CN106647190B - 双面ito薄膜的光刻方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种双面ITO薄膜的光刻方法，通过将曝光机上的F面掩膜版和B面掩膜版的对位Mark分别转化为第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark来解决实现形成双面ITO薄膜片材上F面ITO图形和B面ITO图形的对位问题，从而在ITO FILM的B面涂布了感光胶导致CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark的情况下，能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置偏差小于0.2mm，提高曝光精度。

Description

双面ITO薄膜的光刻方法
技术领域
本发明涉及液晶面板的生产技术领域，尤其涉及一种双面ITO薄膜的光刻方法。
背景技术
掺锡的氧化锢(Indium Tin Oxide，ITO)薄膜作为一种用半导体材料制备而成的透明导电薄膜，具有高电导率、高可见光透过率(大于90％)、抗擦伤等众多优良的物理性能，以及良好的化学稳定性和一些其他的半导体特性，容易制备成电极图形，己经被广泛地应用于太阳能电池、固态平板显示器件(包括LCD,OLED,FED,PDP)等许多方面。在这些应用中，需要将ITO制成特定的图形来充当触摸屏透明电极。
本发明人在实施本发明时发现，在传统的触摸屏的双面ITO薄膜(ITO FILM)的光刻工艺中，在将ITO FILM的第一面(F面)朝上贴附于玻璃基板上通过预定图形工艺蚀刻成图形产品后，在进行第二面(B面)ITO FILM光刻图形时需要将其从玻璃基板上取下，再次将ITO FILM的B面朝上贴附于玻璃基板上，这时需要考虑ITO FILM的F面的对位Mark如何和曝光机上的B面掩膜版(MASK)的对位Mark保持一致，由于ITO FILM的B面涂布了感光胶，无论是低端无CCD对位功能的曝光机还是高端全自动对位的曝光机均无法正常对位生产，CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark，从而导致ITO FILM的F面、B面这两面的ITOFILM光刻图形mark的位置偏差较大，因此曝光精度不高，从而影响产品品质及降低生产效率。
发明内容
本发明实施例的目的是提供一种双面ITO薄膜的光刻方法，能有效解决现有技术中存在的ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置偏差较大的问题，既可以保证产品品质，又可以提高生产效率。
为实现上述目的，本发明实施例提供了一种双面ITO薄膜的光刻方法，包括步骤：
提供第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板，利用装有F面掩膜版和B面掩膜版的曝光机分别对所述第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板进行曝光，从而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃图形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃图形；
提供一双面ITO薄膜片材，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述F面ITO玻璃图形的中心对齐；
在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第一面进行显影、蚀刻后，得到F面ITO图形；
将得到F面ITO图形的所述双面ITO薄膜片材从所述玻璃基板上取下，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐；
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第二面进行显影、蚀刻后，得到B面ITO图形。
作为上述方案的改进，所述粘贴层为双面胶、水溶性胶黏层或紫外线胶水层。
作为上述方案的改进，所述粘贴层为四个，且均匀分布。
作为上述方案的改进，在还包括步骤：
在将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上前，在所述双面ITO薄膜片材的第二面上涂布感光胶；或/和
得到F面ITO图形后，在所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形上涂布感光胶。
作为上述方案的改进，还包括步骤：
在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶前，先将固定在所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗；或/和
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶前，先将固定在所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗。
作为上述方案的改进，所述粘贴层采用耐150度高温、耐酸、耐碱的材料构成；所述电阻结晶处理的条件为150度恒温90分钟。
作为上述方案的改进，还包括步骤：在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶后，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光前，将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化；或/和
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶后，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光前，将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化。
作为上述方案的改进，还包括步骤：
将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化前，利用风枪将所述第一ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干；或/和
将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化前，利用风枪将所述第二ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干。
作为上述方案的改进，所述前清洗采用中性AJC类清洗剂。
作为上述方案的改进，在CCD下通过人工对位贴合将所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐。
