TWI260064B - Substrate support bushing - Google Patents

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TWI260064B
TWI260064B TW093123965A TW93123965A TWI260064B TW I260064 B TWI260064 B TW I260064B TW 093123965 A TW093123965 A TW 093123965A TW 93123965 A TW93123965 A TW 93123965A TW I260064 B TWI260064 B TW I260064B
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substrate support
support
housing
bearing
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TW093123965A
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Shinichi Kurita
Suhail Anwar
Toshio Kiyotake
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Applied Materials Inc
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Description

1260064 玫、發明説明： 【發明所屬之技術領域】 關於 用於大型玻璃板之支 本發明的實施例大體上 定地，本發明的實施例係有 銷0 【先前技術】 薄膜電晶體已經被製造在大型
m i 鴣基材上或基板上 以應用在監視态、平板顯示器、太陽Αμ Α㈣能電池、個人數位 理（PDA)、打動電話，及類此者上。、上 巧些電晶體是藉由 同膜層在真空室之依序的沉積而在真 你具空室中被製造的， 些膜詹包括非晶❹、摻雜的及未摻雜氧切、氣化石夕 類此者。該膜層沉積是發生在一單—的沉積室或系統中 或該被處理的基材被傳送在複數個沉積室之間。在每一 積室内，該被處理的基材典型地躺在一位在該處理室内 支撑托盤上。為了要便於基材在處理與處理之間的傳送
支撐件，像是複數根銷，被安裝在該支撐件上，使得該基 材與基材支撐托盤之間有一間距。這可讓一傳送機制，像 是一機械臂載盤，可滑入到該基材的背側底下並將該基材 舉離該支撐托盤而不會對該支撐托盤或該基材造成傷害。 該等支撐銷絕大多數為具有固定的南度之垂直的捲 柱，其被固定在該支撐托盤的一上表面上。該等支撑銷通 常是堅硬的，其對於被支撐於其上的玻璃基材而言有害的 摩擦並沒有任何的寬容。此外，該等支撐銷會因為基材的 3 1260064 反覆地## 或斷裂的傾向。 室時基材沒有對 錯誤而發生及大 。因此，支撐銷 用於移除受損的
衣载及卸載而有形成屑片，彎 這些搴彳i θ 疋因為在基材進入及離開該 準而發 X王的。銷的損傷亦會因為操作員 多數時候、 寸读知傷是因為正常的磨損所造成的 在使用一段時間之後都需要被更換，造成 的銷並安裝新的銷之停機時間。 因此， 摩擦的支標 少停機的時 對於一能夠降低與被支撐在豆 在八上的基材之間的
銷存在著需求，其可增長胃纟 瓦邊叉蘇銷的哥命並減 間長度。 【發明内容】 本I明大體上提供一基材支撐件用來支撐一基材於一 處理至内。在一態樣中，該基材支撐件包含一殼體其具有 穿通匕的孔，一支撐銷其至少部分地設置在該孔内，及 複數個軸承件，它們被設置在該殼體周圍。 在另一態樣中，該基材支撐件包含一殼體其具有一穿 通匕的孔，及複數個軸承件其被設置在該孔内，其中至少 一軸承件包含一滾子其具有一穿通它的中央孔，一輪廓的 (contoured)外表面，及一軸其至少部分地設置成穿過該中 央孔。 在另一悲樣中，該基材支撐件包含一殻體其具有一穿 通匕的孔，及複數個軸承件其被設置在該孔内，其中至少 一軸承件包含一球組件其包含一較大的球形件及四個被安 排在該較大的球形件周圍之較小的球形件。 4 1260064 本發明亦提供一處理室，其具有一基材支撐組件設置 於其内。在一態樣中，該處理室包括一室本體其具有一支 撐托盤設置於其内，及兩個或多個支撐件，每一支撐件都 被設置在該基材支樓托盤的一上表面上。該等支撐件包含 一殼體其具有一穿通它的孔，一支撐銷其至少部分地設置 在該孔内，及複數個軸承件，它們被設置在該孔内。在另 一態樣中，該處理室包括一被設置於該室本體内且鄰近該 支撐托盤的舉升組件。該舉升組件被設計來將基材裝載至 該支撐托盤上或將基材從該支撐托盤上取下。 在一態樣中’該荨軸承件包含一滚子其具有一穿通它 的中央孔，一輪廓的外表面，及一軸其至少部分地設置成 穿過該中央孔。在另一態樣中，該等軸承件包含一球組件 其包含一較大的球形件及四個被安排在該較大的球形件周 圍之較小的球形件。 【實施方式】 第1A圖顯示一支撐件1〇〇的一實施例的示意立體 圖。