CN108241227B - 用于液晶显示器的阵列基板和包括其的液晶显示器 - Google Patents

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Abstract

公开了用于液晶显示器的阵列基板和包括其的液晶显示器。阵列基板包括：显示单元，其包括薄膜晶体管；设置在显示单元一侧的焊盘单元；以及设置在显示单元另一侧的伪单元。此处，在每个焊盘单元和伪单元上设置有用于阻挡液晶配向层扩展的阻挡单元。在焊盘单元上设置有用于阻挡液晶配向层扩展到焊盘单元的第一阻挡单元。在伪单元上设置有用于阻挡液晶配向层扩展到伪单元的第二阻挡单元。在制造液晶显示器时，可以阻挡液晶配向层扩展到焊盘单元或相邻阵列基板的焊盘单元，由此可以省略用于去除焊盘单元上的液晶配向层的单独处理。

Description

用于液晶显示器的阵列基板和包括其的液晶显示器
技术领域
本发明一般性地涉及用于液晶显示器的阵列基板，其可以在制造液晶显示器时省略去除液晶配向层的过程。另外，本发明涉及一种包括该阵列基板的液晶显示器。
背景技术
随着诸如移动通信终端和笔记本电脑等各种便携式电子产品的发展，对适用于其的平板显示器的需求日益增加。
本领域公知的平板显示器包括液晶显示器、等离子体显示面板、有机发光二极管显示器等。在这些平板显示器中，近来各种研究集中在液晶显示器和有机发光二极管显示器上，这些显示器具有诸如批量生产技术的发展、驱动方式简单、功耗低、图像质量高、实现大屏幕等的各种优点。
一般的液晶显示器包括显示面板和背光单元，通过将包括薄膜晶体管(TFT)的下基板层叠到包括滤色器的上基板上以使上基板和下基板彼此面对、并且液晶层置于上基板与下基板之间来形成显示面板，背光单元提供用以显示图像的光。这种液晶显示器响应于图像信号通过根据数据电压调整透过每个像素的液晶层的光的透射率来显示图像。
图1是用于制造包括液晶配向层的多个阵列基板的母基板的顶视图。图2是沿图1的线a1-a2截取的截面图。
参照图1和图2，在母基板上通过TFT处理和液晶配向层涂覆处理来制造包括液晶配向层的多个阵列基板，然后沿着划片槽(scribe line)S/L1、S/L2进行划片处理(scribing process)。
每个阵列基板包括：包括薄膜晶体管的显示单元A，设置在显示单元A的一侧并且包括用于驱动薄膜晶体管的电极焊盘11的焊盘单元P，以及设置在显示单元A的另一侧的伪单元(dummy unit)D。这里，伪单元D相对于显示单元A设置在与焊盘单元P相对的一侧，因此也被称为反焊盘单元(counter-pad unit)。另外，焊盘单元P和伪单元D是非显示单元。
此外，液晶显示器包括：包含TFT 22的阵列基板21，设置在阵列基板21上的液晶配向层23，以及包括滤色器24的滤色器基板25。此外，液晶层置于阵列基板21与滤色器基板24之间，在阵列基板21上设置有液晶配向层23。液晶配向层23被设置成用于液晶的初始配向，并且包括诸如聚酰亚胺的聚合物材料。
例如，液态的聚酰亚胺被涂覆和固化，以形成聚酰亚胺液晶配向层，并且在涂覆时，焊盘单元和伪单元被与显示单元一起被涂覆。由于移动液晶显示器具有窄边框以及相邻单元(cell)之间非常小的间距，因此难以仅排除焊盘或伪单元而执行涂覆。
如图2所示，当液晶配向层扩展到伪单元之外的相邻单元的焊盘单元，或扩展到相应单元的电极焊盘时，在形成液晶配向层的过程之后液晶配向层保留在电极焊盘上。保留的液晶配向层主要包含电绝缘材料，因此会导致电极焊盘的差的导电性。
图3是示出在划片处理之后通过等离子烧蚀(plasma ablation)如以上参考图2所烧蚀描述的那样去除焊盘单元上的液晶配向层23的过程的示意图。
为了防止液晶配向层23保留在电极焊盘上，在划片处理之后通过使用等离子体的烧蚀处理来去除保留在焊盘单元上的液晶配向层，如图3所示。在这种情况下，存在以下问题：例如，增加了用于去除液晶配向层的单独的等离子体处理，由于在等离子体处理时对有机绝缘膜的损伤而产生细微污斑(stain)等。
因此，需要一种即使不增加如上所述的单独的等离子体处理也可以防止液晶配向层保留在焊盘单元上的用于液晶显示器的阵列基板。
发明内容
