TWI548463B

TWI548463B - Coating device

Info

Publication number: TWI548463B
Application number: TW099107577A
Authority: TW
Inventors: Hidenobu Miura
Original assignee: Fuji Kikai Kogyo Kk
Priority date: 2009-03-25
Filing date: 2010-03-16
Publication date: 2016-09-11
Also published as: TW201034760A; KR101677763B1; JP4820427B2; CN101844121A; KR20100107401A; CN101844121B; JP2010221204A

Description

塗布裝置

本發明有關於將塗布劑塗布在樹脂薄膜或紙等片狀基材的兩面上的塗布裝置，特別有關於該塗布裝置的改良。

以往，已提出有各種對片狀基材塗布塗布劑的塗布裝置以及塗布方法。例如，日本專利公開公報特開2001-179151號(以下稱作“專利文獻1”)揭示了如下的凹版塗布機及凹版塗布方法，即，對往指定方向被搬送的片狀基材，通過直徑約20mm～約50mm的一對平行且旋轉自如的姿勢控制輥來支撐該片狀基材的上表面，並且在兩姿勢控制輥之間，將凹版輥與兩姿勢控制輥平行地配置在基材下方。凹版輥的直徑為約20mm～約50mm，其整個外周面上形成有凹版圖案，以與基材的搬送速度不同的圓周速度旋轉而進行塗布。在塗布前，從凹版輥的表面刮去多餘的塗布劑，在基材的上表面處於自由狀態的位置，將一定量的塗布劑塗布於基材的下表面。

此外，日本專利公開公報特開平10-151391號(以下稱作“專利文獻2”)揭示了以如下目的而作的凹版塗布裝置以及凹版塗布方法，即，通過任意設定基材的移動方向，以便能夠節約設置空間，且通過防止塗布劑的劣化以便能夠恰當地進行塗布。此裝置中，在向指定方向被搬送的片狀基材的兩側設置有凹版輥，在凹版輥的附近設置有塗布劑貯留盒。塗布劑貯留盒利用刮刀與凹版輥的周面的一部分形成將塗布劑貯留在內部的封閉空間。通過使該凹版輥旋轉而將塗布劑貯留盒內部的塗布劑塗布於凹版輥的外周面，並且通過刮刀刮去塗布在該凹版輥外周面的剩餘塗布劑，以將一定量的塗布劑塗布到上述基材上。

在專利文獻1所揭示的凹版塗布機中，由於塗布劑的收容部呈敞開狀態，因此必須將凹版輥及向該凹版輥供應塗布劑的塗布劑收容部設置在基材的下方。因此，必須在由姿勢控制輥將基材以大致水平狀態引導並支撐來進行搬送的狀態下，由凹版輥塗布塗布劑。亦即，無法將凹版輥設置在基材的上下兩側來對基材的表背兩面塗布塗布劑。另外，為了通過凹版輥高精度地對基材塗布塗布劑，必須由設置在凹版輥相反側的一對姿勢控制輥恰當地支撐基材的上表面，因而無法避免結構變得複雜。

另一方面，在專利文獻2所揭示的裝置中，向凹版輥供應塗布劑的塗布劑貯留盒被密封。在此種裝置中，可以在利用導輥引導並支撐基材的狀態下向垂直方向搬送該基材，沿著基材的搬送路徑配置一對凹版輥，從而可對基材的表背兩面分別塗布劑。這樣，為了對基材的表背兩面分別均勻地塗布塗布劑，必須對基材施加指定的伸張力。作為施加伸張力的手段，必須設置一對導輥(伸張輥)。當對兩面進行塗布時，就必須設置兩對以上此種導輥對。由此存在無法避免裝置大型化的問題。

具體而言，在基材的搬送方向的上游側，沿基材的搬送方向配置一對導輥來引導基材，並且在該一對導輥的相對側配置塗布機構，由此，對上述基材的其中一面塗布塗布劑。進而，在下游側，在與設有上游導輥對的一側相反的一側設置另一導輥對來引導基材，並且在與設有上游的塗布機構的一側相反的一側設置另一塗布機構，以對基材的另一面塗布塗布劑，從而在基材的表背兩面分別塗布塗布劑。

