CN107663030A - 一种含蚀刻纹路图案的玻璃板的制备方法及玻璃板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种含蚀刻纹路图案的玻璃板的制备方法，包括在清洗干净的玻璃基片上先镀金属膜，所述金属膜选自铝膜、钼膜和铜膜，再在镀膜层上涂布厚度为3‑10μm的耐氢氟酸光阻并预烤，再通过光罩曝光、显影、氢氟酸蚀刻液中蚀刻、和在光阻剥膜液中整面剥离去除光阻膜和在金属膜蚀刻液完全蚀刻去除起辅助作用的金属膜层得到所述玻璃板。本发明采用一定厚度的耐氢氟酸光阻，可以精确的控制光阻曝光和显影后纹路的大小和精度，且通过控制氢氟酸蚀刻玻璃的深度，使得加工的玻璃产品纹路可以精确控制。本发明中包括镀设金属膜层和最后使用金属膜蚀刻液蚀刻去除起辅助作用的金属膜层，这样得到的玻璃产品中蚀刻纹路的精度和准确度更高。
Description
技术领域
本发明涉及电子产品用玻璃板领域，具体涉及一种含蚀刻油墨纹路图案的玻璃板的制备方法及相应制备得到的玻璃板。
背景技术
目前市场上玻璃表面的蚀刻纹路主要有两大类：一是用模具高温热压而成的，虽然此法能在玻璃上形成图案，但是所得图案尺寸公差较大，难以管控图形的一致性和图案的透明度，因而所得产品档次低且效果差。另一种是使用印刷耐酸油墨加强酸蚀刻的方法制作图案，这种方法印刷的油墨厚，分辨率差，无法制作出更精细、更细腻的纹路图形来。如专利申请CN201410394473.4中公开一种玻璃表面3D花纹的生产方法，包括如下步骤：a、先将钢化前后的平板玻璃表面清洗干净，用耐腐蚀油墨通过事先设计好图案的丝网通过丝印的方法在要制作3D花纹的玻璃正面上印刷上图案，丝印要求油墨膜厚为0.02-0.05mm，玻璃背面不需要制作花纹的面全部使用耐腐蚀油墨丝印，然后将正面和背面烘干；b、将丝印好的玻璃放入蚀刻液中，所述蚀刻液的成分及配比按重量百分比配制，水70-75份，催化剂15-5份，氢氟酸15-20份，蚀刻的时间按照花纹深度按照速率0.01mm/55-65秒计算，蚀刻液的温度采用恒温23-27摄氏；c、将加工好玻璃取出，放入水中洗净玻璃上的蚀刻液；d、将加工后玻璃进行褪镀清洗、烘干即为成品。该发明中使用印刷耐酸保护油墨与HF蚀刻制作图案纹路的方法，该方法使得图案的轮廓公差控制在±0.05mm(即50微米)以内，但该方法无法得到更为细腻精准的纹路，也即对线宽要求更精细的蚀刻图案则不能使用该方法。另外，当所述玻璃板为非平面的3D板时，若在3D板上直接印刷油墨，则曲面处印刷效果过差。
专利申请CN201510128386提供一种纳米图案压印掩模版及其制作方法，其为玻璃材质，其表面具有由沟槽构成的设定图案，其是利用一基材制成；该基材具有：一基体，其为玻璃材质；覆盖在该基体表面的一镀膜层，其为金属或金属氧化物材质，具体为铁+铁的氧化物或者铬+铬的氧化物；以及覆盖在该镀膜层上的一光阻层；其中，该镀膜层的厚度范围为50-1000nm；该光阻层厚度范围为500-15000nm。该方法中具体是先采用金属刻蚀液对基材上的镀膜层进行蚀刻处理，以局部去除该镀膜层；然后采用含氢氟酸和铵的玻璃刻蚀液对基材上的基体进行蚀刻处理。该方法制备的纳米图案压印掩模版能够很好地满足于纳米压印技术的应用。但该方案的目的是制备纳米图案压印掩模版，其不透光的金属或金属氧化物镀膜层最终会存在于掩模版上，因而该方案并不适应于本发明中制备透明的含蚀刻纹路图案的玻璃板。另外，即使使用相应的蚀刻液去除其金属或金属氧化物镀膜层，所得玻璃板的蚀刻纹路图案的精度和蚀刻深度也并不满足本发明的要求。
因此，为解决上述问题，当需要制备一种线宽小于50微米、甚至小于20微米的蚀刻纹路图案的玻璃板时，本领域需要开发一种在玻璃板上得到上述图案的新方法。
发明内容
本发明的目的在于提供一种纹路更加精细，轮廓精度可以控制在±5μm以内的玻璃表面蚀刻纹路图案的制作方法，尤其是含蚀刻纹路图案的3D玻璃板的制作方法。
因此，本发明提供一种含蚀刻纹路图案的玻璃板的制备方法，包括如下步骤：
步骤a、将玻璃基片清洗干净；在清洗干净的玻璃基片表面整面镀设金属膜层并清洗干净，且所述金属膜层的厚度为5～200nm，所述金属膜层选自铝膜、钼膜和铜膜，洗净后在玻璃基片镀膜面上整面涂布厚度为3-10μm的耐氢氟酸光阻并预烤，再通过光罩曝光和显影工序将最终需要形成蚀刻纹路图案的位置的光阻显影去除，随后烘烤所述耐氢氟酸光阻；且在玻璃基片上不需制作纹路的一面整面贴覆抗酸膜；