本发明是为了解决上述问题而提出的，并且本发明的一个方面是提供一种能够省略通过等离子烧蚀而去除保留在焊盘上的液晶配向层的过程的用于显示器的阵列基板。
本发明的另一方面是提供一种包括上述阵列基板的显示器。
根据本发明的一个方面，一种用于液晶显示器的阵列基板包括显示单元、焊盘单元和伪单元。显示单元包括薄膜晶体管。焊盘单元设置在显示单元的一侧，并且包括用于驱动薄膜晶体管的电极焊盘。伪单元设置在显示单元的另一侧。
根据本发明，在焊盘单元和伪单元中的每一个中形成有用于阻挡液晶配向层扩展的阻挡单元。具体地，在焊盘单元上设置有用于阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的第一阻挡单元。另外，在伪单元上设置有用于阻挡液晶配向层在从显示单元到伪单元的方向上扩展的第二阻挡单元。第一阻挡单元和第二阻挡单元可以有效地阻挡液晶配向层从显示单元扩展到电极焊盘以及从伪单元扩展到相邻单元的电极焊盘。
第一阻挡单元和第二阻挡单元中的每一个可以包括多个槽。第一阻挡单元的槽的深度可以大于第二阻挡单元的槽的深度。
例如，焊盘单元的在电极焊盘侧的区域可以包括：玻璃基板；设置在玻璃基板上的第一金属图案；覆盖第一金属图案的有机绝缘膜；设置在有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；设置在第一无机绝缘膜上并且不连接至电极焊盘的多个第二金属图案；以及覆盖多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，并且第一阻挡单元的多个槽可以是围绕所述多个第二金属图案中的每个第二金属图案的第二无机绝缘膜的台阶部。在该实施方式中，可以使用不连接至电极焊盘的多个第二金属图案来获得阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的效果。
另外，焊盘单元的在电极焊盘与显示单元之间的区域可以包括：玻璃基板；设置在玻璃基板上的第一金属图案；覆盖第一金属图案的有机绝缘膜；设置在有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；设置在第一无机绝缘膜上并且连接至电极焊盘的多个第二金属图案；以及覆盖所述多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，连接至电极焊盘的多个第二金属图案可以以锯齿形状布置。因为多个第二金属图案以锯齿形状布置，所以覆盖多个第二金属图案的第二无机绝缘膜具有在从显示单元到焊盘单元的方向上围绕第二金属图案形成的不平坦部分。因此，也可以在焊盘单元的布线区域中获得阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的效果。
伪单元可以包括：玻璃基板；设置在玻璃基板上的有机绝缘膜；设置在有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；设置在第一无机绝缘膜上并且不连接至电极焊盘的多个第二金属图案；以及覆盖多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，并且所述第二阻挡单元的多个槽可以是第二无机绝缘膜和第一无机绝缘膜的台阶部，其中台阶部设置在多个第二金属图案之间。优选地，第二阻挡单元的多个槽是第二无机绝缘膜、第一无机绝缘膜和有机绝缘膜的台阶部，其中台阶部设置在多个第二金属图案之间。如上所述，由于伪单元在其下部不包括用于源极/漏极的金属图案，因此可以具有足够深的槽，所以可以改善阻挡液晶配向层从显示单元扩展到伪单元的效果。
根据本发明，在用于显示器的阵列基板上，第一阻挡单元设置在焊盘单元上，并且第二阻挡单元设置在伪单元上，由此有效地防止液晶配向层扩展到相应单元的电极焊盘和相邻单元的电极焊盘。因此，可以省略通过单独的等离子体处理来去除焊盘单元上的液晶配向层的过程。
此外，根据本发明，即使在不使用单独掩模的情况下，也可以使用在形成连接至焊盘的第三金属图案的同时形成的一种伪金属图案来形成槽。因此，即使在不增加处理数量的情况下，也能够形成第一阻挡单元和第二阻挡单元中的每一个的槽。
根据本发明的具有焊盘单元和伪单元的结构的阵列基板适用于液晶显示器，特别是具有内置触摸功能的移动液晶显示器。
