TWI275863B - Flexible substrate being able to prevent plastic deformation and flexible image display - Google Patents

Description

1275863 九、發明說明： 【發明戶斤屬之技術領域3 發明領域 本發明係有關可撓性基材及可撓性影像顯示裝置，特 5別是有關於可抑制塑性變形之可撓性基材及可撓性影像顯 示裝置。 I：先前技術3 發明背景

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為實現11化社會(Ubiquitous Society)，人們十分期待穿 戴式(Wearable)顯不裝置的開發。穿戴式顯示裝置且有如下 之構造，即，具可撓性之基板(可撓式基板)上形成有頻示元 件，且可加以彎曲。此種顯示元件可例舉如液晶_示元件 有機電致發光(有機EL)元件、似紙顯示器（電子纟氏）等 具可撓性之基板係使用譬如聚酸亞胺等高分子材料 此種基板在曲率半徑數mm程度内並不會產生塑性織妒（火 久變形），即可在彈性變形的範圍内彎曲。然而若織 今Φ至超 出彈性變形的範圍就會引起永久變形，且變形部八 刀變:成白 色混濁狀。 再者’許多可撓性顯示裝置都是使用無機絕緣膜及姜因 20 錫氧化物(IT0)電極等。進而，進行主動顯示之装 又夏甲’具 可撓性之基板上形成有薄膜電晶體。因此，可撓性顯示狀 置若彎曲至超出某曲率半徑時，前述絕緣膜及電極合為到 破壞。 下述專利文獻1中揭示有一種對彎曲應力具高财性的 5 1275863 玎撓式薄膜電路基板。專利文獻丨所揭示之薄膜電路基板上 設有圖案成形為島狀之無機絕緣膜，俾覆蓋薄膜電晶體等 電子元件。進而再以樹脂膜覆蓋該無機絕緣膜及配線。 剛性較有機絕緣膜更高之無機絕緣膜係利用覆蓋住電 5子零件的方式來保護電子零件。在對薄膜電路基板施加彎 曲應力時，由於無機絕緣膜係成形為島狀圖案，因此基板 及樹脂膜可隨著彎曲應力而捲曲。 土 專利文獻1所揭示之發明雖可保護電子零件不受彎曲 應力影響，但逛是有未形成電子零件之區域會彎曲至超出 10彈性變形範圍的問題。該彎曲部分會在可挽性基板上形成 永久艾形並產生白渾濁。故，為免產生永久變形，可撓性 基材的操作員需非常注意彎曲問題。 本發明之目的，就是提供一種可撓性基材及使用該可 挽性基材之可撓性影像顯示裝置，該可撓性基材係可防止 15產生永久變形般的過度變形，且具高耐應力性。 專利文獻1 曰本專利公開公報特開2004-101976號 【明内^^ 3 發明概要 本^明之您樣’係提供_種可撓性基板，該可挽性 土板係包a有·板狀構件，係具有可撓性者；及變形抑制 冓i係开/成於月ij述板狀構件的表面或該表面的一部分 ^;前述變形抑制構造係包含形成於該板狀構件的表面或 絲面的-部分上之凹凸件且該凹凸件之形狀係，該板 6 1275863 狀構件於彈性變形之銘 群可互相接觸，偟圍内變形的狀態下，相鄰接之凸部 卑防止較該程度更大之變形。

本^月之另H，係提供—種可撓性顯像顯示裝 ，該裝置係包含有：影像顯錢，係具有可撓性之可撓 =的表面上區劃有多數像素者；及可撓性基材，係安裝 、;月』述衫像顯7F板，且可與該影像顯示板共同變形者，·前 =可撓|±基材係包含有：板狀構件，係具有可撓性者；及 3抑制構造，係形成於前述板狀構件的表面或該表面之 部分上者，域變形抑制構造包含有形成於前述板狀構 件的表面或該表面的-部分上之凹凸件，該凹凸件之形狀 係，當前述板狀構件變形時，相鄰接之凸部群可互相接觸， 俾防止較該程度更大之變形。 