与现有技术相比，本发明公开的双面ITO薄膜的光刻方法通过预先利用装有F面掩膜版和B面掩膜版的曝光机分别对第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板进行曝光，从而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃图形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃图形，先利用所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃图对待光刻的双面ITO薄膜片材进行第一面(F面)的光刻，即：通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述F面ITO玻璃图形的中心对齐；在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第一面进行显影、蚀刻后，得到F面ITO图形；然后将得到F面ITO图形的所述双面ITO薄膜片材从所述玻璃基板上取下，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐；在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第二面进行显影、蚀刻后，得到B面ITO图形。因此，本发明通过将曝光机上的F面掩膜版和B面掩膜版的对位Mark分别转化为第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark来解决实现形成双面ITO薄膜片材上F面ITO图形和B面ITO图形的对位问题，从而在ITO FILM的B面涂布了感光胶导致CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark的情况下，依然能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置偏差小于0.2mm，从而提高曝光精度。实施本发明既可以保证产品品质，又可以提高生产效率。
附图说明
图1是本发明实施例中一种双面ITO薄膜的光刻方法的流程步骤示意图。
图2是本发明实施例中一种双面ITO薄膜的光刻方法的步骤S1中的流程走向示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
参见图1，图1是本发明实施例中一种双面ITO薄膜的光刻方法的流程步骤示意图。本实施例提供的一种双面ITO薄膜的光刻方法包括步骤S1～S5：
S1、提供第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板，利用装有F面掩膜版和B面掩膜版的曝光机分别对所述第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板进行曝光，从而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃图形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃图形。
其中，结合图2所示，第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板具有相对的两个表面，其中一个表面用于形成ITO玻璃图形，相对的另一个表面用于放置在曝光机的曝光工作台上。第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板均为ITO材料构成。另外，第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板可以为透明基板，也可为不透明基板。第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板的厚度小于等于1.1毫米，以便于安装在曝光机的曝光工作台上。
在该步骤中，主要是为了将曝光机上的F面掩膜版和B面掩膜版的对位Mark分别转化为第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark，这样就可以利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark来解决后续的在双面ITO薄膜片材上形成F面ITO图形和B面ITO图形的对位问题。
S2、提供一双面ITO薄膜片材，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述F面ITO玻璃图形的中心对齐。
在该步骤中，粘贴层设于第一ITO玻璃基板的表面上。粘贴层可以为纸状粘结物，也可为涂覆在第一ITO玻璃基板上的可固化胶水。需要说明的是，粘贴层可以为双面胶、水溶性胶黏层或紫外线胶水层。粘贴层优选为小尺寸的多个，例如四个，均匀分布在第一ITO玻璃基板的表面上(例如四个角)。
在该步骤中，将待曝光的双面ITO薄膜片材通过粘贴层粘附于第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图形上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面(F面)的中心与所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃图形的中心对齐。
例如，当粘贴层为双面胶时，可将先将双面胶粘附在双面ITO薄膜片材的第二面(B面)上，再将双面ITO薄膜片材粘贴在第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃图形上，或者，先将双面胶粘贴在第一ITO玻璃基板上，再将双面ITO薄膜片材粘贴在第一ITO玻璃基板上。当粘贴层为水溶性胶黏层或紫外线胶水层时，可先将水溶性胶水或紫外线胶水涂覆在第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图形上，然后将双面ITO薄膜片材贴附在第一ITO玻璃基板上并固化水溶性胶水或紫外线胶水。
可以理解的，在将所述双面ITO薄膜片材以第一面(F面)朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上前，在所述双面ITO薄膜片材的第二面(B面)上涂布感光胶以起保护作用。
S3、在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第一面进行显影、蚀刻后，得到F面ITO图形。
由于所述双面ITO薄膜片材通过粘贴层粘附于第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图形上，且所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃图形的中心对齐，因此，通过装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面(F面)进行曝光时，能够保证曝光机上的F面掩膜版的对位Mark与所述双面ITO薄膜片材的第一面(F面)上形成的F面ITO图形的对位Mark一致。