附图说明
图1是用于制造包括液晶配向层的多个阵列基板的母基板的顶视图。
图2是沿图1的线a1-a2截取的截面图。
图3是示出在划片处理之后通过等离子烧蚀来去除焊盘单元上的液晶配向层的过程的示意图。
图4是示出在焊盘单元上设置有电极焊盘和布线的一个示例的示意图。
图5是沿图4的线a1-a2截取的截面图，示出了图4的区域
Figure BDA0001524774780000041
和区域
Figure BDA0001524774780000042
的截面。
图6是图4的区域
Figure BDA0001524774780000043
的布线的示意图。
图7是伪单元的示意图。
图8是沿图7的线d1-d2截取的截面图。
图9是沿着图7的线d1-d2截取的另一截面图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图描述本发明的各种实施方式。
应该理解的是，尽管在此可以使用包括诸如“第一”、“第二”等序数的术语来描述各种部件，但是这些部件不受这些术语的限制。这些术语仅用于区分一个部件与另一个部件。
此外，将理解的是，当元件被称为布置在另一元件“上”时，该元件可以被直接放置在另一元件上并同时接触另一元件，或者在它们之间也可以存在中间元件。
根据本发明的用于液晶显示器的阵列基板防止液晶配向层扩展到电极焊盘。因此，本发明的目的在于，即使没有单独的等离子体处理，也能够防止液晶配向层保留在电极焊盘上。
参照图1，根据本发明的用于液晶显示器的阵列基板包括显示单元A、焊盘单元P和伪单元D。显示单元A包括薄膜晶体管。焊盘单元P设置在显示单元A的一侧，并且包括用于驱动薄膜晶体管的电极焊盘11。伪单元D设置在显示单元A的另一侧。这里，伪单元D相对于显示单元A设置在与焊盘单元P相对的一侧，因此也被称为反焊盘单元。焊盘单元P和伪单元D是非显示单元。
此外，根据本发明的液晶显示器包括：包含TFT 22的阵列基板21，设置在阵列基板21上的液晶配向层23，以及包括滤色器24的滤色器基板25。在设置有液晶配向层23的阵列基板21与滤色器基板25之间插入有液晶层。
液晶配向层23用于液晶的初始配向，并且可以包含聚合物材料，例如聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚乙烯醇肉桂酸酯(polyvinylcinnamate)、聚偶氮苯(polyazobenzene)、聚乙烯亚胺、聚乙烯醇、聚酰胺、聚乙烯、聚苯乙烯、聚亚苯基邻苯二甲酰胺(polyphenylenephthalamide)、聚酯、聚氨酯和聚甲基丙烯酸甲酯。在这些聚合物中，聚酰亚胺最广泛使用。
根据本发明，例如，分别在焊盘单元P和伪单元D中形成用于阻挡液晶配向层扩展的阻挡单元620a、620b，如图5和图9所示。
具体地，在焊盘单元P上，设置用于阻挡液晶配向层在从显示单元A到焊盘单元P的方向上扩展的第一阻挡单元620a，如图5所示。另外，在伪单元D上，设置用于阻挡液晶配向层在从显示单元A到伪单元D的方向上扩展的第二阻挡单元620b，如图8和图9所示。第二阻挡单元620b阻挡液晶配向层扩展到图1的母基板上的相邻单元的焊盘单元的电极焊盘。
第一阻挡单元620a和第二阻挡单元620b可以有效地阻挡液晶配向层从显示单元A扩展到电极焊盘11以及从伪单元D扩展到相邻单元的电极焊盘11。
第一阻挡单元620a可以包括多个槽610，并且第二阻挡单元620b可以包括多个槽610。这样，第一阻挡单元620a和第二阻挡单元620b中的每一个均包括多个槽610，由此液晶配向层600被限制在槽610中，并且即使在穿过一个槽610时，液晶配向层600也可以被限制在下一个槽610中。更具体地，第一阻挡单元620a包括由第二金属图案580和第二无机绝缘膜590形成的屏障(barrier)和槽610，如图5所示，并且第二阻挡单元620b包括由第二金属图案580和第二无机绝缘膜590形成的屏障和槽610，如图8和9所示。
