TWI328021B - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- TWI328021B TWI328021B TW091136306A TW91136306A TWI328021B TW I328021 B TWI328021 B TW I328021B TW 091136306 A TW091136306 A TW 091136306A TW 91136306 A TW91136306 A TW 91136306A TW I328021 B TWI328021 B TW I328021B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- cross
- weight
- irradiation
- linking
- Prior art date
Links
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 83
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 80
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 71
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 56
- -1 alkyl vinyl ether Chemical compound 0.000 claims description 51
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 38
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 30
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 28
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 27
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 claims description 24
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 12
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 claims description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 206010036790 Productive cough Diseases 0.000 claims description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 claims description 2
- 208000024794 sputum Diseases 0.000 claims description 2
- 210000003802 sputum Anatomy 0.000 claims description 2
- 229920006169 Perfluoroelastomer Polymers 0.000 claims 4
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 claims 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 claims 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 62
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 55
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 41
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 37
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 34
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 34
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 33
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 29
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 25
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 20
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 18
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 18
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 11
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 9
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 9
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 9
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 9
- HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene Chemical group FC(F)=C(F)C(F)(F)F HCDGVLDPFQMKDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium peroxydisulfate Substances [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)OOS([O-])=O VAZSKTXWXKYQJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 8
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 8
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 7
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 6
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 4
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 4
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-(1,2,2-trifluoroethenoxy)propane Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KHXKESCWFMPTFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)CC(F)(F)F NSGXIBWMJZWTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NDMMKOCNFSTXRU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3-pentafluoroprop-1-ene Chemical group FC(F)C(F)=C(F)F NDMMKOCNFSTXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoro-2-(trifluoromethoxy)ethene Chemical compound FC(F)=C(F)OC(F)(F)F BLTXWCKMNMYXEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 1,2-difluoroethene Chemical group FC=CF WFLOTYSKFUPZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010059866 Drug resistance Diseases 0.000 description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011243 crosslinked material Substances 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 3
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 3
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 3
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005987 sulfurization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- SEPPVOUBHWNCAW-FNORWQNLSA-N (E)-4-oxonon-2-enal Chemical compound CCCCCC(=O)\C=C\C=O SEPPVOUBHWNCAW-FNORWQNLSA-N 0.000 description 2
- SRDQTCUHAMDAMG-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-hexadecafluoro-1,8-diiodooctane Chemical compound FC(F)(I)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I SRDQTCUHAMDAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGJHURKAWUJHLJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3-tetrafluoroprop-1-ene Chemical compound FCC(F)=C(F)F PGJHURKAWUJHLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- SONQUBLFXUMJKL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diaminobenzenethiol Chemical compound NC1=CC=CC(S)=C1N SONQUBLFXUMJKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-methylene-bis-(2-chloroaniline) Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C(Cl)=C1 IBOFVQJTBBUKMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 4-one Natural products O1C(C(=O)CC)CC(C)C11C2(C)CCC(C3(C)C(C(C)(CO)C(OC4C(C(O)C(O)C(COC5C(C(O)C(O)CO5)OC5C(C(OC6C(C(O)C(O)C(CO)O6)O)C(O)C(CO)O5)OC5C(C(O)C(O)C(C)O5)O)O4)O)CC3)CC3)=C3C2(C)CC1 LLBZPESJRQGYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000208140 Acer Species 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000208340 Araliaceae Species 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005035 Panax pseudoginseng ssp. pseudoginseng Nutrition 0.000 description 2
- 235000003140 Panax quinquefolius Nutrition 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAOMZVDZARKPFJ-UHFFFAOYSA-N WIN 18446 Chemical compound ClC(Cl)C(=O)NCCCCCCCCNC(=O)C(Cl)Cl FAOMZVDZARKPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 2
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- CFQGDIWRTHFZMQ-UHFFFAOYSA-N argon helium Chemical compound [He].[Ar] CFQGDIWRTHFZMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012661 block copolymerization Methods 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical group FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 2
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000397 disodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019800 disodium phosphate Nutrition 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008434 ginseng Nutrition 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- UNASZPQZIFZUSI-UHFFFAOYSA-N methylidyneniobium Chemical compound [Nb]#C UNASZPQZIFZUSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 2
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 2
