TWI234690B - A pellicle for lithography and a method for manufacturing the same - Google Patents

Description

1234690 五、發明說明（1) 、【發明所屬之技術鋇域】 本發明係關於微影上為 光罩阻擋異物使用之微影用 是有關於製作液晶顯示板之 層。 mu:? 導體製 體晶圓 異物附 吸收光 了邊緣 質、外 作良率 操作係 乾淨地 取貼附 層的方 之表面 點對準 無相關 基本構 光線良 液，藉 作或液晶 或液晶用 著於使用 ’或是為 生成毛邊 觀等，導 下降等問 於無塵室 保持曝光 用以阻擋 法。此情 上，而是 曝光原板 性。 造’構造 好通過的 由旋轉塗

二、L先前技術J LSI、超LSI等半 雖然將光照射於半導 疋於此情形下，^一旦 光罩），此異物往往 之圖案往往變形，除 受污，損及尺寸、品 顯示板等之性能或製 為此，一般此等 此無塵室内，平常要 光原板之表面上，採 能良好通過之光罩護 直接附著於曝光原板 上，微影時，若將隹 膜上之異物與轉印便 如此光罩護層之 膜，由使曝光所用之 維素等所構成的塗布 顯示板等之製作上， 原板而製作圖案，但 之曝光原板（微影用 了將光彎曲而轉印出 之外，底層往往變零 致半導體裝置或液晶 題。 内進行，因為即使於 原板是困難的，於曝 異物而使曝光用光線 形下，由於異物並不 附著於光罩護層膜 之圖案上，光罩護層 上包含：a)光罩護層 胡化纖維素、醋酸纖 布法塗布於平滑之基

第6頁 1234690 五、發明說明（2) '__ 板上’將該塗布液中之溶劑予以乾燥之/ 上所形成的透明膜予以剝離；b )光罩遵後’從基板將基板 氧化銘膜的A 7 0 7 5等之紹合金、不錄^ 运框’由施予黑色 成；將光罩護層膜與光罩護層框，於今f乙~荨所構 光罩護層膜之良好溶劑，經風乾後進^ =之一邊端面塗布 專利文獻1 )，或是以壓克力樹脂或環仃&勒附例如，參照 行黏附（例如，參照專利文獻2、3 ) 知等黏接劑進 於該光罩護層框之另一邊端面，由為了壯C>)黏附層， 丁烯樹脂、聚醋酸乙稀酯樹脂、壓克力_二二光原板之聚 凡刀树脂等所構成；d) 光罩黏附層保護用襯裏，以該黏附層之保護為目的 【專利文獻1】 ’ ' 日本公開專利公報第昭5 8 - 2 1 9 0 2 3號 【專利文獻2】 美國專利申請書第486 1 402號 【專利文獻3】 日本公開專利公報第昭63-277 0 7號 三、【發明内容】 發明所欲解決之問是j 近年來，於液晶顯示板等製作步驟上之微影步驟，已 逐漸使用光罩護層。此情形所使用之光罩護層係利用鏡面 投射方式等形成成批曝光方式之情形，相較於半導體製作 步驟所使用之光罩護層（了5〇 Cm2以下：實用化最大内徑已 達1 2忖）’必須為非常大尺寸之光罩護層（1 〇 〇 〇 c m2以上