如圖所示，該支撐件1〇〇包括一襯套1〇2其具有一或 多個軸承件110A，l10B(兩個被示出）及一支撐銷12〇被部 分地設置於其内。在其第一端處，一基材（未示出），如包 括一平板顯示器，圓的晶圓，液晶顯示器，玻璃板基材， 塑膠基材，等等之任何半導體基材，被支撐在其上。在其 第一鈿處"亥支揮件100典型地被設置在一支撐托盤，基 座’機械臂載盤，介子，或其它用來固持或支# -基材（未 5 1260064 示出）於其上之構件的上表面上。 第1B圖為襯套102的立體示意圖。襯套102為〜學 形件，其具有一中央孔1〇5及一或多個形成於其上的窗口 1 0 7最好疋，該襯套丨〇 2類似一圓柱形管子。在一態樣中， 襯套102包括一第一組窗口 1〇7其位在襯套的第一端，及 一第二組窗口 107其位在襯套的第二端上。窗口 107的實 八數目為叹a十上的選擇，惟最好是有一組四個或更多個窗 口 107位在襯套102的第一端處，及第二組四個或更多個 囪口 107位在襯套102的第二端處。額外的窗口組1〇7可 根據該支撐件100的用途及處理環境而被增加。 第1C圖顯示在第1A圖中的軸承件ι1〇Α，ι1〇Β的示 w圖第1D圖顯示軸承件110A，11〇B的部分剖面圖。參 …、第1 C及第！ D圖，該第一軸承件1丨〇 a被包容在第一組 囪口 107内且至少部分地穿過該襯套1〇2的第一端。該第 二軸承件110B被包容在第一組窗口 1〇7内且至少部分地 穿過該襯套102的第二端。在一態樣中，軸承件11〇A，n〇B 包括一或多個滾子112,其具有一中央穿孔113及一轴n4 其被設置成至少部分地穿過該中央孔丨丨3。軸丨丨4被固定 到該襯套1 02上用以將滾子丨丨2固定在定位上。在一態樣 中’每一軸114的端部被切角用以形成如第ic圖所示的 圓錐形。在將軸承件110A，110B安裝到該襯套1〇2中時， 滾子11 2藉由被彼此相對地安排的軸丨丨4的端部所實施之 摩擦嵌合而被保持在位置上。切除部丨丨5有助於在該襯套 102内操弄軸114。 1260064 軸承件110A，110B將銷120支撐在該 軸承件ΠΟΑ,Π 0B亦容許銷120軸向地移食 的孔1 0 5並在很小的阻力下於孔1 0 5内轉動 件1 1 0 A，Π 0 B可減小支撐銷1 2 0的磨損並 所產生的顆粒。 參照第1 A及1 D圖，每一滾子1 1 2最好 面，其是有弧度的或是外凸的用以順應該支 廓，支撐銷的輪廓典型地為圓柱形。滾子1 外表面提供一導引用以方便銷1 20在一相對 軸向上的運動。滾子112之有弧度的外表面次 自由地轉動於該襯套102内。滾子112可以 處理相容的材料來製成，如陶瓷，石墨，不 們的合金，及它們的組合。 第2A-2C圖顯示支撐件200的另一實施 在此實施例中，支撐件200包括一套筒2 1 0 , 該襯套具有一或多個被設置於其内的軸承件 200亦包括一設置在該襯套202的上端周圍ί 參照第2Α圖，每一個軸承件220都包 件221。在一態樣中，每一軸承件220都進 額外的球形件 222其具有一比球形件 221 徑。每一軸承件2 2 0都被設置在一形成於該 球座或窗口 230内。套筒210被設置在該概 周圍用以將軸承件220包圍在它們各自的窗 緣240是作為該套筒210的一肩部或擋止件 襯套102内。 >穿過襯套102 。因此，軸承 可減少因摩擦 都具有一外表 撐銷120的輪 1 2之有弧度的 於襯套102的 F可讓該銷120 用能夠與任何 銹鋼，鋁，它 ,例的示意圖。 及一襯套202， 220。支撐件 治凸緣240。 括至少一球形 一步包括四個 的直徑小的直 襯套202上的 套2 0 2的外徑 口 230内。凸 用〇 1260064 在 2 02 的： 件22 0 間距地 (每一 | 内）。窗 移動在 一中心 第 2C圖為 202為 類似一 少部分 至少部 套202 在該孔 222包 所示的 的一延 過該襯 再 支撐銷 有第一 2C圖卢 一態樣中，四個窗口 2 3 0被等間距地設置在該襯套 箏一端的一第一直徑周圍（每一窗口 230都有一軸承 被至少部分地設置於其内）上，及四個窗口 23 0被等 設置在該襯套202的第二端的一第二直徑周圍上 「口 2 3 0都有一軸承件2 2 0被至少部分地設置於其 口 2 3 〇與軸承件2 2 0的合作可讓支撐銷1 2 0軸向地 該概套202的孔205内，以及可繞著該襯套202的 軸轉動。 2B圖顯不第2A圖中的支撐件200的一頂視圖及第 ，一完全組裝好的的支撐件200的另一示意圖。襯套 一環形件其具有一中央穿孔205。最好是，襯套202 圓柱形管子。上述的軸承件220A-D每一個都被至 地設置在一各自的窗口 230a-d内，該當窗口係被 分地形成在該襯套2〇2中。套筒210被設置在該襯 的外徑周圍，且該支摟銷丨2 〇係至少部分地被設置 205内。套筒21〇及支撐銷120合作用以將球22卜 容在它們各自的窗口 230中。凸緣240可以是如圖 一分開來的構件或該凸緣240可以是一該襯套202 伸的外徑。凸緣24〇可防止套筒2丨〇徑向地移動超 套202的第一端。 次參照第1 A及2C圖，支撐件100及支撐件200的 1 20現將加以詳細說明。該支撐銷丨2〇最好是一具 端120A及第二端ι2〇Β的一圓柱形件，如第1A及 斤不。在一態樣中，該支撐銷120可具有一較重的下 1260064 部或該第二端 1 20B可用一較重的材質來製成用以將該支 撐銷1 2 0的整體重心降低。例如，該銷1 2 0的下部或該第 二端 120B 可用較緻密的材料來製造，如使用鐵氟龍 (Telflon®)或塗上陶瓷的不銹鋼等材料。