- KAVGMUDTWQVPDF-UHFFFAOYSA-N perflubutane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KAVGMUDTWQVPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229950003332 perflubutane Drugs 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- AAWSDNAGOTWUPV-UHFFFAOYSA-N sulfanyloxyethene Chemical compound SOC=C AAWSDNAGOTWUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- LDRPULCXZDDSGE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluorobutane Chemical compound CCCC(F)(F)F LDRPULCXZDDSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDGAMERTCYKWEF-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,15,15,16,16-dotriacontafluoro-1,16-diiodohexadecane Chemical compound FC(F)(I)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I JDGAMERTCYKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JILAKKYYZPDQBE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoro-1,4-diiodobutane Chemical compound FC(F)(I)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)I JILAKKYYZPDQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEVRKKOYEFPFMN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,3,3,3-hexafluoroprop-1-ene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical compound FC(F)=C(F)F.FC(F)=C(F)C(F)(F)F PEVRKKOYEFPFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1-fluoroethane Chemical compound CC(F)(Cl)Cl FRCHKSNAZZFGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC=NC(N)=N1 VZXTWGWHSMCWGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPPFTYBYPWHNRM-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxy-4-methyl-5-methylsulfanylphenyl)propan-2-amine Chemical compound COC1=CC(C)=C(SC)C=C1CC(C)N DPPFTYBYPWHNRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFBTQVXURKRCS-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-1,1,2,2,3,3-hexafluoro-3-iodopropane Chemical compound FC(F)(Br)C(F)(F)C(F)(F)I WHFBTQVXURKRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEUZJPHUNWZRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-propan-2-ylbenzene Chemical group CCCCC1=CC=CC=C1C(C)C AEUZJPHUNWZRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOJFAKBEASOYNM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1N GOJFAKBEASOYNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXJOCUZLOZDGAY-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,1,1,2,3,4,4,4-octafluoro-3-iodobutane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(Br)C(F)(I)C(F)(F)F JXJOCUZLOZDGAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-ene Chemical compound FC(F)(F)C=C FDMFUZHCIRHGRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDFSXHZXNZCKNF-UHFFFAOYSA-N 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-dodecafluorodeca-1,9-diene Chemical compound C=CC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C=C PDFSXHZXNZCKNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBERVMGFVLWZSU-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylcyclohexene Chemical compound CC1CC(C)(C)CC=C1 CBERVMGFVLWZSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCNKHTIPPVQEQW-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobut-1-ene Chemical compound FC(F)(F)CC=C WCNKHTIPPVQEQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical group C1=C(CC=C)C(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 QGHDLJAZIIFENW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAPIYLHXOVRKNE-UHFFFAOYSA-N Br.I.I Chemical group Br.I.I QAPIYLHXOVRKNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNFMMFNGCVAOLZ-UHFFFAOYSA-N CCC.[I] Chemical compound CCC.[I] XNFMMFNGCVAOLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100516568 Caenorhabditis elegans nhr-7 gene Proteins 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVNQYKQRDHFQSK-UHFFFAOYSA-N FC=CF.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12 Chemical group FC=CF.C1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12 MVNQYKQRDHFQSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010062717 Increased upper airway secretion Diseases 0.000 description 1
- 241000237536 Mytilus edulis Species 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical group O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNUKQUQUKLLXMZ-UHFFFAOYSA-N NN.NCCCCCCN Chemical compound NN.NCCCCCCN PNUKQUQUKLLXMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002675 Polyoxyl Polymers 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000006394 Sorghum bicolor Species 0.000 description 1
- 235000011684 Sorghum saccharatum Nutrition 0.000 description 1
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229930013930 alkaloid Natural products 0.000 description 1
- 150000003797 alkaloid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229960004543 anhydrous citric acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 230000003064 anti-oxidating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRPWWVMHWSDJEH-UHFFFAOYSA-N antimony telluride Chemical compound [SbH3+3].[SbH3+3].[TeH2-2].[TeH2-2].[TeH2-2] MRPWWVMHWSDJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- JYNOASBOGANDLK-UHFFFAOYSA-N benzene pyrrole-2,5-dione Chemical compound C1=CC=CC=C1.O=C1NC(=O)C=C1.O=C1NC(=O)C=C1 JYNOASBOGANDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HITXEXPSQXNMAN-UHFFFAOYSA-N bis(tellanylidene)molybdenum Chemical compound [Te]=[Mo]=[Te] HITXEXPSQXNMAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001622 bismuth compounds Chemical class 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N boranylidynenickel Chemical compound [Ni]#B QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- KJFUYRQJFSITHT-UHFFFAOYSA-N butylperoxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CCCCOOOC(=O)OC(C)C KJFUYRQJFSITHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001734 carboxylic acid salts Chemical class 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N chloroethane Chemical compound CCCl HRYZWHHZPQKTII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N dibromodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Br)Br AZSZCFSOHXEJQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N dibromotetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Br)C(F)(F)Br KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- IAOQICOCWPKKMH-UHFFFAOYSA-N dithieno[3,2-a:3',2'-d]thiophene Chemical compound C1=CSC2=C1C(C=CS1)=C1S2 IAOQICOCWPKKMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 1
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003750 ethyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diyne Chemical group C#CCCC#C YFIBSNDOVCWPBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N hexafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)F WMIYKQLTONQJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXFANUIUIRDDRY-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine 3-phenylprop-2-enoic acid Chemical compound NCCCCCCN.OC(=O)C=Cc1ccccc1 VXFANUIUIRDDRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 210000003000 inclusion body Anatomy 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002497 iodine compounds Chemical class 0.000 description 1
- VAKIVKMUBMZANL-UHFFFAOYSA-N iron phosphide Chemical compound P.[Fe].[Fe].[Fe] VAKIVKMUBMZANL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010902 jet-milling Methods 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000005360 mashing Methods 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000874 microwave-assisted extraction Methods 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000020638 mussel Nutrition 0.000 description 1
- BLYOHBPLFYXHQA-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(prop-2-enyl)prop-2-enamide Chemical compound C=CCN(CC=C)C(=O)C=C BLYOHBPLFYXHQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N n-prop-2-enylprop-2-en-1-amine Chemical compound C=CCNCC=C DYUWTXWIYMHBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N nickel phosphide Chemical compound [Ni]=P#[Ni] FBMUYWXYWIZLNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N octafluoropropane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F QYSGYZVSCZSLHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L oxido carbonate Chemical compound [O-]OC([O-])=O MMCOUVMKNAHQOY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004692 perflenapent Drugs 0.000 description 1