步骤b、将步骤a所得含镀膜层和光阻层的玻璃放入氢氟酸蚀刻液中蚀刻，氢氟酸蚀刻液中HF的浓度为1-20wt％；氢氟酸蚀刻液蚀刻所述金属膜层和玻璃，且其最终腐蚀玻璃的蚀刻深度为3～20微米，将蚀刻好的玻璃取出在清水中清洗干净；
步骤c、将步骤b所得的玻璃置于光阻剥膜液中整面剥离去除光阻膜；
步骤d、在去除光阻膜后将玻璃置于金属膜蚀刻液中蚀刻，在完全蚀刻去除金属膜后得到所述含蚀刻纹路图案的玻璃板产品。
本发明中氢氟酸蚀刻液最终腐蚀玻璃的蚀刻深度为3～20微米，优选5～15微米，更优选7～10微米，本发明所述方法尤其适用于对氢氟酸蚀刻深度较深的玻璃蚀刻纹路图案的制作，在保证蚀刻深度的同时保证图案的蚀刻精度。
本发明步骤a的曝光过程中使用的光罩上含有与蚀刻纹路图案相同(或相似)的图案为透光部分，或所述光罩上含有与蚀刻纹路图案互补的图案为透光部分。在一种具体的实施方式中，步骤b氢氟酸蚀刻液中HF的浓度为5～15wt％，且氢氟酸蚀刻的温度为20～30℃，蚀刻时间依据蚀刻深度而定；更具体地，氢氟酸蚀刻液中HF的浓度为10wt％，且氢氟酸蚀刻的温度为25℃，蚀刻时间为80s。本领域技术人员可知的，所述氢氟酸蚀刻液既能蚀刻金属膜层，又能蚀刻玻璃，因而氢氟酸蚀刻后在玻璃上形成蚀刻纹路。
在一种具体的实施方式中，所述金属膜层的厚度为20～150nm。
在一种具体的实施方式中，所述金属膜层为铝膜。
在一种具体的实施方式中，所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为30微米以下的蚀刻纹路。
在一种具体的实施方式中，所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为20微米以下的纹路，优选所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为10～15微米的纹路。
在一种具体的实施方式中，所述蚀刻纹路图案中，线宽为30微米以下的纹路所占的实际面积为该蚀刻纹路图案的总面积的10％以上。
在一种具体的实施方式中，线宽为20微米以下的纹路所占的实际面积为该蚀刻纹路图案的总面积的30％以上。
在一种具体的实施方式中，所述玻璃基片为平面玻璃或3D曲面玻璃，且所述玻璃基片为未强化玻璃基片。本领域技术人员可知的，本发明中耐氢氟酸光阻层设置在基片表面上，而蚀刻纹路图案蚀刻在基片内。
本发明还提供一种上述方制备得到的含蚀刻纹路图案的玻璃板。
本发明还提供一种含蚀刻纹路图案的玻璃板，所述玻璃板包括玻璃基片11和从玻璃基片的表面凹进的蚀刻纹路图案12，所述蚀刻纹路图案12的纹路中包含线宽为30微米以下的蚀刻纹路，且所述蚀刻纹路图案12从玻璃基片上表面凹进的深度为3～20微米。
有益效果：本发明采用一定厚度的耐氢氟酸光阻，可以精确的控制光阻曝光和显影后纹路的大小和精度，且通过控制氢氟酸蚀刻玻璃的深度，使得加工的玻璃产品纹路可以精确控制。本发明中镀设了特定的金属膜层和最后使用金属膜蚀刻液蚀刻去除起辅助作用的金属膜层，这样得到的玻璃产品中蚀刻纹路的精度高而细腻，且图案准确度更高。
附图说明
图1为本发明中产品制备过程中某步骤完成后的玻璃正面结构示意图；
图2为本发明中产品制备过程中及所得产品的侧面结构示意图，其中图2-1为步骤a中完成镀膜后的结构示意图，其中图2-2为步骤a完成后的结构示意图，图2-3为步骤b完成后的结构示意图，图2-4为步骤c完成后的结构示意图，图2-5为步骤d完成后的产品结构示意图。
图中，11、玻璃基片，12、蚀刻纹路图案，13、耐氢氟酸光阻层，14、金属膜层。
具体实施方式
下面通过实例，进一步骤详细说明本发明的具体实施方式。
本领域技术人员知晓地，光阻，也称为光阻剂，是一个应用在许多工业制程上的光敏材料。例如其应用在光刻技术中，可以在材料表面刻上一个图案的被覆层。光阻分两种，正向光阻和负向光阻。正向光阻是照到光的部分会溶于光阻显影液，而没有照到光的部分不会溶于光阻显影液；也就是说，光阻本身难溶于显影液，曝光后受到光照的地方的光阻解离成小分子，形成容易溶于显影液的结构。负向光阻是光阻本身(没有照到光的部分)易溶于显影液，而其照到光的部分不会溶于光阻显影液(曝光后形成不容易溶于显影液的化学结构)。光阻主要由树脂，感光剂，溶剂三种成分混合而成，光阻一般都与光罩以及相应的显影液配合使用，在需要正面将光阻剥离时，还会与光阻剥膜液配套使用。也就是说，在现有技术中，光阻(具体为耐氢氟酸光阻)、显影液和光阻剥膜液的常见化学成份及其相互配用关系都是本领域技术人员所公知的内容。光阻按照另外的方式可分为干膜光阻和湿膜光阻，且其中干膜光阻常用的是负向光阻，而湿膜光阻常用的是正向光阻，这样能取得更为精确的曝光显影结果。
