊之间的上游侧和下游侧，向与上述搬送方向相反的方向旋转，对上述基材的其中一面及另一面涂布涂布剂；涂布单元，分别设于上述两个涂布辊上，向对应的涂布辊供应涂布剂。上述涂布单元包括：涂布盒，沿着对应的涂布辊的一部分周面设置，形成有涂布剂积聚部；涂布剂输送机构，将涂布剂输送至上述涂布剂积聚部内；密封部件，在对应的涂布辊的旋转方向上游侧及下游侧密封上述涂布剂积聚部。

根据上述结构，由于在引导并支撑基材的上游侧导辊及下游侧导辊之间，将在朝向与基材的搬送方向相反的方向旋转的情况下对基材的其中一面及另一面涂布涂布剂的两个涂布辊在上游侧与下游侧彼此隔开指定距离来设置，因而能够在由上游侧导辊与配置在下游侧的涂布辊支撑基材的其中一面的状态下，使设置在上游侧的涂布辊的周面压接于基材的另一面而均匀地涂布涂布剂。而且，能够在由设置在上游侧的涂布辊与下游侧导辊支撑基材的上述另一面的状态下，使设置在下游侧的涂布辊的周面压接于基材的上述其中一面而均匀地涂布涂布剂。因此，无需通过设置在涂布辊的相反侧的一对姿势控制辊来适当地支撑基材等方法，就能够对基材的两面分别高精度地涂布涂布剂，而且，能够有效地使涂布装置紧凑，简化涂布装置的结构。

上述涂布装置中，较为理想的是还包括：干燥硬化部，设置于下游侧的所述涂布辊与上述下游侧导辊之间，用于干燥硬化涂布剂。

根据此结构，由于在设置于下游侧的涂布辊与下游侧导辊之间设置有涂布剂的干燥硬化部，因此能够使由设置在下游侧且靠近下游侧导辊的涂布辊涂布于基材的涂布剂在到达下游侧导辊之前干燥。由此，能够有效地防止未硬化的涂布剂与下游侧导辊接触而使涂膜受损这一情况的发生。

该结构中，较为理想的是，上述基材的由上述两个涂布辊的其中一个涂布辊进行涂布的上述其中一面是不与上述下游侧导辊的周面接触的面，上述基材的由另一个涂布辊进行涂布的上述另一面是与上述下游侧导辊的周面接触的面，由上述其中一个涂布辊涂布在上述基材的不与上述下游侧导辊的周面接触的上述其中一面上的涂布剂，比由上述另一个涂布辊涂布在上述基材的与上述下游侧导辊的周面接触的上述另一面上的涂布剂更难干燥。

根据此结构，由于将难干燥的涂布剂涂布于基材的不与下游侧导辊的周面接触的面，将易干燥的涂布剂涂布于基材的与下游侧导辊的周面接触的面，因此难干燥的涂布剂在干燥之前不会与下游侧导辊接触。因此，能够有效地防止涂膜受损这一情况的发生。

该结构中，较为理想的是还包括：另一个干燥硬化部，设置于上述下游侧导辊的下游侧，用于干燥硬化涂布剂。

根据此结构，由于利用设置在下游侧导辊与下游侧的涂布辊之间的干燥硬化部来使具有易干燥的性质的涂布剂干燥硬化，并利用设置在下游侧导辊的下游侧的另一个干燥硬化部来使具有难干燥的性质的涂布剂干燥硬化，因此能够使下游侧导辊与涂布辊之间所设的干燥硬化部小型化，并可缩短下游侧导辊与涂布辊的设置间隔，因而能够缩短上游侧导辊与下游侧导辊之间的设置间隔。因此，能够有效地防止因上游侧导辊与下游侧导辊之间的设置间隔变大造成在基材的支撑力不足的状态下进行涂布剂的涂布而导致的不均匀涂膜的形成。

