TWI300516B

TWI300516B -

Info

Publication number: TWI300516B
Application number: TW091115855A
Authority: TW
Inventors: Kentarou Tamaki; Tomohiro Utaka; Akira Nishikawa
Original assignee: Jsr Corp
Priority date: 2001-07-24
Filing date: 2002-07-16
Publication date: 2008-09-01
Also published as: CN1507580A; JP3882816B2; EP1411390A4; KR20040030834A; US20040197698A1; KR100817377B1; CN1238766C; EP1411390A1; US7005231B2; JPWO2003010603A1; WO2003010603A1

Description

1300516 A7 B7 五、發明説明（1 ) 發明領域 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係有關正型感放射線性組成物及使用該組成物之圖型形成方法。更詳細而言，係有關可得圖型精度等優越的硬化物之正型感放射線性組成物，採用此組成物之形成方法，及其光波導路之形成方法。背景技術至於採用溶膠凝膠材料之習用的正型微影術（ photclithography)材料，例如於日本特開平 1 0 - 3 1 0 6 4 2號公報，揭示有具有酚性羥基者或其酚性羥基之氫原子以某特定的原子予以取代之高分子矽氧化合物。又於日本特開平1 1 — 3 0 2 3 8 2號公報內，揭示有藉由酸不安定基取代高分子矽氧化合物之羧基的氫原子或羧基及羥基之氫原子的技術。然而，於該等公報內記載的技術，可使用的單體或聚合物之種類係有限制的。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製另一方面，溶膠凝膠材料，係亦可用作爲光波導路形成用材料。此時，多數的裝置材料因係正型，作爲可使光波導路形成而用的溶膠凝膠材料，係可被期待作正型者。發明之掲示本發明係以上述事情爲背景而完成者，不論聚矽氧烷系之矽原子上的取代基，以提供可得具有優越的圖型精度之硬化物的正型感放射線性組成物爲目的。上述問題，係可藉由提供以含有下述（A)〜（C) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1300516 A7 B7 五、發明説明（2 ) 成分爲特徵的本發明之正型感放射線性組成物可予解決。 (A )以下述一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物 ’其水解物及其縮合物而成群體選出的至少一種化合物 (R1)pSi(X)4-p (1 ) 〔式內，R 1係碳數1〜1 2之非水解性的有機基，X係水解性基，及p係0〜3之整數〕； (B )光酸發生劑： (C )鹼性化合物。若依本發明之正型感放射線性組成物時，則即使不採用特殊的水解性矽烷化合物單體，採用汎用性水解性矽烷化合物，可形成正型感放射線性硬化膜。又，若依本發明之正型感放射線性組成物時，藉由圖型曝光，可得解析度優越的圖型。又，本發明之正型感放射線性組成物，係較適於光波導路之形成，可降低於光波導路之波導路損失。亶施發明而採的最佳形熊本發明之正型感放射線性組成物，係含有下述（A ) 〜（C )成分： (A )由以下述一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物，其水解物及其縮合物而成之群體選出的至少一種化合物 (R1)pSi(X)4.p (1) 〔式內，R 1係碳數1〜1 2之非水解性的有機基，X係水本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 丨¾· 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -5- 1300516 A7 B7 五、發明說明（3 ) 解f生基，及P係0〜3之整數〕； (B) 光酸發生劑： (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (C) 鹼性化合物。以下，說明此等（A)〜（C)成分及其他的任意成分。〔A成分〕正.型感放射線性組成物之構成成分之中，（A )成分係熱硬化成分，由以一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物’其水解物及其縮合物而成之群體選出的至少一種化合物。 (1 )構造表示（A)成分之構造的一般式（1 )中，以X所表示的水解性基，係指通常在無觸媒，過量的水之共存下，藉由在室溫（25 °C)〜100 °C之溫度範圍內加熱，使水解可生成矽醇基之基或可形成矽氧烷縮合物之基。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製又，一般式（1 )中之p爲〇〜3之整數，惟較宜爲 0〜2之整數，尤宜爲1。惟，於一般式（1 )表示的（A )成分，部分的X可爲經予水解，在該情形，水解性矽烷化合物及水解物之混合物。又，稱作水解性矽烷化合物之水解物時，係藉由水解反應，烷氧基不僅爲已變成矽醇基之化合物，亦意謂著部本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6 - A7 B7 1300516 五、發明説明（4 ) 分的矽醇基相互間已縮合的部分縮合物。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) (2 )有機基R 1 於有機基R 1之「非水解性」任意指於水解性基X經予水解的條件，保持原狀下安定的存在的性質。在此，至於有機基R1，可舉出甲基、乙基、丙基、丁基、己基等的烷基、苯基、二甲苯基、甲苯基等的芳香基、苄基等的芳烷基等。此等亦可爲直鏈狀、枝鏈狀、環狀或此等的組合。

(3 )水解性基X 至於一般式（1 )之水解性基X，可舉出有：氫原子、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等的碳數1〜12之烷氧基、氯原子、碘原子、氟原子等的鹵原子、胺基及醯氧基等。 (4 )水解性矽烷化合物之具體例經濟部智慧財產局員工消費合作社印製其次，至於以一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物 (單係稱作「矽烷化合物」之情形）之具體例，可舉出：四氯矽烷、四胺基矽烷、四乙醯氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四苄氧基矽烷、三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷等之四個水解性基取代的矽烷化合物；甲基三氯矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210X297公釐） -7- 1300516 A7 B7 五、發明説明（5 ) 烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、五氟苯基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、d3 -甲基三甲氧基矽烷、九氟丁基乙基三甲氧基矽烷、三氟甲基三甲氧基矽烷等三個水解性基取代的矽烷化合物；二甲基二氯矽烷、二甲基二胺基矽烷、二甲基二乙醯氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二丁基二甲氧基矽烷等二個水解性基所取代的矽'院化合物三甲基氯矽烷、六甲基二矽氮烷、三甲基矽烷、三丁基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三丁基乙氧基矽烷等一個水解性基所取代的矽烷化合物。又’爲使上述的矽烷化合物水解或縮合而用的條件，雖未予特別受限制，惟單一例而言，藉由下示的（1 )〜 (3 )之步驟予以實施爲宜。 (1 )將一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物及指定量之水收容於附有攪拌機之容器內。 (2 )其次，邊調整溶液之黏度，邊再收容有機溶劑於容器內，使成混合溶液。 (3 )將所得的混合溶液，在空氣氣圍下，由〇 °c至有機溶劑或水解性矽烷化合物之沸點以下的溫度，加熱攪拌1〜2 4小時之間。且加熱攪拌中，視必要時藉由蒸餾濃縮混合溶液或取代溶劑亦較宜的。又’於使上述的矽烷化合物水解，縮合之際，使用觸本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210'〆297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ’*^·ϊ» # 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -8- 1300516 A7 B7 五、發明説明（6 ) 媒亦較宜，至於此種觸媒之種類，可舉出金屬螫合物、有機酸、無機酸、有機鹼、無機鹼等。且此等觸媒之中，可舉出有金屬螫合化合物、有機酸、無機酸，宜爲鈦螫合物或鋁螫合物、有機酸。此等可同時使用一種或二種以上。又上述的觸媒之使用量，對（A )成分之矽烷化合物 1 0 0重量份（換算成完全水解縮合物），通常在 0 · 00 1〜Γ0重量份之範圍，宜爲〇 · 0 0 5〜10 重量份之範圍。且於本發明，完全水解縮合物，係指以一般式（1 ) 表示的矽烷化合物中之水解性基1 〇〇 %水解並成爲 s i〇H基，再者完全縮合而成爲矽氧烷構造者。 (5 )水解物之重量平均分子量其次，作爲（A )成分之水解性矽烷化合物，亦宜爲部分或全部水解水解性基之水解物，該情形宜爲將水解物之重量平均分子量設成5 0 0〜經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 30， 000之範圍內的値。此理由係於水解物之重量平均分子量的値未滿 5 0 0時，因有塗膜之成膜性降低的情形，故另一方面若超過3 0，0 0 0時，則熱硬化物上升，對顯影液之溶解性有降低的情形所致。因此，以將水解物之重量平均分子量設成8 0 0〜 1 5，0 0 0範圍內的値爲宜。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS〉A4規格（210X297公釐） 1300516 Α7 Β7 五、發明説明（7 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 且，於水解物之重量平均分子量，係採用凝膠滲透色譜儀（以下簡稱爲「G P C」），可測定作聚苯乙烯換算之重量平均分子量。〔（B )成分〕 (B )成分係光酸發生劑，被定義成藉由照射紫外線等的放射線，可中和後述的（C )成分之鹼性化合物之化合物。 (1 )種類至於光酸發生劑之種類，可舉出具有以下一般式（2 )表示的構造之鏺鹽（第1群化合物）、或具有以一般式 (3 )表示的構造之磺酸衍生物（第2群化合物）。 [R2aR\R4cR5dW ] +m [ MZm + n ] 'm (2) 〔一般式（2)內，陽離子係鐵離子，W爲S、Se、經濟部智慧財產局w工消費合作社印製