例如，如圖13所示，通過設置在基材S的搬送方向上游側的一對導輥41、42引導基材S，並且在其對面側設置第1塗布機構43以對基材的其中一面塗布塗布劑。進而，在下游側設置另一對導輥44、45以引導基材S，並且在其對面側設置第2塗布機構46以對基材的另一面塗布塗布劑。此時，由於第1塗布機構43與設在第2塗布機構46的相對側的導輥對44、45被設置在基材S的同一面側，因此，在由上述第1塗布機構43塗布了塗布劑的基材S的其中一面到達上述導輥對44、45之前，必須通過加熱等使上述塗布劑乾燥。因此設置有乾燥器47。因此，無法將第1塗布機構43與第2塗布機構46靠近設置。另外，在第2塗布機構46的下游側，也必須設置使由第2塗布機構46塗布了塗布劑的基材S的另一面乾燥的另一乾燥器48。因此，存在無法避免塗布裝置會大型化且其結構會變得複雜的問題。

本發明鑒於上述問題而作，其目的在於提供一種以簡單且緊湊的結構就能夠對基材的表背兩面分別恰當地塗布塗布劑的塗布裝置。

本發明的塗布裝置，將塗布劑塗布於向指定的搬送方向被搬送的片狀基材的兩面，其包括：上游側導輥及下游側導輥，引導並支撐上述基材；兩個塗布輥，彼此隔開指定距離設置在上述上游側導輥和上述下游側導輥之間的上游側和下游側，向與上述搬送方向相反的方向旋轉，對上述基材的其中一面及另一面塗布塗布劑；塗布單元，分別設於上述兩個塗布輥上，向對應的塗布輥供應塗布劑。上述塗布單元包括：塗布盒，沿著對應的塗布輥的一部分周面設置，形成有塗布劑積聚部；塗布劑輸送機構，將塗布劑輸送至上述塗布劑積聚部內；密封構件，在對應的塗布輥的旋轉方向上游側及下游側密封上述塗布劑積聚部。

根據上述結構，由於在引導並支撐基材的上游側導輥及下游側導輥之間，將在朝向與基材的搬送方向相反的方向旋轉的情況下對基材的其中一面及另一面塗布塗布劑的兩個塗布輥在上游側與下游側彼此隔開指定距離來設置，因而能夠在由上游側導輥與配置在下游側的塗布輥支撐基材的其中一面的狀態下，使設置在上游側的塗布輥的周面壓接於基材的另一面而均勻地塗布塗布劑。而且，能夠在由設置在上游側的塗布輥與下游側導輥支撐基材的上述另一面的狀態下，使設置在下游側的塗布輥的周面壓接於基材的上述其中一面而均勻地塗布塗布劑。因此，無需通過設置在塗布輥的相反側的一對姿勢控制輥來適當地支撐基材等方法，就能夠對基材的兩面分別高精度地塗布塗布劑，而且，能夠有效地使塗布裝置緊湊，簡化塗布裝置的結構。

上述塗布裝置中，較為理想的是還包括：乾燥硬化部，設置於下游側的上述塗布輥與上述下游側導輥之間，用於乾燥硬化塗布劑。

根據此結構，由於在設置於下游側的塗布輥與下游側導輥之間設置有塗布劑的乾燥硬化部，因此能夠使由設置在下游側且靠近下游側導輥的塗布輥塗布於基材的塗布劑在到達下游側導輥之前乾燥。由此，能夠有效地防止未硬化的塗布劑與下游側導輥接觸而使塗膜受損這一情況的發生。

該結構中，較為理想的是，上述基材的由上述兩個塗布輥的其中一個塗布輥進行塗布的上述其中一面是不與上述下游側導輥的周面接觸的面，上述基材的由另一個塗布輥進行塗布的上述另一面是與上述下游側導輥的周面接觸的面，由上述其中一個塗布輥塗布在上述基材的不與上述下游側導輥的周面接觸的上述其中一面上的塗布劑，比由上述另一個塗布輥塗布在上述基材的與上述下游側導輥的周面接觸的上述另一面上的塗布劑更難乾燥。

根據此結構，由於將難乾燥的塗布劑塗布於基材的不與下游側導輥的周面接觸的面，將易乾燥的塗布劑塗布於基材的與下游側導輥的周面接觸的面，因此難乾燥的塗布劑在乾燥之前不會與下游側導輥接觸。因此，能夠有效地防止塗膜受損這一情況的發生。

該結構中，較為理想的是還包括：另一個乾燥硬化部，設置於上述下游側導輥的下游側，用於乾燥硬化塗布劑。

根據此結構，由於利用設置在下游側導輥與下游側的塗布輥之間的乾燥硬化部來使具有易乾燥的性質的塗布劑乾燥硬化，並利用設置在下游側導輥的下游側的另一個乾燥硬化部來使具有難乾燥的性質的塗布劑乾燥硬化，因此能夠使下游側導輥與塗布輥之間所設的乾燥硬化部小型化，並可縮短下游側導輥與塗布輥的設置間隔，因而能夠縮短上游側導輥與下游側導輥之間的設置間隔。因此，能夠有效地防止因上游側導輥與下游側導輥之間的設置間隔變大造成在基材的支撐力不足的狀態下進行塗布劑的塗布而導致的不均勻塗膜的形成。