1234690 五、發明說明（3) )。即使如此尺寸夕| ^ ,取 轉H # A #胃f 光罩護層之情形，使用習知之旋 :法作為先罩護層膜之製作方法。 的士 1 : ’利用旋轉塗布*，例如製作1 0 0 0 cm2以上尺寸 的大型光罩護層膜夕丨主〜 要右非a夕旦 、月形的問題點·①形成塗布液膜必須 液：；：； = ::量= :ί”，：旋轉中，塗布 外，②利用旋轉条布： 成本；另 之不均現象將變多形成大型基板薄膜之情形，膜厚 a 膜厚分布之面内分布大於士 罩護層膜再先者線透③過：等問題 型基板高速旋轉是5，:大型基板難之事，使重的大 別重要之問題，：如二邊，高製作成本等是另一問題。特 寸大的光罩護層膜之_ ，實際上藉由旋轉塗布法製作尺 應具有之光學特性的^ f s’產生難以顯現光罩護層膜本身 本發明有鐘於如L題’:占。 較大型尺寸之微$用之問題點，主要目的在於提供—種 之旋轉塗布法等了可光罩護層及其製作方法，相較於習知 光罩護層，一種具;M，單且確實地製作既價廉又大型之 且高的光罩護層膜。犋厚之不均現象少、光線透過率均勻 解決問題之方j 因為為了解決兮、n 層，至少具有：、μ课碭，本發明提出一種微影用光罩護

第8頁 五、發明說明（4) a )光罩護層膜，阻擋異物用； b )光罩護層框，黏貼該光罩護層膜· c) |占接劑層，為了黏貼光罩護層膜而 層框之一邊端面； 、尤卓禮 d) 黏附層，設於光罩護層框之 徵為： 邊彡而面，及其特 範圍= 員罩)護層膜係利用金屬模塗布機形成的（申請專矛 相較半成光草護層膜， 理大型基板之微影步驟等所用之 層膜’於肩 均現象，也提高膜就:r❹ 成基板丄使圖案得以順利形成蒦…夠於大型之圖案形 严八：：：：，光罩護層膜之面積為100〇cm2以卜 “布之面内分布為土 m :以上，並且港 為⑽0上之本二”微影用光罩護層薄膜’即係員丄。 “⑽以内，相，Λ薄膜，、—旦膜厚分布之面厚以 現象為極小，適乂用'於1 〇%以上之習知薄臈，膜戶：為 本發明H (申請專利範圍第3項）。 作液晶 之极影用光罩護層薄膜，例 即使面積大於 1234690 五、發明說明（5) 1 0 0 0 cm2以上之大型薄膜，由於膜厚之 光線透過率於面内亦為均勻，特別能高不均現象為極小、 蜇圖案形成基板之製作液晶顯示板=^，於成為處理較大 另外，本發明提供一種光軍護#脛微影步驟。 包含： 隻層膜之製作方法，至少 a) 將光罩護層膜原料溶解於 /合^而調配塗布液的步 b) 將該塗布液塗布於基板上的步驟； c) 將塗布該塗布液之基板予的 徵為： 钇“的步驟；及其特 4項）利用金屬模塗布機進行該塗布㈣（中請專利範圍第 如此方式，本發明於製作光罩護層膜之際，藉由 u塗布機進行習知利用旋轉塗布機等施行的塗布液之 塗难二2 ’即使於製作較大面積之光罩護層膜的情形，浪 費之塗布液少而完成塗布，另外，由於塗布時不必使基板 旋轉此夠既簡單且價廉地加以製作，並 不均現象極少，光線透過率高且均勾之光罩護；：膜厚 此情形下，最好以下式（1)所求出範圍之塗布液 ，利用該金屬模塗布機進行塗布步 Π / 飞Γ / ,. 驟 之 量 0.9xVl<V<l.ixy1 (VI =S X t/ (D/100 ) V (m3 ) ··塗布液量 # s (m2 ) ΐ (m ):乾燥後膜厚 基板面積 五、發明說明（6) 如此方式，對於士 s、以及塗布液濃度C之乾燥，膜厚t、基板面積 液量V大於VI之〇. 9倍、"""的塗布液量V1，藉由設定塗布 所要求之乾燥後膜‘ Ύ於？之1 · 1倍範圍的量，針對 ± 1 0 %以下之範圍。 I夠使乾無後膜厚分布小於 此情形下，最好於基 下之空氣中，5分鐘以卜n ± 虱k迷為每秒30cm以 之彿點以上的溫度進行二乾該由乾主燥步驟之後’於塗布液 /又退仃乾煉（申請專利範圚 如此方式，藉由於美姑“夕：：：圍弟6項）。 下之空氣中，5分鐘以\土 义 工氣 '仙·速為每秒3 0cm以 為光罩護層膜之膜厚不均現象發生的原因抑制乾燥步驟成 ^此方式’本發明製作光罩護層膜之 上（申請專利範圍第7項）。 積為1 0 0 0cm以 如此方式，若根據本發明之光罩護声 即使製作光罩護層膜之面積為1〇〇〇cm2以9上之的衣作方法， 膜的情形，相較於習知之旋轉塗布法之大型光罩護層 便完成塗布、⑨塗布時不必使基板旋轉布液 廉地製作，另外，也能夠製作膜厚不均現^ ^既間早且價 率均勻之光罩護層膜。 — 夕、光線透過 而且，本發明提供一種微影用光草護層之制 :少於光罩護層框之一邊端面設置黏接劑層，ς 本* 明之方法所製作的光罩護層膜，藉由黏接 用本毛 光罩護層框之一邊端面（申請專利範圍站貼於該 礼固弟8項）。提供利 五、發明說明（7)