Te、P、As、Sb、Bi、〇、I、Br、Cl 或一 ΝξΝ，R2、R3、R4及R5係相同或不同的有機基， a、b ' c及d各爲0〜3之整數，（a+b + c + d) 係相等於W之價數。又，Μ係構成鹵化物錯合物〔Μ Z m + η〕之中心原子的金屬或準金屬，例如Β、Ρ、 As、Sb、Fe、Sn、Bi 、A1、Ca、In、

Ti 、Zn、Sc、V、Cr 、]\411、〇〇。2爲例如？、C 1、B i*等鹵原子或芳香基，m爲鹵化物錯合物離子之正電荷，η爲Μ之原子價〕。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -10- 1300516 A7 B7 五、發明説明（8 )

Qs- [ S-( = 0)2-R6 ] ： (3) 〔〜般式（3 )中，Q係一價或二價之有機基，R6爲碳數 1〜12之一價有機基，S爲〇或1，t爲1或2〕。首先，第1群之化合物的鑰鹽，係藉由受光’可放出酸性活性物質之化合物。在此，至於一般式（2 )之陰離子〔MZm + n〕之具體例，可舉出四氟硼酸鹽（BF4_)、六氟磷酸鹽 (PF6_)、’六氟銻酸鹽（S b F 6 —)、六氟砷酸鹽 (AsF6-f、六氯銻酸鹽（SbCl6-)、四苯基硼酸鹽、肆（三氟甲基苯基）硼酸鹽、肆（五氟甲基苯基）硼酸鹽等。又，亦宜爲可使用以一般式〔MZnOH*·〕表示的陰離子，取代一般式（2)之陰離子〔MZm+n〕。再者’ 亦可使用具有過氯酸離子（C 1 〇4—)、三氟甲烷磺酸離子（CF3S〇3_)、氟磺酸離子（FSO〆）、甲苯磺酸離子、三硝基苯磺酸陰離子、三硝基甲苯磺酸陰離子等的其他陰離子之鑰鹽。又，若表示出第1群化合物之市售品例，可舉出： Sunaid SI— 60、SI - 80、SI — 100、 SI— 60L、SI— 8〇L、SI — l〇〇L、 SI—L145、SI— L150、SI-L160、 SL — Lll〇、SI— L147 (以上，三新化學工業 (股）製造）、UVI - 6950、UVI — 6970、 UVI - 6974、UVI— 6990 (以上，Union 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -tv 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 . 1300516 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明 (9 ) 1 I Carbide公司製造 ) 、Adecaoptomer S Ρ — 1 5 0 、 1 I S Ρ — 1 5 1 S P - 1 7 0、 S P — 1 7 1 ( 以上 j 旭 1 1 電化工業 ( 股 ) 製造）、Irga< :ure 261 ( Ciba Specialty 請 1 造）、 I 一 2 8 先 ] chemicals ( 股 ) 製 C 4 1 閱讀 C I 一 2 6 2 4 C I — 2 6 3 9 % C I 一 2 0 6 4 ( 以背 1 -8 之 1 I 上，曰本曹達 ( 股 )製造 ) CD- 1 0 .1 0 注意 1 I 事 1 C D — 1 0 1 1 、 C D - 1 0 1 2 (以- 上 > Satomar 公司製項再 1 造 ) % D S _ 1 0 0、D s —1 0 1 D A Μ 一 10 1 填寫本 •丄頁 1 D A Μ — 1 0 2 、 DAM — 10 5 D A Μ — 2 0 1、 1 I D A Μ 一 3 0 1 N A F — 10 0 N A I — 1 0 1、 N A I — 1 0 5 N A I — 10 6 S I — 1 0 0 1 S I — 1 0 1 S I - 1 0 5、S I — 1 0 6 訂 I P I — 1 0 5 Ν D I - 1 0 5 、BENZOIN 、TOSYLATE 、 1 1 I Μ B ζ — 1 0 1 Μ Β Z — 3 0 1 P Y R — 1 0 0、 1 1 I R Y R — 2 0 0 D Ν B — 10 1 Λ N B — 1 0 1 % 1 1 Ν B — 2 0 1 Λ Β Β I - 1 0 1、 B B I — 1 0 2 Β B I — 1 0 3 Β Β I - -10 9 ( 以上 MidoRi ( 線 ) 1 I 化學 ( 股 ) 製造 ) 、P， I —06 1 T I I Ρ 5 I — 0 6 2 Τ 、P， I -02 0 T 1 I Ρ J I — 0 2 2 Τ (以上 5 曰本化藥 ( 股 ) 製 ) I B P F I Β F (三: 和化學股 ) 製造 ) 等 ο 1 1 又上述的第 1 群化合物之中較有效的鑰鹽係芳香族 1 I 鎗鹽 5 尤宜爲以下述一般式 (4 ) 表示的二芳香基鎭鹽〇 1 1 I 一般式 ( 4 ) 〔R 7 — A r 1 — I + A r 2 — R 8 ) ( 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -12- 1300516 A7 B7 五、發明説明（10 ) Y '] 〔式內，R7及R8係各自一價之有機基，可爲相同亦可爲不同，R7及R8之至少一者爲具有碳數4以上的烷基， A r 1及A r 2各自爲芳香族，可爲相同或不同，γ-爲一價之陰離子，週期表3族、5族之氟化物陰離子或由 Cl〇4 —、CF3_、S〇〆選出的陰離子〕。至於此種芳香其鎭鹽，具體而言，可舉出有：（4 -正-癸氧基苯基）苯基鎮六氟銻酸鹽、〔4 一（2 -羥基一正十四氧基）苯基〕苯基銚六氟銻酸鹽、〔4 一（2 -羥基-正十四氧基）苯基〕苯基鎭三氟磺酸鹽、〔4 -（ 2-羥基一正十四氧基）苯基〕苯鐄六氟磷酸鹽、〔4— (2 -羥基-正十四氧基）苯基〕鐄肆（五氟苯基）硼酸鹽、雙（4 -第三丁基苯基）鎭六氟銻酸鹽、雙（4 一第三丁基苯基）鎭六氟磷酸鹽、雙（4 -第三丁基苯基）鎭三氟磺酸鹽、雙（4 -第三丁基苯基）鎭四氟硼酸鹽、雙 (十二基苯基）鎭六氟銻酸鹽、雙（十二基苯基）鎭四氟硼酸鹽、雙（十二基苯基）鎭六氟磷酸鹽、雙（十二基苯基）鎭三氟甲基磺酸鹽等一種或二種以上的組合。又，至於二芳香基鎭鹽之市售品，例如可舉出Satomer 公司製造的D Γ〇 1 2、三和化學（股）製造的I BPF 、I B C F、Midori化學（股）製造的 BBI — 101、 βΒΐ-ΐ〇2、ΒΒΙ- 1〇3、ΒΒΙ-1〇9 等。其次，說明第二群化合物。若表示以一般式（3 )表示的磺酸衍生物之例時，則可舉出二磺類、二磺基重氮甲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、-t

