CN112028500A - 防眩光玻璃及其制备方法和应用 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种防眩光玻璃及其制备方法和应用。上述防眩光玻璃的制备方法包括如下步骤：对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理，在玻璃基板上形成多个均匀且间隔分布的光阻图案；对玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行氢氟酸蚀刻，玻璃基板上未形成有光阻图案的部分被蚀刻；对玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行防眩光处理，除去多个光阻图案并在玻璃基板上形成多个晶粒凸起，制备防眩光玻璃。上述防眩光玻璃的制备方法能够提高制备得到的防眩光玻璃表面的晶粒凸起的分布均匀性和大小均一性。

Description

防眩光玻璃及其制备方法和应用

技术领域

本发明涉及玻璃领域，特别是涉及一种防眩光玻璃及其制备方法和应用。

背景技术

传统的玻璃在经过防眩光(AG)处理后，会在玻璃的AG面上形成多个小颗粒晶体凸起而使玻璃表面凹凸不平，由于形成的多个晶粒凸起存在大小不相等、分布不均匀的问题，不利于后续工艺的处理。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够提高玻璃表面的晶粒凸起的分布均匀性和大小均一性的防眩光玻璃的制备方法。

此外，还有必要提供一种防眩光玻璃及其应用。

一种防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：

对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的光阻图案；

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行氢氟酸蚀刻，所述玻璃基板上未形成有所述光阻图案的部分被蚀刻；及

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行防眩光处理，除去多个所述光阻图案并在所述玻璃基板上形成多个晶粒凸起，制备防眩光玻璃。

在其中一个实施例中，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤包括：

在所述玻璃基板上形成光阻层；

对所述光阻层进行曝光、显影，以除去部分所述光阻层，形成多个间隔且均匀分布的所述光阻图案。

在其中一个实施例中，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤之前，还包括：在所述玻璃基板的一侧层叠耐酸膜，所述光阻层形成在所述耐酸膜远离所述玻璃基板的一侧，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤还包括：对所述玻璃基板进行蚀刻，未被所述光阻图案保护的所述耐酸膜被蚀刻，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的耐酸膜凸起，每个所述光阻图案层叠在一个所述耐酸膜凸起上。

在其中一个实施例中，所述耐酸膜的厚度为300nm～450nm；及/或，所述耐酸膜为钼膜或铜膜。

在其中一个实施例中，所述光阻图案为圆柱形，直径为6μm～9μm，相邻两个所述光阻图案的间距为13μm～16μm。

在其中一个实施例中，在所述氢氟酸蚀刻的步骤中，蚀刻的深度为3μm～6μm。

在其中一个实施例中，所述防眩光处理的步骤包括：先用AG药液对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行蒙砂处理，然后用氢氟酸对蒙砂处理后的所述玻璃基板进行化学抛光。

在其中一个实施例中，所述AG药液包括质量比为25：(3～8)的蒙砂粉和水。

在其中一个实施例中，所述化学抛光的步骤中，抛光量为20μm～30μm。

一种防眩光玻璃，由上述的防眩光玻璃的制备方法制备。

在其中一个实施例中，所述晶粒凸起的最大宽度为8μm～21μm。

上述的防眩光玻璃在制备显示器件的面板中的应用。

上述防眩光玻璃的制备方法通过先对玻璃的一侧进行黄光工艺处理，从而在玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的光阻图案，然后对玻璃基板的一侧进行氢氟酸蚀刻，处于多个光阻图案的间隙处的玻璃表面被蚀刻而形成凹槽，经防眩光处理，光阻图案被除去，由于光阻图案除去后，玻璃基板上具有多个间隔排列的玻璃凸起，玻璃凸起与防眩光处理中的试剂反应而形成沉积在玻璃凸起上的晶体，相邻玻璃凸起所构成的凹槽也与试剂反应而形成沉积在凹槽处的晶体，一个玻璃凸起和一个凹槽经不断的反应处理后，形成一个整体的晶粒凸起，从而得到多个均匀分布、尺寸均一的晶粒凸起。而传统的方法直接对玻璃进行防眩光处理，在玻璃基板表面形成的凸起分布不均且尺寸难以控制。因此，上述防眩光玻璃的制备方法能够提高制备得到的防眩光玻璃的晶粒凸起的分布均匀性和尺寸均一性，便于后续工艺处理。