^方去所製作的微影用光罩護層（申請專利I 用習知之旋= 影用光罩護層，例如’ 製作如液晶顯示板鼓旦斤：成的光罩護層膜，同 為具有能夠減少並抑制所用之較大賴 勻的光罩護岸膜。、厚之不均現象、光線这 的話，即使‘大型之圖宰开若Τ微影步驟使用如此 成。 w案形成基板，也能夠使圖 干你ϋ明人等不斷鑽研的結果，發現於梦作於 :驟=用的較大型微影用光罩護 模塗布二 若 透過率高且均勾：膜之膜厚不均現象 光罩蠖層膜，使本發明得以完 四、【實施方式】 發明針對本發明之實施態樣進行說明 4明並不限定於此等實施態樣。 兄月 如圖1所示’本發明之光罩護層5，至 先罩護層膜2、黏接層3、與 層5係於光罩護層框丨之一邊 所構成 黏接劑層6而邦p太#罢 m 光罩護層 端而：:罩護層膜2 ’此情形下，通當 、面形成光罩貼附用黏接層3,㈣光罩貼：二 色圍第9項 相較於利 7使如為了 •罩護層， 過率也均 光罩護層 案順利形 如液晶顯 層之際， 利用金屬 到一種微 少、光線 成0 ，但是本 罩護層框 。光罩護 膜黏接用 於另一邊 fe接層3之 1234690 五 發明說明（8) 下方端面以可剝離方式貼附保護用襯裏（脫模層）4。 2、相較於習^之半導體製作步驟等所使用之面積為75〇 m以下的光罩護層膜，本發明之微影用光罩護層薄膜 0，即使於製作如大型液晶顯示板之時的微影步驟等 =大的光罩護層膜’其膜厚之不均現象少、錢透 = =。亦即，即使光罩護層膜之面積為1〇〇〇 CM以上的大^ ，相較於利用習知之旋轉塗布法等所形成的薄 罩諉二2 =分ΐ之面内分布大於10%，本發明之微影用光 & /膜極仫’為土 10%以内、甚至於± 5%以内且膜严 不均現象極少’ &線透過率既均勻且罩 甚至能夠作成觸一上，卿= 夠為“之Κι:;即罩護層膜’也能 胺改命 豕 先線透過率尚的光罩護層膜。您 〇:5二ί本二觀點而言’如此光罩護層膜的厚度最好為 上、2〇//m以下之範圍。 勹 解於溶劑中::膜至少經由：，光‘罩護層膜原料溶 該塗布液塗布：基驟及模塗布機而將 板予以乾燥的步驟等。，及將已塗布該塗布液的基 針ί止針^塗布液的調配步驟進行說明。 使用確化纖=^層膜原料之種類’並無特別之限制’可以 無定形氣；合:之：；纖；:二定t形氣(聚合物等。作為 (股份）t 1 μ t 舉ytop (日本旭石肖子 商 口口名）、Teflon AF (Dup〇n (股份）製， 1234690 五、發明說明（9) 商品名）等。此等聚合物（光罩 溶解於溶劑的形式，或是也可濩層膜原料）係作成預先 必要的話，溶解於溶劑後使用，2其光罩護層膜製作時， 等予以適度溶解。 σ ’可以利用氟系溶劑 接著，塗布步驟設為利用金 屬模塗布機之種類並無特別之限*主布機進打。雖然金 最好塗布液膜之厚度均勻性 ，於塗布塗布液之時， 層膜之膜厚不均現象。 ^於乾燥後不易產生光罩護 例如，可以使用如圖2所示之 屬模塗布機11係經由排料幫浦12 H 1。此金 移動金屬模塗布機行排料，-面 直到所要求之厚度為止進行塗布布4f的基板b上’ 金屬模塗布機必須具備：於特別 罩護層膜，由於塗布後之薄膜均勻子句勻性之光 了，排料後之塗布液塗布於置於平直向 屬:莫Ϊ布機可以利用習用之技術。例如，i好 ι142!i !"i644457 a ^ ^ ^ ^ ^ ^ ^ :421唬揭不之裝置。具體而言，例如 屬模塗布機（FLORIA II日本中外焯工掌制金 ^精=排料型FAS塗布機裝置龍_16〇〇 (日 製，商品名）等。 +馬洋衣作所 求之屬模塗布機進行塗布的塗布液量能依據所要 衣之軋燥後膜厚而予以適度決定。 丨受

