TWI539551B - Components for semiconductor manufacturing devices - Google Patents

Components for semiconductor manufacturing devices Download PDF

Info

Publication number
TWI539551B
TWI539551B TW101109024A TW101109024A TWI539551B TW I539551 B TWI539551 B TW I539551B TW 101109024 A TW101109024 A TW 101109024A TW 101109024 A TW101109024 A TW 101109024A TW I539551 B TWI539551 B TW I539551B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
power supply
bonding
ceramic substrate
semiconductor manufacturing
manufacturing apparatus
Prior art date
Application number
TW101109024A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
TW201240014A (en
Inventor
來田雅裕
早瀨徹
勝田祐司
Original Assignee
日本碍子股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本碍子股份有限公司 filed Critical 日本碍子股份有限公司
Publication of TW201240014A publication Critical patent/TW201240014A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI539551B publication Critical patent/TWI539551B/zh

Links

Classifications

    • H10P72/722—
    • H10P72/76—
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
    • H01L21/6833—Details of electrostatic chucks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
TW101109024A 2011-03-31 2012-03-16 Components for semiconductor manufacturing devices TWI539551B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011079462 2011-03-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201240014A TW201240014A (en) 2012-10-01
TWI539551B true TWI539551B (zh) 2016-06-21

Family

ID=46926976

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101109024A TWI539551B (zh) 2011-03-31 2012-03-16 Components for semiconductor manufacturing devices

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8908349B2 (enExample)
JP (1) JP5968651B2 (enExample)
KR (1) KR101867625B1 (enExample)
CN (1) CN102738044B (enExample)
TW (1) TWI539551B (enExample)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5968651B2 (ja) * 2011-03-31 2016-08-10 日本碍子株式会社 半導体製造装置用部材
JP6084915B2 (ja) * 2012-11-06 2017-02-22 日本碍子株式会社 セラミックス部材と金属部材との接合体及びその製法
JP6234076B2 (ja) * 2013-06-17 2017-11-22 株式会社Maruwa 接合構造体及びこれを用いた半導体製造装置
JP6085073B2 (ja) * 2015-01-20 2017-02-22 日本碍子株式会社 シャフト端部取付構造
JP6666717B2 (ja) * 2015-12-28 2020-03-18 日本特殊陶業株式会社 セラミックス部材
JP6560150B2 (ja) * 2016-03-28 2019-08-14 日本碍子株式会社 ウエハ載置装置
JP6693832B2 (ja) * 2016-07-29 2020-05-13 日本特殊陶業株式会社 セラミックス部材
JP6698476B2 (ja) * 2016-08-30 2020-05-27 京セラ株式会社 静電吸着用部材
JP2018139255A (ja) * 2017-02-24 2018-09-06 京セラ株式会社 試料保持具およびこれを用いたプラズマエッチング装置用部品
JP2018203581A (ja) * 2017-06-07 2018-12-27 日本特殊陶業株式会社 セラミックス構造体
JP6871184B2 (ja) * 2018-01-31 2021-05-12 日機装株式会社 半導体発光装置の製造方法
KR20210008038A (ko) 2018-06-28 2021-01-20 교세라 가부시키가이샤 반도체 제조 장치용 부재의 제조 방법 및 반도체 제조 장치용 부재
US10957520B2 (en) * 2018-09-20 2021-03-23 Lam Research Corporation Long-life high-power terminals for substrate support with embedded heating elements
KR102527439B1 (ko) * 2019-03-26 2023-04-28 니뽄 도쿠슈 도교 가부시키가이샤 전극 매설 부재 및 그 제조 방법, 정전 척, 세라믹스제 히터
US20220051965A1 (en) * 2019-06-26 2022-02-17 Mitsubishi Materials Corporation Copper/ceramic joined body, insulation circuit board, copper/ceramic joined body production method, and insulation circuit board manufacturing method
WO2021075240A1 (ja) * 2019-10-18 2021-04-22 京セラ株式会社 構造体および加熱装置
CN114158147A (zh) * 2020-09-08 2022-03-08 苏州珂玛材料科技股份有限公司 陶瓷加热盘引出电极连接结构及其连接方法
US12300474B2 (en) * 2020-10-15 2025-05-13 Applied Materials, Inc. Semiconductor substrate support power transmission components
KR102642090B1 (ko) * 2021-08-24 2024-02-29 주식회사 케이엔제이 지지 소켓 및 증착층을 포함하는 부품 제조 방법
WO2023106445A1 (ko) 2021-12-08 2023-06-15 주식회사 미코세라믹스 극저온 서셉터 및 그에 사용되는 전기적 커넥터 어셈블리
JP7623309B2 (ja) 2022-01-12 2025-01-28 日本碍子株式会社 ウエハ載置台
JP7749475B2 (ja) * 2022-01-28 2025-10-06 京セラ株式会社 接合体、締結用部品、碍子および電流導入端子
CN114513869B (zh) * 2022-02-23 2024-03-29 常州联德陶业有限公司 一种氮化铝陶瓷器件用接线端子及其固定工艺
JP7634493B2 (ja) * 2022-03-03 2025-02-21 日本碍子株式会社 給電部材及びウエハ載置台
KR102619089B1 (ko) * 2022-10-31 2023-12-29 주식회사 미코세라믹스 세라믹 서셉터
JP7675282B1 (ja) 2023-09-04 2025-05-12 日本碍子株式会社 ウエハ載置台

