TWI305751B - Release film - Google Patents

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TWI305751B
TWI305751B TW92113871A TW92113871A TWI305751B TW I305751 B TWI305751 B TW I305751B TW 92113871 A TW92113871 A TW 92113871A TW 92113871 A TW92113871 A TW 92113871A TW I305751 B TWI305751 B TW I305751B
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Description

1305751 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用來產製印刷電路板和半導體封裝 的離型膜。 【先前技術】 近年來,印刷電路板之密度變高。因此,利用具有逐 漸半凸半凹形狀以致有表面安置裝置如半導體封裝的多層 印刷電路板。在具有逐漸模槽部分之多層印刷電路板被層 合且模製之情況中,不容易藉一般模製方法將欲模製之產 物均勻壓製。 JP— A — 10-296765揭示一種由三層組成之離型膜, 其中供中間層用之熱塑性樹脂在模製時變爲熔融態以改良 欲模製之產物的緊密接觸。藉此接著劑預浸料坯自欲模製 之產物中的瀉出會被防止。然而,若用此離型膜,欲模製 之產物無法適當地被均勻壓製,因熱塑性樹脂之流動性太 尚。 JP— A-2001— 138338揭示一種離型膜,其包括一具 有至少U(TC之熔點及980至6,860牛頓/毫米2之抗張 時之彈性模數的支持膜及層合在支持膜之至少一側上之氟 樹脂製的膜。然而,在離型膜中,支持膜之熔點和抗張時 之彈性模數是高的,因此自欲模製之產物中接著劑預浸料 坯之瀉出不能合適地被防止。 因此,已想要發展一種供多層印刷電路板用之離型膜 -4- 1305751 ,使用彼,則欲被模製之產物可均勻地被壓製且接著劑預 浸料坯自欲模製產物中之瀉出可被防止。 在這些環境下,本發明之目的是要提供一種離型性優 越之離型膜,使用彼,則接著劑預浸料坯自欲被模製之產 物中之瀉出可被防止,欲被模製之產物可高度均勻被壓製 ,且模製產物表面平滑性優越。 本發明提供一種具有由層A、層B和層C以此順序 層合所組成之三層結構的離型膜,其中層A包括具有比 欲被模製之產物之加壓模製溫度更高之熔點的氟樹脂,層 B包括具有70至100°C之熔點的熱塑性樹脂,且層C包 括具有比以上加壓模製溫度更高之熔點的氟樹脂或非氟樹 脂。 本發明進一步提供一種產製印刷電路板和半導體封裝 之方法,其利用以上之離型膜。 【發明內容】 現在,本發明將參考較佳實例而詳細描述。 如圖1中所說明的,本發明之離型膜4具有由層A1 、層B 2和層C 3以此順序層合所組成之三層結構。 在本發明之離型膜之層A包括具有比欲被模製之產 物的加壓模製溫度更高之熔點的氟樹脂。 再者’在本發明之離型膜之層C包括具有比以上加壓 模製溫度更高之熔點的氟樹脂或非氟樹脂。 至於供層A及/或層c用之氣樹脂’較佳者是四氣 -5- 1305751 乙烯(下文稱爲TFE)與共單體之共聚物。共 例如非TFE之氟乙烯,如CF2 = CFC1或CF2 = 稱爲VdF),氟丙烯如CF2=CFCF3(下文稱;! CF2=CHCF3,具有4至12碳數之全氟烷基的 )乙烯,如 CH2 = CHCF2CF2CF2CF3,CH2 = CFCF2CF2CF2H 或 CH2= CFCF2CF2CF2CF2H, 醚如 Rf(OCFXCF2)mOCF= CF2 (其中 Rf 是 C, ’x是氟原子或三氟甲基,且m是0至5之整 烴如乙烯、丙烯或異丁烯。此種共單體可以單 至少二者之混合物形式結合使用。 