- 229960004065 perflutren Drugs 0.000 description 1
- 125000000864 peroxy group Chemical group O(O*)* 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical group NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000026435 phlegm Diseases 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- MHZDONKZSXBOGL-UHFFFAOYSA-N propyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCOP(O)(O)=O MHZDONKZSXBOGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910021481 rutherfordium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000002020 sage Nutrition 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000000194 supercritical-fluid extraction Methods 0.000 description 1
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 150000005672 tetraenes Chemical class 0.000 description 1
- CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N tetraphenylstannane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 CRHIAMBJMSSNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003878 thermal aging Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006276 transfer reaction Methods 0.000 description 1
- SBXWFLISHPUINY-UHFFFAOYSA-N triphenyltin Chemical compound C1=CC=CC=C1[Sn](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SBXWFLISHPUINY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJWHEZXBZQXVSA-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphite Chemical compound C=CCOP(OCC=C)OCC=C KJWHEZXBZQXVSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003648 triterpenes Chemical class 0.000 description 1
- ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N tungsten disulfide Chemical compound S=[W]=S ITRNXVSDJBHYNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002525 ultrasonication Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
- C08L27/18—Homopolymers or copolymers or tetrafluoroethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1003—Preparatory processes
- C08G73/1007—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines
- C08G73/101—Preparatory processes from tetracarboxylic acids or derivatives and diamines containing chain terminating or branching agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Sealing Material Composition (AREA)
Description
1328021 五、發明說明(1) [所屬之技術頜威]^ 本發明係有關於高溫條件下HF之產生量少,耐熱性、 加工性改善,立經半導體製程中之帅3電漿處理及%處理的 重量變化小’此等處理中雜質(粒子)的產生可予制 之交聯性彈性體組成物,以及由該組成物組 制 [先前技術] 〜机〜卩口 0 3亂彈性體,特別係以四盡7〆T p pg _上 含氟彈性體,田且格声^齓乙烯(TFE)早7^為中心之 & ^ . 八優良士藥物性、而ί溶劑性及而+勒W· 廣泛使用作嚴胖择措下夕+ ] ♦剤丨王夂耐熱性,已 但《 , S 下之^、封材料等。 Μ 伴隨技術之進步,Φ Aji fM: ^ ifen g ,r 域、半導體製造祕、作 要求特性更加厥格,航太領 的密封性之要求7。 工領域有3 0 0 °C以上高溫環境下 聚合物估田+ , 生氣化氣⑽)。ΐϊΐϊίίί環境下會::導致部份劣化,產 件造成不利影響q 7 產生不僅對聚合物所接觸之構 造成不利影響可此攻擊彈性體之分子鏈、交聯點, 的產^之嘗於含氟彈性體添加無水矽酸(Si02)以減少HF 方法雖可充日本專利特表2002_ 5 1 5 525號公報)。以該 而水分控制:2靖之產生,但因Si〇2表面含大量官能基 緩。 配&有大里S i 〇2時交聯反應會有硬化遲 半導體劁扭+ CVD之使用。於中,絕緣膜、金屬配線薄膜的形成過程有 彈性密封材;CVD裝置因有種種連結部份、活動部份,有 '、之使用。此等密封材料不僅具密封性,對因 1328021
基板晶圓之大型化,要求可耐高密度(1〇12至1〇13/ 工:ΐ匕之/Λ電Λ處理條件’而對要求非常精密之加 料,#採用士 可染。足以應付如此之要求的密封材 聯性…性體及聚石夕氧系彈性體作為彈性 通常俜配人以ί t彈性體單獨交聯時更充足之機械強度, U :有機或無機填料。㊆來所用或提議之填料, ,=化矽(專利第2783576號公報、專利第28581 98 :么報)、聚四氟乙浠(PTFE)粉末、氧化鈦粉末、黏土、 ί月石、硫酸鎖等。 土以CVD形成薄膜後為清潔CVD裝置腔冑,係施以利 通〒電漿之兩濃度1?自由基的清潔。CVD裝置如第】圖,於 ==CVD权序之處理腔2另連結有產生高密度F自由基的f自 f基產生裝置1 ’冑密度F自由基送入處:理腔2内,進行分 生·^除處理腔2内部、密封材料3的附著物之遠距電漿方式 二潔。第1圖中,符號4、5、6各表質量流量控制器、壓力 控制器、真空果。 半導體製程中,有使用〇3水的晶圓清洗之濕式程序。 因此,密封材料不僅對NF3電漿處理,對〇3處理亦有安定之
—,疋’上述填料中之氧化矽、氧化鈦等填料雖於03處 + 理安疋’但於NF"3電漿處理則分解造成減重,而碳黑、PTFE 粉末等填料對肝3電漿處理安定,但於%處理分解產生減 重。因此等處理而產生之填料減重,減少部份即成為無益 雜質’對半導體、液晶造成不利影響。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第6頁 1328021 五、發明說明(3) 因而,對此等處理安定之填料,已有氧化紹、醢亞胺 系填料的使用之提議(國際公開第〇〇/6498〇號小冊、國際 公開第0 1 /32782號小冊)°氣化結之優‘點有,可而f氧電漿 及1電蒙’產生粉塵亦不對製品造成不利影響。但在高密 度、尚溫亂電漿了’減鋁有促進含氟彈性體的劣化之缺 點。相對地’醯亞胺系填料不若氧化鋁之產生粉塵,亦無 對含氟橡膠之劣化。 並且,包含CVD裝置之半導體裝置,在晶圓出入處等 有稱續、狹縫閥之開閉式閱之使用。使用於該閥之密 封材料,因於閥之開閉時受到機械磨損,須具高強度。但 是含具有上述優點之醯亞胺系填料的彈性體,由於其填料 之粒徑大,強度低,並非充分可耐閥開閉時之機械磨損。 且因該填料之粒徑大,有組成物的加工性 如上述,高溫下HF之產生少’耐熱性、加工性改善, 耐電漿性優之含氟彈性體組成物尚未為所知。 [發明内容] 本發明之目的在提供高溫條件下HF之產生少,财熱 性、加工性改善,並經半導體製程中之Nf>3電漿處理及%處 理重量變化均小的交聯性彈性體組成物,以及由該組成物 組成之成形品。 亦即,本發明係有關於含父聯性彈性體,及比表面積 0.5平方米/克以上,主鏈有熱及化學安定之芳環的合成高 分子所組成之填料的交聯性彈性體組成物。 亦係有關於交聯性彈性體,及非氧化物陶瓷所組成之
1328021 五、發明說明(4) 交聯性彈性體組成物。 亦係有關於下述條件下,nf3電漿照射時的減重在〇 2q 重量%以下之交聯性彈性體組成物。其中 樣本:0 形環(AS-568A-214) 測定方法: 將氣自由基產生裝置於氟自由基產生條件(A)下產生 之氟自由基送入處理腔内,該腔内,樣本於電聚 (B)下清潔。 电跟…射條件 氟自由基產生條件(A): NF〆氬=500標準立方公分每分鐘/500標準立方公八备 ,壓力5托’溫度1〇〇。。下相當於之蝕 刀 埃/分鐘之條件。 ·^干i3yu 氟自由基照射條件(B). 虱=1標準公升每分鐘/1標準公升每分鐘 壓力:5托 照射時間:2小時 照射溫度:2 0 〇 t (» 形品:述交聯性彈性體組成物經交聯而得之成 [實施方式] 使用於本發明;^ ^ Α ^ < 乂聯性彈性體’可係含氟彈性栌取 矽氧系彈性體篝,仰u η ΰ肌坪r玍體、聚 礼:坪改骽4 *耐熱性、對所有電聚之耐抗 點,係以含氟彈性體為佳。 之硯 適用於本發明之含氟彈性體若係向來用作密封材料,
2066.5383-PF(Nl).ptd 丄328021
尤以步導體製造裝置之密封材料者g [X含氟彈性體有氟橡膠(a)、熱塑 氟橡膠之組成物等。 心生氟橡膠⑻’及此等 及全氟氟橡膠 氟橡膠(a)有非全氟氟橡膠(a-l) (a-2)。 含氣= = =)有由彈性含敗聚合物鏈段及非彈性 : 成’彈性含氟聚合物鏈段及非彈性含蠢
氟:ϊ Ϊ ί各構成單元的9〇莫耳%以上係全函烯烴之含 性:物(b—η ’由彈性含氟聚合物鏈段及非彈 90 組成’彈性含氟聚合物鏈段構成單元泛 單元人χ月…曾^ 非弹性含氟聚合物鏈段構成 (h 3 、 莫^耳/的全鹵烯烴之含氟多元段化聚合物 鏈段%成以及彈由H:彈人?氟聚合物鏈段及㈣性含氟聚合物 '' 3氟聚合物鏈段含不及90莫耳%之全鹵烯 =丄且非彈性含氟聚合物鏈段構成單元之90莫耳%以上係 稀^ 或構成單元含不及90莫耳%的全鹵烯烴之含乾 多元段化聚合物(1)_3)。 亂 "非全氟*氣橡膠(a-l)有偏二氟乙烯(VdF)系氟橡膠,四 =乙烯(TFE)/丙烯系氟橡膠,四氟乙烯(TFE)/丙烯/偏二
乙1(VdF)系氟橡膠,乙烯/六氟丙烯[[6-20 ] ] (HFP)系 橡膠\乙烯/六氟丙烯[[6_2〇]](HFp) /偏二氟乙烯(vdF) 、氟橡f :乙,/六氟丙烯(HFP) /四I乙烯(TFE)系氟^橡 膠’言氣聚妙氧系氣橡膠,或含氟膦哄系a橡膠等,此等 各可單獨使用’或在無損於本發明效果之範圍内任意組合
1328021 五、發明說明(6) 使用。 偏二氟乙婦系氟橡膠係指含偏二氟乙婦45至85莫耳 /〇,及可與偏二氟乙烯共聚之至少1種其它單體Μ至莫 的含氟彈性共聚物。較佳者為,含偏二氟乙烯5〇至8〇莫 耳,及可與偏二氟乙烯共聚之至少1種其它單體5〇至2〇莫 耳%的含氟彈性共聚物。 ' 可與偏二氟乙稀共聚之至少1種其它單體有例如,四 敦乙烯(TFE)、氯三氟乙烯(CTFE)、三說乙烯、六氟丙烯 (JIFP)、三氟丙烯、四氟丙烯、五氟丙烯、三氟丁烯、四 氟異丁烯、全氟(烷基乙烯醚)(PAVE)、氟乙稀等含說單 體,乙烯、丙烯、烷基乙烯醚等非含氟單體。此等各可單 獨使用’或任意組合使用。其中係以四氣乙浠、六氟丙 烯 '全氟(烷基乙烯醚)為佳。 具體之橡膠有VdF-HFP系橡膠、vdF,HFP-TFE系橡膠、 VdF-CTFE ,系橡膠、VdF-CTFE-TFE 系橡膠等。 " 偏二氟乙烯系氟橡膠可依常法製得。 四氟乙稀/丙烯系氟橡膠係指含四氟乙稀45至7〇莫耳 % ’丙烯55至30莫耳%,及賦予交聯部位之單體〇至5莫耳% 的含氟彈性共聚物。 賦予交聯部位之單體有例如特公平5-63482號公報, ❶ 特開平7-316234號公報所述之全氟(6,6 -二氫-6 -碘- 3- π§ -1-己烯)、全氟(5 -碘- 3- Pf-l -戊烯)等含碘單體,特開平 4-505341號公報所述之含溴單體,特開平4-50 5345號公 報' 特開平5-500070號公報所述之含氰基單體、含叛基單
1328021 f 五、發明說明(7) 體、含烷氧基羰基之單體[[8-5]]等。 四氟乙烯/丙烯系氟橡膠亦可依常法製得。 此等非全氟氟橡膠(a-Ι)可依常法製得《該非全氟氟 橡朦(a-Ι)之市售品有例如,DAIKIN工業(股)製DAIEL G-800系列、G-900系列等。 全氟氟橡膠(3-2)有四氟乙烯/全氟(烷基乙.烯醚)/賦 予交聯部位之單體所組成之含氟彈性共聚物[[8 _丨4 ]]。其 組成以45至90 / 10至50 / 〇至5(莫耳%) ,45至80 / 20至 50 / 〇至5為更佳’ 53至70 / 30至45 / 〇至2又更佳。超 出此等組成範圍則失去橡膠彈性體之性質,具趨於樹脂之 性質。 、曰 此時之全氟(烧基乙烯醚)有例如全氟(曱基乙烯醚)、 全氟(丙基乙烯醚)等,此等各可單獨使用,或在無損於 發明效果之範圍内任意組合使用。 '' 賦予父聯部位之單體有例如一般式(1):
CX2 = CX — RfCHRI (式中X fH、F或Cl,Rf係默烯基、全氟烯基 '氟聚氧化烯 基或全氣聚氧化烯基’R係II或CH3)之含峨單體,一般式 (2): 八 u CF2 = CFO(CF2CF(CF3))m -〇 -(叫—χ (式中m係0至5之整數’ η係1至3之整數,χ係氰基、羧基、 烧氧基叛基、漠基)之單體,此等各可單獨使用,或在益 損於本發明效果之範圍内任意組合使用。 …、 該碘、氰基具交聯點之功能。 1328021 —— 一 — 9 五、發明說明(8) 全氟氟橡膠(a-2)可依常法製得。 該全氟氟橡膠(a-2)之具體例有國際公開97/24381小 冊、特公昭61 -57324號公報、特公平4-81 608號公報、特 公平5-1 3961號公報等所述之氟橡膠等。 其次說明,熱塑性氟橡膠(b),由彈性含氟聚合物鏈 段及非彈性含氟聚合物鏈段組成,彈性含氟聚合物鏈段及 非彈性含氟聚合物鏈段之構成單元的90莫耳%以上各係全 鹵烯烴之含氟多元段化聚合物(b_丨)。
首先說明彈性含氟聚合物鏈段。彈性含氟聚合物鏈招 賦予聚合物柔軟性,玻璃轉移點以在2 5 以下,〇 以下 更佳。構成其構成單元的9 0莫耳%以上之全鹵烯烴有例 如,四氟乙烯、氣三氟乙烯、六氟丙續:、—般式(3): CF2 = CF0(CF2CFY0)p -(CF2CF2CF20)q 4-Rf (式中Y係F或CF3 ’Rf係碳原子數^之全氟烷基, 之1數’q係〇至5之整數)之氟乙烯醚等。 2成彈性含氟聚合物鏈段之全齒烯煙以外的 :係例:’偏二氟乙稀、三I乙烯、四 烯〃'四氟丙烯、五氟丙烯、三氟丁稀、四氣 亂^ 稀等含氟單體,乙稀、丙烯、俨其 、亂乙 等。 钸烷基乙烯醚等非含氟單體 <1 彈性含氟聚合物鏈段之較佳例有四 乙烯醚)/賦予交聯部位之單體 烯/王氟(烷基 較佳組成係50至85/50至15/0至5(,莫耳%)坤性聚合物鏈。其 賦予交聯部位之單體有例如—般式°(4。):
1328021
CX2 = CX -RfCHRXi (式中X係H、F或ch3, 基或全氟聚氧化烯基 體,一般式(5): Λ 係Η 或CH3係;Ξί 填)
CF2 = CF0(CF2CF(CF3))m -0 -(CF2)n-X (式中m係0至5之整數,n係1至3之整數,X係氛美、其 烷氧基羰基、溴基)之單體。 土 土 ^ 該碘、溴及氰基、羧基、烷氧基羰基具交聯點之功 其次說明非彈性含氟聚合物鏈段。構成非彈性含I聚 合物鍵段之構成單元的90莫耳%以上之全齒烯烴有例如四 氟乙烯、氣三氟乙烯、全氟(烷基乙烯醚)、六氟丙烯、一 般式(6): -