附图说明

图1为一实施方式的防眩光玻璃的制备方法的工艺流程图；

图2为图1所示的工艺流程图中步骤S110得到的玻璃基板和耐酸膜的示意图；

图3为图1所示的工艺流程图中步骤S120得到的玻璃基板、耐酸膜凸起和光阻图案的示意图；

图4为图1所示的工艺流程图中步骤S130得到的玻璃基板、耐酸膜凸起和光阻图案的示意图；

图5为图1所示的工艺流程图中步骤S140得到的玻璃基板和晶粒凸起的示意图；

图6为实施例1所制备的防眩光玻璃的SEM图；

图7为对比例1所制备的防眩光玻璃的SEM图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将结合具体实施方式对本发明进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

请参阅图1，一实施方式的防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：

步骤S110：在玻璃基板的一侧层叠耐酸膜。

具体地，采用真空镀膜的方式在玻璃基板的一侧层叠耐酸膜。采用镀膜的方式层叠耐酸膜，使得玻璃基板与耐酸膜之间的附着力更好。

具体地，耐酸膜的厚度为300nm～450nm。在其中一个实施例中，耐酸膜的厚度为300nm、350nm、400nm或450nm。

在其中一个实施例中，耐酸膜为钼膜或铜膜。可以理解，在其他实施例中，耐酸膜不限于为钼膜或铜膜，还可以为本领域常用的其他耐酸性的膜层。

在玻璃基板的一侧层叠耐酸膜，便于后续经过黄光工艺处理而在玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布、尺寸相等的耐酸膜凸起和光阻图案，并以此耐酸膜凸起和光阻图案为基础，经过氢氟酸蚀刻后，耐酸膜凸起和光阻图案的间隙被刻蚀形成凹槽，在后续防眩光处理中，耐酸膜凸起和光阻图案被除去裸露出玻璃表面，而与防眩光处理中的试剂反应，在耐酸膜凸起和光阻图案位置形成尺寸相等、分布均匀的晶粒凸起，从而使最终得到的玻璃基板的表面具有多个分布均匀、尺寸相等的晶粒凸起。

具体地，步骤S110中得到的玻璃基板210和耐酸膜220的示意图如图2所示，图中，耐酸膜220层叠在玻璃基板210的一侧。

步骤S120：对玻璃基板沉积有耐酸膜的一侧进行黄光工艺，以在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起和多个光阻图案，每个光阻图案层叠在一个耐酸膜凸起上。

具体地，黄光工艺的步骤包括：

在耐酸膜上形成光阻层；

对光阻层进行曝光、显影，以除去部分光阻层，形成多个间隔且均匀分布的光阻图案；

对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻图案保护的耐酸膜被蚀刻，在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，光阻图案层叠在耐酸膜凸起上。

在其中一个实施例中，对光阻层进行曝光和显影的步骤包括：在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成多个间隔且均匀分布的光阻图案。具体地，光阻图案为圆柱形，直径为6μm～9μm，相邻两个光阻图案的间距为13μm～16μm。在其中一个实施例中，光阻图案的直径为6μm、7μm、8μm或9μm。相邻两个光阻图案的间距为13μm、14μm、15μm或16μm。可以理解，在本实施方式中，黄光工艺可以为本领域常用的工艺。

具体地，耐酸膜凸起为圆柱形，直径为6μm～9μm，相邻两个耐酸膜凸起的间距为13μm～16μm。在本实施方式中，耐酸膜凸起的形状与光阻图案的形状相同。通过控制耐酸膜凸起的直径和间距能够调节得到的晶粒凸起的尺寸。耐酸膜凸起的直径过大，会导致晶粒凸起过大；过小，会导致晶粒凸起过小。间距过大或过小，会降低晶粒凸起的均匀性。可以理解，在其他实施例中，耐酸膜凸起的表面还可以为边数大于5的正多边形。

