CN116675439B - 一种防眩光玻璃的制备方法及防眩光玻璃 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种防眩光玻璃的制备方法及防眩光玻璃，其中，防眩光玻璃的制备方法包括：附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，掩膜层包括有多个规则排列的孔；化学蚀刻，对玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻；清除掩膜层，在化学蚀刻完成后清除掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板；化学抛光，对玻璃基板清除掩膜层后的一面进行化学抛光；化学抛光为在相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时停止。通过掩膜层以及化学蚀刻和化学抛光的设计解决了高防眩光性能与低闪点不能兼顾的技术难题。

Description

一种防眩光玻璃的制备方法及防眩光玻璃

技术领域

本发明涉及防眩光玻璃技术领域，特别是涉及一种防眩光玻璃的制备方法及防眩光玻璃。

背景技术

防眩光玻璃（Anti-Glare Glass）是一种在消费电子产品中广泛使用的功能性玻璃，其防眩光的特性可以减少环境光对显示屏的反射和散射，从而使显示效果更加清晰。因此，AG防眩光玻璃被广泛应用于车载显示、笔记本电脑、平板电脑、智能手机、电视等电子设备的显示屏上。

随着电子产品市场的不断发展和普及，对防眩光玻璃的需求也不断增加。传统的防眩光玻璃制备技术通常为通过对玻璃基板的表面进行化学蚀刻或者物理喷砂后经化学抛光而成，而传统的防眩光玻璃制备技术存在诸多缺陷，例如制备成本高、环保性差、防眩光效果和闪点（Sparkle）难以兼顾等问题，尤其是当玻璃防眩光性能很强时，玻璃表面的闪点值很大，很容易使用户产生视疲劳，这些都限制了其广泛应用。

如何解决上述技术问题，已经成为了业内亟待解决的技术难题。

发明内容

为了至少解决上述技术问题，本发明的目的在于提供了一种防眩光玻璃的制备方法，通过掩膜层以及化学蚀刻和化学抛光的设计解决了高防眩光性能与低闪点不能兼顾的技术难题。

为了达到上述目的，本申请提供的防眩光玻璃的制备方法，包括：

附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，掩膜层包括有多个规则排列的孔；

化学蚀刻，对玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻；

清除掩膜层，在化学蚀刻完成后清除掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板；

化学抛光，对玻璃基板清除掩膜层后的一面进行化学抛光；

化学抛光为在相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时停止。

进一步地，在化学抛光将相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边后，还包括对玻璃基板继续抛光，在抛光后的玻璃基板Ra减小至0.03μm和/或Rz减小至0.1μm时停止抛光。

进一步地，掩膜层为耐酸腐蚀掩膜层。

进一步地，掩膜层上的多个规则排列的孔包括：

相邻孔的中心距离相同；

孔的直径尺寸为1μm-100μm。

进一步地，任意相邻的三个孔的中心相连接组成等边三角形。

进一步地，任意相邻两个孔的中心距离为1.5μm-100μm。

进一步地，化学蚀刻，包括，对附着有掩膜层的一面上位于孔内的玻璃基板进行蚀刻，蚀刻的深度尺寸为0.1μm-50μm。

进一步地，蚀刻，包括通过蚀刻液对玻璃基板进行蚀刻，蚀刻液为氢氟酸溶液，或氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的混合溶液。

进一步地，蚀刻液为氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的混合溶液时，所述氢氟酸浓度为1%-12%wt，所述硫酸浓度为0%-12%wt，所述盐酸浓度为0%-12%wt，所述硝酸浓度为0%-12%wt。