在本发明的一种具体实施方式中，例如使用正向的湿膜光阻时，若目的是在玻璃基片上形成叶脉纹路的图案，则光罩的镂空图案与叶脉纹路图案一致或相似，经光照后，镂空部分的光阻受到光的照射而溶于显影液，在玻璃板上形成叶脉纹路图案处镂空的图案，其它大面积在光照后依然是被光阻覆盖的。镂空处经氢氟酸蚀刻而在玻璃基板上形成蚀刻纹路。再使用光阻剥膜液将耐氢氟酸光阻层从玻璃平板上整面剥离，则留下蚀刻得到的叶脉纹路图案，这样就达到了本发明的目的。
本发明中均以叶脉纹路图案为例，但本领域技术人员可知使用本发明所述方法可以用于制备其它任何形状的蚀刻纹路图案。
本发明中，在对光阻进行曝光时，2D盖板可以使用一般的汞灯曝光机或镭射曝光机，3D盖板则需使用镭射曝光机曝光。
本发明中的图案依靠氢氟酸对玻璃的蚀刻深浅来体现，表现为略带炫光的纹路图案，该图案无明显的颜色。在一种具体的实施方式中，所述玻璃基片为未强化的玻璃基片。
本发明中所用的耐氢氟酸光阻属于成熟商品，如中国台湾永光生产的EPG580或日本POK公司生产的N-100。本发明中所述显影液例如为TMAH(氢氧化四甲基胺)，其浓度为2～4wt％。本发明中使用的抗酸膜同样为一种常用商品。本发明中，用于蚀刻玻璃和金属膜层的氢氟酸蚀刻液同样可通过商购获取，其中含HF和其它成份。
本发明中的光阻剥膜液中包含乙醇胺和二甘醇丁醚，或所述光阻剥膜液为氢氧化钠或氢氧化钾溶液；无论哪种光阻剥膜液都可以通过商购获取。本发明中首先在玻璃上镀设一层金属膜层，所述金属膜层的厚度一般为5～200nm，例如采用真空镀膜法镀设所述金属膜。
因为本发明中镀设的金属膜(铝膜、钼膜、铜膜)不透光，因而需要在最后一个步骤中将其整体去除。不同的金属膜对应使用不同的金属膜蚀刻液，所述金属膜蚀刻液只蚀刻去除金属镀膜层而对玻璃基片不产生任何影响。所述金属膜蚀刻液的内容同样为本领域技术人员可知的内容，且其同样可以通过商购获取。
本发明中，显影后去除的光阻图案与最终的蚀刻图案保持一致。本发明中，所述耐氢氟酸光阻的耐酸性要求是光阻在氢氟酸蚀刻液中浸泡5min，光阻无脱落。
在一种具体的实施方式中，步骤a中，预烤温度为100-140℃，时间为120-500s，曝光能量为100-300mJ/cm2，显影液为TMAH，浓度为3-4％，或显影液为浓度为0.01～2％(其余组分为水份和界面活性剂等添加剂)的KOH，它对应另外的光阻。显影温度为21～25℃，时间为80-200s。硬烤温度为110-150℃，时间为2-30min。
实施例1
本实施例的目的是制备一种含蚀刻纹路图案的玻璃板，包括如下步骤：
步骤a、将玻璃基片清洗干净；在清洗干净的玻璃基片表面整面镀设金属膜层并清洗干净，且所述金属膜层的厚度为5～200nm，优选为20～150nm；所述金属膜层为铝膜、钼膜或铜膜；所得结构如图2-1所示。在干净的玻璃基片上整面涂布厚度为3-10μm的耐氢氟酸光阻并预烤，再通过光罩曝光和显影工序将最终需要形成蚀刻纹路图案的位置的光阻显影去除，随后烘烤所述耐氢氟酸光阻；且在玻璃基片上不需制作纹路的一面整面贴覆抗酸膜；所得结构如图2-2所示。
步骤b、将步骤a所得含光阻层的玻璃放入氢氟酸蚀刻液中蚀刻，氢氟酸蚀刻液中HF的浓度为1-20wt％；氢氟酸腐蚀玻璃的蚀刻深度为3～20微米，将蚀刻好的玻璃取出在清水中清洗干净；所得结构如图2-3所示。
步骤c、将步骤b所得的玻璃置于光阻剥膜液中整面剥离去除光阻膜；得到所述含蚀刻纹路图案的玻璃板产品。所得结构如图2-4所示。
步骤d、在去除光阻膜后将玻璃置于金属膜蚀刻液中蚀刻，在蚀刻去除金属膜后得到所述含蚀刻纹路图案的玻璃板产品。所得玻璃板产品的结构如图2-5所示。
使用本发明所述方法可以得到一种纹路非常精细，线宽小于50微米、甚至小于20微米的蚀刻纹路图案的玻璃板，所得玻璃板上的蚀刻纹路的深度可达7～20微米，图案的轮廓精度可控制在±5μm以内。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种含蚀刻纹路图案的玻璃板的制备方法，包括如下步骤：
步骤a、将玻璃基片清洗干净；在清洗干净的玻璃基片表面整面镀设金属膜层并清洗干净，且所述金属膜层的厚度为5～200nm，所述金属膜层选自铝膜、钼膜和铜膜，洗净后在玻璃基片镀膜面上整面涂布厚度为3-10μm的耐氢氟酸光阻并预烤，再通过光罩曝光和显影工序将最终需要形成蚀刻纹路图案的位置的光阻显影去除，随后烘烤所述耐氢氟酸光阻；且在玻璃基片上不需制作纹路的一面整面贴覆抗酸膜；