CF2 = CF(CF2 )pX (式中P係1至10之整數,X係F或Cl)之化合物,全氟_2_ 丁 稀等之全齒烯煙。 構成非彈性含氟聚合物 元可係例如,偏二氟乙歸、 烯、四氟丙烯、五氟丙烯、 烯等含氟單體,乙烯、丙稀 等。 鏈段之全鹵烯烴以外的構成單 三氟乙烯、四氟乙烯、三氟丙 三氟丁烯、四氟異丁烯、氟乙 、烷基乙烯醚等非含氟單體 非彈性含氟聚合物鏈段之較佳例有四氟乙烯85至1〇〇 莫耳%與一般式(7): CF2 = CF -Rf
2_8WN1> Ptd 第 13 頁 1328021 五、發明說明(10) (式中Rf係印或-ORf1,Rf1係碳原子數1至5之全氟烷基)〇至 1 5莫耳%所組成之非彈性聚合物鏈。 又,從所得熱塑性氟橡膠(含氟多元段化聚合物)之对 熱性的觀點,非彈性含氟聚合物鏈段之結晶炫點係以在 150 °C以上為佳,200至360 °C更佳。 也就是說,重要者為含氣多元段化聚合物1分子中, 彈性含氟聚合物鏈段及非彈性含氟聚合物鏈段,係以嵌 段、接枝形態結合之含氟多元段化聚合物。 ~ 因而’含氟多元段化聚合物(b - 1 )之製造方法彡貝係, 彈性段及非彈性段以嵌段 '接枝等形態連結,成為含氣’多 兀段化聚合物,可採用已知種種方法,較佳者有特公昭 58-4728號公報等之嵌段型含氟多元段哄聚合物製造方。 法,特開昭62-34324號公報等之接枝型^氟多元 物製造方法等。 ^ ° 尤因段化率(嵌段化率)高,可得均句、規則之段 ^物,係以特公昭58 —4728號公報,高分子論文集(Vol. mW 1 992)的所謂峨轉移聚合法合成之嵌段型含 齓多兀段化聚合物為佳。 仅i 3 之單:混IS者使:ΪΪ j j J合物及非彈性含氣聚合物 性下降,耐久性差。 (尤以尚溫下)之不足,耐磨損 相對於此 段以嵌段、接枝等結合 機械特性(尤以兩溫下) 成為多元段化聚合物,耐熱
1328021 五、發明說明(li) --- 等,即可比上述之彈性含氟聚合物及非彈性含氟聚合 單純混合物等提升。 彈性段可依已知碘轉移聚合法之氟橡膠製造方法製造 (特公昭58-4728號公報、特開昭62_1 2734號公報)。有例 如,在實質上無氧下,於水媒體中,在碘化合物(較佳者 為二碘化合物)之存在下,加壓下攪拌上述全氟烯烴及必 要時的賦予硬化部位之單體,同時於自由基啟始劑的 下進行乳化聚合之方法。所用之二碘化合物,代表例有, 1」3-二碘全氟丙烷、丨,4-二碘全氟丁烷、丨,3_二碘一2一
虱全氟丙烷、1,.5~二碘-2,4-二氣全氟戊烷、丨,6_二峨 全氟己烷、1,8-二碘全氟辛烷、丨,12_二碘全氟十二八 烷、1,16-二碘全氟十六烷、二碘甲烷、及i 2_二二 f:此等!"合物可單獨使用’亦可組洽%用。#中則,. 4 - 一峨全氟丁烧為佳。二填化合 , 在〇.(HM重量%。 。物之置係對54性段總重量 如此得狀彈性段末端部份係 為非彈性段之嵌段共聚啟始點。 土 原子作 本發明中用於製造彈性段
用於習知含氟彈性體之聚合者。·"•聚合啟始劑,可係 機過氧化物及偶氮化合物。遗细 啟始劑包含有機 '無 過氧化碳酸鹽類、過氧化酯^啟始劑有過硫酸鹽類、 (APS)。APS可單獨使用,亦可斑=佳者有過硫酸銨 還原劑組合使用。 ”硫化物類' 亞硫酸鹽類等 如此得到之彈性段的數均八 刀子量,基於得到之含氟多
1328021 五、發明說明(12) 元段化聚合物全體的柔軟性、彈性、機械物性之職予,係 以在 5,000 至 750,000,尤以 20,000 至 400,000 為佳。 而’非彈性段之嵌段共聚可隨彈性段的乳化聚合之 後,改用非彈性段之單體進行。 非彈性段之數均分子量可調整於1,000至丨,2〇(),, 尤以3, 000至600, 〇〇〇之寬廣範圍。 ’ 如此得到之含氟多元段化聚合物(b- 1)係以,於彈性 段二側結合有非彈性段之聚合物分子,於彈性段單側結合 有非彈性段之聚合物分子為主,未結合有非彈性段僅具彈 性段之聚合物分子,僅占含氟多元段化聚合物中的段及聚 合物分子總量之20重量%以下者為佳,1 〇重量%以下更佳。 其次說明,彈性含氟聚合物鏈段及并彈性含氟聚合物 鏈段所組成,彈性含氟聚合物鏈段之構單元的9〇莫耳% 以上係全鹵烯烴’非彈性含氟聚合物鏈段之構成單元的不 及90莫耳%係全鹵稀烴之含氟多元段化聚合物(匕―?)。 此時之彈性含氟聚合物鏈段’可係如同上述含氟多元 段化聚合物(b-1 )。 非彈性含氟聚合物鏈段係結晶熔點丨5 〇 〇c以上,較佳 者為200至360 C之聚合物鍵。 非彈性含氟聚合物鏈段之構成單元有,偏二氟乙稀、〇 氟乙烯、三氟乙烯、一般式(8): CF2=CX ~(CF2)q -χ (式中X係Η或F ’ q係1至10之整數)之化合物,ch2=c(CF3)2等 部份氟化烯烴等。 2
2066-5383-PF(Nl).ptd 第16頁 丄J厶OUZ丄 五、發明說明(13) 烯、ί掄:可使用能與此等單體共聚之乙#、丙烯、氯乙 又,人羧酸乙烯酯、丙烯酸等單體作為共聚成分。 聚合物(bf/造元段化聚合物(b _ 2 )可如同含I多元段化 鏈段二::明,彈性含氟聚合物鏈段及非彈性含氟聚合物 二f性含,聚合物鏈段之構成單元的不及9。莫 莫耳;以卜仫、非彈性含氟聚合物鏈段之構成單元的90 齒烯烴之含氣多元段化聚合物㈣。 传,is::段化聚合物(")之彈性含氟聚合物鏈段 2。玻璃轉移點在25°c以下’較佳者為。。c以下之聚合物 彈=氟聚合物鏈段含不及90莫耳%之全㈣煙構成 :氟氣二,南稀f以外之構成單元),可係如同上述非 全氣之偏二i乙烯系敦橡膠所說明者。 可/二元ΐ化聚合物(")之非彈性含敦聚合物鏈段 w ^ι同上述含氟多兀段化聚合物(b-l)或(b-2)之非彈 =^聚&物鏈段。特別是如同(b_2)之非彈性含氣聚合 Ϊ多元段化聚合物(卜3)係由彈性含氣聚合物鍵段 4〇至95重董%,及非彈性含i聚合物鏈段5至6〇重量%所組 成0 °亥含氟多元段化聚合物(b~3)可如同含氟多元段化聚 合物(b-Ι)及(b-2)製造。 含氟多元段化聚合物(b-3)之具體例有MIKIN工業
2066-5383-PF(Nl).ptd $ 17頁 1328021 五、發明說明(14) (股)製DAIEL THERMO T-530 、T-550 、T-630 ’CENTRAL硝 子(股)製CEFRAL SOFT 等。 於本發明中亦可使用如上述的氟橡膠(a)及熱塑性氟 橡膠(b)之組成物。 由非耷氟氟橡膠(a-Ι)及含氟多元段化聚合物(bq)組 成之第一氟橡膠組成物’可將如上得到之非全氟氟橡膠 (a - 1 )及含1多元段化聚合物(b -1 ),於分散狀態混合或以 開放輥等作乾式搀拌,以任意比例混合。 又’為改良成形時之脫模性等,可在無損於本發明效 果之範圍内適當配合内添型脫模劑等之添加劑。 由非全氟氟橡膠(a-Ι)及含氟多元段化聚合物(b_2)組 成之第二氟橡膠組成物,係如同第一私氣膠組成物得到。 此時,可在無損於本發明效果之範罔内適當配合上述 添加劑,亦可隨後敘之交聯方法配合交聯劑。 由全氟氟橡膠(a-2)及含氟多元段化聚合物(b_3)組成 之第二氟橡膠組成物,係如同第一氟橡膠組成物得到。 又,可在無損於本發明效果之範圍内適當配合上述添 加劑’亦可隨後敘之交聯方法配合交聯劑。 由全氟氟橡膠(a-2)及含氟多元段化聚合物(b l)組成 之第四氣橡膠組成物,係如同第一 I橡膠組成物得到。 全氟氟橡膠(a-2)及含氟多元段化聚合物(bl)輻射交 聯效率均差,Λ質上無法以輻射交聯。因此,交聯時須於 至;其一橡膠導入可作過氧化物交聯等之交聯部位,以作 交聯。
Lszmzi 五、發明說明(15) ^ 導入交聯部位之氟橡膠 以於聚合物末端導入 之氟橡膠為合適。該氟橡取 入碘或溴 (9): 膠可在聚合製造之際,有一般式 RIxBry (式中R係碳原子數1至1 6之 飽和或不飽和氣煙其出# 基,或碳原子數1至3之烴其 ^ ^氣&基或乳氟烴 η、 暴’ X及y各係0至2之整童令 :=广化合物的存“得。如此導入之 一般式(9): RIxBry (式中R係破原子數1至1 6之叙j * +个& 一 Α 七π盾;料1 s 〇 飽和或不飽和氣煙基或氣氟烴 二碟丨:全氟丙烷、1,3 -碘全氟丁烧、1, 5-二碘-2 4 _ 一氣全氣戍烧、1,6 -二議入备3 1 〇 一硬全齓己烷、1,8-二碘全氟辛 烷、1,12-二碘全氟十二燒 峨曱炫>、1,2 -二蛾乙炫 基,或=原子數1至3之烴基,X及y各係0至2之整數,且! Sx + y S2)之化合物有例如,J 3 二埃-2-氯全氟丙烧、1. 4~ 1,16 -二硪全氟十六烧、二 3-二碘正丙烷、CF2Br2、
BrCF2CF2Br ^ CF3CFBrCF2Br >CFClBr2 ^BrCF2CFClBr ^ CFBrCICFCIBr、BrCF2CF2CF2Br、BrCF2CFBr〇CF3、卜溴_2_ 碘全氟乙烷、1-溴-3-碘全氟丙烷、卜溴_4_碘全氟丁烷、 2-溴-3-碘全氟丁烷、3-溴_4_碘全氟丁烯、2_溴_4_碘 全氟丁烯-1、苯之單碘單溴取代物、二碘單溴取代物、 (2 -碘乙基)及(2 -溴乙基)取代物等。 其中從聚合反應性、交聯反應性、易於取得等之觀
1328021
五、發明說明(16) 點,係以1, 4 -二碘全氟丁烷、二碘甲烷為佳。 一般式(9): R IxBry 一 (式中R係碳原子數1至1 6之飽和或不飽和氟烴基或氯氣烛 基,或碳原子數1至3之烴基,X及y各係〇至2之整數’且1 Sx + y S2)之化合物的添加量係以占所得氟橡膠.總重 0. 0 0 0 1至5重量%為佳,0. 01至1重量%為更佳。 奸 導入交聯部位之其它方法有,以賦予交聯部位的單體 少量共聚之方法。 如此之單體合適者有,特公平5-63482號公報、特開 平7-316234號公報所述的全氟(6, 6-二氫-6-碘-3-鸣-1 一 己烯)、全氟(5-碘-3-噚-1-戊烯)等含樂單體,特開乎 4-5 05345號公報、特開平5-500070號公=報所述的含氰基' 羧基、烷氧基羰基之單體等。 由全氟氟橡膠(a-2)及含氟多元段化聚合物(b-2)組成 之第五氟橡膠組成物,係如同第一氟橡膠組成物得到。 此時,可在無損於本發明效果之範圍内適當配合上述 添加劑,亦可隨後敘之交聯方法配合交聯劑。 用於本發明之單體混合氣體,如G. Η· Kalb等人在 Advances in Chemistry Series, 129,13 (1973)所述, 因具爆炸性,必須注意不於聚合裝置產生成為著火源、之火 花。因而,聚合壓力係以盡可能抑低為佳。 聚合壓力可於寬廣範圍内變化。一般係在〇5至5百萬 帕。聚合壓力愈高聚合愈快,故從提升生產力之觀點,係
w»厶OUZ丄 五、發明說明(17) 以在0. 8百萬帕以上為佳。 如此得到之聚合產物, 基者’其經以下之酸處理可 又’.用於本發明之聚矽 膠、含氟聚矽氧橡膠等。 如此而得之交聯性彈性 體基於耐熱性、耐藥物性, 烯醚)/有交聯性反應基的單 上’述全氟烷基乙烯醚有 全氟(乙基乙烯醚)(PEVE)、 等,其中PVME因耐寒性優而 又’為導入上述交聯點 含碘單體、含氰基單體、含 體為佳。又,基於交聯反應 構之耐熱性,係以含氰基之 於交聯性彈性體之聚合 基、碘原子、溴原子或磺酸 法0 & & &條件亦可係不含游離羧 轉化為游離羧基。 氧系彈性體,有例如聚矽氧橡 胃本發明所用之含氟彈性 係以由四氟乙烯/全氟(烷基乙 體組嘁之共聚物為佳。 全氟(甲基乙烯醚)(PVME)、 全氟(丙基乙烯醚)(PPVE) 較佳。 之單體’基〔於共聚反應性係以 缓基單體、烷氧基羰基之單 性及經·交聯反應形成之交聯結 早體為更佳。 物末端導入羧基、烷氧基羰 基之方法’有後敘之酸處理 上述交聯性彈性體可經乳化聚合法、懸浮聚合法、溶 液聚合法等聚合法製造。 ' 用於乳化聚合之乳化劑有多種選擇,為抑制聚合中對 乳化劑分子之鏈轉移反應,最好是具氟碳鏈或含氟聚醚鏈 之羧酸鹽類。乳化劑之使用量以約在所添加之水的〇. 〇5至 2重量%為佳,尤以〇.2至1.5重量%為更佳。
1328021 五、發明說明(18) 用在交聯性彈性體之聚合的聚合啟始劑,較佳者為可 使彈性體末端有羧基或能產生羧基之基(例如酸敗化物、 酸氣化物、CF2〇H。此等於水之存在下產生叛基)者。呈體 例有過硫酸銨(APS)、過硫酸鉀(KPS)等。 八 又,雖亦可使用通常用於調整分子量之鏈轉移劑,但 因可產生導入在末端之羧基或能產生羧基之基的比率降 低,宜盡少使用。惟若鏈轉移劑係能使上述基存在於端 者時,不受此限。不使用鏈轉移劑時,分子量調可 壓聚合為之’例如不及2百萬帕表壓,較佳者為丨a藉* 壓以下。其它聚合條件無特殊限制,但為不%後=萬帕^ 理即得到末端及/或分枝有羧基之聚合物,以交敘之酸處 pH3以下之強酸性為佳。 ^合系在 用於本發明之交聯性彈性體,係以:作聚合 理,將存在於聚合產物之羧酸金屬鹽、銨鹽 之鷇處 羧基為佳。酸處理法適當者係以例如鹽酸、骑土轉化, 清洗,或以此等酸調整聚合反應後之混合夕 肖酕等 下。 切糸之pH至3以 該酸處理適用作從聚合反應混合物凝析分 時之凝析手段,因可簡化過程故為較佳。或 ^。產物 合物之酸處理,然後以冷凍乾燥等手段分離出聚2聚合混 亦可採用以超音波等凝析、以機械力凝析等之方^產物 又,含碘、溴之交聯性彈性體亦可用發統 入羧基。 賞堙^酸氧化導 可用於本發明之硬化劑有例如過氧化物交聯系、多元
咪嗅 1328021 五、發明說明(19) 醇交聯系、聚胺交聯系、三畊交聯系、噚唑交聯系 交聯系、噻吐交聯系、輻射交聯系等硬化劑。 用於過氧化物交聯之硬化劑若係在熱、氧化還原 存在下易於產生過氧自由基之有機過氧化物即佳,且 有1,卜雙(三級丁基過氧基)_3, 5, 5_三甲基環己院例 5-二甲基己烷-2,5-二過氧化氫,二(三級丁基)化過, 三級丁基枯烯化過氧,二枯烯化過氧,αα _雙(三級 基過氧基)對二異丙基笨,2,5-二曱基_ 2,5-二(三級τ 基過氧基)己烧,2, 5-二甲基_2, 5_二(三級丁基&氧丁 基)己炔-3,苯甲醯化過氧,三級丁基過氧基笨^ 2二5-二(苯甲醢過氧基)己院,三級丁基過氧基馬一 來酸,二級丁基過氧基異丙基碳酸酯等。其中以二烷基 者為佳。以2, 5-二甲基_ 2, 5一二(三:k 丁基過氧基)己$ 為特佳。一般係考慮活性量 '分解溫度等選擇有 過氧化物之種類及用量。 又,此時可用之硬化助劑若係對過氧自由基及聚合物 自由基具反應活性之化合物即可’有例如具有cH2=CH_、 CJ^CHCH2-、cf^cf-等官能基之多官能性化合物。具體而 言,有例如三烯丙基氰酸酯、三烯丙基異氰酸酯(TAIC) ' 二稀丙基曱縮酸、三稀丙基偏苯三酸酯、N,n,_對 [[2 3 -1 3,η應係p,請確認]]苯雙馬來醯亞胺、二炔丙基 對酞酸酯、二烯丙基酞酸酯、四烯丙基對酞酸醯胺、三烯
丙基磷酸酯、雙馬來醯亞胺、氟化三烯丙基異氰酸酯(i, 3,5 -參(2, 3,3_ 三氣-2_ 丙稀基)-1,3,5_ 三哄 _2,4,
2066-5383-PF(Nl).ptd 第23頁 1328021 五、發明說明(20) 6 -三酮)、參(二烯丙基胺)-S -三哄、亞磷酸三烯丙酯、N, N -二烯丙基丙烯醯胺、1, 6 -二乙烯基十二氟己烷等。 用於多元醇交聯之硬化劑有雙酚A、雙酚AF等多元醇 化合物。 用於聚胺交聯之硬化劑有六亞曱二胺曱醯、Ν, Ν’ -二 亞桂皮基-1, 6-己二胺、4, 4’ -雙(胺基環己基.)曱烷氨曱 S旨等之多元胺化合物。 用於三哄交聯之硬化劑有四苯錫、三苯錫等有機錫化 合物。 用於噚唑交聯系、咪唑交聯系、噻唑交聯系之硬化劑 有例如一般式(1 0 ):
(式中R1係-S02-、-0-、-CO-、碳原子數1至6之烯基、碳原 子數1至10之全氟烯基或單鍵,R2及R3係一為-NH2而另一為 -NH2、-OH或-SH,較佳者為R2及R3均係-NH2)之雙二胺基苯 基系硬化劑,雙胺基酚系硬化劑,雙胺基硫代酚系硬化 劑,一般式(11):
RA
R4 ^NH \NHNH3 一般式(11) i
—C (式中R1同上,R4係
2066-5383-PF(Nl).ptd 第24頁 1328021 五、發明說明(21) 之雙脒腙系硬化劑’一般式(1 2 )或一般式(i 3 ).
NH NH II || … H2NHN-C —Rf —c-NHNHa 一般式 02) (式中Rf係碳原子數1至1 〇之全氟烯基), NHZ NH2 HON^C-fCF^C^NOH -般式。3) (式中η係1至10之整數)之雙氨肟系硬化劑等。 酚系硬化劑’雙胺基硫代酚系硬化劑或雙二胺 $雙胺基 化劑等以往係用於以氰基為交聯點之交聯系,ς笨基系硬 烷氧基羰基反應,形成噚唑環、噻唑環、咪二與鲮基及 聯物。 \ ''唑環,職予交 此等硬化劑中,耐熱性尤佳,交聯I應性 易於合成者乃一般式(14): 又好’相對 ΝΗ, NR1 Η 般式(14) Λ = 或有機基)之至少具二雙胺基交聯性官 胺ϊ苯基系硬化劑。可與該交聯性官能基反應 ,“基有乱基、羧基及烷氧基幾基,經反應形成味唑 緣° 又更佳之硬化劑係一般式(1 5 ) 1328021 五、發明說明(22) Η,Ν ΝΗ
一般式(15) 之化合物。 交聯性反應基中取代基R6係氫以外之1價有機基或氟原 子,特佳者為形成抗氧化性高於Ν- Η結合之N-R6結合的取代 基。在此「形成抗氧化性高於Ν - Η結合之Ν - R6結合的取代 基」乃指形成咪唑環時,形成比具Ν-Η結合之化合物不易 氧化的化合物中之Ν-R6結合的取代基。 如此之R6無限,有亦可係經取代之脂族烴基,亦可係 經取代之苯基或苯曱基。 具體例有,R6之至少其一係-CH3、-$Η5、-C3H7等之碳 原子數1至10,尤以1至6之低級烷基;-CF3、-C2F5、 -CH2CF3、-CH2C2F5等之碳原子數1至10,尤以1至6之含氟低 級烷基;苯基;苯曱基;-C6F5、-CH2C6F5等之碳原子數1至 5之氫原子經取代之笨基或苯曱基;-C6H5_n(CF3)n、 -CH2C6H5_n(CF3)n (η係1至5之整數)等1至5氫原子以-CF3取代 之笨基或苯曱基等。 其中因耐熱性特佳,交聯反應性良好,相對易於合 成,以苯基、-CH3為佳。 一般式(15)之化合物中R7係- S02-、-0-、-C〇-、亦可 係經取代之烯基、