上述涂布装置中，较为理想的是，在上述上游侧导辊与上述下游侧导辊之间，上述基材以水平或倾斜的状态被支撑并被搬送，上述两个涂布辊的其中一个涂布辊设置在上述基材的上方，另一个涂布辊设置在上述基材的下方，由上述其中一个涂布辊所涂布的涂布剂具有比由上述另一个涂布辊所涂布的涂布剂更易滴落的性质。

根据此结构，由于在上游侧导辊及下游侧导辊之间，以使基材的其中一面位于上方的方式使基材以水平或倾斜的状态被引导支撑并被搬送基材，而且通过设置在上述基材上方侧的涂布辊将具有易滴落的性质的涂布剂涂布于基材的其中一面，并且通过设置在上述基材下方侧的涂布辊将具有难滴落的性质的涂布剂涂布于基材的另一面。由此，通过将因与设置在基材下方的涂布辊所使用的涂布剂相比粘度较低，或因涂布厚度较大等而导致具有高流动性并易滴落的涂布剂用于基材的上表面，因此能够极力抑制涂布剂在干燥硬化之前因重力影响而流动而产生涂膜受损的可能性。另外，设置在基材下方的涂布辊所使用的涂布剂是与由设置在上方的涂布辊所使用的涂布剂相比粘度较高，或涂布厚度较小等因而流动性较低并难滴落的涂布剂，由此，即使向基材的下表面涂布，也能够有效地防止在搬送中涂布剂流动而产生涂膜受损的可能性。

上述涂布装置中，较为理想的是，由上述两个涂布辊所涂布的涂布剂是层压用粘合剂，其中，所述涂布装置还包括：一对层压辊，设置于下游侧的所述涂布辊与上述下游侧导辊之间，用于将层压材分别层压于上述基材的所述其中一面及所述另一面。

根据此结构，能够以结构紧凑且简单的涂布装置对基材的两面均匀地涂布层压用粘合剂。并且，能够在被均匀地涂布的层压用粘合剂上，通过设置在下游侧涂布辊的下游的一对层压辊迅速地粘合层压材。

上述涂布装置中，较为理想的是，在上述两个涂布辊各自的周面上，形成有以基材的所述搬送方向作为对称轴的左右对称的涂布用单元格图案的凹凸。

根据此结构，由于在上述两个涂布辊各自的周面上形成以基材的搬送方向作为对称轴的左右对称的涂布用单元格图案，因此能够防止随着两涂布辊的旋转而对基材施加将该基材向与其搬送方向正交的轴方向压靠的压靠力的作用，从而能够有效地抑制基材的蜿蜒行进。

上述涂布装置中，较为理想的是，在上述两个涂布辊的其中一个涂布辊的周面上，形成有对上述基材施加使其向与其搬送方向正交的第1轴方向移动的力的涂布用单元格图案的凹凸，在另一个涂布辊的周面上，形成有对上述基材施加使其向与上述第1轴方向相反的第2轴方向移动的力的涂布用单元格图案的凹凸。

根据此结构，由于在其中一个涂布辊的周面形成有对基材施加使其向与其搬送方向正交的第1轴方向移动的力的涂布用单元格图案，在另一个涂布辊的周面形成有对基材施加使其向与上述第1轴方向相反的第2轴方向移动的力的涂布用单元格图案，因此即使在两涂布辊上形成随着两涂布辊的旋转而对基材施加将其向与其搬送方向正交的轴方向压靠的压靠力的涂布用单元格图案，也能够使伴随该旋转而产生的压靠力以彼此抵消的方式作用，由此能够有效地防止基材的蜿蜒行进。