上述塗布裝置中，較為理想的是，在上述上游側導輥與上述下游側導輥之間，上述基材以水平或傾斜的狀態被支撐並被搬送，上述兩個塗布輥的其中一個塗布輥設置在上述基材的上方，另一個塗布輥設置在上述基材的下方，由上述其中一個塗布輥所塗布的塗布劑具有比由上述另一個塗布輥所塗布的塗布劑更易滴落的性質。

根據此結構，由於在上游側導輥及下游側導輥之間，以使基材的其中一面位於上方的方式使基材以水平或傾斜的狀態被引導支撐並被搬送基材，而且通過設置在上述基材上方側的塗布輥將具有易滴落的性質的塗布劑塗布於基材的其中一面，並且通過設置在上述基材下方側的塗布輥將具有難滴落的性質的塗布劑塗布於基材的另一面。由此，通過將因與設置在基材下方的塗布輥所使用的塗布劑相比粘度較低，或因塗布厚度較大等而導致具有高流動性並易滴落的塗布劑用於基材的上表面，因此能夠極力抑制塗布劑在乾燥硬化之前因重力影響而流動而產生塗膜受損的可能性。另外，設置在基材下方的塗布輥所使用的塗布劑是與由設置在上方的塗布輥所使用的塗布劑相比粘度較高，或塗布厚度較小等因而流動性較低並難滴落的塗布劑，由此，即使向基材的下表面塗布，也能夠有效地防止在搬送中塗布劑流動而產生塗膜受損的可能性。

上述塗布裝置中，較為理想的是，由上述兩個塗布輥所塗布的塗布劑是層壓用粘合劑，其中，上述塗布裝置還包括：一對層壓輥，設置於下游側的上述塗布輥與上述下游側導輥之間，用於將層壓材分別層壓於上述基材的上述其中一面及上述另一面。

根據此結構，能夠以結構緊湊且簡單的塗布裝置對基材的兩面均勻地塗布層壓用粘合劑。並且，能夠在被均勻地塗布的層壓用粘合劑上，通過設置在下游側塗布輥的下游的一對層壓輥迅速地粘合層壓材。

上述塗布裝置中，較為理想的是，在上述兩個塗布輥各自的周面上，形成有以基材的上述搬送方向作為對稱軸的左右對稱的塗布用單格圖案的凹凸。

根據此結構，由於在上述兩個塗布輥各自的周面上形成以基材的搬送方向作為對稱軸的左右對稱的塗布用單格圖案，因此能夠防止隨著兩塗布輥的旋轉而對基材施加將該基材向與其搬送方向正交的軸方向壓靠的壓靠力的作用，從而能夠有效地抑制基材的蜿蜒行進。

上述塗布裝置中，較為理想的是，在上述兩個塗布輥的其中一個塗布輥的周面上，形成有對上述基材施加使其向與其搬送方向正交的第1軸方向移動的力的塗布用單格圖案的凹凸，在另一個塗布輥的周面上，形成有對上述基材施加使其向與上述第1軸方向相反的第2軸方向移動的力的塗布用單格圖案的凹凸。

根據此結構，由於在其中一個塗布輥的周面形成有對基材施加使其向與其搬送方向正交的第1軸方向移動的力的塗布用單格圖案，在另一個塗布輥的周面形成有對基材施加使其向與上述第1軸方向相反的第2軸方向移動的力的塗布用單格圖案，因此即使在兩塗布輥上形成隨著兩塗布輥的旋轉而對基材施加將其向與其搬送方向正交的軸方向壓靠的壓靠力的塗布用單格圖案，也能夠使伴隨該旋轉而產生的壓靠力以彼此抵消的方式作用，由此能夠有效地防止基材的蜿蜒行進。

圖1及圖2表示本發明所關的塗布裝置的第1實施例，該塗布裝置對片狀基材S，在其表面(以下稱作“第1面”)及背面(以下稱作“第2面”)這兩面上分別塗布(全面塗布)塗布劑，在上述基材S的第2面(背面)側，設置有引導並支撐基材S的上游側導輥1及下游側導輥2。在上游側導輥1及下游側導輥2之間設置有：對上述基材S的第1面(表面)塗布塗布劑的第1塗布輥3；設置在上述上游側導輥1及下游側導輥2之間，對上述基材的第2面塗布塗布劑的第2塗布輥4；對上述第1塗布輥3、第2塗布輥4供應塗布劑的塗布單元5。上述第2塗布輥4相對於上述基材S而設置在與上游側導輥1及下游側導輥2相同的一側。亦即，上述第1塗布輥設置在基材S的不與上游側導輥1及下游側導輥2各自的周面接觸的面側，上述第2塗布輥設置在基材S的與上游側導輥1及下游側導輥2各自的周面接觸的面側。