进一步地，蚀刻液的温度范围为16℃-22℃。

进一步地，化学蚀刻的时间为5-1800秒。

进一步地，化学抛光，包括通过抛光液对玻璃基板进行抛光，抛光液为氢氟酸与硫酸的混合溶液。

进一步地，抛光液中氢氟酸浓度为3%-12%wt，硫酸浓度为3%-12%wt。

进一步地，抛光液的温度范围为29℃-35℃。

进一步地，在化学蚀刻之前，还包括：

附着保护膜层，当只在玻璃基板的一面附着掩膜层时，在玻璃基板的相反面附着耐酸腐蚀保护膜。

进一步地，在化学抛光结束之后，还包括：清除耐酸腐蚀保护膜。

为达到上述目的，本发明实施例还提供了一种防眩光玻璃，采用上述防眩光玻璃的制备方法制作而成。

本发明实施例的防眩光玻璃的制备方法，包括：附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，掩膜层包括有多个规则排列的孔；化学蚀刻，对玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻；清除掩膜层，在化学蚀刻完成后清除掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板；化学抛光，对玻璃基板清除掩膜层后的一面进行化学抛光；化学抛光为在相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时停止。本发明实施例的防眩光玻璃的制备方法，通过掩膜层以及化学蚀刻和化学抛光的设计，在玻璃基板表面形成了尺寸、形状以及深度一致且均匀分布的凹形颗粒，极大的降低了防眩光玻璃同等防眩光性能时的闪点，解决了高防眩光性能与低闪点相冲突的技术难题；对于不同材质的玻璃基板或者不同防眩规格玻璃的制备，只需要调整掩膜层孔的尺寸、中心距离以及蚀刻时凹形颗粒的深度，就能得到预设规格的防眩光玻璃；解决了传统化学蚀刻防眩光玻璃的蚀刻液配方复杂的问题；而且防眩光面表面更加的规则，实现了优异的防眩光性能的同时还具有更低的闪点，提升了终端的市场竞争力。

附图说明

附图用来提供对本申请的进一步理解，并且构成说明书的一部分，并与本申请的实施例一起，用于解释本申请，并不构成对本申请的限制。在附图中：

图1是本申请一实施例的防眩光玻璃的制备方法的流程示意图；

图2是本申请又一实施例的防眩光玻璃的制备方法的流程示意图；

图3是本申请实施例的防眩光玻璃SEM图。

具体实施方式

下面将参照附图更详细地描述本申请的实施例。虽然附图中显示了本申请的某些实施例，然而应当理解的是，本申请可以通过各种形式来实现，而且不应该被解释为限于这里阐述的实施例，相反提供这些实施例是为了更加透彻和完整地理解本申请。应当理解的是，本申请的附图及实施例仅用于示例性作用，并非用于限制本申请的保护范围。

应当理解，本申请的方法实施方式中记载的各个步骤可以按照不同的顺序执行，和/或并行执行。此外，方法实施方式可以包括附加的步骤和/或省略执行示出的步骤。本申请的范围在此方面不受限制。

本文使用的术语“包括”及其变形是开放性包括，即“包括但不限于”。术语“基于”是“至少部分地基于”。术语“一个实施例”表示“至少一个实施例”；术语“另一实施例”表示“至少一个另外的实施例”；术语“一些实施例”表示“至少一些实施例”。其他术语的相关定义将在下文描述中给出。

需要注意，本申请中提及的“一个”、“多个”的修饰是示意性而非限制性的，本领域技术人员应当理解，除非在上下文另有明确指出，否则应该理解为“一个或多个”。“多个”应理解为两个或以上。

下面，将参考附图详细地说明本申请的实施例。

本发明实施例提供一种防眩光玻璃的制备方法，包括：

附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，掩膜层包括有多个规则排列的孔；

化学蚀刻，对玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻；

清除掩膜层，在化学蚀刻完成后清除掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板；

化学抛光，对玻璃基板清除掩膜层后的一面进行化学抛光；

化学抛光为在相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时停止。

实施例1

图1是本申请一实施例的防眩光玻璃的制备方法的流程示意图，图2是本申请又一实施例的防眩光玻璃的制备方法的流程示意图，下面将参考图1-2，对本发明实施例的防眩光玻璃的制备方法进行详细描述。