附图说明

图1是表示本发明所涉及的涂布装置的第1实施方式的说明图。

图2是表示设在上述涂布装置中的涂布辊及涂布盒的具体结构的横剖面图。

图3是表示上述涂布辊的具体结构的纵剖面图。

图4是表示上述涂布盒的侧端部的结构的平面剖面图。

图5是表示形成于上述涂布辊上的单元格图案的说明图。

图6是表示单元格图案的变形例的说明图。

图7是表示本发明所涉及的涂布装置的第2实施方式的说明图。

图8是表示本发明所涉及的涂布装置的第3实施方式的说明图。

图9是表示本发明所涉及的涂布装置的第4实施方式的说明图。

图10是表示第4实施方式的涂布装置的变形例的说明图。

图11是表示本发明所涉及的涂布装置的第5实施方式的说明图。

图12是表示单元格图案的另一变形例的说明图。

图13是表示以往的涂布装置的说明图。

具体实施方式

图1及图2表示本发明所涉及的涂布装置的第1实施方式，该涂布装置对片状基材S，在其表面(以下称作“第1面”)及背面(以下称作“第2面”)这两面上分别涂布(全面涂布)涂布剂，在上述基材S的第2面(背面)侧，设置有引导并支撑基材S的上游侧导辊1及下游侧导辊2。在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间设置有：对上述基材S的第1面(表面)涂布涂布剂的第1涂布辊3；设置在上述上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，对上述基材的第2面涂布涂布剂的第2涂布辊4；对上述第1涂布辊3、第2涂布辊4供应涂布剂的涂布单元5。上述第2涂布辊4相对于上述基材S而设置在与上游侧导辊1及下游侧导辊2相同的一侧。亦即，上述第1涂布辊设置在基材S的不与上游侧导辊1及下游侧导辊2各自的周面接触的面侧，上述第2涂布辊设置在基材S的与上游侧导辊1及下游侧导辊2各自的周面接触的面侧。

第1实施方式中，上述基材S在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间从下方往上方被大致垂直地搬送。在两导辊1、2之间，第1涂布辊3设置在上游侧，第2涂布辊4靠近第1涂布辊地设置在上述第1涂布辊3的下游侧。通过该结构，第1涂布辊3的周面以0°～10°的接触角α压接于、第2面由上游侧导辊1与第2涂布辊4引导并支撑的基材S的第1面；第2涂布辊4的周面以0°～10°的接触角α压接于、第1面由第1涂布辊3与下游侧导辊2引导并支撑的基材S的第2面。

第1涂布辊3和第2涂布辊4以指定的间距设置，并且向与基材S的搬送方向相反的方向旋转。第1涂布辊3和第2涂布辊4在相互离开的位置处抵接于基材S，对该基材S的第1面及第2面涂布涂布剂。在图1中，第1涂布辊3通过图外的驱动机构的驱动向逆时针方向旋转，而第2涂布辊4向顺时针方向被旋转驱动，由此，第1涂布辊3的抵接面和第2涂布辊4的抵接面相对于从下方向上方移动的基材S，分别从上方向下方移动。为了使装置紧凑，第1涂布辊3与第2涂布辊4的间距可尽可能靠近地设置。但是，为了使基于第1涂布辊3向与基材S的搬送方向相反的方向旋转而对基材S施加的反作用力不会在第2涂布辊4对基材S的第2面涂布涂布剂时造成不良影响，而且为了使两涂布辊3、4不会夹住基材S，第1涂布辊3与第2涂布辊4的周表面间的最短距离必须大于基材S的厚度。

如图2所示，涂布单元5包括：涂布盒7，具有涂布剂积聚部6，该涂布剂积聚部6由具有与第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面相对的开口的空间所形成；刮刀8，由安装在涂布盒7的前面上端部，即安装在第1涂布辊3、第2涂布辊4的旋转方向下游侧的钢或塑料等形成；密封板9，由设置在涂布盒7的前面下端部，即设置在第1涂布辊3、第2涂布辊4的旋转方向上游侧的钢或塑料等形成；涂布剂输送机构10，将涂布剂输送至涂布剂积聚部6内。

刮刀8及密封板9的远端部发挥密封部件作用，被压接于第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面。由此，涂布剂积聚部6的前面部上下由刮刀8及密封板9密封，使涂布剂积聚部6处于密封状态。随着第1涂布辊3、第2涂布辊4的旋转，附着在涂布辊周面上的多余的涂布剂被刮刀8刮除。如图1所示，涂布剂输送机构10包括：涂布剂槽11，收容由印刷用油墨等构成的涂布剂；涂布剂输送管13，设有输送泵12，通过该输送泵12抽吸涂布剂槽11内的涂布剂并输送至涂布盒7的下部；回送管14，使从涂布盒7的上部排出的涂布剂积聚部7内的涂布剂返回涂布剂槽11。