第1實施例中，上述基材S在上游側導輥1及下游側導輥2之間從下方往上方被大致垂直地搬送。在兩導輥1、2之間，第1塗布輥3設置在上游側，第2塗布輥4靠近第1塗布輥地設置在上述第1塗布輥3的下游側。通過該結構，第1塗布輥3的周面以0°～10°的接觸角α壓接於、第2面由上游側導輥1與第2塗布輥4引導並支撐的基材S的第1面；第2塗布輥4的周面以0°～10°的接觸角α壓接於、第1面由第1塗布輥3與下游側導輥2引導並支撐的基材S的第2面。

第1塗布輥3和第2塗布輥4以指定的間距設置，並且向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉。第1塗布輥3和第2塗布輥4在相互離開的位置處抵接於基材S，對該基材S的第1面及第2面塗布塗布劑。在圖1中，第1塗布輥3通過圖外的驅動機構的驅動向逆時針方向旋轉，而第2塗布輥4向順時針方向被旋轉驅動，由此，第1塗布輥3的抵接面和第2塗布輥4的抵接面相對於從下方向上方移動的基材S，分別從上方向下方移動。為了使裝置緊湊，第1塗布輥3與第2塗布輥4的間距可盡可能靠近地設置。但是，為了使基於第1塗布輥3向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉而對基材S施加的反作用力不會在第2塗布輥4對基材S的第2面塗布塗布劑時造成不良影響，而且為了使兩塗布輥3、4不會夾住基材S，第1塗布輥3與第2塗布輥4的周表面間的最短距離必須大於基材S的厚度。

如圖2所示，塗布單元5包括：塗布盒7，具有塗布劑積聚部6，該塗布劑積聚部6由具有與第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面相對的開口的空間所形成；刮刀8，由安裝在塗布盒7的前面上端部，即安裝在第1塗布輥3、第2塗布輥4的旋轉方向下游側的鋼或塑膠等形成；密封板9，由設置在塗布盒7的前面下端部，即設置在第1塗布輥3、第2塗布輥4的旋轉方向上游側的鋼或塑膠等形成；塗布劑輸送機構10，將塗布劑輸送至塗布劑積聚部6內。

刮刀8及密封板9的遠端部發揮密封構件作用，被壓接於第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面。由此，塗布劑積聚部6的前面部上下由刮刀8及密封板9密封，使塗布劑積聚部6處於密封狀態。隨著第1塗布輥3、第2塗布輥4的旋轉，附著在塗布輥周面上的多餘的塗布劑被刮刀8刮除。如圖1所示，塗布劑輸送機構10包括：塗布劑槽11，收容由印刷用油墨等構成的塗布劑；塗布劑輸送管13，設有輸送泵12，通過該輸送泵12抽吸塗布劑槽11內的塗布劑並輸送至塗布盒7的下部；回送管14，使從塗布盒7的上部排出的塗布劑積聚部6內的塗布劑返回塗布劑槽11。

如圖3及圖4所示，第1塗布輥3、第2塗布輥4包括：例如由鋼制的管材等構成的輥主體15；設在輥主體15的左右兩端部的旋轉軸17。另外，在輥主體15的周面部上形成有單格層18。在單格層18上，如圖5或圖6所示，通過鐳射加工等方法刻印有由正方形狀的塗布用單格圖案(cell pattern)19a或六邊形狀的塗布用單格圖案19b構成的連續幾何學式樣的線對稱的單格圖案，亦即以基材的搬送方向作為對稱軸的左右對稱的塗布用單格圖案。

在塗布盒7的側端部，設有覆蓋塗布劑積聚部6的側端部的側壁板20，並且在側壁板20上安裝有密封構件21。另外，在第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面左右兩端部設有未刻印塗布用單格圖案19的平滑面部22，塗布盒7的密封構件21壓接於平滑面部22。