氟樹脂之特定實例包括TFE/乙烯共聚物 ETFE) ,TFE /全氟(烷基乙烯基醚)共聚物 PFA) ,TFE/HFP共聚物(下文稱爲FEP) / VdF共聚物及氯三氟乙烯/乙烯共聚物。以 較佳的,因爲它們的表面能量是低的,且會得 型性。特別較佳者ETFE,PF A或FEP。 也較佳的是將1至50質量%之氟橡膠如 聚物或VdF/ HFP共聚物倂入供層A用之氟樹 倂氟橡膠,離型膜之塑性會進一步改良。再者 是倂入〇. 1至2質量%抗靜電劑以將抗靜電性 用之氟樹脂中。 作爲抗靜電劑,較佳者是非離子性表面活 子性表面活性劑,陽離子性表面活性劑,兩性 活性劑,導電性塗覆物或導電性碳黑。 單體可以是 =CH2 (下文 I HFP)或 (全氟烷基 全氟乙烯基 -6全氟烷基 數),或烯 獨使用或以 (下文稱爲 (下文稱爲 ,TFE/ HFP 上氟樹脂是 到優越的離 TFE/丙共 脂中。藉合 ,也較佳的 賦與供層A 性劑,陰離 離子性表面 -6- 1305751 里 / I \ N 滲 塑 個 間 經 98 體 實 乙 乙 物 文 爲 聚 脂 用 員 再者,也較佳的是將1至20質量%無機塡料如碳 ,碳酸鈣或矽石倂入供層A用之氟樹脂中以減低氣體 透性如水蒸汽滲透性且改良導電性和遮光性。 在本發明中,層B包括具有70至100 °C熔點之熱 性樹脂。在此範圍內,層B在壓製時易於變形且塡充一 藉半凸半凹形狀中模槽部分及供壓製之熱板所形成之空 ,因此,接著劑預浸料坯料之瀉出可被防止,且再者, 模製之產物表面平滑性會是優越的。熔點較佳是80至 °C,更爲較佳是84至96°C。 至於供層B用之熱塑性樹脂,依印刷電路板或半導 封裝之模製條件,可以利用不同的熱塑性樹脂。其特定 例包括乙烯/乙酸乙烯酯共聚物(下文稱爲EVA )、 烯/丙烯酸共聚物(下文稱爲EAA)、乙烯/丙烯酸 酯共聚物(下文稱爲 EEA)、乙烯/丙烯酸甲酯共聚 (下文稱爲EMA )、乙烯/甲基丙烯酸酯共聚物(下 稱爲EMAA)、乙烯/甲基丙烯酸甲酯共聚物(下文稱 EMMA)、離子鍵聚合物樹脂,可撓的聚氯乙烯樹脂、 苯乙烯熱塑性彈性體、生物可分解之樹脂、聚酯熱熔樹 及聚氨基甲酸酯熱熔樹脂。此種熱塑性樹脂可被單獨使 或以至少二種之混合物形式結合使用。 更爲較佳者是擇自由EVA、EAA、EEA、EMA EMAA、EMMA及離子鍵聚合物樹脂組成之群中至少一 在本發明中,作爲供層C用之非氟樹脂,可以選擇性 1305751 地使用不同的樹脂,且較佳爲聚對酞酸伸乙酯(下文稱爲 PET)、聚對酞酸伸丁酯(下文稱爲PBT)、聚碳酸酯、 聚苯硫醚、聚醯亞胺、聚苯醚、聚醚醚酮、聚萘酸伸乙酯 、聚萘酸伸丁酯及類似者。此種樹脂有由加壓機之加壓板 之優越離型性。特別地,可用較低成本取得之PET是更 爲較佳的。 因此,本發明之離型膜之層A/層B/層C之結合的 特定實例包括 ETFE/EVA/PET ,ETFE/EAA/PET , ETFE/EEA/PET , ETFE/EMA/PET , ETFE/EM A A/P ET , ETFE/EMMA/PET,ETFE/離子鍵聚合物樹月旨/PET, ETFE/EVA/ETFE,ETFE/EAA/ETFE,ETFE/EEA/ETFE, ETFE/EMA/ETFE > ETFE/EM A A/ETEE > ETFE/EMMA/ETFE,ETFE/離子鍵聚合物樹脂 /ETFE, ETFE/EAA/PBT , ETFE/EEA/PBT , ETFE/EMA/PBT , ETFE/EMAA/PBT,ETFE/EMMA/PBT 及 ETFE/離子鍵聚合 物樹脂/PBT, ETFE/EVA/ETFE > ETFE/E A A/ETFE > ETFE/EEA/ETFE,ETFE/EMA/ETFE,ETFE/EMAA/ETFE, ETFE/EMMA/ETFE,ETFE/離子鍵聚合物樹月旨/ETFE, ETFE/EVA/PFA,ETFE/EAA/PFA,ETTE/EEA/PFA, ETFE/EMA/PFA,ETFE/EM