步骤b、将步骤a所得含镀膜层和光阻层的玻璃放入氢氟酸蚀刻液中蚀刻，氢氟酸蚀刻液中HF的浓度为1-20wt％；氢氟酸蚀刻液蚀刻所述金属膜层和玻璃，且其最终腐蚀玻璃的蚀刻深度为3～20微米，将蚀刻好的玻璃取出在清水中清洗干净；
步骤c、将步骤b所得的玻璃置于光阻剥膜液中整面剥离去除光阻膜；
步骤d、在去除光阻膜后将玻璃置于金属膜蚀刻液中蚀刻，在完全蚀刻去除金属膜后得到所述含蚀刻纹路图案的玻璃板产品。
2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，所述金属膜层的厚度为20～150nm。
3.根据权利要求2所述方法，其特征在于，所述金属膜层为铝膜。
4.根据权利要求1～3中任意一项所述方法，其特征在于，所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为30微米以下的蚀刻纹路。
5.根据权利要求4所述方法，其特征在于，所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为20微米以下的纹路，优选所述蚀刻纹路图案的纹路中包含线宽为10～15微米的纹路。
6.根据权利要求1～3中任意一项所述方法，其特征在于，所述蚀刻纹路图案中，线宽为30微米以下的纹路所占的实际面积为该蚀刻纹路图案的总面积的10％以上。
7.根据权利要求6所述方法，其特征在于，所述蚀刻纹路图案中，线宽为20微米以下的纹路所占的实际面积为该蚀刻纹路图案的总面积的30％以上。
8.根据权利要求1～3中任意一项所述方法，其特征在于，所述玻璃基片为平面玻璃或3D曲面玻璃，且所述玻璃基片为未强化玻璃基片。
9.根据权利要求1～8中任意一项所述方制备得到的含蚀刻纹路图案的玻璃板。
10.一种含蚀刻纹路图案的玻璃板，所述玻璃板包括玻璃基片(11)和从玻璃基片的表面凹进的蚀刻纹路图案(12)，所述蚀刻纹路图案(12)的纹路中包含线宽为30微米以下的蚀刻纹路，且所述蚀刻纹路图案(12)从玻璃基片上表面凹进的深度为3～20微米。
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110194596A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-09-03 | 成都西偌帕斯光电科技有限责任公司 | 一种激光切割蚀刻玻璃手机摄像头保护片的加工方法 |
| CN110473823A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-11-19 | 福建华佳彩有限公司 | 一种frit胶图案的制备方法 |
| CN111453997A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-07-28 | 拓米(成都)应用技术研究院有限公司 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
| CN112028500A (zh) * | 2020-07-27 | 2020-12-04 | 江西沃格光电股份有限公司 | 防眩光玻璃及其制备方法和应用 |
| CN112851131A (zh) * | 2019-11-26 | 2021-05-28 | 惠州市清洋实业有限公司 | 一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液及其使用方法 |
| CN114685057A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-07-01 | 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 | 一种玻璃基板的纳米金属诱导蚀刻方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0664939A (ja) * | 1992-08-20 | 1994-03-08 | Oyama Kogaku Memory Chiyoukoushiyo:Kk | ガラス系素材のエッチング加工方法 |
| CN1562841A (zh) * | 2004-04-09 | 2005-01-12 | 信利半导体有限公司 | 有机电致发光显示器及其玻璃后盖的制作方法 |