第1塗布輥3、第2塗布輥4的直徑例如被設定在40mm~200mm的範圍內，較為理想的是被設定在40mm~120mm的範圍內。如果使第1、第2塗布輥3、4的直徑形成得較小，則能夠減小第1塗布輥3、第2塗布輥4的與基材S接觸的接觸面積，並且能夠抑制有較大的摩擦力作用於第1塗布輥3、第2塗布輥4與基材S之間的情況。因此，在由第1塗布輥3、第2塗布輥4對基材S塗布塗布劑時，能夠有效地抑制塗布不均的發生。另一方面，如果第1、第2塗布輥3、4較長、軸承間距離較大且基材S的搬送速度較高，則在塗布塗布劑時，第1塗布輥3、第2塗布輥4易發生撓曲，由此易於產生塗布不均。為了防止此情況，較為理想的是將第1塗布輥3、第2塗布輥4的直徑設定為一定程度大的尺寸。

上述結構中，通過驅動塗布劑輸送機構10的輸送泵12，從塗布劑槽11內將塗布劑供應至第1塗布輥3、第2塗布輥4的塗布劑積聚部6內，並驅動第1塗布輥3、第2塗布輥4使之以指定速度向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉。由此，被供應至塗布劑積聚部6內的塗布劑在密封狀態下與第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面接觸並附著於其上，而附著在第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面上的多餘的塗布劑則被刮刀8分別去除。

第1塗布輥3的周面上所附著的塗布劑隨著其旋轉被送至基材S，在由上游側導輥1與第2塗布輥4引導並支撐基材S的第2面的狀態下，由第1塗布輥3將塗布劑塗布於基材的第1面。繼而，第2塗布輥4的周面上所附著的塗布劑隨著其旋轉被送至基材S，在由第1塗布輥3與下游側導輥2引導並支撐基材S的第1面的狀態下，由第2塗布輥4將塗布劑塗布於基材S的第2面。

如上所述，上述塗布裝置是對片狀的基材S在該基材的第1面及第2面分別塗布塗布劑的塗布裝置，其中設有：上游側導輥1及下游側導輥2，設置在基材S的第2面側，引導並支撐基材S；第1塗布輥3，設置在上游側導輥1及下游側導輥2之間，向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉，並對基材的第1面塗布塗布劑；第2塗布輥4，在上游側導輥1及下游側導輥2之間，設置在第1塗布輥3的下游側且與該第1塗布輥3隔開指定距離，並向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉，且在與第1塗布輥3相互離開的位置處抵接於基材的第2面以塗布塗布劑；塗布單元5，向第1塗布輥3、第2塗布輥4供應塗布劑。塗布單元5包括：塗布盒7，沿第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面設置；塗布劑輸送機構10，將塗布劑輸送至塗布盒7中形成的塗布劑積聚部6內；刮刀8及密封板9，密封第1塗布輥3、第2塗布輥4的旋轉方向上游側及下游側從而密封塗布劑積聚部6。刮刀8及密封板9發揮密封構件的作用。以此種簡單且緊湊的結構，能夠恰當地對基材S的表背兩面分別塗布塗布劑。

亦即，由於向第1、第2塗布輥3、4供應塗布劑的塗布盒7的塗布劑積聚部6採用密封型的結構，因此，基材S在由導輥1、2引導並支撐的狀態下能夠沿垂直方向被搬送，並且，通過沿著基材S的搬送路徑設置的一對第1、第2塗布輥3、4，能夠對基材S的第1、第2面分別塗布塗布劑。並且，由於對基材S的第1面塗布塗布劑的第1塗布輥3被設置在上游側導輥1及下游側導輥2之間，而且對基材S的第2面塗布塗布劑的第2塗布輥4被設置在上游側導輥1及下游側導輥2之間且與第1塗布輥3隔開指定距離的位置處，因此，能夠使第1塗布輥3的周面以指定的接觸角α壓接於、第2面由上游側導輥1與第2塗布輥4引導並支撐的基材S的第1面，從而能均勻地塗布塗布劑。而且，能夠使第2塗布輥4的周面以指定的接觸角α壓接於、第1面由第1塗布輥3與下游側導輥2引導並支撐的基材S的第2面，從而能均勻地塗布塗布劑。

因此，與專利文獻1所示的必須通過設置在凹版輥的相反側的一對姿勢控制輥才能恰當地引導並支撐基材的上表面的結構相比，上述塗布裝置的結構簡單。另外，與如圖13所示的以往裝置的結構，即，通過沿著基材S的搬送方向設置的一對導輥41、42引導並支撐基材S，並且通過設置在其相反側的第1塗布機構43對基材S的其中一面塗布塗布劑之後，通過設置在其下游側的一對導輥44、45支撐基材S，並且通過設置在其相反側的第2塗布機構46對基材S的另一面塗布塗布劑的結構相比，上述塗布裝置具有以下優點，即，能夠對基材S的第1、第2面分別均勻且恰當地塗布塗布劑，有效地使塗布裝置變得緊湊，並能夠充分簡化其結構。