第14頁 1234690 五、發明說明（10) 具體而言’最好進行塗布的塗布液量，依下式（ 決定。 °-9xVl<V<l.lxy1 (j) (Vl =S X t/ ( D/l 〇〇 ) v ( m3 ):塗布液量p s ( m2 ):基板面積 ΐ ( m ) ••乾燥後膜厚_ d ( % ):塗布液濃度） 、 塗布液量v可由所要求之乾燥後膜厚t、基板面積s、 =及塗布液濃度D倒算出的所要求之塗布液量V1而求得。 1塗布液量V大於V1之〇· 9倍、且小於¥1之1 1倍範圍的 ^針對所要求之乾燥後膜厚，例如，能夠使乾燥後膜厚 为2小於土 1〇%以下之範圍。由於乾燥後之膜厚視塗布、時子 ^ ^液量而定，必須將塗布時之塗布液量至少設為所要 :=布液量的± 1〇%以下之範圍。若利用金屬模塗布機 甘布將塗布液於土 1 0 %以下之範圍進行塗布是容易 q’/、結果，能夠使乾燥後之膜厚於± 1 0%以内。尤苴， 右利用金屬模塗布機，則可以於± 5%以内。 八 進行可以如下方式進行：f先，於空氣中 *勒f 揮某種程度而行風乾，接著，藉由乾燥機 2…板進行加熱乾燥以完全去除溶劑。例如，4 鈕鹿— 等強的下降氣流之…行該加熱;鮮=風：於f塵室 心腺上將發生膜厚不均現象。因此， 伋 …秒3。⑽下之氣流下，最好進：適二之氣流'，最 垛。還有，此乾燥時間最好於1 00分鐘以二里『上之乾 1 〇 〇分镑f具护Μ 丄 里从内。即使進行較 “里更長4間之乾燥，因為乾燥效果幾乎不變，反而