該第一端或銷頭 120A直接與基材（未示出）接觸用以 支撐該基材。在一態樣中，該第一端120A被塗上一可降 低摩擦且不會與基材起化學反應的物質。例如，該第一端 1 20A可被塗上一化學上鈍態的物質用以降低或消除支撐 銷1 2 0與基材之間的化學反應。此外，該第二端1 20 A可 被塗上一能夠讓與基材之間的摩擦最小化的物質用以減少 斷裂或形成屑片。舉例性的塗料包括但不侷限於陶瓷材料 及氮化物，如氮化矽，氮化鈦，及氮化鈕。此外，第一端 120 A具有一被加工的或被研磨的拋光或其它適當的拋光 用以產生一不大於4微英吋的表面粗糙度用以將摩擦減至 最小。有關此等塗料的更詳細的說明可在美國專利第 6,528,767號中找到，該專利案藉由此參照被併於本文中。
在一態樣中，第一端12 0A可具有一平面的或大致平 面的表面，如圖所示。在另一態樣中，第一端 120A可具 有一圓角的上部其與基材相接觸。該圓角化的表面可降低 與基材接觸的表面積，藉以降低基材斷裂或形成屑片的可 能性。在一實施例中，該圓角化的表面類似一半球形，橢 圓形，或拋物線形。有關支撐銷及塗料的詳細說明可在美 國專利第6,528,767號中找到，該專利案藉由此參照被併 於本文中。 1260064 再另一態樣中，第一端120A可是一兩件式系統，其 具有一可被設置在該銷1 2 0的本體上的帽子（未示出）。該 帽子最好是用一陶瓷材料製成，且包括一中空本體用以容 納该銷1 2 0的本體。該帽子的上部可被圓角化及平滑化。 類似地，該帽子可被塗上與上文所述相同的塗料。有關此 兩件式系統的詳細說明可在美國專利第6,528,767號中找 到’該專利案藉由此參照被併於本文中。 在另一態樣中，第一端120A可以是一窩承其可讓一 球被可活動地保持在該窩承中。該球與基材相接觸並支撐 基材。該球被容許能夠在該窩承内旋轉，很像一球珠軸承， 讓該基材能夠在沒有刮痕下移動通過該球。該球通常是由 可降低摩擦及/或可抑制該球與基材之間的化學反應之金 屬或非金屬材質所製成。例如，該球可包括一金屬或今屬 合金，石英，青玉，氮化矽或其它適當的非金屬物質。最 好疋，該球具有一 4微英忖或更光滑的表面拋光。由關一 支撐銷的的詳細說明可在美國專利第6,528,767號中找 到，該專利案藉由此參照被併於本文中。 另一態樣中，第一端120A可是一兩件式系統，其具 有一可被没置在該銷1 2 0的本體上的帽子，該帽子包括上 述之窩承與球的結構。有關此一球與窩承的詳細說明可在 美國專利申請案第09/982,406及第1 0/3 76,85 7號中找到， 這兩個申請案的的名稱皆為’’Substrate Support’’，且皆被讓 渡給Applied Material公司。這兩個申請中的專利案藉有 此參照而被併於本文中。 10 1260064 本文所述的支撐件1 00, 200適合使用在任何的測試 室，處理室，或需要支撐一基材的系統中。例如，支撐件 1〇〇, 200在一沉積室中是特別適用，如化學氣相沉積（cvd) 室或電漿強化的化學氣相沉積（PECVD)室。為了清晰及易 於說明其件’ 一應用了本文所述的支撐件1〇〇，2〇〇的 PECVD室將在下文中參照第3及3A-3C圖加以說明。 第3圖為一電漿強化的化學氣相沉積（pECVD)室31〇 的示意剖面圖。該PECVD室包括一室本體312其具有一 開孔穿過一頂壁314及一氣體入口岐管316其被設置在該 開孔内。或者該頂壁3 14可以是實心的且該氣體入口岐管 316係位在與一内表面相鄰處。該氣體入口岐管316是作 為一電極之用且被連接至一電源3 3 6，如一 rf電源。 一基座或支撐件318被設置在該室本體312内。該基 座3 1 8與一板的形式相類似且與該氣體入口岐管3丨6平行 地延伸。該基座318典型地是用鋁所製成且被塗上一層铭 氧化物。基座3 1 8被連接至地極且作為一第二電極之用， 且連接至該電源336橫跨該氣體入口岐管316及該基座 3 18° 該基座318被安裝在一軸320的端部上，該軸320垂 直地延伸穿過該室本體312的底壁3 22。該軸320是可活 動的，用以容許該基座318垂直上下移動於該室本體312 内。兩個或多個支撐件300，即上文中所述的支撐件1〇〇 及200，被設置在該基座318的上表面上用以直接接觸基 材3 2 5。雖然只有兩個支撐件3 0 0被示出，但任何數量的 1260064 支撐件3 0 0都 3 00的數量及 及在該室3 1 0 件3 0 0都是相 在另一態樣中 10 0，2 0 0 的組 所述的支撐件 文所述的支撐 仍然參照 其延伸穿過該 連接至一幫浦 出。