T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -13- 1300516 A7 B7 五、發明説明（11 ) 烷類、二磺基甲烷類、二磺酸基甲烷類、磺基苯甲醯基甲烷類、醯亞胺磺酸鹽類、苯偶因磺酸鹽類、1-氧基-2 一羥基- 3 -丙基醇之磺酸酯類、焦掊酚三磺酸鹽類、苄基磺酸鹽類。又，於以一般式（3 )表示的磺酸衍生物之中，較宜爲醯亞胺磺酸鹽類，更宜爲醯亞胺磺酸鹽之中，三氟甲基磺酸鹽衍生物。 (2 )添加量於本發明，正型感放射線性組成物中的光酸發生劑之比率，通常對（A)成分1 0 0重量份（換算成完全水解縮合物），爲0.01〜15重量份，宜爲0.05〜 1 0重量份。光酸發生劑之比率若成爲未滿0 · 〇 1重量份時，則鹼性化合物之中和能力降低，有由（c )成分引起的熱硬化速度之一者需予優先的情形，故另一方面光酸發生劑之比率若超過1 5重量份時，則由已發生的酸引起的（A ) 成分之光硬化較易予以優先的情形所致。又，於本發明，與上述的光酸發生劑合倂使用並配合光增感劑亦可較有效的吸收光等的能量線，由可使光酸發生劑之靈敏度提高一事係較宜的。至於此種光增感劑，可舉出二硫並硫喃、二乙基二硫並硫喃及二硫並硫喃衍生物、蒽醌、溴蒽醌及蒽醌之衍生物；蒽、溴蒽及蒽衍生物；驼及茈衍生物；咕噸酮、硫代本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Γ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14 - A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1300516 ___B7__ 五、發明説明（12 ) 咕噸酮及硫代咕噸酮之衍生物；香豆素及酮基香豆素等。又，在此等光增感劑中，較宜的化合物，係二乙基二硫並硫喃及溴蒽。於使用此等的光增感劑時，對光酸發生劑，以0 . 1 〜1重量％之比例使用爲宜。〔（C )成分〕 (C )成分係鹼性化合物，被定義成藉由熱使（A) 成分硬化促進者，藉由（B )成分發生的酸所中和的化合物。 (1 )種類至於（C )成分之鹼性化合物，係藉由圖型形成步驟中的曝光處理使鹼性不變化的含氮有機化合物爲宜。至於此種含氮有機化合物，例如可舉出以下述一般式 (5 ) 、（ 6 )表示的化合物（以下稱作「含氮化合物（ I ) j ° ° 一般式（5) R9

I ri〇/N、r” 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

-15» 1300516 五、發明説明（13 ) 一般式（6) A7 B7

Y Θ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製〔一般式（5)中，R9、R10、R 1 ^及一般式（6 )中 R 2、Ri3、Ri4、Ri係表示相互獨立的氫原子，取代或非取代的碳數1〜1 5之院基’或取代或非取代的芳香基。又，一般式（6)中，Y係表示銨鹽之抗陰離子（ counteranion ) 〇〕又，至於其他的含氮有機化合物，可舉出於同一分子內具有二個氮原子之胺基化合物（以下稱「含氮化合物（ I I )」）或具有氮原子三個以上的胺基聚合物（以下稱「含氮化合物（I I I )」）或含醯胺基化合物、脲化合物、含氮雜環化合物等。在此，至於含氮化合物（I )，可舉出正己胺、正庚胺、正辛胺、正壬胺、正癸胺等單烷基類；二正丁胺、二正戊胺、二正己胺、二正庚胺、二正辛胺、二正壬胺、二正癸胺等的二烷基胺類；三乙基胺、三正丙基胺、三正丁基胺、三正戊基胺、三正己基胺、三正庚基胺、三正辛基胺、三正壬基胺、三正癸基胺等的三烷基胺；氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨等的四烷基銨鹽類；本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210><297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -16- l3〇〇5i 6 Α7 Β7 五、發明説明（14 苯胺、N -甲基苯胺、N，N —二甲基苯胺、2 —甲基苯胺、3 —甲基苯胺、4 —甲基苯胺、4 一硝基苯胺、二苯基胺、三苯基胺、1 -萘基胺等的芳香族胺類；乙醯胺、二乙醇胺、三乙醇胺等的烷醇胺類等。又至於含氮化合物（1 1 )，例如可舉出乙二胺、N ，N，n^ ，N" —四甲基乙二胺、四亞甲二胺、六亞甲二胺、Ν，Ν，Ν' ，N^ —肆（2 -羥乙基）乙二胺、 N，n，N^肆（2-羥丙基）乙二胺、4， 4 4 4 2 基二苯基甲烷、4，4 二胺基二苯酮、4，4 二胺基二苯基醚二胺基二苯基胺請先閱讀背之注意事項再填寫本頁經濟部智慧財產局員工消費合作社印製一雙（4 一胺基苯基）丙烷、2 -（3 -胺基苯基）一 2_ (4 -胺基苯基）丙烷、2 -（4 一胺基苯基 )〜2 -（3 -羥苯基）丙烷、2 -（3 —胺基苯基）— 2— (4 —胺基苯基）丙院、2— (4 —胺基苯基）—2 〜（3 —羥苯基）丙烷、2 -（4 一胺基苯基）—2 -（ 4 一羥苯基）丙烷、1，4 一雙〕1 一（4 一胺基苯基）〜1—甲基乙基〕苯、1 ，3 -雙〔1— (4 —胺基苯基 )一1—甲基乙基〕苯等。又，至於含氮化合物（III)，例如可舉出聚乙亞胺、聚烯丙基胺、二甲基胺基乙基丙烯醯胺之聚合物等。又至於含醯胺基化合物，例如可舉出甲醯胺、N -甲基甲醯胺、N，N_二甲基甲醯胺、乙醯胺、N —甲基乙醯胺、N，N —二甲基乙醯胺、丙醯胺、苯甲醯胺、吡咯烷酮、N -甲基吡咯烷酮等。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） -17- 1300516 A7 B7 五、發明説明（15 ) 又至於脲化合物，例如可舉出脲、甲基脲、1，1-二甲基脲、1 ，3 —二甲基脲、1 , 1 ，3 ，3 —四甲基脲、1，3 -二苯基脲、三丁基硫代脲等。又至於含氮雜環化合物，例如可舉出：咪唑、苯甲咪唑、2 —甲基咪唑、4 —甲基咪唑、2 —苯基咪唑、4 一苯基咪唑、4 一甲基一 2 -苯基咪唑等咪唑類；吡啶、2 —甲基吡啶、4 一甲基吡啶、2 —乙基吡啶、4 一乙基吡啶、2 —苯基吡啶、4 一苯基吡啶、N -甲基一 4 一苯基吼11定、蘇驗、蘇驗酸醯胺、喹啉、8 -氧基喹啉、吖啶等吡啶類；六氫吡啶、吡唑、噠啡、喹喔啉、卟啉、吡咯烷、哌啶嗎福啉、4 -甲基嗎福啉、六氫吡啡、1，4 —二甲基六氟吡畊、1，4 一二氮雜環〔2 · 2 · 2〕辛烷等。此等含氮有機化合物之中，宜爲含氮化合物（I)，含氮雜環化合物等。又，在含氮化合物（I )之中，尤宜爲四烷基胺鹽類，在含氮雜環化合物之中，尤宜爲吡啶類〇且，鹼性化合物宜爲係可單獨使用一種，或亦可混合二種以上使用。又，亦可合倂使用此等含氮鹼性化合物及酸性化合物使用爲宜。至於此時所用的酸性化合物，可舉出有甲酸、乙酸、丙酸等單羧酸類，草酸、蘋果酸、琥珀酸、己二酸、順丁烯二酸、琥珀酸等二羧酸類等。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1·!· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -18- 1300516 A7 _____B7 五、發明説明（16 ) (2 )添加量請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁本發明之正型感放射線性組成物中的鹼性化合物之比率’對（A)成分1 〇〇重量份（換算成完全水解縮合物 )’通常爲0-001〜15重量份，宜爲0.001〜 10重星份’更宜爲0·005〜5重量份。此理由係鹼性化合物之比率未滿〇 . 〇〇 1重量份，藉由製程條件，因（A)成分之縮合較弱，熱硬化係不足的情形所致，另一方面，相關的鹼性化合物之比率若超過 1 5重量份時，則（A )成分之熱硬化反應會過度進行，顯影液會變成不溶的情形所致。〔（D )成分〕本發明之正型感放射線性組成物，係加上（A )〜（ C )成分，可含有丙烯酸酯系聚合物作爲（D)成分。至於（D )戊分之具體例，例如可舉出含有水解性曱矽基之（甲基）丙烯酸酯共聚合物。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製藉由採用（D )成分，可使正型感放射線性組成物之耐龜裂性提高，再者與以（A )成分單獨加工的情形相較，可減低介電係數。又，於構成本發明之感放射線性組成物之際，使用事先使（A)成分及（D)成分反應的共縮合物爲較宜。如此，藉由事先使（A)成分及（D)成分反應，使 (A )成分及（D )成分相分離的傾向減少，可使所得的硬化膜之透明性等較提高。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 19- 1300516 A7 B7 五、發明説明（17 ) 以下說明含有（D)成分之水解性甲矽基之乙烯基聚合物。 ①種類及製造方法第1實施形態所使用的水解性含有甲矽基之乙烯基系聚合物，如一般式（7 )所示般，係被定義成分子中具有至少一個水解性甲矽基之乙烯基單體的聚合物。因此，於一般式（7 )之水解性甲矽基，係與於一般式（1 )之水解甲矽基相同內容。 P般式（7)) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1»