A A/PF A > ETFE/EMM A/PF A -ETFE/離子鍵聚合物樹月旨/PFA,ETFE/EVA/FEP, ETFE/EAA/FEP , ETFE/EE A/FEP , ETFE/EMA/FEP , ETFE/EMAA/FEP,ETFE/EMM A/FEP,ETFE/離子鍵聚合 1305751 物樹 S 旨 /FEP , ETFE/EYA/HFP , ETFE/EAA/HFP , ETFE/EEA/HFP,ETFE/EMA/HFP,ETFE/EMAA/HFP, ETFE/EMMA/HFP及ETFE/離子鍵聚合物樹脂/HFP, PFA/EVA/PET,PFA/EAA/PET,PFA/EEA/PET, PFA/EMA/PET,PFA/EMAA/PET,PFA/EMMA/PET,PFA/ PFA/EMMA/PBT 及 > PFA/EEA/ETFE -PFA/EMMA/ETFE > ,PFA/EVA/PFA , PFA/EMA/PF A , 離子鍵聚合物樹脂 /PET,PFA/EAA/PBT,PFA/EEA/PBT, PF A/EM A/PBT , PF A/EMAA/PBT , PFA/離子鍵聚合物樹脂/PBT, PFA/EVA/ETFE,PFA/EAA/ETFE PFA/EMA/ETFE , PFA/EMAA/ETFE , PFA/離子鍵聚 PF A/E AA/PF A , PFA/EMAA/PFA, 合物樹脂/ETFE PFA/EEA/PFA , PFA/EMMA/PFA,PFA/離子鍵聚合物樹 脂 /PFA,PFA/EVA/FEP,PFA/EAA/FEP,PFA/EEA/FEP, PFA/EM A/FEP , PFA/EMAA/FEP , PFA/EMMA/FEP 及 PFA/離子鍵聚合物樹脂/FEP, FEP/EV A/PET , FEP/E AA/PET , FEP/EEA/PET , FEP/EMA/PET,FEP/EMAA/PET,FEP/EMMA/PET - FEP/ 離子鍵聚合物樹脂 /PET,FEP/EAA/PBT,FEP/EEA/PBT > FEP/EMA/PBT , FEP/EM-AA/PBT , FEP/EMMA/PBT 及 FEP/離子鍵聚合物樹脂/PBT, FEP/EVA/ETFE > FEP/E A A/ETFE,FEP/EE A/ETFE, FEP/EMA/ETFE,FEP/EMA A/ETFE > FEP/EMM A/ETFE, FEP/離子鍵聚合物樹脂/ETFE , FEP/EVA/PFA , 1305751 FEP/EAA/PFA , FEP/EEA/PFA , FEP/EMA/PFA , FEP/EMAA/PFA,FEP/EMMA/PFA,FEP/離子鍵聚合物樹 脂 /PFA,FEP/EVA/FEP,FEP/EAA/FEP,FEP/EEA/FEP, FEP/EMA/FEP,FEP/EMAA/FEP,FEP/EMMA/FEP 及 FEP/ 離子鍵聚合物樹脂/FEP。 在本發明之離型膜中,層A厚度較佳爲3至100微 米,更佳爲較佳地12至25微米。在此範圍內,層A之 膜的模製性傾向是良好的且離型膜可在低成本下產製。層 B的厚度較佳爲5至200微米,更爲較佳地1〇至50微米 。在此範圍內,供層B用之熱塑性樹脂在模製時會流動且 它可以塡充印刷電路板之半凸半凹形狀中模槽部分及供壓 製之熱板所形成之空間,因此,接著劑預浸料坯的瀉出可 被防止。層C的厚度較佳爲3至100微米,更爲較佳地 10至25微米。在此範圍內,層C之膜的模製性傾向是良 好的,離型膜可以在低成本下產製且再者,離型膜之韌性 及處置性是優越的。 本發明之離型膜較佳地藉同時或分別地用諸如擠出, 加壓模製或澆鑄之方法以形成層A,層B和層C之每一 者且層合各層而產製。