一氣體入 通，且經由一 來源（未示出） 頭344並進入 孔3 40用以均 個表面上。 第3A圖 定實施例的示 將一基材3 2 5 致平行於該基 兩根或多根支 面上，而不是 示出）中，基座 可被女排在該基座318的上表面上。支撐件 配置與將被處理的基材325的形狀，尺寸以 中實施的處理有關。在一態樣中，每一支撐 同的，如上文所所描述的支撐件1〇〇或2〇〇。 ，支撐件300是上文所述的支撐件實施例 合。例如，一或多個支撐件3 00可以是上文 實施例1 0 〇及一或多個支撐件3 〇 〇可以是上 件實施例2 0 0。 第3圖，該室310進一步包括一氣體出口 330 至本體312的側壁332。該氣體出口 33〇被 (未示出）用以將氣體從該室本體312中排 口導管3 42與該氣體入口岐管316成流體聯 氣體開關網路（未示出）被連接至不同的氣體 。處理氣體經由該入口導管342流經一蓮蓬 到該室本體312。該蓮蓬頭344包括複數個 勻地將氣體散布在將被處理的基材325的整 為該電漿強化的化學氣相沉積室31〇的一特 意剖面圖’該室具有一舉升組件3 2 4以方便 送上及送下一基座318。該舉升組件324大 座3 1 8且是可垂直移動的。在一實施例中， 撐銷300被設置在該舉升組件324的一上表 在該基座318的上表面上。在另一實施例（未 3 18及該舉升組件324兩者都具有兩根或多 12 1260064 根支撐銷3 00被 支撐銷3 0 0 的舉升孔3 2 8的 但任何數量的支 件324的上表面 的基材3 2 5的形 關。如前所述的 所描述的支撐件 可以是上文所述 第3B圖顯； 等支撐件3 0 0 ；j 内。在此實施例 支撐件3 0 〇被設 標件300位在正 的）時，該支撐件 的上側3 1 9A齊 二端304延伸超 件3 1 8被降低至 底面3 2 2接觸且 撐組件3 1 8的上 3 1 8間隔開來的； 在此實施例 不同的長度，使 時間被作動。例 設置在它們的上表面上。 被放置在可延伸穿過形成在該基座318上 位置處。雖然只有兩個支撐銷3 0 0被示出， 撐銷 100(或 200)都可被安排在該舉升組 上。支撐銷3 00的數量及配置與將被處理 狀，尺寸以及在該室310中實施的處理有 ，每一支撐件300都是相同的，如上文所 實施例1 0 0或支#件實施例2 0 0，或3 〇 〇 的支撐件實施例100，200的組合。 六一 PEVCD室310的另一實施例，其中該 皮設置成至少部分地位在該支撐組件 3 1 8 中，支撐組件3 1 8包括複數個穿孔3 2 8。 置成至少部分地位在這些孔3 2 8中。當支 常位置（即，相對於該支撐組件3 1 8是撤回 300的第一端302大致上與支撐組件318 平或稍微下陷。此外，該支撐件3 0 0的第 過該支撐組件3 1 8的下側3 1 9B。當支撐組 輸送位置時，支撐件300會與該室312的 被位移通過該支撐組件3 1 8，用以從該支 側3 1 9 A突伸出，藉以用一與該支撐組件 宁式放置該基材325。 的一態樣中，支撐件3 00如圖所示可具有 得支撐件3 00與底部322接觸且在不同的 如’較長的支撐件3 0 0被彼此間隔開地安
13 1260064 排在基材3 2 5 外緣朝向基材 基材3 2 5從外 在此實施 長度，但室3 被選定的支揮 在其它支撐件 或渠道（未示 些支撐件3 0 〇 第3C圖g 第3B圖所示 在該支撐組件 動該等支撐件 靠近該支撐組 300的第二端 如一氣壓汽缸 地被設置在該 324及支撐組, 一用來控制該 動的運動擋止 板324向上運 支撐件300推： 如上文所」 以在不同的時f 的外緣周圍，較短的支撐件300可從基材的 3 2 5的中心被朝内地間隔開地安排，以容許 緣至中心被逐漸地舉起。 例的另一態樣中，支撐件3 0 0可具有一致的 12的底部322可包括突起或高起部351位在 件300的底下，使得這些被選定的支撐件3⑽ 之前被作動。或者，室底部322可包含溝槽 i )對準於被選定的支樓件3 0 0底下，使得之 在其它支樓件之後被作動。 i員示一 PEVCD室310的另一實施例，其中如 地，該等支撐件300被設置成至少部分地位 318内，且該室亦包括一舉升板324用來作 3〇〇。在此實施例中，舉升板324被設置在 件3 1 8的底側3丨9B處，且是在該等支撐件 3 04的底下。舉升板324被耦合至一作動器， ，液壓缸，螺桿，螺線管，步進馬達或典型 室本體312外面的其它運動裝置（未示出）。 件318的垂直運動可透過一運用了一彈簧及 舉升板324與該支撐組件318之間的相對運 件之單一作動器來控制。在操作時，該舉升 動接觸該等支撐件3 00的第二端3〇4，其將 斤超過該支撐組件3 1 8的上表面。 通’支撐件3GG每-者都預有不同的長度用 巧作動該等支撐件3〇〇。典型地，被設置在 14 1260064 支擇組件3 1 8的周邊附近的支撐件3 〇〇的長度比被設置在 該支撐組件3 1 8的中心附近的支撐件3 〇 〇的支撐件長。一 才目反的配置亦可被使用。 使用上文所述之支撐件100，2〇〇的測試室及處理室， 如上文所述的處理室310，可被整合到一處理平台中，如 由设在美國加州的Santa Clara市的AKT公司所製造的 AKT 15K， 25K或40KPECVD系統。這些PECVD系統的