具体地，步骤S120中得到的耐酸膜凸起222、光阻图案230与玻璃基板210的示意图如图3所示。光阻图案230层叠在耐酸膜凸起222上，多个耐酸膜凸起222和多个光阻图案230均间隔均匀分布在玻璃基板210的一侧。

进一步地，在本实施方式中，光阻图案和耐酸膜凸起配合，共同提高耐酸性，避免在氢氟酸刻蚀过程中耐酸膜凸起和光阻图案被破坏。可以理解，在本实施方式中，由于光阻图案本身具有一定的耐酸性，耐酸膜也可以省略。此时，步骤S110和步骤S120为：对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理，在玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的光阻图案。

具体地，黄光工艺处理的步骤包括：

在玻璃基板上形成光阻层；

对光阻层进行曝光、显影，以除去部分光阻层，形成多个间隔且均匀分布的光阻图案。

步骤S130：对玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行蚀刻，玻璃基板上未形成有光阻图案的部分被蚀刻。

具体地，采用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻。氢氟酸能够与玻璃中的二氧化硅等反应而使玻璃被蚀刻。在其中一个实施例中，氢氟酸的浓度为1mol/L～2mol/L。在实际过程中，先对玻璃基板的未形成有光阻图案的另一侧进行遮蔽，然后对玻璃基板进行蚀刻，以保护玻璃基板的另一侧不被蚀刻。

具体地，蚀刻的深度为3μm～6μm。在其中一个实施例中，蚀刻的深度为3μm、4μm、5μm或6μm。在本实施方式中，控制蚀刻的深度为3μm～6μm，从而形成由玻璃基板构成的玻璃凸起。可以理解，在实际过程中，通过控制蚀刻的时间能够控制蚀刻的深度。

在本实施方式中，多个光阻图案和耐酸膜凸起间隙的玻璃基板被刻蚀，相当于在玻璃基板上形成了多个包括耐酸膜凸起、光阻图案及耐酸膜凸起保护的玻璃基板的复合凸起。在后续防眩光处理中，复合凸起上的耐酸膜凸起和光阻图案被除去，玻璃凸起与试剂反应而在玻璃基板上形成晶粒凸起。具体地，步骤S130得到的耐酸膜凸起222、光阻图案230和玻璃基板210的示意图如图4所示。

步骤S140：对玻璃基板的形成有光阻图案的一侧进行防眩光处理，除去多个光阻图案并在玻璃基板上形成多个晶粒凸起，制备防眩光玻璃。

具体地，防眩光处理的步骤包括：先用AG药液对所述玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行蒙砂处理，然后用氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光。

具体地，AG药液包括蒙砂粉和水。在其中一个实施例中，AG药液中，蒙砂粉和水的质量比为25：(3～8)。例如，蒙砂粉和水的质量比为25:3、25:4、25:5、25:6或25:8。可以理解，在其他实施例中，AG药液还可以为本领域常用的药液。通常以氟化物(如氟化铵、氟氢化钾、氟化钙)为主要成分，再加入硫酸铵、硫酸钡、硫酸钾以及其他添加剂，配制成蒙砂粉。蒙砂粉能够除去耐酸膜凸起，且蒙砂粉中的氟化物与玻璃基板中的二氧化硅等反应而对玻璃基板进行侵蚀，生成的难溶反应物即小颗粒晶体牢固地附着在玻璃基板表面，使玻璃基板表面呈现凹凸不平的状态而造成光的折射、散射等。