1234690 光罩護層 層進行說 材質。 並無特別 使用之鋁 而染成黑 聚曱基丙 玻璃、石 面’一般 對於此光 制。例如 玻璃珠等 磨而將表 =i外、，利用該乾燥機等加熱乾 X * k布液膜之膜内的對流現象， 之膜面溫度的溫差降至極小後再進 衫f驟並無特別之限制，光罩護層 狀恶亦無妨，不進行染色或喷塗也 表面。 4層框之一邊端面，可以設置至少 〆同’右無必要也可以不設置通氣 五、發明說明（11) 會增加污染物附著等弊 燥，為了防止於乾燥中 表好將基板與塗布液膜 行。 接著，進行微影用 框、黏接劑層以及黏附 等物質可以使用習知之 首先，針對無塵室 如，可列舉：於習知所 理之後，利用黑色染料 駿、聚碳酸_、PMMA ( 等之樹脂，再者，青板 對於光罩護層框表 進行粗糙化，而本發明 法’材質並無任何之限 利用不銹鋼、金剛砂、 利用NaOH等進行化學研 此種方式。 另一方面，對於微 框之表面，即使為平滑 可以，並不限定於此等 另外，至少於光罩 一個以上為了通氣之孔 孔。 之組合。針對光罩護層 明。還有，於本發明，此 之限制，作為其材質，例 材（紹材進行陽極氧化處 色）、鋼、不銹鋼、聚甲 稀酸甲酯）、壓克力樹脂 英玻璃等。 利用端面噴塗或化學研磨 罩護層框表面之粗糙化方 ’使用#呂材之情形，習知 進行表面之噴塗處理，再 面予以粗糙化，能夠使用 ^1 第16頁 1234690

没置通氣孔之情开^ > 數、位置，並無特別^對於該通氣孔之尺寸、形狀、個 口處之通氣口的過滹哭/制，最好根據設置於該通氣孔開 通氣口所求得的通巧旦罔眼尺寸、過濾面積、或是從此等 置。最好的話，不；：罢而選擇其尺寸、形狀、個數、位 需求之最低量的通氣二。而求以上之大通氣口，可以設置 作為使用於通_ η如八 > 仏α 之除塵用過濾器 通氣口部分之物質， * 匕濾器，只要能夠設置於 制。作為此過濾器之材質尺狀、材質並無特別之限 乙烯）、Ny1〇n 66等）：全樹脂（謂（聚四氟 竟（紹、氮化銘等）。屬（316[不銹鋼等）、以及陶 者’作為光罩護戶^藤^勤 使用習知慣用之黏 7 ^寸用4附層之黏接劑，能夠 劑、環氧樹脂點ii 可列舉：|克力樹脂黏接 等氟聚合物等：复丨、ΐ:=黏接劑、含氟矽樹脂黏接劑 作為形忐伞货 月日、鼠系聚合物。 F句化成先罩貼附用黏接劑屑 面黏貼膠帶、矽执此★ w 釗曰之黏附劑，可列舉：雙 附劑等。 兄力糸黏附劑、熱熔系黏 ，Γ奉毛明之光罩護層係利用一般方+ 框之一邊端面，夢由亦|嘈厣睹方去，能夠於光罩讀 罩護層膜，另夕卜，曰一般於另：邊二接用黏接劑層而㈣ =而進行IU乍，於其光罩貼附；：：成光罩貼附用 :剝離方式貼附脫模層（保護用“寸層之-邊端面， 日框之—邊端面所形成的光罩護^ &此時，於光罩 ^ Μ黏接用黏接劑層，

U34690 五、發明說明（13) -- 由以必要之溶劑稀釋黏接劑而塗布於光罩護層框之一 ，面，經加熱後乾燥、使其硬化而形成。此情形下，作 流塗布方法，可以採用毛刷塗布、喷灑、自動喷 特別Si光二：附用黏附層之保護用襯裏，其材質並無 :制，例如，可列舉：pET (對苯二甲 _ :、PE、PC(聚碳酸醋）、氯乙稀、pp(聚 點：以銘箱等’能夠使用於此等襯裏中塗布從 仃滑賦予脫杈性的脫模劑。 實施例 以下 歹J舉μ施例及比較例以具體說明本發明 (實施例1 ) 9〇〇-x 5mm寬:\::二6罩4層框’備妥框外尺寸80 0_x 端面2設置-直徑U-之通：孔…於此框之-邊 W之端面喷塗tm’ 1用破璃珠，於排料壓1.5kg/ 以粗链化。接= 洗淨之後，進行陽極氧化、染成黑：：=秒鐘處理、 形成黑色的氧化覆膜。 ·、、 ^ 处理，於表面 將此I呂合金製框，合併 行洗淨。接著，利帽塗布展置水淨裝置進 衣罝，於此框之内侧表面，