、^τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

Si(R18)m(XVm 〔一般式（7)中，R16係各自獨立的氫原子、鹵原子或碳數1〜1 2之一價有機基，R17係單鍵結或碳數1〜 1 5之二價有機基、R18、X >表示烷氧基、鹵原子或醯氧基、m表示〇〜2之數〕。又於製造含有此種水解性甲矽基之乙烯基系聚合物之際之導入水解性甲矽基至乙烯基系聚合物中的方法雖然並非特別受限制者，然而，例如以採用下示的第一製造方法或第二製造方法爲宜。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20- 1300516 A7 B7 法方造 ¾ 一第經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（18 第一製造方法，係藉由聚合具有水解性甲砂基之聚合性不飽和單體，或藉由共聚合具有水解性甲矽基之聚合性不飽和單體及不具有水解性甲矽基之聚合性不飽和單體，製造含有水解性甲矽基之乙烯基系聚合物的方法。至於具有此種第一製造方法所使用的水解性甲矽基之聚合性不飽和單體，例如可舉出：（甲基）丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷、（甲基）丙烯氧基丙基三乙氧基矽烷、（甲基）丙烯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、（甲基）丙烯氧基丙基三氯矽烷、雙（甲基丙烯氧基丙基）二甲氧基矽烷等的（甲基）丙烯氧基矽院、乙烯基三甲氧基砂烷、乙烯基三氯矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、二乙烯基二甲氧基矽烷、二乙烯基二乙氧基矽烷等的乙烯基矽烷等。且具有上述的水解性甲矽基之聚合性不飽和單體，可爲單獨聚合一種或組合二種以上聚合。又，不含水解性甲矽基之聚合性不飽和單體，係分子中具有游離基聚合性乙烯性不飽和鍵結之化合物，由一分子中具有一個乙烯性不飽和鍵結之單官能單體選出的。至於不具有此種水解性甲矽基之化合物（單官能性單體），可舉出（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸酯類、丙烯醯胺類、N -乙烯基化合物、苯乙烯類、乙烯基醚類、乙烯基酯類、鹵化烯烴類、二烯類等。至於較宜的（甲基）丙烯酸酯類，可舉出（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基）丙烯酸終端羥基酯、含有胺基之（本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)

-21 - 1300516 A7 B7 五、發明説明（19 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製甲基）丙烯酸酯等。至於此等的（甲基）丙烯酸酯類之具體例，例如可舉出：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸環己酯、 (甲基）丙烯酸7 —胺基一 3，7 -二甲基辛基酯異萡基氧基乙基（甲基）丙烯酸酯、異萡基（甲基）丙烯酸酯、 2 -乙基己基（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯酸乙基二乙二醇酯、（甲基）丙烯酸二甲基胺基乙酯、（甲基）丙烯酸二乙基胺基乙酯、（甲基）丙烯酸月桂基酯、（甲基 )丙烯酸烯丙酯、（甲基）丙烯酸二環戊二烯酯、（甲基 )丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸二環戊烯基酯、（甲基）丙烯酸N，N—二甲基（甲基）丙烯醯胺四氯苯基酯、（甲基）丙烯酸2 -四氯苯氧基乙基酯、（甲基）丙烯酸四氫呋喃酯、（甲基）丙烯酸四溴苯基酯、（甲基）丙烯酸2-四臭苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-三氯苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸三溴苯基酯、（甲基）丙烯酸2-三溴苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸2-羥基乙基酯、（甲基）丙烯酸2-羥丙基酯、（甲基）丙烯酸4 -羥丙基酯、（甲基）丙烯酸苯氧基乙酯、（甲基）丙烯酸丁氧基乙酯、（甲基）丙烯酸五氯苯基酯、（甲基）丙烯酸五溴苯基酯、單（甲基）丙烯酸聚乙二醇酯、單（甲基）丙烯酸聚丙二醇酯、（甲基）丙烯酸原冰片基酯、（甲基）丙烯酸甲基三乙二甘醇酯、（甲基）丙烯酸縮水甘油基酯、（甲基）丙烯酸/3 -（3，4 一環氧基環己基）酯等。本紙乐尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -22- 1300516 Α7 Β7 五、發明説明（2〇 ) 又，至於較佳的丙烯醯胺類，可舉出（甲基）丙烯醯基嗎福啉、異丁氧基甲基（甲基）丙烯醯胺、第三辛基（甲基）丙烯醯胺、二丙酮（甲基）丙烯醯胺、乙烯基己內醯胺，至於N -己烯基化合物，可舉出N -乙烯基吡咯烷酮、N -乙嫌基昨哩。又，至於較佳的苯乙烯類，例如可舉出苯乙烯、α -甲基苯乙烯、甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、羥基苯乙烯、氯甲基苯乙烯，又至於乙烯基醚類，例如可舉出··甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、羥乙基乙烯基醚、羥丁基乙烯基醚、九氟丁基乙基乙烯基醚。又至於較宜的乙烯基酯類，可舉出醋酸乙儲酯、丙酸乙烯基酯、月桂酸乙烯基酯。，又至於較宜的鹵化烯烴類，可舉出偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、偏二氯乙烯。又至於較宜的二烯類，可舉出丁二烯、異戊二烯。且，不含有水解性甲矽基之此等單官能性單體係可單獨採用或組合二種以上採用。又，不含上述的水解性甲矽基之聚合性不飽和單體之中，由不含有醯胺構造或胺構造，不致使熱硬化性降低，且不含芳香族環，由耐光性亦係良好的點，更宜爲使用（甲基）丙烯酸烷酯。至於此種（甲基）丙烯酸烷基酯，例如可舉出有：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸環己酯、（甲基）丙烯酸異原冰本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) m