利用讓相鄰接之凸部群互相接觸方式來抑制更大程度 的變形，可防止因板狀構件及影像顯示裝置變形而 15破壞。 之 圖式簡單說明 第1A〜1C圖·第1A圖係第1實施例之可撓性基材的平 面圖；第1B圖係第1實施例之可撓性基材的截面圖；第^ 圖係一截面圖，例示用以形成第1實施例之可撓性基材之 20部之膜。 第2圖係第1實施例之可撓性基材在變形狀態下的戴面 圖。 第3A〜3B圖：第3A圖係第2實施例之可撓性基材的平 面圖；第3B圖係第2實施例之可撓性基材的截面圖。 7 1275863 第4A〜4B圖：第4A圖係第3實施例之可撓性基材的平 面圖；第4B圖係第3實施例之可撓性基材的截面圖。 第5A〜5B圖：第5A圖係第4實施例之可撓性基材的平 面圖；第5B圖係第4實施例之可撓性基材的截面圖。 5 第6A〜6B圖：第6A圖係第5實施例之可撓性基材的平 面圖；第6B圖係第5實施例之可撓性基材的截面圖。 第7圖係第6實施例之可撓性基材的截面圖。 第8圖係第7實施例之可撓性基材的截面圖。 # 第9圖係第8實施例之可撓性基材的截面圖。 10 第10A〜10F圖：第10A圖係第9實施例之可撓性影像顯 示裝置中2個像素部分的截面圖；第10B圖係第9實施例之可 撓性影像顯示裝置中多數像素部分的截面圖；第10C圖係第 9實施例之變形例的可撓性影像顯示裝置中多數像素部分 的截面圖；第10D圖係第9實施例之另一變形例的可撓性影 15像顯示裝置中多數像素部分的截面圖；第10E、10F圖係第9 實施例之變形例的可撓性影像顯示裝置的分解斜視圖。 • 第11A〜1圖：第11A圖係第1〇實施例之可撓性影像 顯示裝置中3個像素部分的截面圖；第11B圖係第1〇實施例 之可撓性影像顯示裝置中多數像素部分的截面圖。 20 第12A〜12B圖：第12A圖係第η實施例之可撓性影像 '顯示裝置兩端附近的截面圖；第12B圖係第11實施例之可撓 性影像顯4置中多數像素部分的截面圖。 【實施冷式】 較佳實施例之詳細說明 8 1275863 第1A圖係例示第1實施例之可撓性基材的平面圖，第 1Β圖係例示第ία圖中點虛線1B-lB的截面圖。具可挽性之 板狀構件1其中一側的表面上，形成有由多數凸部2組成的 變形抑制構造。各凸部2在單向上具有長帶狀的形狀，且配 5置成多數凸部2的長向方向相互平行(在第1Α圖中係與縱向 平行）。各凸部2中’與長向方向垂直的截面（寬度方向的截 面）係呈梯形形狀。相互鄰接之二個凸部2其底面的長向方 向的邊緣係相互接觸。 板狀構件1係譬如以聚驢亞胺形成，凸部2係以剛性較 10板狀構件1高之材料，例如聚碳酸酯形成。板狀構件丨的平 面形狀係譬如5cmx4cm的長方形，其厚度則譬如為2〇〇# m。舉例而言，凸部2中各底面的寬度為lmm，其厚度為15〇 //m。凸部2的長度係譬如由板狀構件1其中一側邊的附近至 與該側邊正對向之另一側邊附近的程度。凸部2係以紫外線 15 硬化型接著劑接著在板狀構件1上。 參照第1C圖說明凸部2之製作方法其中一例。準備厚度 150//m的聚碳酸酯片材5。第1C圖係例示聚碳酸酿片材的 截面圖。以金屬刃在截斷面6切斷該聚碳酸酯片材5而獲致 多數矩形狀的凸部2。切斷時將金屬刃傾斜，俾讓聚碳酸酯 20片材5的表面與切斷面6所成的角度為譬如80。。藉由交互反 轉朝切斷面6傾斜的方向，可製得截面呈梯形形狀的凸部2。 在板狀構件1其中一側的表面上塗佈紫外線硬化型接 著劑，並將凸部2配列在接著劑層上。對接著劑層照射紫外 線，俾讓接著劑硬化。藉此將凸部2接著在板狀構件〗上。 1275863 接著參照第2圖說明^圖所示之可撓性基材對彎曲應 力的财性。 第2圖係例示在讓p圖所示之可撓性基材以設有凸部 2之面朝内侧彎曲之狀態下喊面圖。