在其中一个实施例中，步骤S120中还形成了耐酸膜凸起，以与光阻图案共同保护该部分在氢氟酸蚀刻过程中不受影响。除去多个光阻图案的步骤中，还除去了耐酸膜凸起。

在其中一个实施例中，蒙砂处理的步骤具体为：先对玻璃基板未形成有光阻图案的一侧覆膜处理，然后采用刀流的方式对玻璃基板形成有光阻图案的一侧蒙砂，蒙砂液由KN-BX型号的蒙砂粉与水按照25：(3～8)质量比溶解而成，蒙砂处理的时间为20s～25s，蒙砂处理的温度为31℃～35℃。具体地，覆膜处理的步骤中，用蓝膜进行覆膜，以保护玻璃基板未形成有光阻图案的一侧不进行蒙砂处理。

蒙砂处理后形成粗糙的、无光泽的表面，因此，需要继续进行化学抛光，采用氢氟酸对玻璃基板进行化学抛光，蒙砂处理中形成的难溶产物部分在氢氟酸中的溶解度较大而被清除，从而使得到的玻璃基板的表面平滑而透明。

具体地，采用氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光的步骤中，抛光量为20μm～30μm。在其中一个实施例中，抛光量为20μm、25μm或30μm。通过调节化学抛光过程中的抛光量能够调节最终得到的晶粒凸起的大小。

具体地，晶粒凸起的最大宽度为8μm～21μm。在其中一个实施例中，晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm、18μm～21μm、14μm～17μm、8μm～14μm或9μm～12μm。进一步地，晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm。需要说明的是，在本实施方式中，晶粒凸起的最大宽度指晶粒凸起在玻璃基板表面上的最大尺寸。

在本实施方式中，在防眩光处理的过程中，AG药液能够除去耐酸膜凸起和光阻图案，并与玻璃基板反应而在玻璃基板表面形成晶粒凸起，具体地，步骤S140得到的玻璃基板210和晶粒凸起230的示意图如图5所示。

在一些实施例中，步骤S140之后，还包括采用磷酸、醋酸及硝酸的混合溶液对玻璃基板进行处理的步骤，以除去步骤S140中未被完全除去的耐酸膜和/或光阻图案。

上述防眩光玻璃的制备方法先利用镀膜、黄光工艺在玻璃表面形成大小相等、分布均匀的耐酸膜凸起和光阻图案，然后利用氢氟酸蚀刻，在光阻图案的间隙形成凹槽，再利用AG工艺除去光阻图案并以光阻图案所在位置为基础形成多个大小相等、分布均匀的晶粒凸起，由于光阻图案除去后，玻璃基板上具有多个间隔排列的玻璃凸起，玻璃凸起与AG药液反应而形成沉积在玻璃凸起上的晶体，相邻玻璃凸起所构成的凹槽也与AG药液反应形成沉积在凹槽处的晶体，经不断反应，一个玻璃凸起和一个凹槽经蒙砂和抛光处理后，形成一个晶粒凸起，从而在玻璃表面得到多个均匀分布、且尺寸相等的晶粒凸起，解决了传统工艺中对玻璃进行AG处理后，在玻璃表面形成的晶粒凸起的大小不相等、分布不均匀的问题。且实验证明，采用该方法制备的防眩光玻璃的平整度更好，更易于后续的加工处理。

本发明还提供一实施方式的防眩光玻璃，由上述防眩光玻璃的制备方法制备得到。具体地，该防眩光玻璃上晶粒凸起的最大宽度为8μm～21μm。

本发明还提供一实施方式的防眩光玻璃在制备显示器件的面板中的应用。该防眩光玻璃为上述实施方式的防眩光玻璃，表面具有多个均匀分布且大小相等的凸起，便于后续工艺的处理，如镀膜时使膜层的附着力增加便于镀膜且所镀膜层均匀性更好。此外，防眩光玻璃还可以降低环境光的干扰，提高显示画面的可视角度和亮度，减少屏幕反光，让图象更清晰、色彩更艳丽、颜色更饱和，从而显著改善显示效果。