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5707715A (en) * 1996-08-29 1998-01-13 L. Pierre deRochemont Metal ceramic composites with improved interfacial properties and methods to make such composites
US6143432A (en) * 1998-01-09 2000-11-07 L. Pierre deRochemont Ceramic composites with improved interfacial properties and methods to make such composites
JP3746594B2 (ja) * 1997-06-20 2006-02-15 日本碍子株式会社 セラミックスの接合構造およびその製造方法
JP3718380B2 (ja) * 1999-08-18 2005-11-24 株式会社日立製作所 はんだ接続構造を有する回路装置およびその製造方法
US6439975B1 (en) * 2000-01-28 2002-08-27 Hon Hai Precision Ind. Co., Ltd. Method for forming contact of electrical connector and press die for practicing the method
WO2001060125A1 (en) * 2000-02-07 2001-08-16 Tdk Corporation Composite substrate, thin-film light-emitting device comprising the same, and method for producing the same
JP2001237304A (ja) * 2000-02-21 2001-08-31 Ibiden Co Ltd 半導体製造・検査装置用セラミック基板
JP2002293655A (ja) 2001-03-29 2002-10-09 Ngk Insulators Ltd 金属端子とセラミック部材との接合構造、金属部材とセラミック部材との接合構造および金属端子とセラミック部材との接合材
JP3949459B2 (ja) * 2002-01-25 2007-07-25 日本碍子株式会社 異種材料の接合体及びその製造方法
US7252872B2 (en) * 2003-01-29 2007-08-07 Ngk Insulators, Ltd. Joined structures of ceramics
JP4184829B2 (ja) * 2003-02-25 2008-11-19 京セラ株式会社 静電チャックの製造方法
JP4967447B2 (ja) * 2006-05-17 2012-07-04 株式会社日立製作所 パワー半導体モジュール
US7816155B2 (en) * 2007-07-06 2010-10-19 Jds Uniphase Corporation Mounted semiconductor device and a method for making the same
JP5174582B2 (ja) 2007-08-30 2013-04-03 日本碍子株式会社 接合構造体
TWI450353B (zh) * 2008-01-08 2014-08-21 日本碍子股份有限公司 A bonding structure and a semiconductor manufacturing apparatus
JP2010263050A (ja) * 2009-05-01 2010-11-18 Showa Denko Kk 発光ダイオード及びその製造方法、並びに発光ダイオードランプ
JP5968651B2 (ja) * 2011-03-31 2016-08-10 日本碍子株式会社 半導体製造装置用部材

Also Published As

Publication number Publication date
TW201240014A (en) 2012-10-01
KR101867625B1 (ko) 2018-06-15
US8908349B2 (en) 2014-12-09
CN102738044B (zh) 2016-04-06
US20120250211A1 (en) 2012-10-04
KR20120112036A (ko) 2012-10-11
JP2012216786A (ja) 2012-11-08
CN102738044A (zh) 2012-10-17
JP5968651B2 (ja) 2016-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI539551B (zh) Components for semiconductor manufacturing devices
JP6906662B2 (ja) 回路基板および半導体装置
JP6621402B2 (ja) セラミックス部材と金属部材との接合体及びその製法
TWI695778B (zh) 接合體、附散熱器之電力模組用基板、散熱器、接合體之製造方法、附散熱器之電力模組用基板之製造方法、及散熱器之製造方法
JP3297637B2 (ja) ウエハ支持部材
JP2002293655A (ja) 金属端子とセラミック部材との接合構造、金属部材とセラミック部材との接合構造および金属端子とセラミック部材との接合材
JP2003212669A (ja) 異種材料接合体及びその製造方法
JP6256176B2 (ja) 接合体の製造方法、パワーモジュール用基板の製造方法
JP3949459B2 (ja) 異種材料の接合体及びその製造方法
JP4005268B2 (ja) セラミックスと金属との接合構造およびこれに使用する中間挿入材
JP5829403B2 (ja) 放熱用絶縁基板及びその製造方法
JP4858319B2 (ja) ウェハ保持体の電極接続構造
WO2021033421A1 (ja) 銅／セラミックス接合体、絶縁回路基板、及び、銅／セラミックス接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法
JP4331983B2 (ja) ウェハ支持部材およびその製造方法
JP6084915B2 (ja) セラミックス部材と金属部材との接合体及びその製法
JP2021091596A (ja) 銅／セラミックス接合体、絶縁回路基板、及び、銅／セラミックス接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法
EP3407381B1 (en) Bonded body, power module substrate, power module, bonded body manufacturing method, and power module substrate manufacturing method
JP4436560B2 (ja) ウエハ支持部材
JP3302714B2 (ja) セラミックス−金属接合体
JP3681824B2 (ja) セラミックスの接合体およびセラミックスの接合方法
JP6413230B2 (ja) 抵抗器及び抵抗器の製造方法
JP2002043481A (ja) セラミックモジュールおよびその製造方法
WO2021112046A1 (ja) 銅／セラミックス接合体、絶縁回路基板、及び、銅／セラミックス接合体の製造方法、絶縁回路基板の製造方法
JP2001048670A (ja) セラミックス−金属接合体
WO2021241463A1 (ja) 銅／セラミックス接合体、および、絶縁回路基板