、1T 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -23 - 1300516 A7 B7 五、發明説明（21 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 片基酯、（甲基）丙烯酸月桂酯、（甲基）丙烯酸丁氧基乙酯、（甲基）丙烯酸聚乙二醇酯、（甲基）丙烯酸原冰片基酯、（甲基）丙烯酸甲基三乙二甘醇酯、（甲基）丙烯酸2-羥乙基酯、（甲基）丙烯酸2-羥丙基酯、（甲基）丙烯酸4-羥丁酯、（甲基）丙烯酸縮水甘油基酯、 (甲基）丙烯酸Θ -（3，4 一環氧基環己基）酯等。又至於此種單官能性單體之市售品，例如可舉出 Allonix Μ— 101、Μ— 102、Μ— 111、 Μ— 113、Μ— 117、Μ— 152、Τ〇—1210 (以上，東西合成（股）製造）、（LAYARAD T — 110S、R— 564、R— 128Η (以上，日本化藥（股））、Biskote 192、Biskote 220、Biskote 2311HP 、Biskote 2000、Biskote 2100、Biskote 2150、Biskote 8F、 Biskote 17F (以上，大阪有機化學工業（股）製造）等。此等乙烯基系單體及具有水解性甲矽基之聚合性不飽和單體之共聚合方法係可採用公知的方法。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製例如在已組合偶氮化合物、過氧化物、氧化劑/還原劑之還原氧化聚合引發劑等的熱游離基聚合引發劑之共存下，藉由在有機溶劑中或無溶劑加熱攪拌下使共聚合物製造。在此，亦可使用水取代有機溶劑，此時在乳化聚合之際所添加的公知之界面活性劑之共存下可予製造。又，具有水解性甲矽基之聚合性不飽和單體及乙烯基單體之反應比率雖然並未予特別限定，惟例如以具有水解本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -24- 1300516 A7 B7 五、發明説明（22 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 性甲矽基之聚合性不飽和單體之聚合度爲t ，以乙烯基系單體之聚合度爲u時，則t / ( t + u)設爲 0·001〜1.000之範圍的値較宜。t/(t+u )之値若成爲此範圍外時，則所得的硬化物之耐光性或耐藥品性有降低的傾向。因此以將t / ( t + U )設成 0.01〜0·500之範圍內的値爲較宜。再者，使用以光可予開始分解的聚合引發劑取代熱游離基聚合引發劑亦較宜，可製出與採用熱游離基聚合引發劑而得的共聚物同等的共聚物。若舉出含有此等水解性甲矽基之乙烯基聚合物的製造方法較宜者時，則在熱游離基聚合引發劑之共存下於有機溶劑中可予實施的方法（溶液聚合法）。此時，以在1氣壓下的沸點由3 0 °C至2 5 0 °C之範圍作爲有機溶劑，宜爲使用由5 0 °C至2 0 0 t之範圍的有機溶劑。至於此種有機溶劑，可舉出：二丁基醚、四氫呋喃、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、1 ，3 -二曙經濟部智慧財產局員工消費合作社印製烷等醚類；丙酮、甲乙基酮、甲異丁基酮。環己酮等酮類 :醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸戊酯、r -丁丙酯等酯類；甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇、卡必醇等醇類；苯、甲苯、二甲苯等芳香族烴類；環己烷、正己烷、石油醚等烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N —甲基吡咯烷酮等醯胺類；四氯化碳、二氯甲烷等的鹵化烴類，又，此等之中較宜的有機溶劑，係醇類、酮類。又，此等有機溶劑係以確保水解性甲矽基之安定性的本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- A7 1300516 B7 五、發明説明（23 ) 意義宜爲含水分量較低。例如1重量％以下，較宜爲設成〇 . 1重量％以下的値。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，溶液中的聚合物固形分濃度限於可使反應均勻且順暢的進行，並未受特別限制，惟通常固形分濃度以1 〇〜8 0重量％，宜爲2 0〜6 0重量％之固形分濃度可予實施。 (第二製造方法）第二製造方法，係藉由使具有反應性有機基之乙烯基系聚合物及具有水解性甲矽基之化合物進行化學反應，製造含有水解性甲政基之乙Μ基系聚合物的方法。此時，至於具有水解性甲矽基之化合物，可使用事先水解或再予縮合者。如此，藉由化學反應導入水解性甲矽基之情形，可採用公知的方法，例如可採用 1 )對具有不飽和雙鍵鍵結之聚合物，在過渡金屬觸媒之存在下，使加成三烷氧基矽烷之氫甲矽化反應，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 )對含有環氧基之聚合物，使具有酼基或胺基之烷氧基矽烷類進行加成反應的方法， 3 )對具有羥基之聚合物，使具有異氰酸酯基之烷氧基矽烷反應，藉由胺酯鍵結甲矽基化的方法等。至於如此以第一及第二製造方法予以製造的含有水解性甲矽基之乙烯基系聚合物之配合方法，通常以直接混合入（A )成分之水解性矽烷化合物中的方法進行者。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26- 1300516 a7 B7 五、發明説明（24 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 然而，對含有水解性甲矽基之乙烯基系聚合物，混合 (A )成分後，在同一容器中可實施水解性砂院之水解及縮合亦較宜。如此經予製備的成分（A)及成分（〇)，係各自成爲介由矽氧烷鍵結而已共聚合的聚合物，並無相分離。因此，正型感放射線性組成物中的製作係成爲容易的，又所得的硬化膜之透明性可較提高。 ② 乙條基聚合物之添加量其次，說明第一實施形態使用的乙烯基系聚合物之添加量（含有比率）。相關的乙烯基系聚合物之添加量雖係未予特別限制者，惟對（A )成分1 〇〇重量份，設成1 〜8 0重量份之範圍內的値爲宜。乙嫌基系聚合物之添加量若成爲未滿1重量份時，則耐龜裂性係與（A )成分單獨時並無相當的差異。另一方面，乙烯基系聚合物之添加量若超過8 0重量份時，則正型感放射線性組成物之硬化物的耐熱性有降低的傾向。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製因此，由耐龜裂性及耐熱性間之配衡較良好的觀點，對（A)成分1 〇〇重量份將乙烯基系聚合物之添加量設成5〜6 0重量份之範圍內的値較宜，以設成1 〇〜4 〇重量份之範圍內的値爲更宜。 ③ 重量平均分子量乙烯基系聚合物之重量平均分子量並未予特別限制，惟例如以在1，0 〇〇〜1 〇〇 , 0 〇〇之範圍內的値爲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) -27- 1300516 A7 B7 五、發明説明（25 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 宜。乙燃基系聚合物之重量平均分子量若未滿1, 〇〇〇時’則柔軟性有降低的傾向，另一方面，若重量平均分子量超過1，0 0 0，0 0 0時，則有硬化膜之透明性成爲缺乏的傾向，及對顯影液之溶解度降低的傾向。因此’由柔軟性及透明性之配衡較良好的觀點，以乙烯基系聚合物之重量平均分子量設成3， 000〜 50， 000之範圍內的値爲較宜，以設成5， 000〜 30, 000之範圍內的値更宜。〔有機溶劑〕於本發明，通常將上述（A )〜（C )成分及視必要時（D)成分溶解於有機溶劑內使用爲宜。藉由使用有機溶劑，可提高正型感放射線性組成物之儲存安定性，同時可得適當的黏度，故可形成均勻的厚度之塗膜。 (1 )有機溶劑之種類經濟部智慧財產局員工消費合作社印製至於有機溶劑之種類，在不損及本發明之目的，功效的範圍下可予選擇，惟通常爲具有在大氣壓下的沸點5 0 〜2 0 0°C之範圍內的値之有機化合物，以各構成分均勻的溶解的有機化合物爲宜。因此，可舉出由醚系有機溶劑、酯系有機溶劑、酮系有機溶劑、芳香族烴系有機溶劑、醇系有機溶劑而成之群體選出的至少一種化合物，更宜爲可舉出醇類及酮類。此理由係藉由使用此等有機溶劑，可使正型感放射線本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28- 1300516 A7 B7 五、發明説明（26 ) 性組成物之儲存安定性提高所致。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 又，至於較宜的有機溶劑，可舉出丙二醇單甲醚、乳酸乙酯、甲異丁基酮、甲戊基酮、甲苯、二甲苯、及甲醇而成之群體選出的至少一種化合物。 (2 )有機溶劑之添加量又以正型感放射線性組成物之全體量設成1 0 0重量 %時，宜爲將有機溶劑之添加量設爲1 0〜9 9重量％之範圍內的値。相關的有機溶劑之添加量若未滿1 0重量％時，則正型感放射線性組成物之黏度調整成爲困難所致，另一方面，有機溶劑之添加量若超過9 9重量％時，則有形成具有足夠的厚度之硬化組成物一事成爲困難的情形所致。〔反應性稀釋劑〕經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明之正型感放射線性組成物，視必要時亦可含有反應性稀釋劑。藉由含有反應性稀釋劑，降低塗膜之硬化收縮，又可控制機械強度。又於採用游離基聚合性之反應性稀釋劑的情形，再藉由添加游離基發生劑，可調整光反應性，於採用陽離子聚合性之反應性稀釋劑的情形，對光反應性或機械特性亦可予調整。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -29 ~ 1300516 A7 B7 五、發明説明（27 ) (1) 反應性稀釋劑之種類 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 至於反應性稀釋劑之種類，以配合陽離子聚合性單體及乙烯性不飽和單體或任一者的單體爲宜。在此，反應性稀釋劑之陽離子聚合性單體係被定義成在光酸發生劑之存在下藉由光照射引起聚合反應或交聯反應之有機化合物。因此，例如可舉出環氧化合物、氮雜環丁烷化合物、氧雜戊烷化合物、環狀縮乙醛化合物、環狀內酯化合物、硫化乙嫌化合物、硫雜環丁院化合物、乙燒基醚化合物、環氧化合物及內酯之反應生成物之螺正酯化合物、乙烯性不飽和化合物、環狀醚化合物、環狀硫代醚化合物、乙烯基化合物等。此等的陽離子聚合性單體，可單獨使用一種，或亦可組合二種以上使用。又，至於乙烯性不飽和單體，若爲分子中具有乙烯性不飽和鍵結之化合物時，則並未予特別限制者，惟例如於一分子中具有一個乙烯性不飽和鍵結之單官能單體，或一分子中具有二個以上的乙烯性不飽和鍵結之多官能單體爲宜。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (2) 反應性稀釋劑之添加量又，反應性稀釋劑之含有量雖未予特別限制，惟對（ A)成分10 0重量份（換算成完全水解縮合物），通常 0 · 1〜100重量份，宜爲0 · 5〜80重量份，較宜爲1〜50重量份之範圍內。本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -30- 1300516 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（28 ) 〔無機粒子〕本發明之正型感放射線性組成物，視必要時藉由含有無機粒子，降低塗膜之硬化收縮，或可使經予形成的硬化組成物之機械特性或耐熱性提高。 (1)無機粒子之種類至於本發明可使用的無機粒子，可舉出二氧化矽、鹼金屬氧化物、鹼土類氧化物、及Ti 、Z r、A 1 、B、 S η、P等氧化物。又以將無機粒子之平均粒子徑設成〇 · 〇〇 1〜2 Ο // m値爲宜，惟尤其由透明的硬化膜經予形成的點，以平均粒子徑設成0 · 001〜0 · 之値爲宜，以設成 0.001〜0.01//m之値爲較宜。