另外，由於在第1塗布輥3、第2塗布輥4分別向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉的狀態下塗布塗布劑，因此能夠對基材S的第1面及第2面恰當且均勻地塗布塗布劑。並且，由於使第2塗布輥4在與第1塗布輥3相離開的位置處抵接於基材S的第2面來塗布塗布劑，因此具有以下優點，即，能夠防止第1塗布輥3的旋轉力在由第2塗布輥4對基材S的第2面塗布塗布劑時造成不良影響，而且，能夠在第1塗布輥3、第2塗布輥4分別向與基材S的搬送方向相反的方向旋轉的狀態下將塗布劑高精度地塗布於基材S的第1面及第2面。

圖7表示本發明所關的塗布裝置的第2實施例。在該第2實施例的塗布裝置中，第1塗布輥3、第2塗布輥4中設置在下游側的第2塗布輥4與設置在其下游側的下游側導輥2之間，設置有塗布劑的乾燥硬化部23。乾燥硬化部23例如具有如下結構：通過對被塗布在基材S上的塗布劑噴吹熱風，對塗布劑進行加熱而使之硬化，或者，通過對基材S照射紫外線或紅外線等，使塗布劑硬化。

在第2實施例中，由於在第2塗布輥4與下游側導輥2之間設置有塗布劑的乾燥硬化部23，因此能夠在由第2塗布輥4塗布於基材S的第2面上的塗布劑到達下游側導輥2之前使第2面的塗布劑乾燥。因此，塗布劑不會在未硬化的狀態與下游側導輥2接觸，塗膜也不會受損。

另外，下游側導輥2也可以由利用加壓空氣的非接觸型導輥構成。此時，即使不在下游側導輥的上游側設置塗布劑乾燥硬化部，也能夠抑制未硬化的塗布劑與下游側導輥2接觸而產生的塗膜受損。但是，在如上所述在第2塗布輥4與下游側導輥2之間設置塗布劑乾燥硬化部23的情況下，有以下優點，即，無須使用非接觸型導輥，就能夠以簡單的結構有效地防止因塗布劑在未硬化狀態下與下游側導輥2接觸所造成的塗膜受損的產生。

圖8表示本發明所關的塗布裝置的第3實施例。第3實施例的塗布裝置中具有以下結構：利用第1塗布輥3將具有難乾燥的性質的塗布劑塗布於基材S的第1面，利用第2塗布輥4將具有易乾燥的性質的塗布劑塗布於基材S的第2面。另外，在第1塗布輥3、第2塗布輥4與位於其下游側的下游側導輥2之間，設置有容量相對較小的第1乾燥硬化部24，並且在下游側導輥2的下游側，設置有容量相對較大的第2乾燥硬化部25。亦即，第1塗布輥3使用具有比第2塗布輥4所用的塗布劑更難乾燥的性質的塗布劑，第2塗布輥4使用具有比第1塗布輥3所用的塗布劑更易乾燥的性質的塗布劑。另外，第1乾燥硬化部24的容量相對較小是指與第2乾燥硬化部25的容量相比較小，第2乾燥硬化部25的容量相對較大是指與第1乾燥硬化部24的容量相比較大。

根據上述結構，由於能夠通過小容量的第1乾燥硬化部24使具有易乾燥的性質的塗布劑充分地乾燥硬化，因此通過使第1乾燥硬化部24緊湊化可以縮短第2塗布輥4與下游側導輥2的設置間隔。因此，能夠有效地防止因上游側導輥1與下游側導輥2的設置間隔變大導致基材S的支撐力不足的情況，從而能夠在恰當地引導並支撐基材S的狀態下均勻地塗布塗布劑。

另外，如上所述，在使第1乾燥硬化部24的容量相對較小的情況下，難以通過第1乾燥硬化部24使具有難乾燥的性質的塗布劑完全乾燥硬化。但是，由於該塗布劑被塗布在基材S的不與下游側導輥2接觸的第1面上，因此即使該塗布劑在未硬化的狀態到達下游側導輥2也不會與其接觸，從而不會使由具有難乾燥的性質的塗布劑所形成的塗膜受損。因此，通過在不會對上游側導輥1與下游側導輥2之間的基材S的支撐狀態造成影響的位置亦即下游側導輥2的下游側，設置具備能夠使被塗布在基材S的第1面上的具有難乾燥的性質的塗布劑充分乾燥的容量的第2乾燥硬化部25，從而能夠使被塗布在基材S的第1面上的塗布劑恰當地乾燥硬化。