細卽係被描述在名稱為：Vacuum Processing Apparatus
Having Improved Throughput”的美國專利第 5,5 1 2,320 號 中。
第4圖為一顯示一舉例性的多室處理系統400的示意 頂視圖。該處理系統400包括一中央傳送室412，一用來 傳送玻璃基材進出該系統的負載鎖定室414被連接至該中 央傳送室。該處理系統400亦包括一或多個處理室438， 440，442，444，44 6，448，每一處理室都被設置在該中央 傳送室412的周圍。處理室43 8，440，442 , 444，446， 448中的任何一者或多者都可以是一化學氣相沉積（CVD) 室，一物理氣相沉積（PVD)室，一原子層沉積（ALD)室，一 退火或熱處理室，或此技藝中習知的其它處理室。利用本 文中所述的支撐件1〇〇，200，300之舉例性的CVD室被示 出且在上文中被說明。其它的處理室可以類似的方式使用 支撐件100，2〇〇，300，因此將不在本文中贅述。 負載鎖定室4 1 4包括一可閉合的開口 ，如一被設置在 該室的一側壁上之細縫閥4 1 6，用來將基材從大氣環境傳 15 l26〇〇64 适至該處理系統400的真空環境中。又，該負載鎖定室414 包含一匣盒（未示出）其内嵌設有複數個架子或平台用來支 釋及冷卻承裝於其内的基材，如第5圖所示。
第5圖顯示一特定的批次式儲存匣盒5 1 7的剖面圖。 517包括側壁512，514，一底壁516及一蓋子518。 複數個通道520被設置在側壁512，514中。在一態樣中， 通道20與入口導管524及出口導管526是流體聯通的，用 來循環一溫度被控制的流體。在另一態樣中，通道包含經 由一導管5 27連接至一電源（未示出）的加熱線圈。或者， 同樣的導管524, 526可被用來包覆該等加熱線圈且被用來 雜環該熱傳遞媒體於該等通道52〇内。 倒壁512’ 514的内部被截設有複數的導熱架560。架 子5 60與側壁5 1 2，5 1 4導熱良好地相連結用以確保快速且 均勻的架子560的溫度控制。可被用來製造既子560的材 料的例子包括但不侷限紹，銅，不錄鋼，鍵銅等。
一或多個上文中參照第1 A-1D圖及第2A-2C圖描述的 支撐件300被適當地安排自每一架子560上用來支擇一玻 璃基材532於其上。該等支撐件3〇〇支撐著將被處理的玻 璃基材532 ’使得在架子560與基材532之間有一間隙。 此間隙可確保架子5 60與破璃基材5 3 2之間不會有直接接 觸’直接接觸會對玻璃基材532形成應力並將玻璃基材斷 裂或會造成污染物從架子560被轉移到玻璃基材532上。 玻璃基材532藉由幅射及氣體傳導被間接加熱，而不是藉 由玻璃基材532與架子560的直接接觸來加熱。又，玻璃 16 1260064 基材532與架子560的穿插設置使得熱可從玻璃基材532 的上方及下方被傳遞到玻璃基材532上，藉以提供更加快 速及更均勻的玻璃基材加熱。
再次參照第4圖’玻璃基材可被手動地或以自動化的 方式載入到該處理系統4 0 0中。如第4圖所示的，一被安 裝在該處理系統4 0 0的外面與該負載鎖定室4 1 4相對的第 一站台處的軌道架48 0上之市面上可購得的機械臂474可 從一儲存匣盒41 7A，B或C處取得一玻璃基材，並經由該 負載鎖定室4 1 4 一次一片地將玻璃基材載入到該處理系統 400。同樣地，該機械臂474可從該負載鎖定室414中取得 已處理過的基材並將該基材送回到儲存匣合417A, B或C 中的一者内。相同地，一被設置在該輸送室412内的機械 臂（在此圖中未示出）移動玻璃基材並將玻璃基材放在該處 理系統400内。
雖然以上所述係有關於本發明的實施例，但本發明的 其它及進一步的實施例可在不偏璃本發明的基本範圍下被 完成，且本發明的範圍是由以下申請專利範圍來決定。 【圖式簡單說明】 本發明之一更為特定的描述可藉由參照顯示於附圖中 之實施例而被作成，使得本發明之上述特徵，優點及目地 可被詳細地暸解。然而’應注意的是，附圖中所示者為本 發明之典型的實施例，因此不應被認為是本發明範圍的限 制，因為本發明可以有其它等效的實施例。 17 1260064 第1 A圖為本發明的一支撐件的實施例的一立體示意 圖。 第1B圖為示於第1A圖中之一襯套的實施例的立體示 意圖。 第1C圖為示於第1A圖中之一軸承件的實施例的立體 示意圖。 第1 D圖為示於第1 C圖中之軸承件的部分剖面圖。 第2A圖為本發明之支撐件的另一實施例的立體示意 圖。 第2B圖為示於第2A圖中之支撐件的頂視圖。 第2C圖為示於第2A圖中之支撐件組合好的另一立體 示意圖。 第3圖為一舉例性的電漿強化的化學氣相沉積室的示 意剖面圖，該電漿強化的化學氣相沉積室單獨地或組合地 使用到示於第1A-1D圖及第2A-2C圖中之支撐件。 第3A圖為示於第3圖之電漿強化的化學氣相沉積室 的一特定實施例的示意剖面圖。在此實施例中，該室包括 一舉離板用以方便將一基材送上及送下一基座。 第3B圖為示於第3圖之電漿強化的化學氣相沉積室 的另一特定實施例的示意剖面圖。在此實施例中，示於第 1 A-1C圖及第2A-2D圖中之支撐件被設置成至少部分地在 一位在該室中的支撐組件内。 第3C圖為示於第3圖之電漿強化的化學氣相沉積室 的另一特定實施例的示意剖面圖。在此實施例中，示於第