f曲程度（變形量燦 5大時’相互鄰接之凸部2A與⑶的側面以及凸部2B與^的^ 面相互接觸。 在相互鄰接的凸部2的側面相接觸前，由於剛性較低的 議件i會優先變形，故可以較小的力量而使凸部2彎 曲。由於凸部2係以剛性較板狀構件丨高的材料所形成，故 10若相互鄰接之凸部2的側面相接觸，可抑制較該程度更大的 變形。第1實施例中’板狀構件1内側表面的曲率半徑在 以内易產生變形’本發明可抑制較該程度更大的變形。 讓板狀構件1在彈性變形的範圍内變形時，即產生永久 變形前，以相鄰接的凸部2的側面可互相接觸之方式來決定 15凸部2的截面形狀。故，板狀構件1可藉凸部2而抑制永久變 形。又，一旦凸部2群相接觸，為使板狀構件丨彎曲所需2 力量必然急遽增加，故可撓性基材的操作員可輕易地感覺 並檢測出可彈性變形的界線。 前述第1實施例中，雖例示以聚醯亞胺形成板狀構件 20 1，以聚碳酸酯形成凸部2，但板狀構件1及凸部2之材料並 不限於此。板狀構件1亦可為其他可確保板狀構件i之可撓 性的材料。本說明書中所謂的「可撓性」係指可以人的手 加以彎曲，且可弄彎之意。凸部2的材料宜為剛性較板狀構 件1更高者。不需透光性時，凸部2的材料亦可為金屬。 1275863 又，凸部2的材料亦可為具有約略同於板狀構件1之剛 性者。此時，若相鄰接的凸部2群互相接觸，可獲得等同於 板狀構件1變厚時的耐彎曲性。再者，在相鄰接的凸部2群 互相接觸前，較易於讓薄的板狀構件1變形。 5 第3A圖係例示第2實施例之可撓性基材的平面圖，第 3B圖係例示第3A圖中點虛線3B —3B的截面圖。第1A及1B 圖所示的第1實施例中，各凸部2的平面形狀係在單向上具 有長帶狀的形狀，但第2實施例中，凸部2的平面形狀係正 方形。雖平面形狀為正方形的多數凸部2係配置成矩陣狀， 10 但亦可配置成行列狀。各凸部2的立體形狀係四角錐台。其 底面係譬如其中一邊的長度為1mm的正方形，舉例言之， 斜面與底面所成的角度為80°，其高度為150/zm。與底面垂 直的截面形狀為台狀，與第1實施例的凸部2的截面形狀相 同。 15 第1實施例中，凸部2在單向上具有長狀的平面形狀， 因此，在凸部2的寬度方向（與長向方向垂直的截面彎曲的 方向）上，雖易於彎曲可撓性基材，但在長向方向（與長向方 向平行的截面彎曲的方向）上，就不易彎曲可撓性基材。第 2實施例中，由於各凸部2的平面形狀為正方形，故凸部2所 20 配列的行方向及列方向中任一方向都易於彎曲。 第4A圖係例示第3實施例之可撓性基材的平面圖，第 4B圖係例示第4A圖中點虛線4B —4B的截面圖。第3實施例 中，凸部2的平面形狀為正六角形。平面形狀為正六角形的 多數凸部2係配置成蜂巢狀，且板狀構件1的表面完全被凸 11 1275863 部2蓋住。其中一例，凸部2的底面其中一邊長度為0.5mm， 底面與斜面所成角度為80°，且高度為150//m。與底面垂直 的截面形狀為台狀，與第1實施例的凸部2的截面形狀相同。 第3實施例中，由於凸部2的平面形狀係構造成正六角 5 形，故可獲致與各邊平行的三方向都易於彎曲的可撓性基 材。 第5A圖係例示第4實施例之可撓性基材的平面圖，第 5B圖係例示第5A圖中點虛線5B —5B的截面圖。第4實施例 中，凸部2的平面形狀係圓形。平面形狀為圓形的多數凸部 10 2係配置在三角格子的格子點位置上。各凸部2具下述的立 體形狀，即頂部上帶有圓形狀，且斜面是以光滑的曲面形 成。譬如，具有球形或以平面切斷旋轉橢圓體的立體形狀。 如第1〜3實施例所示，凸部2的斜面為平面之態樣中， 彎曲可撓性基材時，相鄰接的凸部2的斜面群約整個面都相 15 接觸。第4實施例中，由於凸部2的斜面為曲面，故彎曲可 撓性基材時，相鄰接的凸部2的斜面群部分地接觸。