在第1～第3實施例中，對在沿垂直方向搬送基材S的狀態下通過第1塗布輥3、第2塗布輥4對基材S的第1、第2面分別塗布塗布劑的結構的例進行了說明。但也可以將該結構予以取代，而採用如圖9所示的第4實施例的、在上游側導輥1及下游側導輥2之間，在以第1面位於上方的方式使基材S傾斜的狀態下進行搬送的結構。在採用以如此傾斜狀態搬送基材S並進行塗布劑的塗布的結構時，能夠有效地縮短塗布區域中的基材S的垂直方向及水平方向上的尺寸，因此能夠使塗布裝置更加緊湊。

第4實施例的結構中，當被塗布在第1面與第2面上的塗布劑的粘度存在差異時，或者當因被塗布在第1面與第2面上的塗布劑的塗布厚度不同等造成兩塗布劑的滴落性不同時，較為理想的是，通過設置在基材S上方側的第1塗布輥3將具有易滴落的性質的塗布劑塗布於位於基材S上面側的第1面，並且通過設置在基材S下方側的第2塗布輥4將相比於第1塗布劑具有難滴落的性質的塗布劑塗布於基材S的第2面。

當因與被塗布於第2面的塗布劑相比粘度較低，或者塗布厚度較大等而導致被塗布於第1面的塗布劑具有高流動性時，在由第1塗布輥3塗布於基材S的第1面上的塗布劑乾燥硬化之前，有可能會因重力影響而流動而產生塗膜受損，但如上所述，由於通過第1塗布輥3將塗布劑塗布於位於基材S上面側的第1面上，因此能夠有效地抑制塗布劑受到重力影響而流動的可能性。另一方面，由於被塗布於基材S的第2面上的塗布劑與被塗布於第1面上的塗布劑相比粘度較高，或者與被塗布於第1面上的塗布劑相比塗布厚度較小等原因而流動性較低，具有難受重力影響的性質且滴落性較低，因此，如果將這樣的塗布劑塗布於位於基材S下面側的第2面，則塗布劑在搬送中因流動、滴落而產生塗膜受損的可能性較低。

另外，即使在採用以下結構的情況下，即，在上游側導輥1及下游側導輥2之間，將基材S以水平狀態予以搬送並使基材S的第1面位於上方，並且，利用設置在基材S上方側的第1塗布輥3將具有易滴落的性質的塗布劑塗布於位於基材S上面側的第1面，並且，利用設置在基材S下方側的第2塗布輥4將具有比被塗布於第1面上的塗布劑難滴落的性質的塗布劑塗布於基材S的第2面的情況下，也能獲得同樣的作用效果。

另外，也可以取代實施例1～4中在上游側導輥1及下游側導輥2之間，在上游側設置對基材S的第1面塗布塗布劑的第1塗布輥3，並且在下游側設置第2塗布輥4的結構而如圖10所示，在導輥1、2之間的上游側設置對基材S的第2面塗布塗布劑的第2塗布輥4，並且在下游側設置對基材S的第1面塗布塗布劑的第1塗布輥3。在此情況下，基於從第2塗布輥4施加於基材S的第2面的按壓力的關係，上游側導輥1對基材S的引導功能易受損，因此須增大基材S繞附在上游側導輥1上的捲繞角度β以維持基材S的引導功能。例如，較為理想的是，將捲繞角度β設定為90°以上。

圖11表示本發明所關的塗布裝置的第5實施例。在第5實施例所關的塗布裝置中，利用第1塗布輥3、第2塗布輥4將作為層壓用粘合劑的塗布劑塗布於基材S的第1、第2面。在第1塗布輥3、第2塗布輥4與設置在其下游側的下游側導輥2之間，設置有：對被塗布於基材S的第1面、第2面的塗布劑進行加熱，使其溶劑氣化的乾燥硬化部26；在該乾燥硬化部26的下游側，將層壓材27、28層壓於基材S的第1、第2面的一對層壓輥29、30；向各層壓輥29、30引導上述層壓材27、28的引導輥31、32。

如上所述，在具備將層壓材27、28層壓於基材S的第1面及第2面的結構的層壓機中，由於將對基材S的第1面塗布作為層壓用粘合劑的塗布劑的第1塗布輥3設置在上游側導輥1及下游側導輥2之間，並且，在上游側導輥1及下游側導輥2之間且在鄰接於第1塗布輥3的位置上，設置對基材S的第2面塗布作為層壓用粘合劑的塗布劑的第2塗布輥4，因此，能夠使第1塗布輥3的周面以指定的接觸角壓接於、第2面由上游側導輥1與第2塗布輥4支撐的基材S的第1面，均勻地塗布塗布劑，並且，能夠使第2塗布輥4的周面以指定的接觸角壓接於、第1面由第1塗布輥3與下游側導輥2引導並支撐的基材S的第2面，均勻地塗布塗布劑。