18 1260064 1A-1C圖及第2A-2D圖中之支撐件如第3B圖所示地被設 置成至少部分地在一位在該室中的支撐組件内。該室亦包 括一舉升板用來作動該等支撐板。 第4圖為一舉例性多室處理系統的示意頂視圖。 第5圖為一批次式加熱或冷卻匣的剖面圖，該批次式 加熱或冷卻匣單獨地或組合地使用到示於第1 A-1 D圖及第 2A-2C圖中之支撐件。
【主要元件符號說明】 100 支撐件 102 襯套 105 中央子匕 107 窗口 110A- B 袖承件 112 滾子 113 中央？L 114 軸 115 切除部 120A 第一端 120B 第二端 200 支撐件 202 襯套 205 iL 210 套筒 220A-D 軸承‘ 221 球形件 222 球形件 230A. D 窗口 240 凸緣 300 支撐銷 302 第一端 304 第二端 310 室 312 室本體 3 14 頂壁 316 氣體入口岐管 318 支撐組件 319A 上側 3 19B 底側
19 1260064
320 軸 322 底 壁 324 舉 升 組件 325 基 材 328 孔 3 30 氣 體 出 σ 332 側 壁 336 電 源 340 複 數 個孔 342 氣 體 入 口 導 管 344 蓮 蓬 頭 35 1 突 起 或 高 起 部 400 處 理 系統 412 中 央 傳 送 室 414 負 載 鎖定室 416 細 縫 閥 417A -C 儲存匣盒 438- 448 處 理 室 474 機 械 臂 480 執 道 架 512,514 側壁 516 底 壁 517 批 次 式儲存匣盒 518 蓋 子 520 通 道 524 入 口 導 管 526 出 π 導管 527 導 管 532 玻 璃 基材 560 導 熱 架 子
20

Claims (1)

1260064 第和號專利案贫年·夕月修] 龜
π員明示，本1I-S ι$·χ>變吏毛|質内焚 拾、申請專利範圍： 1. 一種基材支撐件，其至少包含： 一殼體，其具有一穿通它的孔；及 複數個被設置在該殼體内的軸承件，其中該複數個軸承件 各自包含一形成在該軸承件内的中央孔、及一軸其被設 置成至少部分地穿過該中央通孔。 2 ·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐件，其中該殼體 包含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個 形成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承 件被至少部分地設置於其内。 3 ·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐件，其中該等軸 承件包括一内凹的的外表面用以順應設置在該殼體的孔 内之一支撐銷的外徑。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐件，其中每一軸 承件都是一滾子。 5 ·如申請專利範圍第1項所述之基材支撐件，其中每一軸 承件都是一滾子，其與設置在該殼體的一孔内之支撐銷 有實體的接觸。 21 1260064 6. —種基材支撐件，其至少包含： 一殼體，其具有一穿通它的孔； 一支撐銷，其被至少部分地設置在該孔内；及 複數個滾子，其被設置在該殼體的周圍，其中每一滚子都 包含一本體、及一軸。
7 ·如申請專利範圍第6項所述之基材支撐件，其中該殼體 包含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個 形成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有該些軸 承件之一被至少部分地設置於其内。 8 ·如申請專利範圍第6項所述之基材支撐件，其中每一滾 子都具有一外表面用以支撐銷。
9. 一種基材支撐件，其至少包含： 一殼體，其具有一穿通它的孔； 一支撐銷，其被至少部分地設置在該孔内；及 複數個軸承件，其被設置在該殼體的周圍。 1 〇 ·如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該殼體 22 1260064 包含至少一或多個穿通的窗口 ，每一窗口都具有一軸承 件被至少部分地設置於其内。 1 1 .如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該殼體 包含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個 形成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承 件被至少部分地設置於其内。