如图3及图4所示，第1涂布辊3、第2涂布辊4包括：例如由钢制的管材等构成的辊主体15；设在辊主体15的左右两端部的旋转轴17。另外，在辊主体15的周面部上形成有单元格层18。在单元格层18上，如图5或图6所示，通过激光加工等方法刻印有由正方形状的涂布用单元格图案(cellpattern)19a或六边形状的涂布用单元格图案19b构成的连续几何学式样的线对称的单元格图案，亦即以基材的搬送方向作为对称轴的左右对称的涂布用单元格图案。

在涂布盒7的侧端部，设有覆盖涂布剂积聚部6的侧端部的侧壁板20，并且在侧壁板20上安装有密封部件21。另外，在第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面左右两端部设有未刻印涂布用单元格图案19的平滑面部22，涂布盒7的密封部件21压接于平滑面部22。

第1涂布辊3、第2涂布辊4的直径例如被设定在40mm～200mm的范围内，较为理想的是被设定在40mm～120mm的范围内。如果使第1、第2涂布辊3、4的直径形成得较小，则能够减小第1涂布辊3、第2涂布辊4的与基材S接触的接触面积，并且能够抑制有较大的摩擦力作用于第1涂布辊3、第2涂布辊4与基材S之间的情况。因此，在由第1涂布辊3、第2涂布辊4对基材S涂布涂布剂时，能够有效地抑制涂布不均的发生。另一方面，如果第1、第2涂布辊3、4较长、轴承间距离较大且基材S的搬送速度较高，则在涂布涂布剂时，第1涂布辊3、第2涂布辊4易发生挠曲，由此易于产生涂布不均。为了防止此情况，较为理想的是将第1涂布辊3、第2涂布辊4的直径设定为一定程度大的尺寸。

上述结构中，通过驱动涂布剂输送机构10的输送泵12，从涂布剂槽11内将涂布剂供应至第1涂布辊3、第2涂布辊4的涂布剂积聚部6内，并驱动第1涂布辊3、第2涂布辊4使之以指定速度向与基材S的搬送方向相反的方向旋转。由此，被供应至涂布剂积聚部6内的涂布剂在密封状态下与第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面接触并附着于其上，而附着在第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面上的多余的涂布剂则被刮刀8分别去除。

第1涂布辊3的周面上所附着的涂布剂随着其旋转被送至基材S，在由上游侧导辊1与第2涂布辊4引导并支撑基材S的第2面的状态下，由第1涂布辊3将涂布剂涂布于基材的第1面。继而，第2涂布辊4的周面上所附着的涂布剂随着其旋转被送至基材S，在由第1涂布辊3与下游侧导辊2引导并支撑基材S的第1面的状态下，由第2涂布辊4将涂布剂涂布于基材S的第2面。

如上所述，上述涂布装置是对片状的基材S在该基材的第1面及第2面分别涂布涂布剂的涂布装置，其中设有：上游侧导辊1及下游侧导辊2，设置在基材S的第2面侧，引导并支撑基材S；第1涂布辊3，设置在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，向与基材S的搬送方向相反的方向旋转，并对基材的第1面涂布涂布剂；第2涂布辊4，在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，设置在第1涂布辊3的下游侧且与该第1涂布辊3隔开指定距离，并向与基材S的搬送方向相反的方向旋转，且在与第1涂布辊3相互离开的位置处抵接于基材的第2面以涂布涂布剂；涂布单元5，向第1涂布辊3、第2涂布辊4供应涂布剂。涂布单元5包括：涂布盒7，沿第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面设置；涂布剂输送机构10，将涂布剂输送至涂布盒7中形成的涂布剂积聚部6内；刮刀8及密封板9，密封第1涂布辊3、第2涂布辊4的旋转方向上游侧及下游侧从而密封涂布剂积聚部6。刮刀8及密封板9发挥密封部件的作用。以此种简单且紧凑的结构，能够恰当地对基材S的表背两面分别涂布涂布剂。