优选地，与第一阻挡单元620a的槽610相比，第二阻挡单元620b的槽610具有更大的深度。上面设置有第一阻挡单元620a的焊盘单元P在其下部具有用于源极/漏极的金属图案550(参见图5)，如图5所示。因此，如果第一阻挡单元620a的槽610被形成为到达有机绝缘膜560(参见图5)，则可能存在着用于源极/漏极的金属图案550的腐蚀的问题。然而，第一阻挡单元620a的槽610可以形成为到达有机绝缘膜560的不露出用于源极/漏极的金属图案的一部分。另一方面，上面设置有第二阻挡单元620b的伪单元D在其下部不具有用于源极/漏极的金属图案，如图8和图9所示。因此，为了改善阻挡液晶配向层扩展的效果，可以将槽610形成为足够深的深度。
图4是示出在焊盘单元上设置有电极焊盘410和布线420的一个示例的示意图。图5是沿图4的线a1-a2截取的截面图，示出了图4的区域
Figure BDA0001524774780000061
和区域
Figure BDA0001524774780000062
的截面，而图6是图4的区域
Figure BDA0001524774780000063
的布线的示意图。
参照图4和图5，焊盘单元P的在电极焊盘410一侧的区域包括玻璃基板510，设置在玻璃基板510上的第一金属图案550，覆盖第一金属图案550的有机绝缘膜560，设置在有机绝缘膜560上的第一无机绝缘膜570，设置在第一无机绝缘膜570上并且不连接至电极焊盘410的多个第二金属图案580，以及覆盖多个第二金属图案580的第二无机绝缘膜590。另外，焊盘单元P的在电极焊盘410一侧的区域还可以包括在玻璃基板510上的缓冲层520、栅极绝缘膜530和绝缘中间层540。有机绝缘膜可以包括光亚克力化合物(photo acryl compound，PAC)材料，并且第一无机绝缘膜和第二无机绝缘膜可以包括基于SiNx的材料。
焊盘单元的这些层分别对应于显示单元的缓冲层、栅极绝缘膜，绝缘中间层、第一金属图案、有机绝缘膜、第一无机绝缘膜、第二金属图案和第二无机绝缘膜。这里，第一金属图案可以一般性地用作为用于薄膜晶体管的电极的图案，诸如用于源极/漏极的电极，并且第二金属图案可以用作为将公共电压或触摸电压传输到公共电极或触摸电极的信号线。第二金属图案也可以用作电极焊盘。在显示单元的栅极绝缘膜和缓冲层之间设置有栅极金属图案，由此与第一金属图案相结合地构成薄膜晶体管(TFT)。另外，像素电极设置在显示单元的有机绝缘膜上，并且连接至第一金属图案之一。
尽管显示单元的第二金属图案连接至公共电极、触摸电极和电极焊盘，但根据本发明的焊盘单元的伪第二金属图案580不与其他元件电连接，并且与显示单元的第二金属图案同时形成，以使得能够甚至在不添加单独掩模的情况下形成第一阻挡单元的槽。根据本发明的焊盘单元的伪第二金属图案580不与其他元件电连接，因此可以被称为伪金属图案。
更具体地，第一阻挡单元620a的多个槽610可以是围绕多个第二金属图案580中的每一个的第二无机绝缘膜590的台阶部。即，在图5所示的示例的情况下，使用不连接至电极焊盘的多个第二金属图案580，覆盖第二金属图案580的第二无机绝缘膜590可以在每个第二金属图案580周围形成台阶部，从而获得阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的效果。
参照图4，布线被设置在电极焊盘410和显示单元之间的焊盘单元P的区域
Figure BDA0001524774780000071
中。布线通常具有线形形状，并且通常以非常精细的间距布置。因此，难以在电极焊盘410和显示单元之间的焊盘单元P的区域
Figure BDA0001524774780000072
中形成一种不连接至焊盘单元的第二金属图案。
根据本发明，连接至电极焊盘410的多个第二金属图案可以具有锯齿形状，如图6所示。
由于多个第二金属图案具有锯齿形状，覆盖多个第二金属图案580的第二无机绝缘膜590在从显示单元到焊盘单元的方向上具有围绕第二金属图案580的不平坦部分，如虚线所标记的图6的截面图所示。因此，也可以在焊盘单元的布线区域中获得阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的效果。换言之，如果难以形成不与其他元件电连接的伪第二金属图案，则与其他元件电连接的第二金属图案具有锯齿形状，由此防止液晶配向层扩展。