另外，在第5實施例中，在第2塗布輥4與設置在其下游側的層壓輥29、30之間，設置有對第1、第2塗布劑加熱以使其溶劑氣化的乾燥硬化部26。由此，能夠防止因塗布劑被層壓材27、28覆蓋從而該塗布劑的溶劑的氣化被層壓材27、28妨礙的情況。亦即，能夠在使溶劑切實地氣化的狀態下將層壓材27、28恰當地層壓於基材S的第1面及第2面。

另外，當使用無溶劑型塗布劑作為層壓用粘合劑，或者使用具有透氣性的片狀材作為層壓材27、28時，由於不會產生因塗布劑被層壓材27、28覆蓋導致的弊害，因此在層壓輥29、30的下游側可以不設置對塗布劑加熱以使之乾燥硬化的乾燥硬化部。

在實施例1～5中，在第1塗布輥3、第2塗布輥4的周面部上分別形成有由正方形或六邊形等連續幾何學式樣構成的左右對稱的塗布用單格圖案，亦即以基材S的搬送方向作為對稱軸的左右對稱的塗布用單格圖案19。由此，具有以下優點，即，能夠以簡單的結構切實地防止因隨著第1塗布輥3、第2塗布輥4的旋轉而產生的使基材朝向與其搬送方向正交的方向的壓靠力的作用，能夠有效地抑制基材的蜿蜒行進。

另外，也可以取代上述結構，在第1、第2塗布輥3、4的周面部上形成隨著第1、第2塗布輥3、4的旋轉而使分別反方向的壓靠力作用於基材S的塗布用單格圖案。例如，如圖12所示，可以在第1塗布輥3、第2塗布輥4上分別形成由向指定方向傾斜的傾斜槽構成的塗布用單格圖案33、34。當將此種塗布用單格圖案33形成於第1塗布輥3上時，隨著該第1塗布輥3旋轉而有一個使基材S朝向與其搬送方向正交的第1方向U移動的方向的壓靠力的作用。因此，通過在第2塗布輥4的周面上形成賦予使基材S朝向與第1方向U相反的第2方向W移動的力的塗布用單格圖案34，從而能夠使與第1、第2塗布輥3、4的旋轉相應的壓靠力以彼此抵消的方式產生作用而防止基材S的蜿蜒行進。

1．．．上游側導輥

2．．．下游側導輥

3．．．第1塗布輥

4．．．第2塗布輥

5．．．塗布單元

6．．．塗布劑積聚部

7．．．塗布盒

8、9．．．密封構件

10．．．塗布劑輸送機構

11．．．塗布劑槽

12．．．輸送泵

13．．．塗布劑輸送管

14．．．回送管

15．．．輥主體

17．．．旋轉軸

18．．．單格層

19a．．．塗布用單格圖案

19b．．．塗布用單格圖案

20．．．側壁板

21．．．密封構件

22．．．平滑面部

24．．．第1乾燥硬化部

25．．．第2乾燥硬化部

26．．．乾燥硬化部

27、28．．．層壓材

29、30．．．層壓輥

31、32．．．引導輥

33、34．．．塗布用單格圖案

41、42．．．導輥

43．．．第1塗布機構

44、45．．．導輥

46．．．第2塗布機構

47、48．．．乾燥器

S．．．基材

圖1是表示本發明所關的塗布裝置的第1實施例的說明圖。

圖2是表示設在上述塗布裝置中的塗布輥及塗布盒的具體結構的橫剖面圖。

圖3是表示上述塗布輥的具體結構的縱剖面圖。

圖4是表示上述塗布盒的側端部的結構的平面剖面圖。

圖5是表示形成於上述塗布輥上的單格圖案的說明圖。

圖6是表示單格圖案的變形例的說明圖。

圖7是表示本發明所關的塗布裝置的第2實施例的說明圖。

圖8是表示本發明所關的塗布裝置的第3實施例的說明圖。

圖9是表示本發明所關的塗布裝置的第4實施例的說明圖。

圖10是表示第4實施例的塗布裝置的變形例的說明圖。

圖11是表示本發明所關的塗布裝置的第5實施例的說明圖。

圖12是表示單格圖案的另一變形例的說明圖。

圖13是表示以往的塗布裝置的說明圖。