亦即，由于向第1、第2涂布辊3、4供应涂布剂的涂布盒7的涂布剂积聚部6采用密封型的结构，因此，基材S在由导辊1、2引导并支撑的状态下能够沿垂直方向被搬送，并且，通过沿着基材S的搬送路径设置的一对第1、第2涂布辊3、4，能够对基材S的第1、第2面分别涂布涂布剂。并且，由于对基材S的第1面涂布涂布剂的第1涂布辊3被设置在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，而且对基材S的第2面涂布涂布剂的第2涂布辊4被设置在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间且与第1涂布辊3隔开指定距离的位置处，因此，能够使第1涂布辊3的周面以指定的接触角α压接于、第2面由上游侧导辊1与第2涂布辊4引导并支撑的基材S的第1面，从而能均匀地涂布涂布剂。而且，能够使第2涂布辊4的周面以指定的接触角α压接于、第1面由第1涂布辊3与下游侧导辊2引导并支撑的基材S的第2面，从而能均匀地涂布涂布剂。

因此，与专利文献1所示的必须通过设置在凹版辊的相反侧的一对姿势控制辊才能恰当地引导并支撑基材的上表面的结构相比，上述涂布装置的结构简单。另外，与如图13所示的以往装置的结构，即，通过沿着基材S的搬送方向设置的一对导辊41、42引导并支撑基材S，并且通过设置在其相反侧的第1涂布机构43对基材S的其中一面涂布涂布剂之后，通过设置在其下游侧的一对导辊44、45支撑基材S，并且通过设置在其相反侧的第2涂布机构46对基材S的另一面涂布涂布剂的结构相比，上述涂布装置具有以下优点，即，能够对基材S的第1、第2面分别均匀且恰当地涂布涂布剂，有效地使涂布装置变得紧凑，并能够充分简化其结构。

另外，由于在第1涂布辊3、第2涂布辊4分别向与基材S的搬送方向相反的方向旋转的状态下涂布涂布剂，因此能够对基材S的第1面及第2面恰当且均匀地涂布涂布剂。并且，由于使第2涂布辊4在与第1涂布辊3相离开的位置处抵接于基材S的第2面来涂布涂布剂，因此具有以下优点，即，能够防止第1涂布辊3的旋转力在由第2涂布辊4对基材S的第2面涂布涂布剂时造成不良影响，而且，能够在第1涂布辊3、第2涂布辊4分别向与基材S的搬送方向相反的方向旋转的状态下将涂布剂高精度地涂布于基材S的第1面及第2面。

图7表示本发明所涉及的涂布装置的第2实施方式。在该第2实施方式的涂布装置中，第1涂布辊3、第2涂布辊4中设置在下游侧的第2涂布辊4与设置在其下游侧的下游侧导辊2之间，设置有涂布剂的干燥硬化部23。干燥硬化部23例如具有如下结构：通过对被涂布在基材S上的涂布剂喷吹热风，对涂布剂进行加热而使之硬化，或者，通过对基材S照射紫外线或红外线等，使涂布剂硬化。

在第2实施方式中，由于在第2涂布辊4与下游侧导辊2之间设置有涂布剂的干燥硬化部23，因此能够在由第2涂布辊4涂布于基材S的第2面上的涂布剂到达下游侧导辊2之前使第2面的涂布剂干燥。因此，涂布剂不会在未硬化的状态与下游侧导辊2接触，涂膜也不会受损。

另外，下游侧导辊2也可以由利用加压空气的非接触型导辊构成。此时，即使不在下游侧导辊的上游侧设置涂布剂干燥硬化部，也能够抑制未硬化的涂布剂与下游侧导辊2接触而产生的涂膜受损。但是，在如上所述在第2涂布辊4与下游侧导辊2之间设置涂布剂干燥硬化部23的情况下，有以下优点，即，无须使用非接触型导辊，就能够以简单的结构有效地防止因涂布剂在未硬化状态下与下游侧导辊2接触所造成的涂膜受损的产生。