如此， 縱或部分地接觸時，亦可抑制過度彎曲。 第4實施例中，相較於第1〜3實施例，並不易將易於彎 曲的方向限定在特定方向。亦可隨機分布凸部2。此時，易 20 於彎曲的方向並未限定在特定方向，可獲致無方向性的可 撓性基材。 第6A圖係例示第5實施例之可撓性基材的平面圖，第 6B圖係例示第6A圖中點虛線6B —6B的截面圖。第5實施例 中，凸部2的平面形狀為正方形，立體形狀為四角錐。該等 12 1275863 凸部2係配置為矩陣狀。其中一例，凸部2的底面係其中一 邊長度為1mm的正方形，且底面與斜面所成的角度為8〇。。 第5貫施例中，相較於第3八及3]3圖所示的第2實施例， 彎曲板狀基板1時，相鄰接的凸部2互相接觸的斜面面積較 5 大。因此可提高對彎曲應力的耐性。 前述第2〜5實施例之可撓性基材的凸部2，可使用譬如 喷射成形而形成。亦可利用相較於板狀構件i為十分薄的薄 膜而讓凸部2相連接，俾使多數凸部2不相分離。若為凸部2 不相分離的構造，可易於接著多數凸部2。 10 又以相同材料形成板狀構件1及凸部2時，兩者可一 體成形。再者，凸部2的立體形狀亦可為一般更常習用的角 錐、角錐台、圓錐、圓錐台等。 第7圖係例不第6實施例之可撓性基材的截面圖。平面 形狀可為第1〜4任-實施例之可撓性基材的平面形狀。前 15述第1〜3實施例中’相互鄰接的凸部2係配置成其底面邊緣 相互接觸。第6實施例中，相互鄰接的凸部2群係中間隔有 一間而加以配置。板狀構件1在其彈性變形範圍内變形 才/要可讓相互鄰接的凸部2群相接觸並抑制較該程度更 大的Μ ’相互鄰接的凸部2亦可隔有一間隙而加以配置。 20 〃丨8__第7實施狀可撓性基材的截面圖。本實 施例係在具可繞性之板狀構件1的表面上形成有多數截面 為ν字形的凹溝3。若多數凹溝3形成為各自平行，凹溝3之 間殘餘的部分可發揮與第认及1Β圖所示的第i實施例之占 部2相同的作用。又，若凹溝3形成為正方格子狀，凹溝3之 13 127.5863 間殘餘的部分可發揮與第3A及3B圖所示的第2實施例的凸 部2相同的作用。更一般性地，亦可形成與第1方向平行的 多數凹溝，以及與第2方向平行的多數凹溝，前述第2方向 係與第1方向交又者。凹溝3的截面形狀並不需為v字形，亦 5 可為其他形狀。譬如可為U字形。 第9圖係例示第8實施例之可撓性基材的截面圖。第8 實施例中，板狀構件1的表面上形成有約呈半球狀的多數凹 部4。板狀構件1的表面内，凹部4係配置在譬如正方袼子戈 三角格子的格子點上，或是隨機配置。未形成有凹部4的部 10分(具板狀構件1原本厚度的部分)可發揮與第1〜6實施例中 的凸部2相同的作用。 接著麥照第10A及10B圖說明有關第9實施例之可撓性 影像顯示裝置。第9實施例之可撓性影像顯示裝置係在具可 撓性之影像顯示板，譬如在利用電泳之似紙顯示器上應用 15 第1〜8實施例之可撓性基材。 第10A圖係例示第9實施例之可撓性影像顯示裝置中2 個像素部分的截面圖，第10B圖係例示多數像素部分的截面 圖。後方基板11的表面上，在每一像素形成有薄膜電晶體 等的開關元件13。在後方基板11上形成層間絕緣膜15，俾 2〇覆蓋住開關元件13。層間絕緣膜15上，在每一像素形成有 第1電極14。第1電極14經由貫通層間絕緣膜15的通孔内， 可連接於對應的開關元件13。同時形成有由氮化石夕等組成 的無機絕緣膜16，俾覆蓋住第1電極14。 由絕緣膜16隔一間隔而配置顯示側基板1〇。顯示側基 14 1275863 板10與絕緣膜16之間設有間隔件12。間隔件12係以格子狀 而配置在絕緣膜16的表面内，俾用以區劃出像素，並破保 顯示側基板與絕緣膜之間隔有一定的間隙。 間隔件12與絕緣膜16之間配置有由銘等組成的第2電 5極17。