層合方法可以是一般的擠出或層合 者,且較佳爲共擠出,擠出層合,乾層合或熱層合。更爲 較佳地是擠出層合,藉此,在高速下之模製是可能的。 本發明之離型膜被用來產製諸如印刷電路板包括剛性 印刷電路板,可撓印刷電路板,剛性-可撓印刷電路板及 藉熱壓模製所成之建構(buildup )印刷電路板。再者’ -10- 1305751 它也可用來產製諸如半導體封裝,包括藉熱壓加壓模製之 四方形扁平無引腳封裝(Quad Flat Non-Leaded Package ),小型無引腳封裝(Small Outline Non-Leaded Package )’晶片尺寸級封裝(Chip Scale/Size Package),晶圓 級晶片尺寸級封裝(Wafer Level Chip Scale/Size Package )及球柵陣列封裝(Ball Grid array ) ° 本發明之離型膜較佳作爲供以上印刷電路板及半導體 封裝用之離型膜。再者,本發明提供一種使用以上離型膜 以產製印刷電路板的方法。本發明進一步提供一種使用以 上離型膜以產製半導體封裝之方法。 在產製印刷電路板之方法中,印刷電路板較佳地以下 述方式產製:多個基板藉接著劑預浸料坯彼此層合以構成 多層層合物’且離型膜插在多層層合物之半凸半凹形中之 模槽部分和供壓製之熱板間,接著壓模。 再者’在產製具有通孔於多層層合物之表面上的印刷 電路板的情況中’較佳是插入離型膜於具有通孔之平面及 壓製片之間’接著壓模。爲產製印刷電路板,也較佳爲使 用諸如連續層合’其中在具有已應用電鏟之部分上,印刷 電路板進一步連續層合。 印刷電路板之材料常是一基板,接著劑預浸料坯及類 似者。 基板藉以下方式產製:用熱固性樹脂浸漬纖維素纖維 紙或玻璃纖維製之編織或不織布的基板,接著熟化。基板 之特定實例包括玻璃纖維/環氧樹脂複合物、玻璃纖維/ -11 - 1305751 聚醯亞胺樹脂複合物、玻璃纖維/雙馬來醯亞胺一三嗦樹 脂複合物及矽石纖維/聚醯亞胺樹脂複合物。 供諸基板之粘合成供一基板之粘合至銅箔或具有印刷 電路圖形於其上之銅箔,利用一種接著劑預浸料坯,其利 用與供基板所用之熱固性樹脂相同型式之樹脂。接著劑預 浸料坯藉著用來熟化態之熱固性樹脂及熟化劑及視狀況所 需之溶劑來浸漬基礎材料,接著在130至200°C下乾燥3 至5分鐘而產製。接著劑預浸料坯較佳地是在半熟化態。 在1 70°C下之接著劑預浸料坯的膠化時間較佳地對玻璃纖 維/半熟化態環氧樹脂型接著劑預浸料坯而言是1 00至 3 00秒、或對玻璃纖維/半熟化態聚醯亞胺樹脂型接著劑 預浸料坯而言是200至400秒。 在產製印刷電路板時的加壓模製溫度較佳爲1 00至 240°C,更爲較佳地120°C至220°C。加壓模製壓力較佳是 0.3至5 MPa,更爲較佳地0.4至3 MPa。加壓模製時間較 佳爲30至240分鐘,更爲較佳地40至120分鐘。作爲壓 模時之加壓板,較佳是不銹鋼板。再者,可撓平板如矽酮 橡膠可夾於離型膜和加壓板間,且離型膜可以不使用。 爲了在層合之印刷電路板具有半凸半凹形狀模槽部分 於二表面上的情況中使用離型膜’較佳利用本發明之離型 膜在二表面上。再者,在層合之印刷電路板具有半凸半凹 形狀模槽部分在僅一表面上的情況中’本發明之離型膜用 在具有半凸半凹形狀模槽部分的一側’且在不具有半凸半 凹形狀模槽部分的另一側上,本發明之離型膜可被利用, -12- 1305751 或一般的離型膜可被使用。 在產製半導體封裝的方法中’半導體封裝藉熱壓模產 製半導體封裝以如下方式產製:密封用樹脂在一具有半導 體安設於其中之模中被注射且熟化’同時離型膜插於欲被 密封而終端或電極被安置於其上之表面及模之內面間。密 封用樹脂可以是例如環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂或陶瓷。 作爲半導體,常利用諸如一種具有多單元之每一者於 受到導線結合之引線框架(lead frame )中者。