图7是伪单元的示意图。图8是沿图7的线d1-d2截取的截面图。图9是沿图7的线d1-d2截取的另一截面图。
伪单元用于确保划片处理中的处理裕量，并具有约1mm的宽度。参照图8和图9，伪单元D包括玻璃基板510，设置在玻璃基板510上的有机绝缘膜560，设置在有机绝缘膜560上的第一无机绝缘膜570，设置在第一无机绝缘膜570上并且不连接至电极焊盘的多个第二金属图案580，以及覆盖多个第二金属图案580的第二无机绝缘膜590。另外，伪单元D还可以包括玻璃基板510上的缓冲层520、栅极绝缘膜530以及绝缘中间层540。这些层分别对应于焊盘单元P的缓冲层、栅极绝缘膜、绝缘中间层、有机绝缘膜、第一无机绝缘膜、第二金属图案和第二无机绝缘膜。然而，不同于焊盘单元，第一金属图案不设置在伪单元上。
在图5中示出并且不连接至电极焊盘的伪第二金属图案以及在图8和图9中示出并且不连接至电极焊盘的伪第二金属图案，与在图6中示出并且连接至电极焊盘的第二金属图案同时形成。
参照图8，第二阻挡单元620b的多个槽610可以是第二无机绝缘膜590和第一无机绝缘膜570的台阶部，其中台阶部被设置在第二金属图案580之间。优选地，第二阻挡单元620b的多个槽610是第二无机绝缘膜590、第一无机绝缘膜570和有机绝缘膜560的台阶部，其中台阶部被设置在第二金属图案580之间，如图9所示。
形成到第一无机绝缘膜570的台阶部或形成到第一无机绝缘膜570和有机绝缘膜560的台阶部可以通过蚀刻形成。
由于图8和图9所示的伪单元在其下部不具有用于源极/漏极的金属图案，因此可以足够深地形成槽610，从而提高了阻挡液晶配向层从显示单元扩展到伪单元的效果。
具有如上所述结构的阵列基板被应用于液晶显示器，优选地应用于具有内置触摸功能的移动液晶显示器。
根据本发明的液晶显示器包括阵列基板21、液晶配向层23和滤色器基板25，如图2所示。
阵列基板21包括：包含薄膜晶体管22的显示单元A；设置在显示单元A的一侧并且包括用于驱动薄膜晶体管22的电极焊盘的焊盘单元P；以及设置在显示单元A的另一侧的伪单元D。如上所述，用于阻挡液晶配向层在从显示单元到焊盘单元的方向上扩展的第一阻挡单元被设置在焊盘单元P上，并且用于阻挡液晶配向层在从显示单元到伪单元的方向上扩展的第二阻挡单元被设置在伪单元D上。
液晶配向层23包括诸如聚酰亚胺的聚合物材料，并且被设置为用于液晶的初始配向。如上所述，可以通过阵列基板的焊盘单元和伪单元的结构来抑制液晶配向层23扩展。
滤色器基板25包括滤色器24，并且被层叠在阵列基板21上，在阵列基板21上设置有液晶配向层23。
另外，液晶层置于上面设置有液晶配向层的阵列基板与滤色器基板之间。
如上所述，第一阻挡单元可以包括沿着从显示单元到焊盘单元的方向布置的多个槽610，并且第二阻挡单元可以包括沿着从显示单元到伪单元的方向布置的多个槽610。这里，第二阻挡单元的槽610优选地具有比第一阻挡单元的槽610更深的深度。
如上所述，在根据本发明的用于显示器的阵列基板上，第一阻挡单元设置在焊盘单元上，并且第二阻挡单元设置在伪单元上，由此有效地防止液晶配向层扩展到相应单元或相邻单元的电极焊盘。因此，可以省略通过单独的等离子体处理来去除焊盘单元的液晶配向层的过程。
此外，根据本发明，即使在不使用单独掩模的情况下，也可以使用在形成连接至焊盘的第三金属图案的同时形成的一种伪金属图案来形成槽610。因此，即使在不增加处理次数的情况下也可以形成第一阻挡单元和第二阻挡单元中的每一个的槽610。
尽管已经参考一些实施方式描述了本发明，但是应该理解，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，本领域技术人员可以进行各种修改、改变、替换和等同实施方式。
<附图标记列表>
A：显示单元
P：焊盘单元
D：伪单元
410：电极焊盘
510：玻璃基板
520：缓冲层
530：栅极绝缘膜
540：绝缘中间层
550：第一金属图案
560：有机绝缘膜
570：第一无机绝缘膜
580：第二金属图案
590：第二无机绝缘膜
610：槽
620a：第一阻挡单元
620b：第二阻挡单元

Claims (7)

1.一种用于液晶显示器的阵列基板，包括：
显示单元，其包括薄膜晶体管；