图8表示本发明所涉及的涂布装置的第3实施方式。第3实施方式的涂布装置中具有以下结构：利用第1涂布辊3将具有难干燥的性质的涂布剂涂布于基材S的第1面，利用第2涂布辊4将具有易干燥的性质的涂布剂涂布于基材S的第2面。另外，在第1涂布辊3、第2涂布辊4与位于其下游侧的下游侧导辊2之间，设置有容量相对较小的第1干燥硬化部24，并且在下游侧导辊2的下游侧，设置有容量相对较大的第2干燥硬化部25。亦即，第1涂布辊3使用具有比第2涂布辊4所用的涂布剂更难干燥的性质的涂布剂，第2涂布辊4使用具有比第1涂布辊3所用的涂布剂更易干燥的性质的涂布剂。另外，第1干燥硬化部24的容量相对较小是指与第2干燥硬化部25的容量相比较小，第2干燥硬化部25的容量相对较大是指与第1干燥硬化部24的容量相比较大。

根据上述结构，由于能够通过小容量的第1干燥硬化部24使具有易干燥的性质的涂布剂充分地干燥硬化，因此通过使第1干燥硬化部24紧凑化可以缩短第2涂布辊4与下游侧导辊2的设置间隔。因此，能够有效地防止因上游侧导辊1与下游侧导辊2的设置间隔变大导致基材S的支撑力不足的情况，从而能够在恰当地引导并支撑基材S的状态下均匀地涂布涂布剂。

另外，如上所述，在使第1干燥硬化部24的容量相对较小的情况下，难以通过第1干燥硬化部24使具有难干燥的性质的涂布剂完全干燥硬化。但是，由于该涂布剂被涂布在基材S的不与下游侧导辊2接触的第1面上，因此即使该涂布剂在未硬化的状态到达下游侧导辊2也不会与其接触，从而不会使由具有难干燥的性质的涂布剂所形成的涂膜受损。因此，通过在不会对上游侧导辊1与下游侧导辊2之间的基材S的支撑状态造成影响的位置亦即下游侧导辊2的下游侧，设置具备能够使被涂布在基材S的第1面上的具有难干燥的性质的涂布剂充分干燥的容量的第2干燥硬化部25，从而能够使被涂布在基材S的第1面上的涂布剂恰当地干燥硬化。

在第1～第3实施方式中，对在沿垂直方向搬送基材S的状态下通过第1涂布辊3、第2涂布辊4对基材S的第1、第2面分别涂布涂布剂的结构的例进行了说明。但也可以将该结构予以取代，而采用如图9所示的第4实施方式的、在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，在以第1面位于上方的方式使基材S倾斜的状态下进行搬送的结构。在采用以如此倾斜状态搬送基材S并进行涂布剂的涂布的结构时，能够有效地缩短涂布区域中的基材S的垂直方向及水平方向上的尺寸，因此能够使涂布装置更加紧凑。

第4实施方式的结构中，当被涂布在第1面与第2面上的涂布剂的粘度存在差异时，或者当因被涂布在第1面与第2面上的涂布剂的涂布厚度不同等造成两涂布剂的滴落性不同时，较为理想的是，通过设置在基材S上方侧的第1涂布辊3将具有易滴落的性质的涂布剂涂布于位于基材S上面侧的第1面，并且通过设置在基材S下方侧的第2涂布辊4将相比于第1涂布剂具有难滴落的性质的涂布剂涂布于基材S的第2面。