2066-5383-PF(Nl).ptd 第26頁 丄
CF. CF 0· 。〇 或單鍵。 R7之亦可係經取代的烯基 碳原子數1至6之非取代烯基或 等’全氟稀基有 之較佳具體例無哏,有例如 碳原子數1至1 0之全氟烯基
?FS —C—
I
CFS 等。而此等之R7已知有特公平2_59177諱公報、特開平 8-1 20146號公報等所例示之雙二胺基苯基化合物。 R7可結合於左右苯環之任一位置,但為易於合成,交 聯反應易於進行,nh2基或NHR7基之任一係以結合於對位為 佳0 特佳之硬化劑係一般式(i 6):
(式中R7及R8係相同或不同,係碳原子數1至丨0之烷基、含 氟之碳原子數1至1〇之烷基、笨基 '苯曱基、1至5氫原子 經氟原子或-cf3取代之苯基或苯甲基)之化合物。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第27頁 1328021 五、發明說明(24) 並非限定’但有例如2 笨基]六氟丙烷、2,2~等h 雙[3_胺基_4-(N_甲胺基) 氟丙烷、2,2-雙[3-胺基~胺基-4-(N_乙胺基)苯基]六 2, 2-雙[3_胺基-4-d $〜(N—丙胺基)笨基]六氟丙烷' [3 -胺基-4-(N-全氟笨胺義^)苯基]六氟丙烷、2,2-雙 胺基-4-( N-苯甲胺基)笨二笨基]六氟丙烷、2,2-雙[3--4-羥基苯基)六氟丙烷(二」如六氟丙烷、2,2_雙[3-胺基 雙(3_胺基-4-巯基笨基)名:雙(胺基酚)AF)、2,2-二胺基苯基曱烷、雙-3, 1氣/烷、四胺基笨、雙―3,4-4-二胺基笨基)六氟丙烷等。〜胺基苯基醚、2,2-雙(3, 以上說明之硬化劑,可 物性優,尤以耐熱性及耐雖予機械強度、耐熱性、耐藥 交聯性彈性體之硬化劑务=¾以的交聯物。 量份在0. 05至10重量份為=係以對义聯性彈性體100重 少於0· 05重量份時,交聯性镏1至5重罝,為更佳。硬化劑 1 〇.重量份則交聯物之物性趨於傾向父聯不足,若超過 用於本發明之由合成高分子組成的填料 以主鏈有熱及化學安定之芳環為佳…上述!,制, 係以主鏈有醯胺結合或醯亞胺結合者為佳。D双问分子 上述合成填料,因須能確保於高溫熱處理裝 材料的使用環境下有充分耐久性,以具2〇〇 t以\之密封 性(結晶熔化溫度、玻璃轉移溫度或5%減重溫度)為耐熱 2 2 0 °C以上之耐熱性更佳。 圭 具 具2 0 0 °C以上之耐熱性之填料有例如,具至,丨、 夕含1構造
1328021
2066-5383-PF(Nl).ptd 第29頁 1328021 五、發明說明(26) 等之雜縮合環,構造單元Y有 -o' _S-、K-CH2^;、-f-、-so2-' -Cjj-O-’ο 〇 -C-N-、 II Η Ο C(CH〇 -(-CF2·)-' ~ CH2 — CH— I COOR 等之非共軛官能基; C(CF3)2—、一CH—CH.\〇/ (R係焼基) -CH=CH- C 三C- 、-N=N- 、-CH=N- 丨 等之共軛官能基等。 具體而言,以具以下重複單元之樹脂為佳。
(
I
I
2066-5383-PF(Nl).ptd 第30頁 1328021
2066-5383-PF(Nl).ptd 第31頁 1328021
2066-5383-PF(Nl).ptd 第32頁 1328021 五、發明說明(29) 更具體言之,有 0
等。 . 。玄填料有含聚醞亞胺、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺等 =胺構造之酿亞胺系填料;聚芳酷'聚楓、聚趟楓 等。 ^虱化本曱酿寻工程塑膠之有機填料 其中因财熱性、金屬含量低、氣 系填料為佳。 子》^ 以醯亞胺 W ^料之面積係以〇.5平方米/克以上為佳,2平方 :η 1以上更佳’ 5平方米/克以上又更佳。該比表面穑不 及· 5平方米/克時’缺乏強化性,並有斷裂時強产 比不使用填料者更差之傾向。 & 延伸 物m ί ί i特殊限制,除球形者外’亦可用鱗片狀 物二使用球形者時可得各向異性小之成形品, 可得在特定方向有強化效果之成形品。 、 填料之粒徑以5微米以下為佳,2微米以下更 微米以下又更佳。粒徑大於5微米時,缺乏強化性. 斷裂時強度、延伸比完全不用填料者更差之傾肖, 鱗片狀時,直徑以在〇. 05至4微米為佳,2微米以下更佳,
2066-5383-PF(Nl).ptcj 第33頁 1328021
厚度以0.05至2微米為佳,}微米以下更佳。 目::售填料之粒徑粗’比表面積極小。丨用於本發 碎等加Α比表面帛。粉碎方法有例如噴射 ΐ Λ碎)’添加水、有機溶劑等分散媒體加以漿體化 =以珠磨機、以液體加壓經噴嘴噴射相向衝擊型(渴式 如碎)之粉碎。為得比表面積大之填料…且合; 及乾式粉碎(噴射磨)為佳。 扣碎 交聯性彈性體組成物中上述本發 係以Τ交聯性彈性體100重量份在!至5〇重量份為=:置’ 2 0重量份為更佳。填料之配合量對 ·"' 土 份則硬度非常之高,不適作為密封 。八右+。過50重® 性彈性體組成物,可用作各種成形品之料:,聯 作各種彈性體成形品之被覆材料。 ’、’並可用 用於本發明之非氧化物陶竟之具體例有,硼化 化鈦' 硼化鎳、硼化鉻、硼化鍅、硼化鈕等 化欽 '碳化侧、碳化銼、碳化铪、碳化鈕、碳=^, 鈮、碳化矽等,氮化物:氮化鈦、氮化鋁、氮化硼等奴矽 化物:矽化鈦、矽化鉬、矽化鍅等,硫化物:硫化鎢、一 硫化鉬等,磷化物:磷化鐵、磷化鎳等。 如此之非氧化物陶瓷,與氧化物陶瓷不同,一般共價 性高,可用作高溫構造材料’化學安定性高。例如,^炭: 石夕不僅是矽化合物,不同於s i Ο?,幾乎不受HF侵餘。如此 之於超過1000 t之高溫仍安定存在之物質,在3〇()<>c附近
2066-5383-PF(Nl).ptd 第34頁 1328021 五、發明說明(31) 預計不具捕捉HF之功能。又因化學安定性高,粉末表面幾 無g此基’推測不參與交聯反應,卻意外發現有交聯反應 之促進效果(加工性改良效果)。 HF : : t ?化物陶瓷中基於交聯反應之促進效果大, 之密封材料時不於裝成物於半導體製造裝置等 石夕、碳…氮化铭…產生污染物等’更佳者有氮化 又,非氧化物陶曼不僅1藉 非氧化物陶究係以用ί射種磨’:/2種以上併用。 子或分子之產生核n,: = 4粉碎機之粉碎法,由原 I = f狀態,可分為氣相*、液相法、固 法即益特二〗L ?瓷粉末之純度夠高,粉末之製造方 广氧化物陶免中,氮化紹之純度為耐電 漿,係以在95%以上為佳。 又π 4电 狀、if末之形狀無特殊限制,可係粉體、粒 了為佳。粒經在10微米以上時缺乏強化 密封材料時,教為 下限無=限广 份為Ϊ氧Γ二陶曼對含氣彈性體100重量份係以1至50重量 伤為佳 5至30重量份更佳。少於1番旦a 之功能,若超過50重量份則硬度極高里二寺:乎不得填料 ° 有失去彈性體特性
1328021
五、發明說明(32) 之傾向。 本發明之交聯性彈性體組成物’其特徵為下述條 NF3電漿照射時的減重小。其中 ’、下 樣本:0 形環(AS-568A-214) 測定方法: 將氣自由基產生裝置於I自由基產生條件(A)下產 之氟自由基送入處理腔内,該腔内,樣本 (B)下清潔。 电策…、射條件 氟自由基產生條件(A ): NF〆氬=50標準立方公分每分鐘/5〇標 八
鐘’ Μ力5托’溫度1()(^下相當㈣iG ^刀=分 分鐘之條件。 2 <蝕刻速率1 590埃; 氟自由基照射條件(Β): 標準公升每分鐘 N Fg /氬=1標準公升每分鐘/ 1 壓力:5托 照射時間:2小時 照射溫度:200 °c或3〇〇。匚 本發明之NFa電漿照射條件
(電漿照射條件(B))及3〇〇〇 a 一,電漿照射溫度200 t 漿照射溫度200 °C之減重在〇 9n裝照射條件(B1)),至少電 下為更佳。更佳者為,較嚴二重件 之減重在0. 20重量%以下,〇 18 1千 電漿照射溫度3 00 t: 低愈佳,故無特殊下限。.8重量%以下為更佳。減重愈 為滿足上述自由基特性, 非氧化物陶瓷粉末、樹脂
1328021
五、發明說明(33) (I )或樹脂(I I )可單獨或組合配合。 本發明中,無高純度及非污染性之特殊要 時可配合用於交聯性彈性體組成物之通常添加物時’必要 料、加工助劑、可塑劑、著色劑等,亦可配,。例如填 的不同於上述者之常用交聯劑、交聯助劑。 或以上 本發明之組成物及成形用或被覆用材料,可 成分用通常之彈性體用加工機械,例如開放輥、斑^ ^ 合機、捏合機等混合調製。此外,亦可用密閉式混合: 方法,或乳劑混合後凝析之方法調製。
由上述組成物得到預成形體之方法可係通常之以模且 加熱壓縮之方法,壓入經加熱之模具的方法,以擠出=ς 出之方法等習知方法。軟管、電線等擠出製品者因於擠出 後仍可保持形狀,可不使用交聯劑直接:利用擠出之預成形 體。當然亦可使用交聯劑,以蒸氣等施以加熱交聯,製出 預成形體使用。而〇形環等之模製品於未交聯狀態下脫&模 後難以保持形狀時,亦可利用交聯劑預先交聯製成預 體使用。 過氧化物交聯’可於通常之交聯性彈性體的交聯條件 下進行。例如,放入模具’加壓下於丨20至200 °c保持!至 60分鐘進行壓製交聯,繼之保持於12〇至250。(:之爐中0至 4 8小時作烘箱交聯,可得交聯物。 本發明中使用雙胺基酚等交聯劑作噚唑交聯時,可於 通常之交聯性彈性體的交聯條件下進行。例如,放入模、 具,加壓下於1 2 0至2 5 0 °C保持1至6 〇分鐘進行壓製交聯,
1328021 五、發明說明(34) 繼之保持於1 2 0至3 2 0 C之爐中〇至4 8小時作供箱交聯,即 可得交聯物。亦可併用已知交聯性彈性體的交聯方法,例 如添加聚胺交聯 '多元醇交聯、過氧化物交聯所配合之雙 (胺基酚)AF等交聯。 & 叛基以雙二胺基笨基系交聯劑交聯之咪唑交聯,最適 於叛基存在於末知以外之含叛基聚合物,可於較低交聯溫 度(例如150至230 °C,較佳者為17〇至2〇〇。〇賦予物性良好 之交聯物。 半導體相關製造裝置等強烈要求非污染性之用途中, 不添加交聯劑’以高能輻射交聯為佳。交聯源可用X線、 α線、召線' r線、電子束' 質子束、重質子束、紫外線 等。此時之照射量可係0. 1至5 〇百萬拉蹲。照射溫度可係 -2 0至1 0 0 C。照射環i兄可有空氣、氮、氬、氦之存在亦可 係真空’為防成形品表面氧化劣化,以在鈍性氣體氮、 氬、氦下為佳,真空下特佳》 將上述組成物或成形用材料交聯成形,適用作半導體 製造裝置用成形品,尤以有高_潔度要求之半導體製造裝 置,特別是進行高密度電漿照射之半導體製造裝置的密封 材料。密封材料有0形環 '方環、墊片、密墊、油封、轴 承環、唇封等。 此外,亦可用在半導體製造裝置的各種彈性體製品, 例如隔膜、管、軟管、各種橡膠輥等。亦可用作層壓板材 料、襯墊材料。 本發明之半導體製造裝置,不限於專用以製造半導體
2066-5383-PF(Nl).ptd 第38頁 1328021 五、發明說明(35) 之裝置,亦廣泛包含用以製造液晶面板、電漿面板之裝置 等,所有用在有高清潔度要求之半導體領域的製造裝置。 用上述被覆用材料被覆彈性體成形物予以交聯,可得 被覆成形品。 欲予被覆之彈性體成形物可係以各種彈性體材料製作 之物品,基於耐熱性,以含氟彈性體、聚矽氧系彈性體等 為尤佳。 該成形品及被覆成形品可用作以下表1、表2及表3之 領域的各種成形品。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第39頁 1328021 五、發明說明(36) gn 1 ϋ |ffi:-$ 屮 m 歸 m Η m Φ 单 i 描 m 磔 骶 ττ\ 藝 im. jm 槪 兹 化學品 芸 m 略 Ιτπΐ μΠΓ 半導體栖關 哉 m c=±- Η m m m 芄 ΓΤ\ S Μ 芄 顳像機 鹏 槪 gn 化11 j m 芸 m 栅 媒SH糨 MHS1 窈裔燬 mmm 緞锻_ ΡΙβΡΙ 挪 m w Bn m S 讎程 藥 Μ m 前 X s® 结? 銮 3F 结? 额 m 概 ·— m 邶c ϋΕ -gnSl 皑艄 iw , 瞵 Μ &CZZ mp m 8 4%<s 播 i 紐臓置 1B JU ϋ3 _ CVD裝置 乾纖丨J裝置 濕纖丨J裝置 氧化蠍裝置 薩裝置 去灰裝置 . . .:’ 淸洗裝置 雖子相入裝置.. §n «55 材爵、總、辕、軟管、隔膜、咖環、管、 噸 ί»*· 芽m ΡΪ 概 議材『懸、_、隔膜、綱'管、 Μ m C^T a〇i ΐτζζ 梱i 1 s i!i 题 m® ί m st :¾ m F、f、M料、軟管·料、 峨 m 邛 & η. 题 at m 峨 4,3 m^rn XD» , i,m m :¾ m D® -*SH> 規 m m 喽 粬 i
2066-5383-PF(Nl).ptd 第40頁 1328021 五'發明說明(37) 表2 產業 基本雷求 電子 耐電漿性、耐酸性、耐鹼性、耐胺性、耐真氧性、耐瓦斯 忤、酎藥物性、淸漤忤'耐熱性 運輸設備 _忤、耐胺性 耐_、耐胺性 耐燃·、燃料摻·、耐熱性 耐燃料性、燃料_性、耐熱性 耐燃料忤、燃料摻透忖、耐熱性 耐燃料忤、燃料滚謝、耐熱性 化工 耐藥物性、耐溶劑忤、耐熱性 耐藥物性、耐溶劑忤、耐熱性 淸謝 機械 耐藥物性 耐藥物忤 耐溶劑性 耐溶劑性 食品 耐藥物忤、耐溶劑W、耐熱性 金題 耐熱W、耐酸性 i
2066-5383-PF(Nl).ptd 第41頁 1328021 五、發明說明(38) 表3 產業 真體名稱 電子 該產品裝置之閘闊的〇形環、密封材料 該產品裝置之石英窗的〇形環、密封材料 該產品裝置之腔體的〇形環、密封材料 該產品裝置之閘的0形環、密封材料 該產品裝置之鐘罩的0形環、密封材料 該產品裝置之聯接器的〇形環、密封材料 該產品裝置之泵的0形環、密封材料 該產品裝置之半導體用氣體控制裝置的〇形環、密封材料 光阻顯像液、剝離液用之0形環、密封材料 晶圓淸洗液用之0形環、密封材料 該製造裝置之泵的隔膜 光阻顯像液、剝雖液用之軟管 晶圓淸洗液用之軟管、管 晶圓搬運用輥 光阻顯像液槽、剝雖液槽之襯墊、被覆 晶圓淸洗液搰之襯墊、被覆 濕式蝕刻槽之襯墊、被蘿 運輸 設備 引擎頭墊片 金屬墊片 曲軸封 凸輪軸封 闊桿封 歧管密墊 機油軟管 ATF軟管 噴油器0形環 噴油器密墊 燃料泵0形環、隔膜 燃料軟管 機械 顳像輥 凹版锟 導輥 磁帶製造塗布生產線之凹版锟 磁帶製造塗布生產線之導輥 各種塗布锟
2066-5383-PF(Nl).ptd 第42頁 1328021 五、發明說明(39) 更具體而言,可組裝用於以下半導體製造裝置 (1 )蝕刻裝置 乾式蝕刻裝置 電漿蝕刻裝置 反應性離子蝕刻裝置 反應性離子束蝕刻裝置 濺鍍蝕刻裝置 離子束蝕刻裝置 濕式蝕刻裝置 去灰裝置 (2 )清洗裝置 乾式蝕刻清洗裝置 UV/03清洗裝置 離子束清洗裝置 雷射光束清洗裝置 電漿清洗裝置 氣體蝕刻清洗裝置 萃取清洗裝置 索氏萃取清洗裝置 高溫高壓萃取清洗裝置 微波萃取清洗裝置 超臨界萃取清洗裝置 (3)曝光裝置 步進機
2066-5383-PF(Nl).ptd 第43頁 丄J厶OVJZ丄 五、發明說明(40) 顯像機 塗布機· (4) 研磨裝置 CMP裝置 (5) 成膜裝置 CVD裝置 濺鍍裝置 (6)擴散·離子植入裝置 氧化擴散裝置 離子植入跋置 ,例如CVD裝置、 去灰裝置、準分子 教置腔内,利用
尤可發揮作為其中之電漿處理 電漿蝕刻裝置、反應性離子蝕刻裝^、 雷射曝光機之密封材料的優良性能。 其中’為於CVD薄膜形成後清潔CVD NF3遠距電襞產生高密度F自由基之|置中,作為其密封材 料尤為優^。第1圖係利用,3遠距電漿的CVD裝置之概 要,產生间社度F自由基之另一F自由基產生裝置】,係與 進行CVD程序之處理腔2連結,將高密度?自由基送入處理 腔2内,分解去除處理腔2内部、密封材料3之附著物。而 第1圖中,符號4、5、6各表質量流量控制器、壓力控制 器、真空泵。 [實施方式] 實驗例 以下舉實驗例說明本發明,惟本發明並非僅限於該等 實驗例。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第44頁 1328021 五、發明說明(41) 實驗例1 加純水於下述結構之樹脂(U I P 、 ,、
7 ’ 成固魏Λ公:曲rV 約20%之漿體,以循環型珠磨機粉碎成特定 @取刀/辰度 用電烘箱乾燥後以喷射磨解碎,得比丰比表面積後’ “衣面積約2平方平 克,直徑4微米,厚1. 〇微米之UIP-s。 、
(宇部興產(股)製UIP-S :平均粒徑約7微米之球狀, 計算比表面積約0. 6平方米/克) ’ 莫耳%)聚 PERHEXA 2. 5B (日本油脂(股 酸酯(TAIC)(曰本化成(股)製)及填料,如上得到之比'表 面積約2平方米7克的uip-s,以重量比100/1/2/15混合广 用開放輥混練得可交聯之含氟彈性體組成物。 所得含氟彈性體組成物於1 6 0 °c交聯10分鐘後,再於 180 °C之氣流烘箱中烘箱交聯4小時,得AS568-2 1 4尺寸之 成形品。 對該成形品依以下條件施以電漿照射處理,照射前後 之重量變化結果列於表4。 又對該成形品依JIS K 630 1各測定1〇〇%拉伸應力、拉 伸強度、伸長、硬度’結果列於表5。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第45頁