第2電極17亦可譬如埋入間隔件12的内部。絕緣膜 16、顯示側基板10及間隔件12所圍成的空間内充填有石夕油 (Silicon Oil)等絕緣性液體20。絕緣性液體2〇内散佈有多數 粒徑1〜2//m的帶電泳動粒子21。帶電泳動粒子21的材料， 舉例言之，諸如含有碳黑（CarbonBlack)之聚苯乙烯一聚甲 10 基丙烯酸曱酯共聚合物樹脂等。 構成以後方基板11與顯示側基板1〇夾持的似紙顯示 器。該似紙顯示器係揭示於譬如日本專利公開公報特開 2003-161966 號。 後方基板11的外側表面上貼附有可撓性基材3〇。可撓 15性基材30係與前述第卜8任一實施例之可繞性基材相同 者。有關面内方向，可撓性基材3〇的一個凸部内，配置有 多數像素。 20 况月弟9貫施例之可撓性影像顯示裝置的動作。第2 極^接地。讓帶電泳動粒子21帶正電。若對以電極馳 正，壓，如第10A圖右側的像素所示，帶電泳動粒子㈣ 在第2私極17附近。若讓第1電極14的表面呈白色，該像 成為白頭不狀態。若對第1電極Η施加負電Μ，如第1〇A 左側的像相*，帶総練子21祕在帛1電極1ό上。: 此。玄像素為可觀測帶電泳動粒子21的黑色之狀態。 15 1275863 讓後方基板11位在内側時，若彎曲可撓性影像顯示裝 置，可藉由撓性基材30來限制彎曲量（變形量），以防止似紙 顯示裝置受到破壞。第9實施例中，後方基板η的表面上貼 附有可撓性基材30，但亦可如第10C圖所示，在後方基板11 5 本身的表面上附加上凹凸件，構造成後方基板11並可兼作 為撓性基材30。 又，如第10D圖所示，另一側基板1〇的外側表面上亦可 貼附有可撓性基材31。此時，藉由在似紙顯示器的兩面配 置變形抑制構造，即使彎曲成基板1〇在内側的狀態，亦可 10限制彎曲量。並不需要讓其中一側的可撓性基材30的凹凸 件以及另一側的可撓性基材30的凹凸件對位。 第10 E圖係例示第9實施例之變形例的可撓性影像顯示 裝置的分解斜視圖。似紙顯示器35上區劃出一用以顯示影 像之影像顯示區域35A，以及一用以圍住影像顯示區域35a 15的框區域35B。框區域35B接著於框體36。影像顯示區域35a 不與框體36重疊。因此，可不被框體36遮蔽住而以肉眼辯 認影像顯示區域35A。框體36其中一面或雙面上形成有用以 抑制彎曲的凹凸件（變形抑制構造），該凹凸件係與第i〜8 任一貝施例之可撓性基材相同者。一旦彎曲似紙顯示器 20 35，框體36亦隨之變形。藉由抑制框體36的過度變形，可 防止似紙顯示器35受到破壞。 如第10F圖所示，亦可直接在框區域35B形成變形抑制 構造35C。譬如，可沿著影像顯示區域35A的四個邊而將框 區域35B區劃為四個區域。前述四個區域的每一者上，都形 16 1275863 成有由延伸存在於其寬度方向的凸部或凹部組成的變形抑 制構造35C。由於影像顯示區域35人未配置有凹凸件，故由 兩面都可不被凹凸件遮蔽住地以肉眼辯認影像。 再者，似紙顯示器係如紙般的薄顯示器的總稱，如第9 5實施例之可撓性影像顯示裝置，除讓帶電的粒子在水平方 向（面内方向）移動的水平移動型電性泳動顯示器外，尚提案 有各種態樣。譬如，微膠囊(Micro Capsule)型電性泳動顯示 器、扭曲球(Twisting Ball)型顯示器、電場析出•溶解式顯 示器。第1〜8實施例之可撓性基材亦可適用於前述各種似 10 紙顯示器。 接著參照第11A及11B圖說明第10實施例之可撓性影 像顯示裝置。第1〇實施例之可撓性影像顯示裝置係在具可 撓性之影像顯示板，譬如上有機電致發光（有機EL)元件上 應用第1〜8實施例之可撓性基材。 