焊盘单元，其设置在所述显示单元的一侧，并且包括用于驱动所述薄膜晶体管的电极焊盘，其中，所述焊盘单元包括第一金属图案；
设置在所述显示单元的另一侧的伪单元，其中，所述伪单元不包括所述第一金属图案；
设置在所述焊盘单元上的第一阻挡单元，其包括沿着从所述显示单元到所述焊盘单元的方向布置的多个槽，并且其用于阻挡液晶配向层在从所述显示单元到所述焊盘单元的方向上扩展；以及
设置在所述伪单元上的第二阻挡单元，其包括沿着从所述显示单元到所述伪单元的方向布置的多个槽，并且其用于阻挡所述液晶配向层在从所述显示单元到所述伪单元的方向上扩展，
其中，所述第二阻挡单元的槽的深度大于所述第一阻挡单元的槽的深度。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述第一阻挡单元的多个槽设置在所述焊盘单元的在所述电极焊盘侧的区域中。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述焊盘单元的在所述电极焊盘侧的区域包括：
玻璃基板；
设置在所述玻璃基板上的所述第一金属图案；
覆盖所述第一金属图案的有机绝缘膜；
设置在所述有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；
设置在所述第一无机绝缘膜上并且不连接至所述电极焊盘的多个第二金属图案；以及
覆盖所述多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，
其中，所述第一阻挡单元的多个槽是围绕所述多个第二金属图案中的每个第二金属图案的所述第二无机绝缘膜的台阶部。
4.根据权利要求2所述的阵列基板，其中，所述焊盘单元的在所述电极焊盘与所述显示单元之间的区域包括：
玻璃基板；
设置在所述玻璃基板上的所述第一金属图案；
覆盖所述第一金属图案的有机绝缘膜；
设置在所述有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；
设置在所述第一无机绝缘膜上并且连接至所述电极焊盘的多个第二金属图案；以及
覆盖所述多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，
其中，连接至所述电极焊盘的所述多个第二金属图案具有锯齿形状。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其中，所述伪单元包括：
玻璃基板；
设置在所述玻璃基板上的有机绝缘膜；
设置在所述有机绝缘膜上的第一无机绝缘膜；
设置在所述第一无机绝缘膜上并且不连接至所述电极焊盘的多个第二金属图案；以及
覆盖所述多个第二金属图案的第二无机绝缘膜，
其中，所述第二阻挡单元的多个槽是所述第二无机绝缘膜和所述第一无机绝缘膜的台阶部，所述台阶部设置在所述多个第二金属图案之间。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述第二阻挡单元的多个槽是所述第二无机绝缘膜、所述第一无机绝缘膜和所述有机绝缘膜的台阶部，所述台阶部设置在所述多个第二金属图案之间。
7.一种液晶显示器，包括：
阵列基板，其包括：
显示单元，其包括薄膜晶体管，
焊盘单元，其设置在所述显示单元的一侧，并且包括用于驱动所述薄膜晶体管的电极焊盘，其中，所述焊盘单元包括第一金属图案，
设置在所述显示单元的另一侧的伪单元，其中，所述伪单元不包括所述第一金属图案，
设置在所述焊盘单元上的第一阻挡单元，其包括沿着从所述显示单元到所述焊盘单元的方向布置的多个槽，并且其用于阻挡液晶配向层在从所述显示单元到所述焊盘单元的方向上扩展，以及
设置在所述伪单元上的第二阻挡单元，其包括沿着从所述显示单元到所述伪单元的方向布置的多个槽，并且其用于阻挡所述液晶配向层在从所述显示单元到所述伪单元的方向上扩展；
所述液晶配向层，其设置在所述阵列基板上；
滤色器基板，其包括滤色器，并且层叠到上面设置有所述液晶配向层的阵列基板上；以及
液晶层，其被置于上面设置有所述液晶配向层的阵列基板与所述滤色器基板之间，
其中，所述第二阻挡单元的槽的深度大于所述第一阻挡单元的槽的深度。
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