在其中一个实施例中，显示器件可以为液晶显示器、电视、电脑、平板等。

以下为具体实施例部分：

实施例1

本实施例的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在钼膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成多个间隔且均匀分布的光阻图案，光阻图案为圆形，直径为8μm，相邻两个光阻图案的间距为15μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻图案保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻图案保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起为圆柱形，直径为8μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为15μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为5μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下，对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，除去耐酸膜凸起和光阻图案。然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，抛光量为25μm，以形成多个晶粒凸起。晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中处理，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例2

本实施例的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在铜膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成多个间隔且均匀分布的光阻图案，光阻图案为圆形，直径为6μm，相邻两个图案的间距为13μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻图案保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻图案保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起为圆形，直径为6μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为13μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为3μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，以除去多个耐酸膜凸起和光阻图案，然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，化抛量为20μm，以在每个凹槽处形成一个晶粒凸起。晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中，除去玻璃基板表面的多个耐酸膜凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例3

本实施例的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在钼膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成光阻图案，光阻层图案为圆形，直径为9μm，相邻两个图案的间距为16μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻层保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻层保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起的图案为圆形，直径为9μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为16μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为6μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，除去耐酸膜凸起和光阻图案，然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，化抛量为30μm，以形成多个晶粒凸起。晶粒凸起的最大宽度为16μm～18μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中，除去玻璃基板表面的多个耐酸膜凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例4

实施例4的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在钼膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成光阻图案，光阻图案为圆形，直径为15μm，相邻两个图案的间距为20μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻层保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻图案保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起的图案为圆形，直径为15μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为20μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为5μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，除去耐酸膜凸起和光阻图案。然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，抛光量为25μm，以形成多个晶粒凸起。晶粒凸起的宽度为18μm～21μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中，除去玻璃基板表面的多个耐酸膜凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例5

实施例5的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在钼膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成光阻图案，光阻图案为圆形，直径为3μm，相邻两个图案的间距为8μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻层保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻图案保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起的图案为圆形，直径为3μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为8μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为5μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，除去耐酸膜凸起和光阻图案。然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，抛光量为25μm，以形成多个晶粒凸起。晶粒凸起的最大宽度为9μm～12μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中，除去玻璃基板表面的多个耐酸膜凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例6

实施例6的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)采用真空蒸镀的方式在玻璃基板的一侧沉积一层厚度为400nm的钼膜。

(2)先在钼膜上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成光阻图案，光阻图案为圆形，直径为8μm，相邻两个图案的间距为15μm；再从形成有光阻图案的一侧对玻璃基板进行蚀刻，未被光阻层保护的耐酸膜被蚀刻，被光阻图案保护的耐酸膜未被蚀刻而在玻璃基板上形成多个耐酸膜凸起，耐酸膜凸起的图案为圆形，直径为8μm，任意相邻两个耐酸膜凸起的间距为15μm。

(3)对玻璃基板未形成有耐酸膜凸起的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上耐酸膜凸起的间隙被蚀刻形成深度为5μm的凹槽。

(4)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有耐酸膜凸起的一侧进行蒙砂处理25s，除去光阻图案和耐酸膜凸起。然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，抛光量为10μm，以形成多个晶粒凸起。晶粒凸起的最大宽度为14μm～17μm。

(5)将玻璃基板浸泡在磷酸、醋酸和硝酸的混合溶液中，除去玻璃基板表面的多个耐酸膜凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。

实施例7

实施例7的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

(1)先在玻璃基板上沉积光阻层，在光阻层上设置掩膜板对光阻层进行曝光处理，然后对经过曝光处理的光阻层进行显影处理以除去经过曝光处理的光阻层，形成光阻图案，光阻图案为圆形，直径为8μm，相邻两个图案的间距为15μm。

(2)对玻璃基板未形成有光阻图案的一侧进行遮蔽，然后采用浓度为1mol/L的氢氟酸对玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行蚀刻，以使玻璃基板上光阻层的间隙被蚀刻形成深度为5μm的凹槽。