又，宜爲選擇無機粒子至使無機粒子之折射 2 5 °C、N a — D線，以下相同）與正型感放射物之折射率間之差，設成0 . 〇 2 ( -）以下般折射率差設成此値，可較提高硬化膜之透明性。又，以將無機粒子之比表面積設成0 . 1〜 0 0 〇m2/g之範圍內値爲宜，以設成1 〇< 5 0 0m2/g之範圍內的値爲更宜。再者，無機粒子之形狀雖亦未予特別限定，中空狀、多孔質狀、棒狀、板狀、纖維狀或之群體選出的至少一種形狀爲宜。惟由分散性較點，以使用球狀的二氧化矽粒子爲較宜。 31 狀本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）請先閲讀背之注意事項再填赢· 頁訂率（溫度線性組成。藉由將惟以由球不定形狀良好的觀 -31 - A7 B7 1300516 五、發明説明（29 ) 又至於無機粒子，亦可採用二氧化矽粒子之分散液爲宜。因此，尤其由可得較高的透明性，宜爲使用膠態二氧化矽。 (2)無機粒子之添加量無機粒子之含有量，雖然並未予特別限制者，然而例如對（A)成分1 〇〇重量份（換算完全水解縮合物）通常10〜250重量份，宜爲20〜200重量份，尤宜爲30〜150重量份。於本發明之正型感放射線性組成物內，在不損及本發明之目的或功效之範圍，除上述的構成成分以外，宜爲可添加（D )成分以外的高分子樹脂，例如環氧樹脂、丙烯酸酯系樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚胺酯樹月旨、聚丁二烯樹脂、聚氯平樹脂、聚醚樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、石油樹脂、二甲苯樹脂、酮樹脂、纖維素樹脂、氟碳系聚合物、矽氧系聚合物。又至於其他的添加劑，亦宜爲可添加聚合抑制劑；聚合引發助劑；均展劑·，濕濡性改良劑；界面活性劑；可塑劑；紫外線吸收劑；抗氧化劑·，抗靜電劑；矽烷偶合劑等〇〔圖型形成方法〕採用本發明之正型感放射線性組成物並形成圖型之方法’首先塗布本發明之正型感放射線性組成物於基板上，本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Γ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -32- 1300516 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（3〇 ) 藉由加熱使半硬化，於使圖型曝光後，進行加速中和反應之曝光後烘烤，以顯影液去除曝光部分者。以下舉出具體的例子並予說明。 ①基板之準備首先，準備具有平坦的表面之基板。至於此基板之種類，雖然予特別限制者，然而例如可採用矽基板或玻璃基板等。 0塗膜之形成將正型感放射線性組成物塗布於基板上，乾燥或加熱並形成塗膜。在此，至於正型感放射線性組成物之塗布方法，可採用旋塗法、浸塗法、噴塗法、棒塗法、輥塗法、簾幕塗布法、照相凹版印刷法、網版印刷法、或噴墨法等方法。其中尤其由可得均勻厚度之塗膜，以採用旋塗法爲較宜。又，爲作成可適當的對應正型感放射線性組成物之流變學特性於塗布方法者，視必要時可配合多種均展劑、賦與搖變劑、塡充劑、有機溶劑、界面活性劑等爲宜。又’由正型感放射線性組成物而成的塗膜，係塗布後宜爲在5 0〜2 0 0 °C進行預烘烤。在此塗膜係對顯影液溶解，且無指觸出現的半硬化之狀態較佳，由而以5 0〜 1 5 0 °C之範圍較宜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -33- 1300516 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製五、發明説明（31 ) ③放射線照射對塗膜之上面，依指定的圖型，例如介由具有指定的線圖型之光學光罩進行放射線之照射。至於依指定的圖型進行放射線之照射的方法，不限於採用由放射線之透過部及非透過部而成的光學光罩之方法，例如可舉出下示的a〜c之方法。 a ·依已利用與液晶顯示裝置相同的原理之指定圖型，利用電氣光學的形成由放射線穿透領域及放射線不穿透領域而成的光罩像之手段的方法。 b .採用由捆紮多數的光纖成束而成之導光組件，對應於此導光組件之指定的圖型之光纖並照射放射線的方法〇 C ·使由雷射光或透鏡、鏡等集光性光學系而得的集束性放射線掃瞄並照射至放射線硬化性組成物之方法。又，對放射線之照射量，雖亦無特別限制者，惟以照射波長2 0 0〜3 9 0 nm，照度1〜5 0 OmW/cm2 之放射線至使照射量成1 0〜5 , 0 0 0 m J / c m 2並予曝光爲宜。在此，至於經予照射的放射線之種類，雖可採用可見光、紫外線、紅外線、X射線等，惟以紫外線爲尤宜。因此，宜爲採用例如高壓水銀燈、低壓水銀燈、鹵化金屬燈、激發子燈等作爲放射線（紫外線）之照射裝置。藉由照射放射線於僅正型感放射線性組成物之經予p祭射的位置，由（B )成分發生酸，與塗膜中的（C )成分 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) —«C· 、?! #f 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -34- 1300516 ^ A7 B7 ^ ^ ! ! 丨OU. 五、發明説明（32) 引起中和反應。 ④ 加熱反應其次，曝光後爲使促進曝光部分之中和反應，宜爲進行加熱處理。其加熱條件係依正型感放射線性組成物之配合組成添加劑之種類等而變化，惟通常在3 0〜2 0 0 t ，宜爲50〜150 °C。 ⑤ 顯影對如此依指定的圖案進行圖型曝光，並使選擇性的硬化之薄膜，利用硬化部分及未硬化部分之溶解性的差異，可進行顯影處理。因此，圖型曝光後，去除未硬化部分，同時藉由使硬化部分殘存，結果可形成正型圖型。在此，至於顯影液，可使用有機溶劑、或氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨、乙基胺、正丙基胺、二乙基胺、二正丙基胺、三乙基胺、甲基二乙基胺、N —甲基吡咯烷酮、二甲基乙醇胺、三乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、六氫吡啶、 1 ，8 —二氮雜環〔5 · 4 · 0〕— 7 —十一烷、1 ，5 一二氮雜〔4 · 3 · 0〕一 5 —壬烷等鹼類而成的鹼水溶液等。又，使用鹼性水溶液時，其濃度通常爲設爲0 . 0 5 〜25重量％，宜爲0·1〜3·0重量％之範圍內的値本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂暴· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -35- 1300516 a7 A7 B7 五、發明説明（33 ) 且，於此種鹼性水溶液內，適量添加乙醇等的水溶性有機溶劑或界面活性劑等，使用作顯影液亦爲宜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 又，顯影時間係通常3 0〜6 0 0秒，又顯影方法可採用浸液法、沾浸法、淋灑顯影法等公知的方法。於採用有機溶劑爲顯影液時，藉由保持原狀予以風乾。又於採用鹼性水溶液時，進行流水淸洗例如3 0〜9 0 秒，藉由使以壓縮空氣或壓縮氮氣等風乾，去除表面上之水分，可使圖型狀被膜形成。 ⑤顯影後之加熱處理其次，爲更使圖型部硬化，藉由熱板或烘箱等的加熱裝置，例如在3 0〜4 0 0°C之溫度加熱處理5〜6 0分鐘，成爲經予硬化的塗膜可予形成。如此使已構成正型感放射線性組成物之淸漆藉由鹼化合物促進縮合，藉由放射線照射，以圖型曝光的事生成的酸，僅中和放射線照射部，可得具有優越的圖型精度之正型硬化物。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本發明之正型感放射線性組成物，係可有效的使用於光波導路、絕緣膜、保護膜等。〔光波導路之形成方法〕使用本發明之正型感放射線性組成物（光波導路形成用組成物）並形成的光波導路之形成方法，係主要由下部包覆層形成步驟、芯部分形成步驟與上部包覆層形成步驟本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -36- A7 B7 13005 比五、發明説明（34) 所構成的。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 且在以下的說明，於下部包覆層、芯部分及上部包覆層內各自使用光波導路形成用組成物，惟例如僅芯部分亦可採用光波導路形成用組成物。於該情形，對其下部包覆層或上部包覆層，以使用公知的光波導路材料，例如石英玻璃等爲宜。又，爲將光波導路形成用組成物之流變學特性作成適於實際的塗布手段者，因應必要時宜爲配合各種均展劑、賦與搖變劑、塡充劑、有機溶劑、界面活性劑等。芯部分、下部包覆層及上部包覆層係以與上述的圖型形成方法相同的步驟可予形成。〔光波導路之構造〕基於圖面，說明本發明之光波導路的構成例。第1圖係本發明之光波導路之一例的截面圖，第2圖係本發明之光波導路之其他例的斜視圖。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製首先，第1圖所示的光波導路1 0，對紙面由朝垂直方向（光之波導方向）成長的基板1 2及於此基板1 2上依序層合的下部包覆層1 3、芯部分1 5與上部包覆層1 7所形成的。因此，對芯部分1 5，在不使波導的光由側部洩漏下，對光之波導方向，使截面橫方向之芯部分1 5之寬度亦較對應的上部包覆層17及下部包覆層13之寬度減短，於芯部分1 5之側部上’有上部包覆層1 7成圍繞的構成本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格{ 210 X 297公釐） -37- 1300516 A7 A7 B7 五、發明説明（35 ) 。亦即芯部分1 5係構成其全體經予埋設於下部包覆層 13及上部包覆層17之積重體中的狀態而構成。又，由使較有效的光波導，由第2圖所示，亦於芯部分15之上方以突脊部分1 8爲整體予以設置爲宜。且’ 對突脊部分1 8之形態雖亦未有特別限制者’惟例如以將截面形狀設成台形爲宜。於以上的構成之光波導路1 0、下部包覆層1 3、上部包覆層1 7及芯部分1 5之厚度雖然各自未予特別限制者，惟例如以下部包覆層1 3之厚度設爲3〜5 0//m之範圍內的値，以芯部分1 5之厚度設爲3〜2 0 //m之範圍內的値，以上部包覆層1 7之厚度設爲〜5 //m之範圍內的値爲宜。又，對光之波導方向的截面橫方向之芯部分1 5的寬度，雖亦無特別限制者，惟以設爲1〜5 0 // m之範圍內的値爲宜。又對光波導路1 0，雖有將芯部分1 5之折射率之値較下部包覆層1 3及上部包覆層1 7之折射率加大的必要，惟爲獲得較優越的波導特性，對波長1 3 0 0〜 1 6 0 0 nm之光，以將芯部分1 5之折射率設成 1 · 450〜1 . 650之範圍內的値，同時將下部包覆層1 3及上部包覆層1 7之折射率設成1 . 400〜 1 · 6 4 8之範圍內的値爲宜。因此，對芯部分1 5之折射率，考慮上下的包覆層 1 3、1 7之折射率之値予以決定爲宜，以設成較上下的本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 < 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -38- 1300516 A7 ______B7 五、發明説明（36 ) 包覆層13、17之折射率之値大〇 · 002〜0 . 5之値爲較宜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 且’本發明之光波導路係藉由適當的變更於光波導路形成用組成物之水解性矽烷化合物之種類，或添加水解性鈦化合物，摻雜稀土類元素有可容易變更的特徵。〔實施例〕以下說明本發明之實施例，惟本發明並非受此等實施例之記載所限定者。又，實施例中，各成分之配合量限於無特別記載時，則意指重量份。〔感放射線性組成物之裝備〕 (1 )聚矽氧烷溶液1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製於附有攪拌機之容器內，收容甲基三甲氧基矽烷（ 304 . 