1 2.如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中至少一 軸承件包含一滾子，其具有一中央通孔、及一軸其被設 置成至少部分地穿過該中央通孔。
1 3 .如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該支撐 銷具有一圓形的剖面且每一滾子都具有一内凹的的外表 面用以順應該支撐銷的外徑。 14.如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該殼體 包含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個 形成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承 件被至少部分地設置於其内，該等軸承件包含一滚子， 其具有一中央通孔、一輪靡的（contoured)外表面、及一 轴其被設置成至少部分地穿過該中央通孔。 23 1260064 1 5 ·如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中至少一 軸承件包含一球組件其包含一較大的球形件及四個被安 排在該較大的球形件周圍之較小的球形件。
1 6.如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該較大 的球形件及四個較小的球型件都是被設置於一形成在該 殼體中的球座内。 17.如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其更包含一 中空的套筒其被設置在該殼體的周圍。 1 8.如申請專利範圍第1 7項所述之基材支撐件，其中該中 空的套筒被設計成可將該等軸承件固定在該殼體上。
1 9.如申請專利範圍第1 8項所述之基材支撐件，其更包含 一設置在該殼體的第一端周圍的承窩（socket)，該承窩被 設計成頂抵該中空套筒的一第一端。 2 0.如申請專利範圍第9項所述之基材支撐件，其中該殼體 包含一或多個穿通地形成在其第一端處的球座，及一或 多個穿通地形成在其第二端處的球座，每一球座都具有 一軸承件被至少部分地設置於其内，該等軸承件包含一 24 1260064 球組件其包含一較大的球形件及四個被安排在該較大的 球形件周圍之較小的球形件。 2 1 · —種處理室，其至少包含·· 一室本體，其具有一支撐托盤設置於其内； 兩個或多個支撐件，每一支撐件都被設置在該支撐托盤的 上表面上，該等支撐件包含：
一殼體，其具有一穿通它的孔； 一支撐銷，其被至少部分地設置在該孔内；及 複數個軸承件，其被設置在該孔内。 22 ·如申請專利範圍第2 1項所述之處理室，其中該殼體包 含至少一或多個穿通的窗口 ，每一窗口都具有一軸承件 被至少部分地設置於其内。
2 3.如申請專利範圍第21項所述之處理室，其中該殼體包 含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個形 成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承件 被至少部分地設置於其内。 24.如申請專利範圍第2 1項所述之處理室，其中至少一軸 承件包含一滾子，其具有一外表面，用以接觸該支撐銷。 25 1260064 2 5 .如申請專利範圍第2 4項所述之處理室，其中該支撐銷 具有一圓形的剖面且每一滾子都具有一内凹的的外表面 用以順應該支撐銷的外徑。 2 6.如申請專利範圍第2 3項所述之處理室，其中該殼體包 含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個形 成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承件 被至少部分地設置於其内，該等軸承件包含一滾子，其 具有一中央通孔、一輪廓的（contoured)外表面、及一軸 其被設置成至少部分地穿過該中央通孔。 27 ·如申請專利範圍第2 1項所述之處理室，其中至少一軸 承件包含一球組件其包含一較大的球形件及四個被安排 在該較大的球形件周圍之較小的球形件。 2 8 ·如申請專利範圍第2 7項所述之處理室，其中該較大的 球形件及四個較小的球型件都是被設置在一形成在該殼 體中的球座内。 2 9.如申請專利範圍第2 1項所述之處理室，其更包含一中 空的套筒其被設置在該殼體的周圍。 3 〇 ·如申請專利範圍第2 9項所述之處理室，其中該中空的 26 1260064 套筒被設計成可將該等軸承件固定在該殼體上。 3 K如申請專利範圍第3 0項所述之處理室，其更包含一設 置在該殼體的第一端周圍的承窩，該承窩被設計成頂抵 該中空套筒的一第一端。