本发明实施例的防眩光玻璃的制备方法，用于对玻璃进行防眩光功能进行表面处理，例如车载防眩光玻璃、移动终端表面的防眩光玻璃等等。

图2中的a1-a6为采用本发明实施例的防眩光玻璃的制备方法制作防眩光玻璃时，防眩光玻璃的表面结构示意图，b1-b6为防眩光玻璃的侧面结构示意图。

首先，在步骤101，附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，掩膜层包括有多个规则排列的孔。

在一示例性的实施方式中，首先在玻璃基板的至少一个面附着掩膜层，例如在玻璃基板的一个面附着掩膜层时，如图2中的a2与b2所示。

在一示例性的实施方式中，在玻璃基板的至少一个表面附着掩膜层，例如在玻璃基板的正面附着掩膜层，或者在玻璃基板的背面附着掩膜层，当然若有必要可以在玻璃基板的正面与背面同时附着掩膜层。

在一示例性的实施方式中，通常防眩光玻璃只对正面和/或背面有技术要求，而玻璃基板的侧面并不会影响光学参数与性能，所以本申请实施例中的防眩光玻璃的制备方法所说的玻璃基材的表面指的是正面和背面。

在一示例性的实施方式中，掩膜层包括有多个规则排列的孔。

在一示例性的实施方式中，孔为通孔。

在一示例性的实施方式中，掩膜层包括有多个规则排列的孔，表示的是掩膜层上孔的排列具有一定的规则，并不用于限定每一个孔均为同一个尺寸；当然，若有必要，掩膜层上孔的尺寸可以相同，或者相同尺寸的孔的间距排列具有一定的规律。

在一示例性的实施方式中，掩膜层上的多个规则排列的孔包括：相邻孔的中心距离相同，即彼此相邻的孔中心距离相等。

在一示例性的实施方式中，掩膜层上相邻孔之间具有一定的间隙，即相邻的孔之间不相连；或者可以理解为相邻孔之间没有相交区域或者相切点。

在一示例性的实施方式中，任意相邻的三个孔的中心相连接组成等边三角形，即孔的分布为等边三角形。

在一示例性的实施方式中，当然根据需要，相邻的四个孔的中心点连线还可以为正方形、矩形、菱形等等。

在一示例性的实施方式中，任意相邻两个孔的中心距离为1.5μm-100μm。

在一示例性的实施方式中，孔的形状包括圆形孔，当然若有必要，孔的形状可以根据实际需要进行调整，本申请将孔设计为圆形是为了在掩膜层上制备孔的时候更快捷高效，例如掩膜层为耐酸感光油墨或耐酸光刻胶时，通过曝光机进行曝光后进行显影，当孔直径很小时对光斑精度要求极高，因此圆形孔在这种情况下更容易制备。

在一示例性的实施方式中，孔的直径范围为1μm-100μm。

在一示例性的实施方式中，孔的直径范围为1μm-25μm。

在一示例性的实施方式中，孔的形状可以为椭圆形、矩形、六边形，特别的可以为圆形、正方形、正六边形等等。

在一示例性的实施方式中，掩膜层为耐酸腐蚀掩膜层。

在一示例性的实施方式中，掩膜层可以为布设有多个规则排列的孔的金属膜层，亦可以为在玻璃基板的表面布设耐酸感光油墨或者耐酸光刻胶等等，然后再对油墨或光刻胶进行曝光显影从而形成规则排列的孔；当然具体的掩膜层的设置可以根据实际需要进行选择，并非限于以上所举例的范围。

在一示例性的实施方式中，当掩膜层为通过油墨或者光刻胶形成时，掩膜层的厚度为1μm-50μm。

在一示例性的实施方式中，当掩膜层为通过油墨或者光刻胶形成时，掩膜层布设方式包括滚涂、丝印以及旋涂机旋涂等等。

在一示例性的实施方式中，当掩膜层为通过油墨或者光刻胶形成时，掩膜层上规则排列的孔可以为曝光显影方式形成。

步骤102，化学蚀刻，对玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻。

在一示例性的实施方式中，对玻璃基板进行化学蚀刻，化学蚀刻为对附着有掩膜层的一面进行蚀刻。

在一示例性的实施方式中，由于附着有掩膜层的一面只有掩膜层上有孔的区域才会裸露在外面，所以化学蚀刻是对处于孔内的玻璃基板进行蚀刻，如图2中的a2与b2所示对孔中部位进行化学蚀刻。