15 第11A圖係例示第10實施例之可撓性影像顯示裝置中3 個像素部分的截面圖，第11B圖係例示多數像素部分的截面 圖。具可撓性之透明膜40的表面上形成有多數由ΓΓΟ組成的 正極41。正極41在透明膜4〇的表面内，係配置成相互平行 (弟11A圖中橫向方向）。 20 透明膜40上，以與正極41交叉方式而配置有多數帶狀 的有機發光層42。各有機發光層42具有下述之多層構造， 即由透明膜40側起依次積層有正孔輸送層42A、發光層42B 及電子輸送層42C。電子輸送層42C的表面上形成有鋁等的 負極45。又，依需求，正孔41及正孔輸送層42A之間亦可插 17 127.5863 入正孔注入層。再者，負極45及電子輪送層42C之間亦可插 入電子注入層。正極與有機發光層相交叉處可作為像素作 用。 透明膜40至負極45之構造係揭示於譬如日本專利公開 5 公報特開2003-272864號。 使用環氧樹脂系接著劑48而將可撓性基材5〇貼附於透 明膜40上，藉此密封住正極41、有機發光層42及負極45。 可撓性基材50係與第1〜8任一實施例之可撓性基材相同 者，且附有凹凸件的表面係貼合成朝外側。 10 在發光層426產生之光係經由透明膜40而朝外部放 射。若將可撓性影像顯示裝置彎曲成可撓性基材5〇朝内側 狀，可藉可撓性基材50限制彎曲量（變形量），俾防止破壞有 機電致發光(有機EL)元件。 第10實施例中，亦可與第10C圖所示之構造相同地，讓 15 透明膜40的外側表面上附有凹凸件，使透明膜4〇並可作為 ^ 用以防止彎曲的可撓性基材。此時，有機電致發光(有機EL) 元件的兩面上都配置有變形抑制構造。又，如第1 〇D圖所 示，亦可在有機電致發光（有機EL)元件上安裝包含變形抑 制構造的框體。 20 其次，參照第12A、12B圖說明第11實施例之可撓性影 像顯示裝置。第11實施例之可撓性影像顯示裝置係在具可 撓性之影像顯示板，譬如在液晶顯示元件上應用第1〜8實 施例之可撓性基材。 第12 A圖係例示第11實施例之可撓性影像顯示裝置兩 18 1275863 端附近的截面圖，第11B圖係例示多數像素部分的截面圖。 具有厚度100 // m程度的可撓性之一對基板6〇及65係隔有一 間隔而平行配置。基板60及65的内側表面上，分別形成有 由IT◦等組成之透明電極61及66。基板60及65 —般係以 5 PET、PC、PES寺作為底層（base)，並具有積層有氣體阻絕 層（gas barrier)、表面處理層等之構造。透明電極61係以於 圖中橫向方向延伸之多數帶狀電極構成，透明電極66係以 與圖面垂直方向延伸之多數帶狀電極構成。該等電極61、 66相交叉處區劃出像素。於基板6〇及65上分別形成配向膜 10 62及67，俾覆蓋透明電極61及66。 二片基板60及65之間，充填有間隙保持構件7〇以及向 列性液晶71。以密封劑72聚合接著基板6〇及65。該液晶顯 示元件係揭示於譬如曰本專利公開公報特開平91〇15〇9 號0 另一側之基板60的外側表面上貼附有可撓性基材75。 可撓性基材75係與第1〜8任一實施例之可撓性基材相同 者。可撓性基材75中貼附有凹凸件之面係朝向外側。 將可撓性基材75朝内側彎曲時，可藉可撓性基材75限 制彎曲量。故，可防使破壞液晶顯示元件。 第11實施例中，亦可與第10C圖所示之構造相同地，讓 另一側之基板60的外側表面上貼附凹凸件，使基板6〇並可 作為可撓性基材75作用。又，如第1QD圖所示，亦可在液晶 顯示元件的兩面上配置變形抑制構造。又，如第10E圖所 不’亦可在液晶顯示元件上安裝包含變形抑制構造的框體。 19 1275863 前述第9〜11實施例之可撓性影像顯示裝置中，若影像 顯示板，譬如似紙顯示器、有機電致發光（有機EL)元件、 液晶顯示元件等過度變形，就會產生「不可復原的劣化」。 