半導體置 於底模之模槽中。引線末端可以間隔安置在半導體周邊上 。再者,它們可以安置在整個表面上或可僅在反側上。 在產製半導體封裝時加壓模製溫度較佳是100至240 °C,更爲較佳地1 2 0至2 2 0 °C。加壓模製壓力較佳是〇 . 3 〜5 MPa,更爲較佳地0.4至3 MPa。加壓模製時間較佳 爲30至240分鐘,更爲較佳地40至120分鐘。作爲加壓 模製時之加壓板,不銹鋼板是較佳的。 本發明之離型膜可以不僅用來產製以上具有多個單元 之每一者於一受到導線結合之引線框架中的半導體封裝, 也可產製具有下述結構的半導體:與外部連接端(諸如焊 球)接觸之末端由密封用之樹脂的表面曝露出來。 本發明之離型膜之優越特性如何得到的機轉並未清楚 了解,但認爲如下。層A之材料是具有低表面能量的氟 樹脂,因此離型膜具有由多層印刷電路和壓制板的離型性 。再者,層B具有低熔點,且它因此塡充了藉欲模製產物 之半凸半凹形狀中模槽部分及供壓製之熱板間所形成之空 -13- 1305751 間,因此可以防止欲模製之產物所用之接著劑預浸料坯。 在藉使用本發明之離型膜的產製中(其中多個基底藉 接著劑預浸料坯彼此層合以構成一種多層基底用之層合物 ),離型膜與多層基底(包括一個部分,在此處接著劑預 浸料坯被曝露)用之層合物的半凸半凹形狀中的模槽部分 接觸,且熱加壓模製藉著使離型膜之層A側與半凸半凹 形狀中的模槽部分在此種狀況中實施,接著劑預浸料坯由 經曝露部分之瀉出可以防止,且所得產物表面平滑性優越 〇 現在,本發明將參考實例以進一步詳細說明。然而, 應了解本發明決不受限於此種特定實例。實例1至7是本 發明之實例且實例8至1 0是比較性實例。爲了多層印刷 電路板的加壓模製,爲了接著劑預浸料坯的瀉出的評估及 爲了表面平滑性的評估,利用以下方法。 多層印刷電路板的加壓模製 在圖2中顯示一個說明在各實例中所用之在加壓模製 前具有半凸半凹形狀模槽部分的多層印刷電路板1 〇的橫 截面視圖。它具有基底5、7和9及接著劑預浸料坯6及 8交替地彼此層合的結構。基底5、7及9包括玻璃纖維 /環氧樹脂複合物。浸以具有54質量%環氧樹脂含量的 環氧樹脂的玻璃纖維被利用以供接著劑預浸料坯之用。 加壓模製在圖3中所述之狀態中實施以得印刷電路板 1 0。在圖4中所說明之印刷電路板1〇中’接著劑預浸料 -14- 1305751 坯6及8在以下狀態中受到熱固化:它 凹形狀之模槽部分且基底5、7和9 Μ 預浸料坯13而粘合。在圖3中,標號 鋼板。 關於印刷電路板之加壓模製條件 MPa壓力,130 °C溫度下實施5分鐘, ,190°C溫度下實施5分鐘,而後在0. 溫度下實施5分鐘。 接著劑預浸料坯瀉出之評估 藉加壓模製所得之印刷電路板半己 藉電子顯微鏡來觀察,且評估接著劑預 刷電路板。 表面平滑性的評估 印刷電路板的表面狀態藉目測來評 【實施方式】 實例1 供離型膜之用,利用一種具有1 2 (由 Asahi Glass Company, Limited 製 熔點:265 1:)作爲層A’且具有25微 Toray Industries Inc.製造,Lumilar )作爲層C。層B藉EVA (由Tosoh
:們不被瀉至半凸半 f經熱固化之接著劑 1 1和1 2係指不銹 ,加壓模製是在2 而後在2 MPa壓力 5 MPa 壓力,185 °C 半凹形狀模槽部分 浸料坯是否瀉至印 估。 微米厚之ETFE膜 造,AELEX 12N、 米厚之PET膜(由 X44、熔點:265 °C Corporation 製造, -15- 1305751