优选的，在该步骤中，在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶前，先将固定在所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗。并在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶后，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光前，将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化。其中，本实施例的所述粘贴层采用耐150度高温、耐酸、耐碱的材料构成。所述电阻结晶处理的条件为150度恒温90分钟。在进行前清洗时，由于ITOFILM的ITO膜很软，表面不能用无尘布擦拭，不能用毛刷刷洗，否则ITO膜面会严重刮花。前清洗清洗剂选择为中性AJC类洗剂，否则ITO阻值会变大。
另外，所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材经前清洗洗工序后，不可以直接送入箱式炉子焗炉，利用风枪将所述第一ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干后才能将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化，否则ITO FILM在焗干后，FILM会变形。
优选的，得到F面ITO图形后，在所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形上涂布感光胶以起保护作用
S4、将得到F面ITO图形的所述双面ITO薄膜片材从所述玻璃基板上取下，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐。
具体实施时，需要先将曝光后的双面ITO薄膜片材与第一ITO玻璃基板分离。当粘贴层为双面胶时，可直接撕开双面胶，使双面ITO薄膜片材与第一ITO玻璃基板分离。当粘贴层为水溶性胶黏层时，将第一ITO玻璃基板放置于水中时，粘贴层溶解于水中，使曝光后双面ITO薄膜片材与第一ITO玻璃基板分离。当粘贴层为紫外线胶水层时，采用紫外光照射第一ITO玻璃基板，粘贴层溶解，使曝光后的双面ITO薄膜片材与第一ITO玻璃基板分离。
然后，将所述双面ITO薄膜片材翻转，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面(B面)朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上。其中，粘贴层可以为纸状粘结物，也可为涂覆在第二ITO玻璃基板上的可固化胶水。需要说明的是，粘贴层可以为双面胶、水溶性胶黏层或紫外线胶水层。粘贴层优选为小尺寸的多个，例如四个，均匀分布在第一ITO玻璃基板的表面上(例如四个角)。
例如，当粘贴层为双面胶时，可将先将双面胶粘附在双面ITO薄膜片材的第一面(F面)上，再将双面ITO薄膜片材粘贴在第二ITO玻璃基板上形成的B面ITO玻璃图形上，或者，先将双面胶粘贴在第二ITO玻璃基板上，再将双面ITO薄膜片材粘贴在第二ITO玻璃基板上。当粘贴层为水溶性胶黏层或紫外线胶水层时，可先将水溶性胶水或紫外线胶水涂覆在第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图形上，然后将双面ITO薄膜片材贴附在第二ITO玻璃基板上并固化水溶性胶水或紫外线胶水。
优选的，在CCD下通过人工对位贴合将所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐。从而在ITO FILM的B面涂布了感光胶导致CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark的情况下，也能够保证曝光机的B面掩膜版的对位Mark能够与双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark对齐。
S5、在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第二面进行显影、蚀刻后，得到B面ITO图形。
由于将所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐，因此，通过装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面(B面)进行曝光时，能够保证曝光机的B面掩膜版的对位Mark能够与双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark对齐，从而能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置对齐。经多次试验得到，通过实施本发明，能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITOFILM光刻图形mark的位置偏差小于0.2mm。
优选的，在该步骤中，在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶前，先将固定在所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗。以及在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶后，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光前，将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化。其中，本实施例的所述粘贴层采用耐150度高温、耐酸、耐碱的材料构成。所述电阻结晶处理的条件为150度恒温90分钟。在进行前清洗时，由于ITOFILM的ITO膜很软，表面不能用无尘布擦拭，不能用毛刷刷洗，否则ITO膜面会严重刮花。前清洗清洗剂选择为中性AJC类洗剂，否则ITO阻值会变大。
另外，所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材经前清洗洗工序后，不可以直接送入箱式炉子焗炉，利用风枪将所述第二ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干后才能将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化，否则ITO FILM在焗干后，FILM会变形。