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
| CN104129922A (zh) * | 2014-08-12 | 2014-11-05 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 玻璃表面3d花纹的生产方法及用于该方法的蚀刻液 |
| CN105159028A (zh) * | 2015-03-23 | 2015-12-16 | 深圳市龙图光电有限公司 | 纳米图案压印掩模版及其制作方法 |
| CN205893088U (zh) * | 2016-07-29 | 2017-01-18 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种含蚀刻纹路图案的玻璃板 |
-
2016
- 2016-07-29 CN CN201610612942.4A patent/CN107663030A/zh active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0664939A (ja) * | 1992-08-20 | 1994-03-08 | Oyama Kogaku Memory Chiyoukoushiyo:Kk | ガラス系素材のエッチング加工方法 |
| CN1562841A (zh) * | 2004-04-09 | 2005-01-12 | 信利半导体有限公司 | 有机电致发光显示器及其玻璃后盖的制作方法 |
| JP2007069553A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Toppan Printing Co Ltd | 凹版の製造方法および印刷方法 |
| CN104129922A (zh) * | 2014-08-12 | 2014-11-05 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 玻璃表面3d花纹的生产方法及用于该方法的蚀刻液 |
| CN105159028A (zh) * | 2015-03-23 | 2015-12-16 | 深圳市龙图光电有限公司 | 纳米图案压印掩模版及其制作方法 |
| CN205893088U (zh) * | 2016-07-29 | 2017-01-18 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种含蚀刻纹路图案的玻璃板 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110194596A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-09-03 | 成都西偌帕斯光电科技有限责任公司 | 一种激光切割蚀刻玻璃手机摄像头保护片的加工方法 |
| CN110473823A (zh) * | 2019-06-28 | 2019-11-19 | 福建华佳彩有限公司 | 一种frit胶图案的制备方法 |
| CN110473823B (zh) * | 2019-06-28 | 2022-02-11 | 福建华佳彩有限公司 | 一种frit胶图案的制备方法 |
| CN112851131A (zh) * | 2019-11-26 | 2021-05-28 | 惠州市清洋实业有限公司 | 一种用于处理摄像头镜片cd纹蚀刻液及其使用方法 |
| CN111453997A (zh) * | 2020-04-14 | 2020-07-28 | 拓米(成都)应用技术研究院有限公司 | 单面蚀刻制造超薄玻璃的方法及超薄玻璃 |
| CN112028500A (zh) * | 2020-07-27 | 2020-12-04 | 江西沃格光电股份有限公司 | 防眩光玻璃及其制备方法和应用 |
| CN112028500B (zh) * | 2020-07-27 | 2023-01-10 | 江西沃格光电股份有限公司 | 防眩光玻璃及其制备方法和应用 |
| CN114685057A (zh) * | 2022-03-30 | 2022-07-01 | 广东佛智芯微电子技术研究有限公司 | 一种玻璃基板的纳米金属诱导蚀刻方法 |
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