Ultracene 54 1L、熔點:95 °C )的擠出而製備。而後,層 A和層C藉擠出層合而粘至層B之兩側上以製備具有57 微米厚之離型膜。層B的厚度是20微米。 使用此離型膜,離型膜之層A側與多層印刷電路板 接觸,且多層印刷電路板受到加壓模製。所得之多層印刷 電路板在半凸半凹形狀模槽部分處有優越表面平滑性,且 實質上沒有觀察到接著劑預浸料坯之瀉出。 實例2 以如實例1中之相同方式製備厚57微米之離型膜, 除 了使用 EAA (由 JPO. CO_,Ltd.製造,ET 1 84M、熔點 :86°C )而非EVA以作爲層B之外。層B厚度是20微米 。多層印刷電路板以如實例1中之相同方式受到加壓模製 。所得多層印刷電路板在半凸半凹形狀之模槽部分處有優 越表面平滑性,且實質上沒有觀察到接著劑預浸料坯之瀉 出。 實例3 以如實例1中之相同方式製備厚5 7微米之離型膜, 除 了使用 EEA (由 Mistsui-DuPont Polychemicals Co., Ltd·,製造、A 701、熔點:96 °C)而非EVA以作爲層b 之外。層B厚是20微米。多層印刷電路板以如實例1之 相同方式受到加壓模製。所得之多層印刷電路板在半凸半 凹形狀之模槽部分處有優越表面平滑性,且實質上沒有觀 -16 - 1305751 察到接著劑預浸料坯之瀉出。 實例4 以如實例1中之相同方式製備厚57微米之離型膜, 除 了使用 EMA (由 JPO Co·,Ltd.,製造,RB 5120、熔點 :90°C )而非EVA以作爲層B之外。層B的厚度是20微 米。多層印刷電路板以如實例1中之相同方式受到加壓模 製。所得之多層印刷電路板在半凸半凹形狀模槽部分處有 優越之表面平滑性,且實質上沒有觀察到接著劑預浸料坯 之瀉出。 實例5 厚57微米之離型膜以如實例1中之相同方式製備, 除 了使用 EMAA (由 Mitsui-DuPont Polychemicals Co., Ltd,製造 Nucrel AN 42 13C、熔點:88°C )而非 EVA 以 作爲層B之外。層B厚度是20微米。多層印刷電路板以 如實例1中之方式受到加壓模製。所得之多層印刷電路板 在半凸半凹形狀之模槽部分處有優越之表面平滑性,且實 質上沒有觀察到接著劑預浸料坯的瀉出。 實例6 以如實例1中之相同方式製備厚57微米的離型膜’ 除 了使用 EMMA (由 Sumitomo Chemical Co.,Ltd.,製造, Acryft WH 3 02、熔點:94°C )而非EVA以作爲層B。層 -17- 1305751 B厚度是20微米。多層印刷電路板以如實例1中之相同 方式受到加壓模製。所得之多層印刷電路板在半凸半凹形 狀之模槽部分處有優越之表面平滑性,且實質上沒有觀察 到接著劑預浸料坯的瀉出。 實例7 以如實例1中之相同方式製備厚57微米的離型膜, 除了使用離子鍵聚合物(由Mistui-DuPont Polychmicals Co.,Ltd.製造,Himilan Η 1702、熔點:90°C )而非 EVA 以作爲層B。層B厚度是2 0微米。多層印刷電路板以如 實例1中之相同方式受到加壓模製。所得之多層印刷電路 板在半凸半凹形狀之模槽部分處有優越表面平滑性,且實 質上沒有觀察到接著劑預浸料坯之瀉出。 實例8 (比較性實例) 以如實例1中之相同方式製備厚54微米之離型膜, 除了使用厚12微米之PET膜(由Teijin DuPont Films製 造’ NSC、熔點:265 °C)以作爲層C,且使用聚丙烯( 由 Idemitsu Petrochemical. Co., Ltd.製造,Y-6005 GM、 熔點:130 °C )以作爲層B。層b厚度是3〇微米。多層印 刷電路板以如實例1中之相同方式受到加壓模製。關於所 得之多層印刷電路板’在半凸半凹形狀之模槽部分處觀察 到接著劑預浸料坯樹脂之瀉出,且表面平滑性不足。 1305751 實例9 (比較性實例) 以如實例8中之相同方式製備厚5 4微米的離型膜, 除了使用聚丙烯(由Mont ell SDK Sunrise Ltd.製造,PH 803A、熔點:159°C)以作爲層B。層B厚度是30微米 。多層印刷電路板以如實例1中之相同方式受到加壓模製 。關於所得之多層印刷電路板,在半凸半凹形狀之模槽部 分處觀察到接著劑預浸料坯之瀉出,且表面平滑性不足。 實例1 〇 (比較性實例)