(3)先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板形成有光阻图案的一侧进行蒙砂处理25s，除去光阻图案，然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，化抛量为25μm，以在形成多个晶粒凸起，得到本实施例的防眩光玻璃。其中，晶粒凸起的最大宽度为8μm～14μm。

对比例1

对比例1的防眩光玻璃的制备过程具体如下：

对玻璃基板的一侧进行遮蔽，先用水含量为24.24％的AG药液在32℃下对玻璃基板的另一侧进行蒙砂处理25s，然后用浓度为3mol/L的氢氟酸对蒙砂处理后的玻璃基板进行化学抛光，化抛量为25μm，以在玻璃基板上形成多个晶粒凸起，得到对比例1的防眩光玻璃。

以下为测试部分：

1、将实施例1和对比例1制备的防眩光玻璃的表面进行SEM测试，得到如下图6和图7。其中，图6为实施例1所制备的防眩光玻璃的SEM图，图7为对比例1所制备的防眩光玻璃的SEM图。

从图6中可以看出，实施例1制备的防眩光玻璃表面的晶粒凸起均匀分布且尺寸大小相等。而图7中，对比例1所制备的防眩光玻璃表面的晶粒凸起分布不均匀、尺寸相差较大。

2、对实施例1～实施例7和对比例1所制备的防眩光玻璃的性能进行测试，得到如下表1所示。其中，采用型号为WGG60-E4的光泽度仪测试防眩光玻璃的光泽度，采用型号为WGT-S的雾度仪测试防眩光玻璃的雾度及透光率，采用型号为178-560-01DC的粗糙度仪测试防眩光玻璃的粗糙度。

表1实施例和对比例的防眩光玻璃的性能数据

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (12)

1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的光阻图案；

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行氢氟酸蚀刻，所述玻璃基板上未形成有所述光阻图案的部分被蚀刻；及

对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行防眩光处理，除去多个所述光阻图案并在所述玻璃基板上形成多个晶粒凸起，制备防眩光玻璃。

2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤包括：

在所述玻璃基板上形成光阻层；

对所述光阻层进行曝光、显影，以除去部分所述光阻层，形成多个间隔且均匀分布的所述光阻图案。

3.根据权利要求2所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤之前，还包括：在所述玻璃基板的一侧层叠耐酸膜，所述光阻层形成在所述耐酸膜远离所述玻璃基板的一侧，所述对玻璃基板的一侧进行黄光工艺处理的步骤还包括：对所述玻璃基板进行蚀刻，未被所述光阻图案保护的所述耐酸膜被蚀刻，在所述玻璃基板上形成多个间隔且均匀分布的耐酸膜凸起，每个所述光阻图案层叠在一个所述耐酸膜凸起上。

4.根据权利要求3所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述耐酸膜的厚度为300nm～450nm；及/或，所述耐酸膜为钼膜或铜膜。

5.根据权利要求1～4任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述光阻图案为圆柱形，直径为6μm～9μm，相邻两个所述光阻图案的间距为13μm～16μm。

6.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在所述氢氟酸蚀刻的步骤中，蚀刻的深度为3μm～6μm。

7.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述防眩光处理的步骤包括：先用AG药液对所述玻璃基板形成有所述光阻图案的一侧进行蒙砂处理，然后用氢氟酸对蒙砂处理后的所述玻璃基板进行化学抛光。

8.根据权利要求7所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述AG药液包括质量比为25：(3～8)的蒙砂粉和水。

9.根据权利要求7或8所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学抛光的步骤中，抛光量为20μm～30μm。

10.一种防眩光玻璃，其特征在于，由权利要求1～10任一项所述的防眩光玻璃的制备方法制备。

11.根据权利要求10所述的防眩光玻璃，其特征在于，所述晶粒凸起的最大宽度为8μm～21μm。

12.权利要求10～11任一项所述的防眩光玻璃在制备显示器件的面板中的应用。

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