所謂「不可復原的劣化」，意指縱或讓基板回復成原先的形 5 狀，顯示品質仍無法恢復至原先的水準。不可復原的劣化 之例，譬如ITO等之電極破裂、可撓性膜產生白色混濁等 等。作為變形抑制構造的立體形狀，宜採用在產生不可復 原的劣化之變形前，變形抑制構造中相互鄰接的凸部群就 可相接觸的形狀。 10 雖以前述實施例說明本發明，但本發明並不囿限於 此。譬如，熟悉此技藝人士當知可作各種變更、改良、組 合等。 【圖式簡單說明】 第1A〜1C圖：第1A圖係第1實施例之可撓性基材的平 15 面圖；第1B圖係第1實施例之可撓性基材的截面圖；第1C 圖係一截面圖，例示用以形成第1實施例之可撓性基材之凸 部之膜。 第2圖係第1實施例之可撓性基材在變形狀態下的截面 圖。 20 第3A〜3B圖：第3A圖係第2實施例之可撓性基材的平 面圖；第3B圖係第2實施例之可撓性基材的截面圖。 第4A〜4B圖：第4A圖係苐3實施例之可撓性基材的平 面圖；第4B圖係第3實施例之可撓性基材的截面圖。 第5A〜5B圖：第5A圖係第4實施例之可撓性基材的平 20 1275863 面圖；第5B圖係第4實施例之可撓性基材的截面圖。 第6A〜6B圖：第6A圖係第5實施例之可撓性基材的平 面圖；第6B圖係第5實施例之可撓性基材的截面圖。 第7圖係第6實施例之可撓性基材的截面圖。 5 第8圖係第7實施例之可撓性基材的截面圖。 第9圖係第8實施例之可撓性基材的截面圖。 第10A〜10F圖：第10A圖係第9實施例之可撓性影像顯 示裝置中2個像素部分的截面圖；第10B圖係第9實施例之可 • 撓性影像顯示裝置中多數像素部分的截面圖；第l〇C圖係第 10 9實施例之變形例的可撓性影像顯示裝置中多數像素部分 的截面圖；第10D圖係第9實施例之另一變形例的可撓性影 像顯示裝置中多數像素部分的截面圖；第10E、10F圖係第9 實施例之變形例的可撓性影像顯示裝置的分解斜視圖。 15

20 第11A〜11B圖：第11A圖係第10實施例之可撓性影像 顯示裝置中3個像素部分的截面圖；第11B圖係第1〇實施例 之可撓性影像顯示裝置中多數像素部分的截面圖。 第12A〜12B圖：第12A圖係第11實施例之可撓性影像 顯示裝置兩端附近的截面圖；第126圖係第11實施例之可撓 性影像顯示裝置中多數像素部分的截面圖。 【主要元件符號說明】 1 · · ·板狀構件(基板) 2、2A、2B...凸咅p 3···凹溝 4···凹部 5.. .聚碳酸酯片材 6.. .截斷面 10.. .顯示側基板 11…後方基板 21 1275863

12.. .間隔件 13.. .開關元件 14…第1電極 15.. .層間絕緣膜 16.. .無機絕緣膜 17…第2電極 20.. .絕緣性液體 21…帶電泳動粒子 30.. .可撓性基材 35…似紙顯示裝置 35A...影像顯示區域 35B...框區域 35C...變形抑制構造 36.. .框體 40.. .透明膜 42.. .有機發光層 42A...正孔輸送層 42B...發光層 42C...電子輸送層 45…負極 48.. .接著劑 50.. .可撓性基材 60.. .基板 61…透明電極 62.. .配向膜 65.. .基板 66.. .透明電極 67.. .配向膜 71.. .向列性液晶 72.. .密封劑 41...正極 75···可撓性基材

IB —IB、3B —3B、4B-4B、5B —5B、6B —6B.··點虛線 22

Claims (1)