综上，本发明公开的双面ITO薄膜的光刻方法通过预先利用装有F面掩膜版和B面掩膜版的曝光机分别对第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板进行曝光，从而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃图形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃图形，先利用所述第一ITO玻璃基板上形成的F面ITO玻璃图对待光刻的双面ITO薄膜片材进行第一面(F面)的光刻，即：通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述F面ITO玻璃图形的中心对齐；在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第一面进行显影、蚀刻后，得到F面ITO图形；然后将得到F面ITO图形的所述双面ITO薄膜片材从所述玻璃基板上取下，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐；在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第二面进行显影、蚀刻后，得到B面ITO图形。因此，本发明通过将曝光机上的F面掩膜版和B面掩膜版的对位Mark分别转化为第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark，并利用第一ITO玻璃基板的F面ITO玻璃图的对位Mark和第二ITO玻璃基板的B面ITO玻璃图的对位Mark来解决实现形成双面ITO薄膜片材上F面ITO图形和B面ITO图形的对位问题，从而在ITO FILM的B面涂布了感光胶导致CCD无法精确捕捉不到ITO FILM的F面的对位Mark的情况下，依然能够保证ITO FILM的F面、B面这两面的ITO FILM光刻图形mark的位置偏差小于0.2mm，从而提高曝光精度。实施本发明既可以保证产品品质，又可以提高生产效率。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于，包括步骤：
提供第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板，利用装有F面掩膜版和B面掩膜版的曝光机分别对所述第一ITO玻璃基板和第二ITO玻璃基板进行曝光，从而在所述第一ITO玻璃基板上形成F面ITO玻璃图形以及在所述第二ITO玻璃基板形成B面ITO玻璃图形；
提供一双面ITO薄膜片材，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的第一面的中心与所述F面ITO玻璃图形的中心对齐；
在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶，采用装有F面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第一面进行显影、蚀刻后，得到F面ITO图形；
将得到F面ITO图形的所述双面ITO薄膜片材从所述玻璃基板上取下，通过若干粘贴层将所述双面ITO薄膜片材以第二面朝外的方式固定在所述第二ITO玻璃基板上，并使所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐；
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光，并对曝光完成后的所述双面ITO薄膜片材的第二面进行显影、蚀刻后，得到B面ITO图形。
2.如权利要求1所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于：所述粘贴层为双面胶、水溶性胶黏层或紫外线胶水层。
3.如权利要求1所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于：所述粘贴层为四个，且均匀分布。
4.如权利要求1所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于，在还包括步骤：
在将所述双面ITO薄膜片材以第一面朝外的方式固定在所述第一ITO玻璃基板上前，在所述双面ITO薄膜片材的第二面上涂布感光胶；或/和
得到F面ITO图形后，在所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形上涂布感光胶。
5.如权利要求1所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于，还包括步骤：
在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶前，先将固定在所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗；或/和
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶前，先将固定在所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材进行电阻结晶处理后进行前清洗。
6.如权利要求5所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于：所述粘贴层采用耐150度高温、耐酸、耐碱的材料构成；所述电阻结晶处理的条件为150度恒温90分钟。
7.如权利要求5所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于，还包括步骤：
在所述双面ITO薄膜片材的第一面涂上感光胶后，采用装有F面掩膜版的 曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第一面进行曝光前，将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化；或/和
在所述双面ITO薄膜片材的第二面涂上感光胶后，采用装有B面掩膜版的曝光机对所述双面ITO薄膜片材的第二面进行曝光前，将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化。
8.如权利要求7所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于，还包括步骤：
将所述第一ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化前，利用风枪将所述第一ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干；或/和
将所述第二ITO玻璃基板上的所述双面ITO薄膜片材送入箱式焗炉对感光胶进行固化前，利用风枪将所述第二ITO玻璃基板和双面ITO薄膜片材之间的水汽吹干。
9.如权利要求5所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于：所述前清洗采用中性AJC类清洗剂。
10.如权利要求1所述的双面ITO薄膜的光刻方法，其特征在于：在CCD下通过人工对位贴合将所述双面ITO薄膜片材的F面ITO图形的对位Mark与所述B面ITO玻璃图形的对位Mark对齐。
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