1328021 五、發明說明(42) ①耐高濃度F自由基清潔性試驗 所用電漿照射裝置: ASTR0N氟原子產生器(ASTEX公司製)
Si〇2蝕刻速率:NF3/Ar 5〇〇標準立^ Μ力5托,溫度1〇(TCTSi〇2姓刻速率们 ;^刀。 照射條件: 佚/刀含里
Nh/Ar : 1標準公升每分鐘/丨標準公 壓力· 5托 母 照射溫度:7 0至2 5 0它 照射時間:2小時 重量測定: 使用Sart〇rius〇GMBH(股)製電子分析天平 2 00 6MPE,以四捨五入測定至〇. 〇1毫束。 母種樣本各3,求出減重率之平均 。 ②耐〇3水性試驗 將橡膠密封材料暴露於〇3氣體濃度15〇至25〇克/立方 米,溫度25〇C,座度1〇0%之條件下4個月。暴露後如上測 定橡膠密封材料之重量’求出減重率之平均值。 實驗例2 ,使用如同實驗例1之粉碎方法所得之比表面積約5平方 米/克,直徑4微米,厚〇. 3微米之Ulp_s,如同實驗例j施 行0 對該成形品,於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。
1328021 五、發明說明(43) 又對該成形品依Jis K 630 1各測出100%拉伸應力、拉 伸強度 '伸長、硬度’結果列於表5。 實驗例3 使用如同實驗例1之粉碎方法所得之比表面積約1 〇平 方米/克’直徑3微米’厚〇·15微米之uip-s,如同實驗例】 施行。 對該成形品’於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。 又對該成形品依J I s K 6 3 0 1各測定丨〇 〇 %拉伸應力拉 伸強度、伸長、硬度’結果列於表5。 實驗例4 _ 使用如同實驗例1之粉碎方法所得之比表面積約丨5平 方米/克,直徑2微米,厚〇. 1微米之UIP“S,如同實驗例i 施行。 對該成形品’於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。 ..... 又對該成形品依J I s K 6 3 0 1各測定丨0 〇 %拉伸應力拉 伸強度、伸長、硬度,結果列於表5。 實驗例5 除U I P-S不予粉碎以外,如同實驗例1施行。 對該成形品’於上述條件下施以電漿照射處理,照 前後之重量變化結果列於表4 ° ..... 又對該成形品依J IS K 630 1各測定丨00%拉伸應力、 伸強度、伸長、硬度’結果列於表5。
1328021 五、發明說明(44) 實驗例6 除UIP-S改用Θ -氧化鋁(住友化學工業(股)製, AKP-G008 )以外,如同實驗例1施行。 對該成形品’於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。 又對該成形品依J IS K 630 1各測定100%拉伸應力、拉 伸強度、伸長、硬度,結果列於表5。 實驗例7 除U I P-S改用碳黑(Cancarb公司製,N-990 )以外,如 同實驗例1施行。 對該成形品,於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。 又對該成形品依J IS K 630 1各測定:1〇〇%拉伸應力、拉 伸強度、伸長、硬度,結果列於表5。 實驗例8 除不使用UIP-S,四氟乙烯/全氟(甲基乙烯醚)聚合 物,PERHEXA 2· 5B及TAIC以重量比100/2/1混合以外, 如同實驗例1施行。 對該成形品,於上述條件下施以電漿照射處理,照射 前後之重量變化結果列於表4。 又對該成形品依J IS K 630 1各測定1 〇〇%拉伸應力、拉 伸強度、伸長、硬度,結果列於表5。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第48頁 1328021 五、發明說明(45) 表4 高濾度F自由基照射後之減重率(重量%) 〇3處理後之減重率 (重量%) 照射溫度200°C 富驗例1 0.2 2.8 冒驗例2 0.2 2.9 冨驗例3 0.2 2.8 冒驗例4 0.2 2.7 富驗例5 0.2 2.8 冒驗例6 6.9 2.6 冒驗例7 0.3 14.7 盲驗例8 0.4 ___ 100%拉伸應力 (公斤力/平方公分) 拉伸強度 (公斤力/平方公分) 伸長 (%) 硬度 (肖氏A) 篁驗例1 100 160 170 80 賓驗例2 130 170 160 80 霣驗例3 155 185 140 81 菖驗例4 165 195 120 81 菖驗例5 60 110 190 79 冒驗例6 100 240 160 75 盲驗例7 100 200 180 80 冒驗例8 30 140 210 65 由表4可知,含氧化鋁之組成物(實驗例6 )經高濃度F φ 自由基照射,含碳黑之組成物(實驗例7 )經03處理,重量大 幅減少。相對於此,含本發明之填料的組成物,經高濃度 F自由基照射或03處理仍極安定。 又,實驗例5之含比表面積約0 . 6平方米/克的U I P-S之
2066-5383-PF(Nl).ptd 第49頁 1328021 五、發明說明(46) * 組成物,經高濃度F自由基照射及A處理重量變化雖小,但 如由表5可知’因粒徑大’ 1 00%拉伸應力及拉伸強度差。一 相對於此’實驗例1至4因比表面積大,其1〇〇%拉伸應力及 拉伸強度高8 實驗例9 對100重量份之含IL彈性體(TFE/全氟烷基乙烯醚/含 氰基之單體=59.4/4〇.1/〇.5(莫耳比),0八1『〇"*^^(股) 裝^一’’一漆;^硬化劑6,6’-二苯胺基-3,3’ - [2,2,2 -三氣 -1-(三氟甲基)亞乙基]二苯胺1. 2重量份,氮化鋁man-10 (TOKUYAMA(股)製’粒徑200奈米)15重量份,以開放輥混 練調製可交聯氟橡膠組成物。 該氟橡膠組成物於1 8 0 °C壓製1 0分録交聯,再於供箱 中以2 9 0 °C施以1 8小時之烘箱交聯,製作厚度2毫米之交聯 物及0形環(AS-568A-214尺寸)試樣。 對該成形品依如同實驗例1至8之條件施以電漿照射處 理,照射前後之重量變化結果列於表6。 又測出成形品之加硫性、常態物性、耐熱性及壓縮永 久應變,結果列於表7。 (加硫性) 對各加硫用組成物以JSR型CURASTOMETER I I型求出 1 8 0 °C之加硫曲線,求出最低黏度(v m i η)、最大黏度(y max)、誘發時間(T10)及最適加硫時間(T90)。 (常態物性) 依J IS K 625 1各測出厚2毫米之加硫物的常態(25 °C)
2066-5383-PF(Nl).ptd 第50頁 1328021 五、發明說明(47) 之100%模數、拉伸強度、伸長,並依JIS κ 6253測出硬度 (A型硬度計)。 (耐熱性) 加硫物於3 2 4 °C加熱7 0小時後,依J I S K 6 2 5 1測出厚2 毫米之加硫物的常態(25 °C )之1 00%模數、拉伸強度、伸 長,並依J I S K 6 2 5 3測出硬度(A型硬度計)。再.由常態物 性算出變化之比率(變化率)。 (壓縮永久應變) 依JIS K 6262 測出〇 形環(AS-568A-214)在300 °C、70 小時後之壓縮永久應變。 (HF鋼腐蝕試驗) ,依…1^ D 395以例中之種種含氟彈性體化合物調製〇 形環試片。該0形環於模具中以177t力6分鐘硬化隨之 從模具取出,於氮氣下以305 °C後硬化10小時。置各〇形環 於3 16不鏽鋼板上,在氣流烘箱中於3〇(rc加熱7〇小時。加 熱當中釋出之HF肉眼可見鋼板上之腐蝕(即變為黑色)。鋼 板腐蝕程度係,〇=無腐蝕,丨=稍有腐蝕,而2=嚴重腐蝕 (黑色之環)。 實驗例1 0 非氧化物陶瓷粉末,取代氮化鋁ΜΑΝ_丨〇改用氮化矽 SN-E10 (字部興產(股)製,粒徑5〇〇奈米)15重量份以 外,如同實驗例9混練調製可交聯氟橡膠組成物,製作厚 度2毫米之交聯物,〇形環(AS_568A_214尺寸)試樣。 對該成形品依如同實驗例i至8之條件施以電漿照射處
1328021 五、發明說明(48) 理’照射前後之重量變化結果列於表6。 又’測出成形品之加硫性、常態物性、耐熱性及壓縮 永久應變,結果列於表7 » 實驗例11 非氧化物陶瓷粉末,取代氮化鋁M A N - 1 〇改用氮化石夕d U A-1 (昭和電工(股)製,450奈米)1 5重量份以外.,如同實 驗例9混練調製可交聯氟橡膠組成物’製作厚度2毫米之交 聯物,0形環(AS-568A-214尺寸)試樣。
對該成形品依如同實驗例1至8之條件施以電漿照射處 理’照射前後之重量變化結果列於表6。 又,測出成形品之加硫性、常態物性、耐熱性及壓縮 永久應變,結果列於表7。 ' 實驗例1 2 硬化劑用6,6,-二苯胺基-3, 3’-[2,2,2-三敦
1-(二氟曱基)亞乙基]二苯胺0. 8重量份,並取代非氧J 物陶瓷粉末氮化鋁MAN-10改用碳黑(Termax N-990,
Cancarb(股)製,粒徑450奈米)20重量份以外,如同實 例9混練調製可交聯氟橡膠組成物,製作厚度2毫米之^ = 物’ 〇形環(AS-568A-214尺寸)試樣。 父~ <1 對該成形品依如同實驗例1至8之條件施以電聚照射 理’照射前後之重量變化結果列於表6。 ' 處 耐熱性及壓縮 又,測出成形品之加硫性、常態物性 永久應變,結果列於表7。 實驗例1 3
2066-5383-PF(Nl).ptd 第52頁 1328021 五、發明說明(49) 非氧化物陶瓷粉末,取代氮化鋁MAN-10改用二氧化矽 M-7D (CABOT SPECIALTY AMIROLZ INC. , JAPAN(股)製, 粒徑1 5奈米)1 5重量份以外,如同實驗例9混練調製可交 聯氟橡膠組成物,製作厚度2毫米之交聯物,〇形環 (AS-568A-214 尺寸)試樣。 對該成形品依如同實驗例1至8之條件施以電漿照射處 理,照射前後之重量變化結果列於表6。 又’測出成形品之加硫性、常態物性、耐熱性及壓縮 永久應變,結果列於表7。 實驗例1 4 取代非氧化物陶瓷粉末氮化鋁ΜΑΝ-10改用α-Α 1203, AKP-53(住友化學工業(股)製,粒徑2〇〇奈米)15重量份以 外,如同實驗例9混練調製可交聯氟橡碟組成物,製作厚 度2毫米之交聯物,〇形環(AS-568Α-21 4尺寸)試樣。 對該成形品依如同實驗例1至8之條件施以電漿照射處 理’照射前後之重量變化結果列於表6。 又’測出成形品之加硫性、常態物性、耐熱性及壓縮 永久應變,結果列於表7。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第53頁 1328021 五、發明說明(50) 表6 高漶ItF自由基陧射後之減重率(童量%) 〇3處理後之減重率 (重里%) 瞄身 寸· 200°C 300°C 菖驗例9 0.11 1.08 2.7 菖驗例10 0.2 0.4 2.6 菖驗例11 0.2 0.42 2.6 菖驗例12 0.15 0.17 4.6 菖驗例13 0.23 0.51 2.9 菖驗例14 3.21 5.66 2.6 表7 菖驗例 9 10 11 12 13 14 加硫性(180。〇 最低黏度(公斤力) 0.70 0.51 0.42 0.53 0.30 0.61 最高黏度(公斤力) 3.37 3.12 2.97 3.30 1.25 2.61 誘發時間(分鐘) 0.8 2.0 8.9 10.0 5.0 8.2 最適加硫時間(分鐘) 2.6 6.3 20.0 20.4 33.0 21.5 常態物性 娜椹數(公斤力/弔方公分) 23 30 25 51 50 23 拉伸強度(公斤力/平方公分) 147 131 152 199 136 161 伸長(%) 335 25 288 273 275 307 硬度(IRHD) 69 70 67 75 74 66 耐熱性(324°Cx 70小時) 100%槇數(公斤力/平方公分) 14 20 17 26 — 12 強度變化率(%) -53 -22 48 乃1 - -69 伸長變化率(%) 80 62 78 76 -- 179 AW -2.2 -1.8 -2.3 -1.4 — -2.8 壓縮永久應變 30(TC X 70 小時(%) 42 27 32 38 — 45 HF鋼腐蝕試驗 0 0 0 2 0 1 ___1 2066-5383-PF(Nl).ptd 第54頁 1328021 五、發明說明(51) 由表7可知,較之使用氧化物陶瓷者,本發明之含氟 彈性體化合物最適加硫時間(T。短,加工性優。又,熱陳 化试,中強度變化率小,耐熱性有所提升。又,關於hf捕 集,實驗例9至1 1及使用S丨A者無腐蝕之觀察知有優良之 HF捕集功能。 實驗例1 5 無著火源之不鏽鋼製内容積3公升的高壓釜中饋入純 水1公升,乳化劑 严 3 CF3 c3f7ocfcf2 〇cfcoonh4 m 1 0克,及p Η調整劑磷酸氫鈉· l 2水鹽〇. 〇 9克,系内以氮 氣充分取代脫氣後,以600 r pm攪拌,二面升溫至50 °C, 饋入四氟乙烯(TFE)與全氟(甲基乙烯醚)(PMVE)之混合氣 體(TFE/PMVE = 25/75莫耳比)至内壓達8. 0公斤力/平方公分 表壓。隨之以氮氣壓力壓入濃度52 7毫克/毫升之過硫酸銨 (APS)水溶液10毫升開始反應。 隨聚合之進行内壓降至7.0公斤力/平方公分表壓時, 以氮氣壓力壓入CF2=CF0CF2CF(CF3)0CF2CF2CN(CNVE)3 克。 隨之,以各自壓力壓入1?£4.7克及?^^£5.3克至壓力達 8. 0公斤力/平方公分表壓。之後伴隨反應之進行,同樣壓 入TFE、PVME,於7至8公斤力/平方公分表壓之間重複升 壓、降壓,在TFE與PMVE合計量達70克、130克、190克及 250克時各以氮氣壓力壓入CNVE 3克。
2066-5383-PF(Nl).ptd 第55頁 1328021 五、發明說明(52) 聚合反應起19小時後,TFE與PMVE合計饋入量達3〇〇克 時,將高壓爸冷卻,釋出未反應之單體,得固體成分濃度 21. 2重量%之水性分散體1 330克。 該水性分散體11 9 6克以水3 5 8 8克稀釋,授掉下緩慢加 入2800克之3. 5重量%鹽酸水溶液中。添加後授拌5分鐘後 濾取凝析物’將所得聚合物再分散於2公斤之HCFC-14 1 b 中’攪拌5分鐘後再過濾。然後以該HCFC-1 41b清洗、過 濾’再重複4次後於6 0 °C真空乾燥7 2小時,得2 4 0克的聚合 物(含氰基之彈性體)。 19F-NMR分析之結果’該聚合物之單體單元組成係 TFE/PMVE/CNVE:56. 6/42. 3/ 1. 1 莫耳%。 所得含氟彈性體(末端有羧基的含氰基之彈性體),交 聯劑2,2 -雙(3 -胺基-4-經基苯基)六氟.丙炫[雙(胺基 齡)AF]及UIP-S以重量比100/3/15混合,用開放輥混練調 製可交聯之含氟彈性體組成物。 該含氟彈性體組成物於18〇 〇C交聯15至25分鐘後,再 於2 9 0 C之氣流烘箱中烘箱交聯1 8小時,製作〇形環 (AS-568A-214)。 對該0形環’使用依上述條件(A)產生之氟自由基,依 上述照射條件(B :電漿照射溫度2〇〇 °c )及(B1 :電漿照射 溫度30 0 °C )施以清潔處理,由清潔前後之重量探討減重, 結果列於表7。
而’所用之氟自由基產生裝置,係AppLIED SCIENCE AND TECHNOLOGY, INC.)製 ASTRONI原子產生器
第56頁 1328021 五'發明說明(53) AX7657-2C 商品名)。 (II化铭填料之一次平均粒徑) 以氮氣吸附法求出之BET比表面積s(平方米/克),及 氮化鋁之密度3, 05克/立方公分,依下式算出粒徑。其中 填料係假設為真球狀,且粒徑相同。 粒徑(奈米)=6 X 1 〇3 / ( 3. 〇 5 X s ) 實驗例1 6 無著火源之不鏽鋼製内容積3公升的高壓釜中饋入純 水1公升,乳化劑 〒F3 CFg C3F7〇CFCP2〇CFCOONH4 1 0克,及pH調整劑磷酸氫鈉· 1 2水鹽0.〔 09克,系内以氮 氣充分取代脫氣後,以600 rpm攪拌,二面升溫至5 0。(:, 鎖入四敦乙烯(TFE)與全氟(曱基乙烯醚)(PMVE)之混合氣 體(TFE/PMVE = 25/75莫耳比)至内壓達8. 0公斤力/平方公 分表壓。隨之以氮氣壓力壓入濃度527毫克/毫升之過硫酸 I* ( A P S )水溶液1 〇毫升開始反應。 隨聚合之進行内壓降至7.0公斤力/平方公分表壓時, 以各自壓力壓入TFE 4· 7克及PMVE 5. 3克至壓力達8. 0公斤 力/平方公分表壓。之後伴隨反應之進行,同樣壓入抒£、 PVME ’於γ至8公斤力/平方公分表壓之間重複升壓、降 壓。 聚合反應起19小時後,TFE與PMVE合計饋入量達300克
2066-5383-PF(Nl).ptd 第57頁 1328021 五、發明說明(54) 時,將高壓釜冷卻,釋出未反應之單體,得固體成分濃度 21. 2重量!%之水性分散體1 330克。 該水性分散體11 96克以水3588克稀釋,攪拌下緩慢添 加於2800克之3. 5重量%鹽酸水溶液中。添加後授拌5分鐘 後濾取凝析物,將所得聚合物再分散於2公斤之HCFC-1 41b 中,攪拌5分鐘後再過濾。然後重複以該HCFC-141b清洗、 過濾4次後於6 0 °C真空乾燥7 2小時,得2 4 0克的聚合物。 19F-NMR分析之結果,該聚合物之單體單元組成係 TFE/PMVE=59.2/40.8 莫耳% 。