42g、2 · 23莫耳）及苯基三甲氧基矽烷（ 230 · 33g、1 · 16莫耳）、丙二醇單甲基醚（ 150忌）、及入1觸媒（〇.28、0.005重量％ )後，浸於6 0 °C之油浴中，攪拌1 5分鐘，俟容器內溫到達6 0 °C後，以定量的導電係數8 X 1 0 - 5 S · c m 一1 之離子交換水（244.15g、13·56莫耳）予以添加。保持原狀攪拌5小時，進行甲基三甲氧基矽烷及苯基三甲氧基矽烷之水解。其次添加乙醯基丙酮（3 0 g、 0.30莫耳），其後，利用蒸發器去除由水解生成的甲本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -39 - 1300516 A7 B7 五、發明説明（37 ) 醇。最後可得含有已將固形分製備成6 5重量％之聚矽氧烷之丙二醇單甲醚溶液。以此爲「聚矽氧烷溶液」。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (2 )聚砂氧院溶液2 於附有攪拌機之容器內，收容甲基丙烯酸甲酯（ 375g、3 · 74莫耳）、丙烯酸（2 -羥丙酯（75 g、0 · 64莫耳）、甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（ 50g、0 · 20莫耳）、丙二醇單甲基醚（I250g )、及2，2>-偶氮雙—（2，4一二甲基戊腈）（ 3 5g、0 · 14莫耳）後，以氮氣取代系內。其後設定反應容器內溫度成7 0 °C，並攪拌6小時。最後而得固形分調整成2 8重量％且含有丙烯酸酯聚合物之丙二醇單甲醚溶液溶液。以此爲「丙烯酸酯系溶液」。於附有攪拌機之容器內，收容丙烯酸酯系溶液1( 133 . 93g)、甲基三甲氧基矽烷（85 · 62g、 0 · 62莫耳）、二甲基二甲氧基矽烷（45 . 60g、 0 · 38莫耳）、苯基三甲氧基矽烷（64 · 78g、經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0·33莫耳）、丙二醇單甲基醚（11·27g)及 A1觸媒（0 · ig、〇 · 005重量％)後，浸於60 °C之油浴，攪拌1 5分鐘，俟容器內溫到達6 0 °C後，以定量的導電係數8x 1 〇-5S · cm — 1之離子交換水（ 8 1 · 6 7 g、4 · 5 2莫耳）予以添加。保持原狀攪拌 5小時。進行甲基三甲氧基矽烷及苯基三甲氧矽烷之水解。其次添加乙醯基丙酮（15g、0.15莫耳），其後本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -40- 1300516 A7 B7 五、發明説明（38 ) ’利用蒸發器去除由水解生成的甲醇，最後利用蒸發器，去除由水解而生成的甲醇最後可得含有已含有已將固形分製備成6 5重量％之聚矽氧烷之丙二醇單甲醚以下稱作「聚砂氧焼溶液2」。 (3 )聚矽氧烷溶液3 於附有攪拌機之容器內，收容苯基三甲氧基矽烷（ 414 . 59g、2 · 09莫耳）及四乙氧基矽烷（ 103.99忌、0.50莫耳）、丙二醇單甲基醚（ 225g)及 A1 觸媒（0 · 2g、0 . 005 重量％) 後，浸於6 0 t之油浴內，攪拌1 5分鐘，俟容器內溫到達6 0°C後，以定量的導電係數8χ 1 0_5S · cm — 1之離子交換水（186 · 36g、10 · 36莫耳）予以添加。保持原狀攪拌5小時。進行甲基三甲氧基矽烷及苯基三甲氧基矽烷之水解。其次添加乙醯基丙酮（3 0 g、〇 · 3 0莫耳），其後利用蒸發器去除由水解生成的甲醇，最後利用蒸發器，去除由水解而生成的甲醇。最後可得含有已將固形分製備成6 5重量％之聚矽氧烷之丙二醇單甲醚溶液，以此爲「聚矽氧烷溶液3」。 (4 )聚砂氧焼溶液4 於附有攪拌機之容器內，收容苯乙烯單體（5 2 5 g 、5 · 04莫耳）及丙烯酸2 —羥乙酯（150g、 1 · 30莫耳）、甲基丙烯氧基丙基三甲氧基矽烷（75 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) »· #f 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -41 - 1300516 A7 B7 五、發明説明（39 ) g、0 . 30莫耳）、丙二醇單甲醚（750g) 、2 2 偶氮雙一（2 -甲基丙腈）（22 · g 請先閲讀背面意事項再填馬本頁 0.13莫耳）後’以氮氣取代系內。其後，將反應容器內溫度設疋成8 0 C ’攪拌6小時。最後製備固形分成 4 8重量％，而得含有丙烯酸酯系聚合物之丙二醇單甲醚溶液。以此爲「丙烯酸酯系聚合物溶液2」。於附有攪拌機之容器內，收容丙烯酸酯系聚合物溶液 2 (375g)、甲基三甲氧基矽烷（80.98g、經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 0 · 59吴耳）、本基二甲氧基石夕院（123 . 00g、 0·62莫耳）、丙二醇單甲醚（105.00g)、及 A1觸媒（0 · 07g、0 · 〇〇5重量％)後，浸於 6 0 °C之油浴內，攪拌1 5分鐘。俟容器內溫到達6 0 °C 後，以定量的導電係數8x 1 0— 5S · cm-1之離子交換水（81 . 67g、4 · 52莫耳）予以添加。保持原狀攪拌5小時。進行甲基三甲氧基矽烷及苯基三甲氧矽烷之水解。其次添加乙醯基丙酮（1 5 g、0 . 1 5莫耳），其後利用蒸發器去除由水解生成的甲醇，最後利用蒸發器，去除由水解而生成的甲醇。最後可得含有已將固形分製備成6 5重量％之聚矽氧烷之丙二醇單甲醚溶液，以此爲「聚砂氧院溶液4」。〔光波導路形成用組成物之製備〕 (1 )光波導路形成用正型感放射線性組成物A (芯材）本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -42 - 1300516 A7 A7 B7 五、發明説明（40 ) 之製備以固形分換算，對1 0 0重量份上述的聚矽氧烷溶液 i各自添加光酸發生劑（（4，7 -二丁氧基一 1 一伸萘基）二甲基碩、三氟甲烷磺酸酯）0 · 1重量份、鹼性化合物（由氫氧化四甲基銨及醋酸而成的化合物） 0 · 0 2 5重量％、矽氧系界面活性劑之S Η 2 8 P A ( 東麗Don Corning Silicone (股）製造）0 · 05重量份，藉由均勻混合，可得正型感放射線性組成物A。 (2 )光波導路形成用正型感放射線性組成物B (包覆材 )之裝備對上述的聚矽氧烷溶液2 (固形分）1 0 0重量份，經濟部智慧財產局員工消費合作社印製分別添加光酸發生劑（（4，7 -二丁氧基- 1 一伸萘基 )二甲基硕、三氟甲烷磺酸鹽）0 · 1重量份、鹼性化合物（由氫氧化四甲基銨及醋酸而成的化合物）0 . 0 2 5 重量份、矽氧系界面活性劑之S Η 2 8 P A (東麗Dow Corning Silicone (股）製造）0 . 05重量份，藉由均勻混合，可得正型感放射線性組成物B。 (3 )光波導路形成用正型感放射線性組成物C (芯材）之裝備以固形分換算，對1 0 0重量份上述的聚矽氧烷溶液 3各自添加光酸發生劑（（4，7 -二丁氧基一 1 一伸萘基）二甲基硕、三氟甲烷磺酸鹽）〇 . 1重量份、鹼性化本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -43- 1300516 A7 B7 五、發明説明（41 ) 合物（由氫氧化四甲基銨及醋酸而成的化合物） 0 · 025重量份、矽氧系界面活性劑之SH28PA ( 東麗 Dow Corning Silicone (股）製造）0 · 0 5 重量份，藉由均勻混合，可得正型感放射線性組成物C。 (4 )光波導路形成用正型感放射線性組成物A (包覆材 )之裝備對上述的聚矽氧烷溶液4 (固形分）1 0 0重量份，分別添加光酸發生劑（（.4，7 -二丁氧基一 1 一伸萘基 )二甲基碼、三氟甲烷磺酸鹽）〇 · 1重量份、鹼性化合物（由氫氧化四甲基銨及醋酸而成的化合物）〇 · 〇 2 5 重量份、矽氧系界面活性劑之S Η 2 8 P A (東麗Dow Corning Silicone (股）製造）0 · 05重量份，藉由均勻混合，可得正型感放射線性組成物D。〔實施例1〕以旋塗器塗布光波導路形成用組成物B於矽基板之表面上，使在8 0 °C乾燥1 0分鐘後，在2 0 0 °C以1小時之條件進行加熱，形成厚度1 0 // m之下部包覆層。於此下部包覆層之波長1 5 5 0 nm之光的折射率爲 1.4 6 2 8° 其次以旋塗器塗布光波導路形成用組成物A於下部包覆層之上，使在8 0 °C乾燥3分鐘後，採用已刻有寬度4 〜2 0 //m之光波導路圖型之光罩，藉由照射波長3 6 5 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇'乂297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -44 1300516 A7 B7 五、發明説明（42 ) nm、照度2 0 OmW/cm2之紫外線5秒鐘，進行曝光。其次對已照射放射線之塗膜進行1 0 0 °C 2分鐘加熱。其後，將此基板浸入於由1·8重量％氫氧化四甲基銨水溶液（TMAH)而成的顯影液內並使曝光部溶解。其後，在2 0 0 °C 1小時之條件進行加熱，形成厚度7 //m之芯部分。於所得的芯部分之波長1 5 5 0 nm之光的折射率爲1.4685。再者，以旋塗器塗布光波導路形成用組成物B於具有此芯部分之下部包覆層之上面，使在8 0 °C乾燥1 0分鐘後，以在2 0 0 t 1小時之條件進行加熱，形成厚度 1 5 //m之上部包覆層，由而形成光波導路。於所形成的上部包覆之波長1 5 5 0 nm之光的折射率爲 1.4 6 2 8° 對如此而得的光波導路，於使波長1 3 Ο Ο n m及 1 5 5 0 nm之光由波導路之一端入射時，藉由光量計之功率表測定由他端射出的光量。結果，於光波導路之波導路損失，各自爲0 · 3、0 · 7dB/cm以下的値。〔實施例2〕以旋塗器塗布光波導路形成用組成物D於矽基板之表面上，使在8 0 °C乾燥1 0分鐘後，在2 0 〇 °C以1小時之條件進行加熱，形成厚度1 0 // m之下部包覆層。於此下部包覆層之波長1 5 5 0 nm之光的折射率爲 1.5 2 3 6 ° 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐Y "' -45- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 130050 五、發明説明（，。） 43 (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) 其次以旋塗器塗布光波導路形成用組成物C於下部包覆層之上，使在80 °C乾燥1分鐘後，採用已刻有寬度4〜20 // m之波導路圖型之光罩，藉由照射波長365nm、照度 220mW/cm2之紫外線5秒鐘，進行曝光。其次對已照射放射線之塗膜進行l〇〇°C 2分鐘加熱。其後將此基板浸入於由1.8 重量％氫氧化四甲基銨水溶液（TMAH)而成的顯影液內並使曝光部溶解。其後，在200°C 1小時之條件進行加熱，形成厚度7/z m之芯部分。於所得的芯部分之波長1 550nm之光的折射率爲1.5285。再者，以旋塗器塗布光波導路形成用組成物D於具有此芯部分之下部包覆層之上面，使在80°C乾燥10分鐘後，以在200°C 1小時之條件進行加熱，形成厚度15 /z m之上部包覆層。由而形成光波導路’於所形成的上部包覆層之波長1 550nm之光的折射率爲1.4628。經濟部智慧財產局員工消費合作社印製對如此而得的光波導路，於使波長1 3〇〇nm及1 550nm之光由波導路之一端入射時，藉由光量計之功率表測定由他端射出的光量。結果於光波導路損失’各自爲〇·3、 0.4dB/cm以下的値。 [圖式之簡單說明] 圖1 :本發明之光波導路之一例的截面圖。圖2 :本發明之光波導路之其他例的截面圖。 [主要元件符號之簡單說明] 1 〇 :光波導路1 2 ··基板 1 3 :下部包覆層 1 5 :芯部份 1 7 :上部包覆層 1 8 :突脊部份本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨OX297公董） -46 -