1275863 十、申請專利範圍： 1· 一種可撓性基材，係包含有： 板狀構件，係具有可撓性者；及 變形抑制構造，係形成於前述板狀構件的表面或該 5 表面的一部分上； 前述變形抑制構造係包含形成於該板狀構件的表 面或該表面的一部分上之凹凸件，且該凹凸件之形狀 • 係，該板狀構件於彈性變形之範圍内變形的狀態下，相 鄰接之凸部群可互相接觸，俾防止較該程度更大之變 10 形。 2·如申請專利範圍第㈣之可撓性基材，其中前述變形抑 制構造係具有如下之構造，即，在前述板狀構件其中至 少-側之表面上貼附有多數形成有凸部之構件。 15

20 3·如:請專利範圍第2項之可撓性基材，其中前述形成有 、構件係以剛性較前述板狀構件更高之材料所形 成0 4. 如申請專·㈣如項之可撓性紐，其中前述凸部 有―個立體形狀者，該立體形狀係選自以平面截斷 角鐘、角鐘A^ ° …、圓錐台及球體或旋轉橢圓體之形 狀所組成之群中任一者。 山 π τ石月 …乾圍第1項之可撓性基材，其中前述變形抑 係包含多數凹部，該凹部係形成於前述板狀構件 八中至少一側之表面上。 6· 士申明專利範圍第5項之可撓性基材，其中前述凹部係 23 1275863 以多數配置成與第1方向平行之溝部所構成者。 7·如申請專利範圍第6項之可撓性基材，其中前述凹部進 而包:有多數配置成與第2方向平行之溝部，該第2方向 係與4述第1方向交叉者。 5 8·-種可撓性影像顯示裝置，係包含有： 影像顯示板，係具有可撓性之可撓性_表面上區 劃有多數像素者；及 抗〖生基材，係女裝於别述影像顯示板，且可與該 影像顯示板共同變形者； 10 前述可撓性基材係包含有： 板狀構件，係具有可撓性者；及 變形抑制構造，係形成於前述板狀構件的表面或該 表面之。卩分上者，且該變形抑制構造包含有形成於前 述板狀構件的表面或該表面的一部分上之凹凸件，該凹 15 凸件之形狀係，當前述板狀構件變形時，相鄰接之凸部 群可互相接觸，俾防止較該程度更大之變形。 9·如申請專利範圍第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述變形抑制構造中相鄰接之凸部，係在前述板狀構件業 已於彈性變形之範圍内變形的狀態下相互接觸。 2〇 1〇·如申請專利範園第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述變形抑制構造中相鄰接之凸部，係互相接觸直至前述 影像顯示板上產生不可復原的劣化之變形量。 U·如申請專利範圜第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 迷可撓性基材ϋ可作為用以構成前述顯示影像板之可 24 1275863 撓性膜。 12. 如申請專利範圍第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述變形抑制構造之凹凸件中的一個凸部或凹部内，係配 置有多數像素。 13. 如申請專利範圍第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述影像顯示板包含有： 影像顯示區域，係用以顯示影像者；及 框區域，係用以圍繞住該影像顯示區域者；

10 15

前述可撓性基材係配置在包含前述影像顯示區域 之區域内。 14. 如申請專利範圍第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述影像顯示板包含有： 影像顯示區域，係用以顯示影像者；及 框區域，係用以圍繞住該影像顯示區域者； 前述可撓性基材係配置成與該框區域相重疊但不 與前述影像顯示區域重疊。 15. 如申請專利範圍第8項之可撓性影像顯示裝置，其中前 述影像顯示板係似紙顯示器、有機電致發光元件或液晶 顯示元件。 20 25