当因与被涂布于第2面的涂布剂相比粘度较低，或者涂布厚度较大等而导致被涂布于第1面的涂布剂具有高流动性时，在由第1涂布辊3涂布于基材S的第1面上的涂布剂干燥硬化之前，有可能会因重力影响而流动而产生涂膜受损，但如上所述，由于通过第1涂布辊3将涂布剂涂布于位于基材S上面侧的第1面上，因此能够有效地抑制涂布剂受到重力影响而流动的可能性。另一方面，由于被涂布于基材S的第2面上的涂布剂与被涂布于第1面上的涂布剂相比粘度较高，或者与被涂布于第1面上的涂布剂相比涂布厚度较小等原因而流动性较低，具有难受重力影响的性质且滴落性较低，因此，如果将这样的涂布剂涂布于位于基材S下面侧的第2面，则涂布剂在搬送中因流动、滴落而产生涂膜受损的可能性较低。

另外，即使在采用以下结构的情况下，即，在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，将基材S以水平状态予以搬送并使基材S的第1面位于上方，并且，利用设置在基材S上方侧的第1涂布辊3将具有易滴落的性质的涂布剂涂布于位于基材S上面侧的第1面，并且，利用设置在基材S下方侧的第2涂布辊4将具有比被涂布于第1面上的涂布剂难滴落的性质的涂布剂涂布于基材S的第2面的情况下，也能获得同样的作用效果。

另外，也可以取代实施方式1～4中在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，在上游侧设置对基材S的第1面涂布涂布剂的第1涂布辊3，并且在下游侧设置第2涂布辊4的结构而如图10所示，在导辊1、2之间的上游侧设置对基材S的第2面涂布涂布剂的第2涂布辊4，并且在下游侧设置对基材S的第1面涂布涂布剂的第1涂布辊3。在此情况下，基于从第2涂布辊4施加于基材S的第2面的按压力的关系，上游侧导辊1对基材S的引导功能易受损，因此须增大基材S绕附在上游侧导辊1上的卷绕角度β以维持基材S的引导功能。例如，较为理想的是，将卷绕角度β设定为90°以上。

图11表示本发明所涉及的涂布装置的第5实施方式。在第5实施方式所涉及的涂布装置中，利用第1涂布辊3、第2涂布辊4将作为层压用粘合剂的涂布剂涂布于基材S的第1、第2面。在第1涂布辊3、第2涂布辊4与设置在其下游侧的下游侧导辊2之间，设置有：对被涂布于基材S的第1面、第2面的涂布剂进行加热，使其溶剂气化的干燥硬化部26；在该干燥硬化部26的下游侧，将层压材27、28层压于基材S的第1、第2面的一对层压辊29、30；向各层压辊29、30引导上述层压材27、28的引导辊31、32。

如上所述，在具备将层压材27、28层压于基材S的第1面及第2面的结构的层压机中，由于将对基材S的第1面涂布作为层压用粘合剂的涂布剂的第1涂布辊3设置在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间，并且，在上游侧导辊1及下游侧导辊2之间且在邻接于第1涂布辊3的位置上，设置对基材S的第2面涂布作为层压用粘合剂的涂布剂的第2涂布辊4，因此，能够使第1涂布辊3的周面以指定的接触角压接于、第2面由上游侧导辊1与第2涂布辊4支撑的基材S的第1面，均匀地涂布涂布剂，并且，能够使第2涂布辊4的周面以指定的接触角压接于、第1面由第1涂布辊3与下游侧导辊2引导并支撑的基材S的第2面，均匀地涂布涂布剂。

另外，在第5实施方式中，在第2涂布辊4与设置在其下游侧的层压辊29、30之间，设置有对第1、第2涂布剂加热以使其溶剂气化的干燥硬化部26。由此，能够防止因涂布剂被层压材27、28覆盖从而该涂布剂的溶剂的气化被层压材27、28妨碍的情况。亦即，能够在使溶剂切实地气化的状态下将层压材27、28恰当地层压于基材S的第1面及第2面。

另外，当使用无溶剂型涂布剂作为层压用粘合剂，或者使用具有透气性的片状材作为层压材27、28时，由于不会产生因涂布剂被层压材27、28覆盖导致的弊害，因此在层压辊29、30的下游侧可以不设置对涂布剂加热以使之干燥硬化的干燥硬化部。