所得含氟彈性體’有機過氧化物2,5-二曱基-2,5-二(三級丁基過氧基)己烷(日本油脂(股)製pERHEXA 2. 5 B (商品名)),交聯促進劑三烯丙基果氰酸酯(τ A丨c )及 氮化铭粒子(三井化學(股)製高純度氮你鋁MAN_2〇(商品 名)° 一次平均粒徑〇. 1微米)以重量比1 00/1/3/15混合, 用開放輕混練調製可交聯之含氟彈性體組成物。 5亥。含氟彈性體組成物於1 6 〇。(:交聯1 5至2 5分鐘後,再 於2 0 0 °C之氮氣流中烘箱交聯丨8小時,製作〇形環 (AS-568A-214)。 、對该0形環’使用依上述條件(A)產生之氟自由基,依
士述照射。條件(B :電漿照射溫度20 0 °C )及(B1 :電漿照射 /孤度3 0 0 c )施以清潔處理,由清潔前後之重量求出減重, 結果列於表8。 實驗例1 7 實驗例15中,除不用UIP-S以外同樣製作〇形環
2066-5383-PF(Nl).ptd 第58頁 1328021 五、發明說明(55) (AS-568A-214)樣本,如同實驗例15求出電 及(B1 )之減重。結果列於表8。 ’、件(B) 實驗例1 8 實驗例16中’除不用氮化鋁以外同樣製作〇形严 (AS-5 68A-214)樣本,如同實驗例16求出二 及⑴)之減重。結果狀表8。 冤聚…射條件(B) 實驗例1 9 實驗例15中,取代UIP_S改用同量之氧化鋁 化學工業(股)製,Ακρ_5〇(商品名)。_ " 友 米)同樣製作〇形環(AS_568A_214)樣本//mu 出電聚照射條件⑻及⑻)之減重。結果列:;8驗。例15未 實驗例2 0 列16中,取代氮化鋁改用同量之Θ-氧化鋁(住友 /了 系(股)製’ ΛΚΡ-GOOS (商品名)。一次平均粒徑〇 03微米)同樣製作〇形環(AS-568A-214)樣本,如同實驗例 16求出電毁照射條件(B)及(B1)之減重。結果列於表8。 ---— 高濃度F自由基脬射後之減重率(童量%) 脬射溫度 200eC 300°C 0.12 0.14 0.1 1.01 0.14 0.15 -4^g_18 0.16 0.18 19 0.32 1.21 1-¾¾¾) 5.13 8.53
2066-5383-PF(Nl).ptd 第59頁 1328021 五、發明說明(56) 由表8可知,實驗例1 9、2 0因以α -氧化鋁粒子、0 -氧化鋁粒子取代U I P-S、氮化鋁,高濃度F自由基照射時之 減重大。相對於此,實驗例8至1 1中當電漿照射溫度為2 0 0 。(:甚至於300 °C時,高濃度F自由基照射時之減重亦小。 產業上可利性 根據本發明可提供,高溫下HF之產生減少.,對半導體 製程中所經歷之NF3電漿處理及03處理重量變化均小,處理 中雜質(粒子)之產生可顯著抑制之交聯性彈性體組成物。
2066-5383*PF(Nl).ptd 第60頁 1328021
2066-5383-PF(Nl).ptd 第61頁
Claims (1)
1328021 1 :? 案號9113龄丽 年ΐ>月丨> 日‘ 修正$_ 六、申請專利範圍 [I孚^ κ ^.;.:Γ :; 1. 一種交聯性-彈性成物I其^徵為:-冷有全氟彈 性體、以及填料,而上述填料之比表面積係2平方米/克以 上且由在主鏈具有耐熱性及耐化性佳之芳環之合成高分子 所組成,其中, 上述合成高分子係主鏈中有醯胺結合或醯亞胺結合之 合成高分子; 相對於1 0 0重量份之上述全氟彈性體而言,上述交聯 性彈性體組成物含有1〜5 0重量份之上述填料,其中上述 合成高分子包含,具有至少含以下1構造單元X :
之重複單元的樹脂(I),及/或具有至少各1之至少含1構造 單元X的重複單元及至少含以下1構造單元Y :
2066-5383-PF5(Nl).ptc 第62頁 1328021 _案號91136306_年月日 修正 六、申請專利範圍 —Ο—、—S —、(CH2)n、一C—、_S〇2 —、—^―〇— Ο 〇 -C-N-, -c(ch3)2-> -c(cf3)2-, —ch—ch—, II Η \ / Ο ο -tCF2^-, -CHa-CH- (R 係烷基) COOR -CH=CH—·, -C=C~, —N=N —, -CH=N —
第63頁 2066-5383-PF5(Nl).ptc 1328021
(-〇)-、-CH2-或_C(CF3)2- ;n係〇至5之整數)之樹脂。 3.如申請專利範圍第1項所述的交聯性彈柹㈣έ布 物,其中上述合成高分子包含,具有以下重彈:單體元且成
Ν—^ / Wi2 ^ ^ ^ Λ曰 4. 一種交聯性彈性體組成物’其特徵為:由全ι彈性 體以及非氧化物陶瓷組成,其中, 以上 上述非氧化物陶兗係選自碳化物或氣化物之群的1種 相對於100重量份之上述全氟彈性體而言,上述交聯 性彈性體組成物含有1〜50重量份之上述非氧化物陶兗。 5.如申請專利範圍第1項或第4項所述的交聯性彈性體 組成物,其特徵為:下述條件下NFs電漿照射時的減重在 〇.2〇重量%以下;其中 樣本:0 形環(AS-568A-214) 測定方法: 將氟自由基產生裝置於氟自由基產生條件(Α)下產生 之氤自由基送入處理腔内,該腔内,樣本於電漿照射條件 (Β)下清潔; ’、
2066-5383.PF5(Nl).ptc 第64頁 丄丄
月 曰 修正 氟自由基產生條件(A): 叩3/氬=5〇〇標準立方八 於S i 0;>之钱刻速率為 分鐘,壓力5托,溫度1〇cr;分母分鐘/500標準立方公分每 1 5 9 0埃/分鐘之條件; 下相當 電漿照射條件(B ): 鐘/1標準公升每分鐘 NFS/氬=1標準公升每分 壓力:5牦 照射時間:2小時 照射溫度:2 〇 〇。〇。 物,6其:,範、圍第5項所述的交聯性彈性體組成 加产Λ3 0 0。/ 、牛(1)之電漿照射條件(B)中,NI?3電漿照射 :度為3 0 0 C之電聚照射條件(bi )時的減重在〇. 2〇重量%以 下。 ,4、如I請專利範圍第1項或第4項所述的交聯性彈性體 j成物,其中上述全氟彈性體係四氟乙烯與全氟(烷基乙 烯醚)之共聚物。 物 •物 元 8. 如申請專利範圍第7項所述的交聯性彈性體組成 其中上述全氟(烷基乙烯醚)係全氟(曱基乙烯醚)。 9, 如申請專利範圍第8項所述的交聯性彈性體組成 其中上述全氟彈性體包含具有交聯性反應基之單體單 1 0.如申請專利範圍第9項所述的交聯性彈性體組成 物,其中上述交聯性反應基係碘基、氰基、羧基、及/或 烷氧基羰基。 八
1328021
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001382996 | 2001-12-17 | ||
JP2002256724 | 2002-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW200304469A TW200304469A (en) | 2003-10-01 |
TWI328021B true TWI328021B (zh) | 2010-08-01 |
Family
ID=26625091
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW091136306A TW200304469A (en) | 2001-12-17 | 2002-12-16 | Crosslinkable elastomer composition and formed product comprising the same |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7495046B2 (zh) |
EP (1) | EP1464676B2 (zh) |
JP (2) | JP4218525B2 (zh) |
KR (1) | KR100597929B1 (zh) |
CN (2) | CN1891761B (zh) |
TW (1) | TW200304469A (zh) |
WO (1) | WO2003051999A1 (zh) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100597929B1 (ko) | 2001-12-17 | 2006-07-13 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 가교성 엘라스토머 조성물 및 이 조성물로 이루어지는성형품 |
JP4182338B2 (ja) * | 2003-03-06 | 2008-11-19 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性パーフルオロポリエーテル系ゴム組成物及びゴム製品 |
JP2005140261A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Ntn Corp | 転がり軸受用シール部材および転がり軸受 |
WO2005050069A1 (ja) | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Daikin Industries, Ltd. | 表面コーティングされたシール材 |
EP1555448A3 (en) * | 2004-01-14 | 2010-09-01 | NTN Corporation | Rolling bearing for use in vehicle |
DE102004034235B4 (de) * | 2004-07-15 | 2006-09-21 | Federal-Mogul Sealing Systems Bretten Gmbh | Bauteil mit integrierter Dichtung |
JP4844952B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2011-12-28 | ニチアス株式会社 | フッ素ゴム組成物、これを使用したゴム材料及びフッ素ゴム成形体の製造方法 |
FR2877008B1 (fr) * | 2004-10-26 | 2007-02-09 | Ccn Soc Par Actions Simplifiee | Materiau composite compose d'une matrice organique au moins chargee par des particules non oxydes, quasi-spheriques et de granulometrie comprise entre 0,01mu et 4mu |
JP4998267B2 (ja) * | 2005-07-26 | 2012-08-15 | ダイキン工業株式会社 | 硬化性組成物、それからなる成形品および成形品の製造方法 |
JP5429161B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2014-02-26 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素エラストマーおよびそれを含む架橋性組成物 |
WO2010014275A2 (en) * | 2008-07-31 | 2010-02-04 | 3M Innovative Properties Company | Fluoropolymer compositions and methods of curing |
US20100140222A1 (en) * | 2008-12-10 | 2010-06-10 | Sun Jennifer Y | Filled polymer composition for etch chamber component |
US8349959B2 (en) * | 2008-12-24 | 2013-01-08 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Polymer material and seals formed thereof for high pressure pump applications |
KR101352661B1 (ko) | 2008-12-29 | 2014-01-16 | 그린, 트위드 오브 델라웨어, 인코포레이티드 | 가교성 불소 함유 엘라스토머 조성물 및 상기 조성물로 제조된 성형품 |
JP2011086920A (ja) | 2009-10-14 | 2011-04-28 | Greene Tweed Of Delaware Inc | プラズマ耐性に優れた処理装置 |
JP2011168630A (ja) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Nok Corp | 耐燃料透過性の良好な耐寒フッ素ゴム組成物 |
US20110319545A1 (en) * | 2010-06-25 | 2011-12-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing curable perfluoroelastomer compositions |
US9129795B2 (en) | 2011-04-11 | 2015-09-08 | Quadrant Epp Ag | Process for plasma treatment employing ceramic-filled polyamideimide composite parts |
EP2525387A1 (en) * | 2011-05-17 | 2012-11-21 | Quadrant Epp Ag | Process for plasma treatment employing ceramic-filled polyamideimide composite parts |
EP3187212B1 (en) | 2011-08-30 | 2021-07-21 | Gambro Lundia AB | Apparatus for extracorporeal treatment of blood |
EP2809705B1 (en) * | 2012-02-03 | 2019-08-14 | Greene, Tweed Technologies, Inc. | Rapid gas decompression-resistant fluoroelastomer compositions and molded articles |
JP6081879B2 (ja) * | 2013-07-05 | 2017-02-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜の形成方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
CN110246613A (zh) | 2014-01-08 | 2019-09-17 | 大金工业株式会社 | 耐热电线及其制造方法 |
WO2015104975A1 (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | ダイキン工業株式会社 | 改質含フッ素共重合体及びフッ素樹脂成形品 |
CN104672726B (zh) * | 2015-03-11 | 2016-11-09 | 江苏千富之丰科技有限公司 | 一种免二次硫化氟弹性体及其制备方法 |
JP6141377B2 (ja) * | 2015-10-07 | 2017-06-07 | 株式会社森清化工 | パーフルオロゴム成形体 |
JP6950736B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2021-10-13 | Agc株式会社 | 電線、コイルおよび電線の製造方法 |
JP6927319B2 (ja) * | 2017-10-18 | 2021-08-25 | ダイキン工業株式会社 | 架橋性エラストマー組成物及びフッ素ゴム成形品 |
DE102017011642A1 (de) * | 2017-12-15 | 2019-06-19 | Carl Freudenberg Kg | Härtbare Fluorelastomere mit geringer Quellungsneigung |
CN109679148B (zh) * | 2018-12-11 | 2020-11-27 | 湖北一致魔芋生物科技股份有限公司 | 一种快速凝胶载体及其制备方法 |
KR102591386B1 (ko) * | 2019-05-20 | 2023-10-19 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 불소 함유 엘라스토머 조성물 및 물품 |
CN111499901B (zh) * | 2020-04-29 | 2022-07-08 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 一种含氟聚合物/聚酰亚胺复合薄膜的制备方法 |
JPWO2023054222A1 (zh) * | 2021-09-30 | 2023-04-06 |