第18頁 1234690

塗布1 /z m之矽系黏附劑。 接著，於该通氣孔之開口處，設置材質為pTFE、塵埃 過濾尺寸（網眼尺寸）為〇.1〜3.〇/^、 、 m之過濾器而作成

99.9999%、寬9.5、高 2.5mm、厚3〇〇 v w A 光罩護層框。 、接著，將丁eflon AF 1 6 0 0 (美國DuP0n公司製，商品名 )溶解於氟系溶劑之FlU0rientFC一75(美國3M公司製， 商品名）而調配濃度6%之溶液。 接著，利用此溶液（塗布液濃度D =6% )，於1〇〇〇匪 X 1 0 0 0mm、厚度5mm之鏡面研磨的合成石英基板面（基板 面f S ~lm2 ) ’為了得到厚度2 _之光罩護層膜（乾燥後 膜厚t — 2 X 10 6m )，利用縫口金屬模塗布機（FL〇RIA ^工 曰本中外爐工業製，商品名）而形成膜厚為Μ 之塗布 膜（塗布液量V=塗布膜厚X基板面積=35>< 1〇-6 m3 (35ml ))(V1 =Sx 七/ (D/ 1 0 0 ) = 33· 3 x 10-6 。因而，〇· 9χ V1 <V = 35x l〇-6 m3 (35ml ) <;ι· j χ V1 )。 然後，將此塗布膜，於風速丨〇 cm之垂直層流型無塵室 $ ’靜置乾燥30分鐘之後，於保持18〇它之潔淨烤爐内乾 無2分鐘，形成厚度2mm之光罩護層膜。 接者’使用ί衣氧樹脂糸黏接劑A r a 1 D i t r a p i d (日本 日口和π分子（股份）製，商品名），使此光罩護層膜與具 有外尺寸1 0 0 0mm X l〇〇〇mm X l〇mm寬、厚i〇mm之框的光罩護 層製作用夾具，予以黏接之後，於空氣中，從合成石英基 板面予以剝離。

第19頁 I234690 _—--- 五、發明說明（15) 接著，於如上所述之已製備的鋁合金製光罩護層框之 —邊端面，塗布矽系黏附劑，於丨0 0 °C加熱1 0分鐘，使其 乾燥硬化而形成黏附層。另外，於此鋁合金製光罩護層框 之另一邊端面，塗布已被氟系溶劑CT So 1 V 1 80 (日本旭 確子（股份）製，商品名）稀釋的氟系高分子聚合物黏接 劑CT69 (曰本旭硝子（股份）製，商品名），於1〇〇 〇c加 〇分鐘，使其乾燥硬化而形成黏接劑層。備妥PET製概 裏’藉由具有依CCD相機定出影像處理位置之襯裏貼附裳 置’貼合於光罩護層框之該黏附層上。 ^ 然後，於上述之已備妥的Teflon AF 1 60 0之光罩護層 膜表面’使該光罩護層框之黏接劑層緊密黏接之後，利曰用 I R燈管加熱光罩護層框，使光罩護層框與光罩護層膜炫融 接合。光罩護層框與光罩護層製作用夾具之二框，將光罩 護層框之黏接面朝上後，安裝於固定用夾具而固定於不會 偏移之相對位置。接著，將光罩護層框之外側的光罩護^ 製作用夾具框提高而加以固定，光罩護層框外侧的光罩言^ 層膜處施加〇.5g/cm之張力。 接著’安裝於去垢機械之切割器上，利用軟管式喷流 器’母分鐘1〇1111地滴流卩111〇1^61^?〇75(美國〇1^〇11公司 製’商品名），一面沿著該光罩護層框之黏接劑層部分的 周圍部分’移動切割器以切除光罩護層框外側不需 罩護層膜。 九 利用日本大塚電子製之透過率測定裝置，測定如此方 式完成的微影用光罩護層膜的膜厚分布。此測定係以5 〇_