在实施方式1～5中，在第1涂布辊3、第2涂布辊4的周面部上分别形成有由正方形或六边形等连续几何学式样构成的左右对称的涂布用单元格图案，亦即以基材S的搬送方向作为对称轴的左右对称的涂布用单元格图案19。由此，具有以下优点，即，能够以简单的结构切实地防止因随着第1涂布辊3、第2涂布辊4的旋转而产生的使基材朝向与其搬送方向正交的方向的压靠力的作用，能够有效地抑制基材的蜿蜒行进。

另外，也可以取代上述结构，在第1、第2涂布辊3、4的周面部上形成随着第1、第2涂布辊3、4的旋转而使分别反方向的压靠力作用于基材S的涂布用单元格图案。例如，如图12所示，可以在第1涂布辊3、第2涂布辊4上分别形成由向指定方向倾斜的倾斜槽构成的涂布用单元格图案33、34。当将此种涂布用单元格图案33形成于第1涂布辊3上时，随着该第1涂布辊3旋转而有一个使基材S朝向与其搬送方向正交的第1方向U移动的方向的压靠力的作用。因此，通过在第2涂布辊4的周面上形成赋予使基材S朝向与第1方向U相反的第2方向W移动的力的涂布用单元格图案34，从而能够使与第1、第2涂布辊3、4的旋转相应的压靠力以彼此抵消的方式产生作用而防止基材S的蜿蜒行进。

Claims

1.一种涂布装置，其通过凹版涂布方法将涂布剂涂布于向指定的搬送方向被搬送的片状基材的第一面及第二面，其特征在于包括：

上游侧导辊及下游侧导辊，引导并支撑所述基材，所述下游侧导辊设在所述基材的第二面侧；

第一涂布辊及第二涂布辊，彼此隔开指定距离设置在所述上游侧导辊和所述下游侧导辊之间的上游侧和下游侧，在各自的周面形成有涂布用单元格图案的凹凸，向与所述搬送方向相反的方向旋转，对所述基材涂布涂布剂，所述第一涂布辊在所述基材的第一面涂布涂布剂，所述第二涂布辊在所述基材的第二面涂布涂布剂；

涂布单元，分别设于所述第一涂布辊及第二涂布辊上，向对应的涂布辊供应涂布剂；其中，

所述涂布单元包括：

涂布盒，沿着对应的涂布辊的一部分周面设置，形成有涂布剂积聚部；

涂布剂输送机构，将涂布剂输送至所述涂布剂积聚部内；

密封部件，在对应的涂布辊的旋转方向上游侧及下游侧密封所述涂布剂积聚部；

在所述上游侧导辊及所述下游侧导辊之间，在上游侧设置所述第二涂布辊，在下游侧设置所述第一涂布辊，

在所述上游侧导辊与所述下游侧导辊之间，所述基材以水平或倾斜的状态被支撑并被搬送，所述基材的第一面设在上方，所述基材的第二面设在下方，由所述第一涂布辊所涂布的涂布剂具有比由所述第二涂布辊所涂布的涂布剂更易滴落的性质。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于还包括：

干燥硬化部，设置于所述第一涂布辊与所述下游侧导辊之间，用于干燥硬化涂布剂。

3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于：

由所述第一涂布辊涂布在所述基材的第一面上的涂布剂，比由所述第二涂布辊涂布在所述基材的第二面上的涂布剂更难干燥。

4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于还包括：

另一个干燥硬化部，设置于所述下游侧导辊的下游侧，用于干燥硬化涂布剂。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的涂布装置，其特征在于：

所述涂布用单元格图案的凹凸，以基材的所述搬送方向作为对称轴左右对称地形成。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的涂布装置，其特征在于：

在所述第一涂布辊及第二涂布辊的其中一个涂布辊的周面上形成的涂布用单元格图案的凹凸，对所述基材施加使其向与其搬送方向正交的第1轴方向移动的力，在另一个涂布辊的周面上形成的涂布用单元格图案的凹凸，对所述基材施加使其向与所述第1轴方向相反的第2轴方向移动的力。