Family Cites Families (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4028324A (en) * | 1975-12-16 | 1977-06-07 | United Technologies Corporation | High temperature seal material and method for manufacturing the same |
JPS57100148A (en) * | 1980-12-13 | 1982-06-22 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Heat dissipating sheet |
DE3429149A1 (de) * | 1984-08-08 | 1986-02-20 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von stabilisierten polyaminen, stabilisierte polyamine retardierter reaktivitaet und ihre verwendung zur polyurethanherstellung |
US4584336A (en) * | 1984-10-29 | 1986-04-22 | Sws Silicones Corporation | Thermally conductive room temperature vulcanizable compositions |
US4585822A (en) * | 1984-10-29 | 1986-04-29 | Sws Silicones Corporation | Thermally conductive room temperature vulcanizable compositions |
JPS61195160A (ja) * | 1985-02-26 | 1986-08-29 | Bridgestone Corp | シリコ−ンゴム組成物 |
EP0207450B1 (en) * | 1985-07-03 | 1990-09-12 | Mitsuboshi Belting Ltd. | Pressure-sensitive conductive rubber material |
JPH0643526B2 (ja) * | 1987-06-11 | 1994-06-08 | 大塚化学株式会社 | ゴム組成物 |
JPS63312336A (ja) * | 1987-06-15 | 1988-12-20 | Kurasawa Kogaku Kogyo Kk | 強化フッ素系ゴム |
JPH0216128A (ja) * | 1988-07-05 | 1990-01-19 | Tokuyama Soda Co Ltd | 加硫ゴムの製造方法 |
JP2783576B2 (ja) | 1989-02-22 | 1998-08-06 | 日本メクトロン株式会社 | パーオキサイド加硫可能な含フッ素エラストマー組成物 |
JPH03239389A (ja) | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Japan Gore Tex Inc | プリント回路基板 |
JPH0613495A (ja) | 1990-12-13 | 1994-01-21 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 電子回路パッケージのためのレーザー加工性で、低熱膨張率、低誘電率のコア材料、そのコア材料および電子回路パッケージの製造方法 |
DE606883T1 (de) * | 1993-01-14 | 1995-03-16 | Nippon Mektron Kk | Fluorhaltige Elastomermischung. |
US5252267A (en) * | 1993-03-18 | 1993-10-12 | Holcombe Cressie E | Process for microwave sintering boron carbide |
JP2858198B2 (ja) | 1993-04-19 | 1999-02-17 | 三菱電線工業株式会社 | 半導体製造装置用シール |
FR2715407B1 (fr) * | 1994-01-27 | 1996-04-12 | Rhone Poulenc Chimie | Matériau élastomère pour la réalisation de moules hautes fréquences, procédé de moulage hautes fréquences et moules faisant application dudit matériau. |
JPH08104789A (ja) * | 1994-10-04 | 1996-04-23 | Nippon Mektron Ltd | 含フッ素エラストマー組成物 |
JP3104568B2 (ja) * | 1995-03-24 | 2000-10-30 | 信越化学工業株式会社 | 高電圧電気絶縁体用シリコーンゴム組成物 |
CN1154386A (zh) * | 1995-05-05 | 1997-07-16 | 罗纳·布朗克化学公司 | 金属微粒热稳定的弹性有机多分子硅醚组合物以及所得的透明高弹体 |
US6191208B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-02-20 | Dupont Dow Elastomers L.L.S. | Thermally stable perfluoroelastomer composition |
WO2000008090A1 (fr) * | 1998-08-06 | 2000-02-17 | Mitsui Chemicals, Incorporated | Polyimide contenant un groupe reticulable et son procede de production |
DE69904793T2 (de) * | 1998-10-13 | 2003-10-02 | Canon Kk | Anordnungen zur Wärmefixierung mit elastischer, thermisch gut leitfähiger Schicht |
US6218014B1 (en) * | 1998-12-30 | 2001-04-17 | Nexpress Solutions | Fluorocarbon fuser member with silicon carbide filler |
US6239378B1 (en) * | 1999-02-02 | 2001-05-29 | Dow Corning Corporation | Flame resistant silicone rubber wire and cable coating composition |
JP3490011B2 (ja) * | 1999-02-12 | 2004-01-26 | 富士高分子工業株式会社 | 熱伝導性エラストマー組成物およびこれを用いた熱伝導性エラストマー |
JP2000309074A (ja) * | 1999-02-23 | 2000-11-07 | Toyobo Co Ltd | 積層二軸配向ポリアミドフィルム |
US6238596B1 (en) * | 1999-03-09 | 2001-05-29 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Compliant and crosslinkable thermal interface materials |
JP2000309704A (ja) * | 1999-04-23 | 2000-11-07 | Daikin Ind Ltd | 架橋性エラストマー用フィラーおよびそれを含有する架橋性エラストマー組成物 |
JP2000344587A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-12 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高耐熱樹脂複合セラミックスの製造法 |
JP2001011272A (ja) | 1999-07-02 | 2001-01-16 | Nippon Mektron Ltd | 含フッ素重合体組成物 |
DE60025039T3 (de) | 1999-09-30 | 2011-05-05 | Daikin Industries, Ltd. | Transparente elastomerzusammensetzung |
EP1253172B1 (en) * | 1999-11-04 | 2012-03-14 | Daikin Industries, Ltd. | Use of molded elastomer comprising crosslinkable fluoroelastomer composition for semiconductor production apparatus |
KR100743409B1 (ko) | 2000-04-19 | 2007-07-30 | 다이낑 고오교 가부시키가이샤 | 탈착성이 우수한 불소함유 엘라스토머 성형품 및 그 제조방법 |
KR20030007581A (ko) | 2000-05-09 | 2003-01-23 | 다이낑 고오교 가부시키가이샤 | 클린 필러가 배합된 고분자 중합체 조성물 |
JP4505957B2 (ja) | 2000-06-27 | 2010-07-21 | ダイキン工業株式会社 | 架橋用エラストマー組成物 |
US6500529B1 (en) * | 2001-09-14 | 2002-12-31 | Tonoga, Ltd. | Low signal loss bonding ply for multilayer circuit boards |
US7304105B2 (en) * | 2001-09-28 | 2007-12-04 | Nippon Tungsten Co., Ltd. | High-density composite material |
KR100597929B1 (ko) * | 2001-12-17 | 2006-07-13 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 가교성 엘라스토머 조성물 및 이 조성물로 이루어지는성형품 |
JP2003301048A (ja) * | 2002-04-10 | 2003-10-21 | Polymatech Co Ltd | 熱伝導性成形体 |
-
2002
- 2002-12-13 KR KR1020047009330A patent/KR100597929B1/ko active IP Right Grant
- 2002-12-13 CN CN2006100957757A patent/CN1891761B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-13 WO PCT/JP2002/013048 patent/WO2003051999A1/ja active Application Filing
- 2002-12-13 CN CNB028252160A patent/CN1313541C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-13 US US10/498,939 patent/US7495046B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-13 JP JP2003552870A patent/JP4218525B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-12-13 EP EP02790751.8A patent/EP1464676B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-12-16 TW TW091136306A patent/TW200304469A/zh not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-09-16 JP JP2008236288A patent/JP5487584B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2008-11-03 US US12/264,089 patent/US8173727B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050070637A1 (en) | 2005-03-31 |
TW200304469A (en) | 2003-10-01 |
JP2009030064A (ja) | 2009-02-12 |
EP1464676B1 (en) | 2017-06-21 |
JPWO2003051999A1 (ja) | 2005-04-28 |
KR100597929B1 (ko) | 2006-07-13 |
JP5487584B2 (ja) | 2014-05-07 |
CN1891761B (zh) | 2010-10-06 |
EP1464676A4 (en) | 2005-03-09 |
KR20040071726A (ko) | 2004-08-12 |
CN1313541C (zh) | 2007-05-02 |
WO2003051999A1 (fr) | 2003-06-26 |
JP4218525B2 (ja) | 2009-02-04 |
EP1464676B2 (en) | 2020-05-13 |
US8173727B2 (en) | 2012-05-08 |
EP1464676A1 (en) | 2004-10-06 |
CN1891761A (zh) | 2007-01-10 |
US7495046B2 (en) | 2009-02-24 |
CN1604940A (zh) | 2005-04-06 |
US20090076197A1 (en) | 2009-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI328021B (zh) | ||
JP4600393B2 (ja) | 含フッ素エラストマー組成物 | |
JP5553320B2 (ja) | 架橋性含フッ素エラストマー組成物および該組成物から作製された成形品 | |
EP2718338B1 (en) | Hyperbranched fluoroelastomer additive | |
EP3486283B1 (en) | Composition and molded article | |
TWI798274B (zh) | 交聯性彈性體組成物及氟橡膠成形品 | |
TW200427699A (en) | Fluorine-containing elastomer composition having execllent prevention effect of plasma aging and molded article using the same | |
JP7206519B2 (ja) | 含フッ素ポリマーを含有する組成物および成形品 | |
TW201031702A (en) | Perfluoroelastomer compositions including barium titanate fillers | |
CN111465649A (zh) | 具有低溶胀趋势的可固化氟弹性体 | |
TW200535189A (en) | Perfluoroelastomer composition for use in vulcanization and method for making a molded perfluoroelastomer product | |
US11781002B2 (en) | Fluorine-containing elastomer composition for heat dissipation material and sheet thereof | |
US20220227909A1 (en) | Composition containing fluorine-containing polymer and crosslinked article | |
JP4086070B2 (ja) | 架橋性エラストマー組成物および該架橋性エラストマー組成物からなる成形品 | |
JP6708290B2 (ja) | 含フッ素ポリマーを含有する組成物および成形品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK4A | Expiration of patent term of an invention patent |