以如實例8中之相同方式製備厚49微米之離型膜, 除 了使用聚乙烧(由 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd.製 造,Petrocene 1 3 84R、熔點:1 10°C )以作爲層 B。層 B 厚度是2 5微米。多層印刷電路板以如實例1中之相同方 式受到加壓模製。關於所得之多層印刷電路板,在半凸半 凹形狀之模槽部分處觀察到接著劑預浸料坯樹脂之瀉出, 且表面平滑性不足。 本發明之離型膜可以藉熱加壓模製以用來產製印刷電 路板、半導體封裝及類似者。它有優越的離型性,因此它 能增加加壓均勻性’它能防止接著劑預浸料坯之瀉出且它 有優越之表面平滑性。再者’本發明之離型膜在經濟效率 上是優越的,因氟樹脂是薄的。 2002年5月23曰申請之日本專利申請案 2002 — 148760之整個揭示內容,包括說明書,申請專利 範圖,圖式和摘要,皆以引用方式全部倂入本文。 -19- 1305751 【圖式簡單說明】 在所附之圖中· 圖1 : 一種說明本發明之離型膜的橫截面視圖。 圖2 : —種說明加壓模製前之印刷電路板的橫截面視 圖。 圖3 : —種說明在加壓模製時離型膜和多層印刷電路 板的橫截面視圖。 圖4 : 一種說明在壓製後印刷電路板的橫截面視圖。 〔主要元件對照表〕
1 層A
2 層B
3 層C 4 離型膜 5 基底 6 接著劑預浸料坯 7 基底 8 接著劑預浸料坯 9 基底 10 多層印刷電路板 11 不銹鋼板 12 不銹鋼板 13 經熱固化之接著劑預浸料坯 -20-

Claims (1)

1305751 拾、申請專利範圍 1. 一種離型膜,其具有由層A、層B和層C以此順序 層合的三層結構,其中層A包括具有比欲模製之產物之加 壓模製溫度更高之熔點的氟樹脂、層B包括具有7〇至100°C 熔點之熱塑性樹脂,且層C包括具有比上述加壓模製溫度 更高之熔點的氟樹脂或非氟樹脂, 其中供層A及/或層C用之氟樹脂是四氟乙烯與共單 體之共聚物, 其中供層B用之熱塑性樹脂是選自由乙烯/乙酸乙烯 酯共聚物、乙烯/丙烯酸共聚物、乙烯/丙烯酸乙酯共聚 物、乙烯/丙烯酸甲酯共聚物、乙烯/甲基丙烯酸共聚物 、乙烯/甲基丙烯酸甲酯共聚物及離子鍵聚合物樹脂組成 之群中的至少一者, 其中供層C用之非氟樹脂是聚對酞酸伸乙酯(PET) 、聚對酞酸伸丁酯(PBT )、聚碳酸酯、聚苯硫醚、聚醯 亞胺、聚苯醚、聚醚醚酮、聚萘酸伸乙酯或聚萘酸伸丁酯 其中層A之厚度是3至1〇〇微米,層B厚度是5至200微 米,且層C厚度是3至1〇〇微米。 2-如申請專利範圍第1項之離型膜,其中供層A及/ 或層C用之氟樹脂是四氟乙烯/乙烯共聚物、四氟乙烯/ 全氟(烷基乙烯基醚)共聚物或四氟乙烯/六氟丙烯共聚 物。 3·如申請專利範圍第1項之離型膜,其藉共擠出,擠 -21 - 1305751 出層合,乾層合或熱層合而層合。 4. 如申請專利範圍第2項之離型膜,其藉共擠出、擠 出層合、乾層合或熱層合而層合。 5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之離型膜,其 係用於產製印刷電路板。 6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之離型膜,其 係用於產製半導體封裝。 -22- 1305751 柒、(一)、本案指定代表圖為:第(1 )圖 (二)、本代表圖之元件代表符號簡單說明: 1 層 A 2 層 B 3 層 C 4 離 型膜 捌、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學 式:
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