Claims

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ΓΡ A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍第9 1 1 1 5 855號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國96年12月19日修正 1 · 一種光波導路用正型感放射線性組成物，其特徵在於含有下述（A)〜（C)成分： (A )由下述一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物水解物及其縮合物而成之群體中選出的至少一種化合物： (R1)pSi(X)4-p (1) 〔式內，R 1係碳數1〜1 2之非水解性的有機基，X係水解性基，及p係〇〜3之整數〕； (B )光酸發生劑： (C )鹼性化合物。 2 ·如申請專利範圍第1項之光波導路用正型感放射線性組成物，其中前述式（1 )中之R1爲由院基、芳基與芳院基而成之群體所選出的一種以上者。 3 ·如申請專利範圍第1項之光波導路用正型感放射線性組成物，係再含有（D )成分之丙烯酸聚合物。 4 ·如申請專利範圍第1項之光波導路用正型感放射線性組成物，係再含有有機溶劑。 5 .如申請專利範圍第1項之光波導路用正型感放射線性組成物，其中前述鹼性化合物係爲可與前述光酸發生劑反應的化合物。 6 · —種光波導路之形成方法，其特徵在於將含有（本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲·#背面之注意事項再填寫本頁) I-^-IL—^I-—1T------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1300516 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 A )由以下述一般式（1 )表示的水解性矽烷化合物，其水解物及其縮合物而成之群體中選出的至少一種化合物·· (R1)PSi(X)4-p (1) 〔式內，R 1係碳數1〜1 2之非水解性的有機基，X係水解性基，及P係0〜3之整數〕； (B )光酸發生劑及（C )鹼性化合物之光波導路用正型感放射線性組成物塗布於基板上並形成塗膜，將放射線照射至所期待位置上之後，去除塗膜之放射線照射部之方法。 7 · —種光波導路，其特徵在於以申請專利範圍第6 項之方法所形成者。 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -2-