32.如申請專利範圍第21項所述之處理室，其中該殼體包 含一或多個穿通地形成在其第一端處的球座，及一或多 個穿通地形成在其第二端處的球座，每一球座都具有一 軸承件被至少部分地設置於其内，該等軸承件包含一球 組件其包含一較大的球形件及四個被安排在該較大的球 形件周圍之較小的球形件。 3 3 . —種基材支撐件，其至少包含： 一殼體，其具有一穿通它的孔；及
複數個被設置在該孔内的軸承件，其中至少一軸承件包含 一球組件其包含一較.大的球形件及一或多個被安排在該 較大的球形件周圍之較小的球形件。 3 4.如申請專利範圍第3 3項所述之基材支撐件，其中該較 大的球形件及一或多個較小的球型件都是被設置在一形 成在該殼體中的球座内。 27 1260064 3 5 .如申請專利範圍第3 3項所述之基材支撐件，其更包含 一中空的套筒其被設置在該殼體的周圍。 3 6 .如申請專利範圍第3 3項所述之基材支撐件，其更包含 一支撐銷，其被至少部分地設置在該孔内。
3 7.如申請專利範圍第3 3項所述之基材支撐件，其中該殼 體包含一或多個穿通地形成在其第一端處的球座，及一 或多個穿通地形成在其第二端處的球座，每一球座都具 有一軸承件被至少部分地設置於其内。 38. —種基材支撐件，其至少包含： 一襯套， 一孔，穿通該襯套而形成； 一支撐銷；及
複數個滾子軸承，各滾子軸承被一軸支撐於該襯套内 並具有接觸該支撐銷之——外表面，其中至少該支撐銷之一 部分係設置在該孔内。 3 9.如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該襯 套包含一或多個形成在其第一端處的穿通窗口及一或多個 形成在其第二端處的穿通窗口 ，每一窗口都具有一軸承件 被至少部分地設置於各窗口内。 28 1260064 40.如申請專利範圍第39項所述之基材支撐件，其中該第 一端和該第二端係被隔開。 4 1 .如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該軸 之至少一端部被切削用以形成一圓錐形。
42.如申請專利範圍第3 9項所述之基材支撐件，其中該襯 套包含一或多個穿通地形成之切除部，其在第一端鄰接一 或多窗個口 ，以及一或多個穿通地形成之切除部，其在第 二端鄰接一或多窗個口。
43 .如申請專利範圍第42項所述之基材支撐件，其中至少 該複數滚子軸承之其中之一之該軸之該等圓錐端之一的一 部分、以及至少該複數滾子軸承之其中另一之該軸之該等 圓錐端之一的一部分被配置在其中並由一鄰接的切除部支 撐。 44 ·如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該滾 子軸承包含一選用自陶瓷、石墨、不鏽鋼、鋁合金或其等 之組合物所組成群組中之材料。 45.如申請專利範圍第38項所述之基材支撐件，其中該滾 29 1260064 子軸承包含一陶曼。 46.如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該滾 子轴承包含一铭合金。
47 ·如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該複 數滚子軸承之一第一組係配置在該襯套中，使該支撐銷方 便在相對於該襯套進行軸向移動，以及該複數滾子軸承之 一第二組係與該第一組分開地配置在該襯套中，使該支撐 銷方便在相對於該襯套進行軸向移動。 48·如申請專利範圍第38項所述之基材支撐件，其中該複 數滾子軸承之各自外表面係藉由該支撐銷之外表面來機械 性聯絡。
4 9.如申請專利範圍第38項所述之基材支撐件，其中該支 撐銷之外表面包含具有圓形剖面之一圓筒形狀。 5 0·如申請專利範圍第38項所述之基材支撐件，其中該軸 具有一圓形剖面。 5 1 ·如申請專利範圍第3 8項所述之基材支撐件，其中該孔 具有一圓形剖面。 30 1260064 5 2.—種基材支撐件，其至少包含： 一圓筒形狀襯套； 一圓筒形孔，穿通該襯套； 一支樓鎖；及
複數個滾子軸承，位於該圓筒形襯套之一第一端，及複數 個滚子軸承，位於該圓筒形襯套之一第二端，其中至少該 該支撐銷之一部份係配置在該圓筒形孔之内，且其中各滾 子軸承包含一本體其具有一外表面，用以接觸該支撐銷。 5 3.如申請專利範圍第52項所述之基材支撐件，其中各滾 子軸承包含一選用自陶究、石墨、不鏽鋼、铭合金或其等 之組合物所組成的群組中之材料。 5 4.如申請專利範圍第52項所述之基材支撐件，其中該第 一及第二端係被分開。
5 5.如申請專利範圍第52項所述之基材支撐件，其中更包 含複數軸，用以支撐該複數滾子軸承，其中各軸具有一圓 形剖面。 5 6.如申請專利範圍第5 2項所述之基材支撐件，其中更包 含位於第一端之至少一或多個窗口 ，以及位於第二端之至 少一或多個窗口 ，其中該等複數滾子軸承之各自本體的至 少一部分係配置在各窗口内。 31
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