第20頁

之格子狀進行1 ο ο ο χ ；[ 〇 0 〇mm之薄膜面内的測定。 下表1將此實施例之成膜測試的測定結果及塗布液量揭示於 (比較例1 ) 外，利用旋？塗布法進行光罩護層膜的成膜之點以 護；之觸7用與實施例1同樣的方法而製得的微影用光罩 的二定^，利用與實施例1相同的方法，進行膜厚分布 示於表丨。：此比軚例之成膜測試的測定結果及塗布液量揭 表1 面内分布 塗布液量（ml〕 ±5% 35 ±11% 350 實施例1 比較例

例1，光罩罐既& 六主々機形成光罩護層薄膜的實施 較於利用旋轉曰涂右之膜厚分布係面内分布為± 5%以内，相 知可以得到古的=形成薄膜之比較例1為± 11 %，明確得 線透過率為均勻的。 J庄。如此鬲的膜厚均勻性，其光 卜 形成光罩護脂： 比較例1之+八 θ膜所必需的塗布液量，實施例1 使用比較例丨之十分° θ賤所必需的塗布液量，實施例1 省相當大量之塗布之。一的量即可完成塗布，得知能夠節

1234690 五、發明說明（17) —說^彳有，本發明並不受限於該實施態樣。該實施態樣為 觀點遍二二f f與本發明之申請專利範圍所揭示的技術性 態樣均以構造，達到同樣的作用與效果，任何 匕3於本發明之技術範圍。

如以上之說明，甚 :種光罩護層，藉由利用二ί;明，嶋單且價廉提供 製作步驟使用之光罩 至屬模塗布機，形成遠比半導體 利用習知之旋轉塗布2:5更大尺寸的薄，同時相較於 一種具有局部膜厚不均現=成的，本發明之光罩護層膜為 率既均句且高的光罩少或其面内分布小、光線透過

第22頁 1234690 圖式簡單說明 五、【圖式簡單說明】 圖1係顯示本發明之光罩護層構造的概略圖。 圖2係顯示於本發明所用的金屬模塗布機之一例的概 略圖。 元件符號說明： 1〜光罩護層框 2〜光罩護層膜 3〜黏附層 4〜保護用襯裏 5〜光罩護層 6〜黏接劑層 11〜金屬模塗布機 1 2〜排料幫浦 1 3〜桶槽 1 4〜桌面 1 5〜基板

第23頁

Claims (1)

1234690 六、申請專利範圍 1 · 一種微影用光罩護層，至少具有： a )光罩護層膜，阻擋異物用； b )光罩護層框，黏貼該光罩護層膜； c) 黏接劑層，為了黏貼光罩護層膜而設置於光罩護 層框之一邊端面； d) 黏附層’設置於光罩護層框之另一邊端面； 其特徵為： 該光罩護層膜係利用金屬模塗布機形成的。 2. 如申請專利範圍第1項之微影用光罩護層，其中··該光 罩護層膜之面積為1000 cm2以上，並且膜厚分布之面内分布 為± 1 0 %以内。 3. 如申請專利範圍第1或2項之微影用光罩護層，其係供 使用於製作液晶顯示板用之微影步驟。 4. 一種光罩護層膜之製作方法，至少包含： a) 將光罩護層膜原料溶解於溶劑中而調配塗布液的 步驟； b) 將該塗布液塗布於基板上的步驟； c) 將塗布該塗布液之基板予以乾燥的步驟； 其特徵為： 利用金屬模塗布機進行該塗布步驟。

第24頁 1234690 六、申請專利範圍 方法所製作的微影用光罩護層。 第26頁