在一示例性的实施方式中，通过蚀刻液进入玻璃基板上处于掩膜层中有孔的区域，蚀刻形成一定深度的凹形颗粒。

在一示例性的实施方式中，蚀刻的深度尺寸为0.1μm-50μm；当然蚀刻的深度不超过玻璃基板的厚度，通常蚀刻的深度不会超过玻璃基板厚度的一半尺寸。

在一示例性的实施方式中，蚀刻的时间为5-1800秒。

在一示例性的实施方式中，蚀刻的深度可以通过调整蚀刻液的浓度和/或蚀刻的时间来进行调整。

在一示例性的实施方式中，蚀刻液的温度为16℃-22℃。

步骤103，清除掩膜层，在化学蚀刻完成后清除掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板。

在一示例性的实施方式中，在对孔内的玻璃基板进行蚀刻，并且蚀刻深度达到要求时，停止化学蚀刻，并清除完成蚀刻的一面上的掩膜层，如图2中的a3和b3所示。

在一示例性的实施方式中，清除掩膜层包括撕掉、清洗、化学药剂消除等等。

在一示例性的实施方式中，此时清除掩膜层一面的玻璃基板表面为处于孔区域内出现凹坑，该凹坑即为凹形颗粒，并且凹形颗粒的位置、形状、尺寸与掩膜层上的孔一致；而非孔的区域为未被蚀刻区域，此时玻璃基板的表面均匀分布有多个独立的凹形颗粒。

在一示例性的实施方式中，玻璃基板的表面均匀分布有多个独立的凹形颗粒，还包括，当凹形颗粒为按照一定规律排列时，一个规律周期可以看做一个整体，玻璃基板上多个整体为均匀分布的。

在一示例性的实施方式中，此时，未被蚀刻的区域相对于凹形颗粒即为凸起的平台区域。

步骤104，化学抛光，对玻璃基板清除掩膜层后的一面进行化学抛光；化学抛光为在相邻的凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时停止。

在一示例性的实施方式中，在清除掩膜层后，对玻璃基板上清除掩膜层后的一面进行化学抛光，即对该面进行整个面的化学抛光，因氢氟酸对玻璃腐蚀的各向同性，凹形颗粒深度保持不变，而凹形颗粒的直径则会逐渐扩大。

在一示例性的实施方式中，由于化学蚀刻时只对处于孔内的玻璃盖板进行蚀刻，所以在进行化学抛光时，玻璃基板表面会出现蚀刻深度不同的连续的凹凸起伏状，即凹形颗粒。

在一示例性的实施方式中，化学抛光时，在化学蚀刻基础上的凹形颗粒会逐步的被抛光扩大范围；以凹形颗粒为圆形为例进行解释说明，每个凹形颗粒区域会逐步的扩大半径范围，扩大到相邻的圆形颗粒相切，然后再逐步的相交，如图2中的a4-a6以及b4-b6所示。

在一示例性的实施方式中，由于化学抛光是对处于该面上的玻璃基板全面进行抛光，所以原来处于非凹形颗粒区域在化学抛光时也处于抛光的范围，在该面的玻璃基板被全部抛光蚀刻时，相邻的圆形颗粒彼此相交，并且没有平面凸起时，即相邻的圆形颗粒扩大到彼此共享同一条边时停止蚀刻，即可得到表面颗粒均匀的防眩光玻璃，如图2中的a4-a6以及b4-b6所示；当然，为了整个面的防眩光效果考虑，需要等到当前面的所有相邻的凹形颗粒彼此共享同一条边时停止蚀刻。

在一示例性的实施方式中，此时圆形颗粒扩大到相邻的拥有同一条边，每个原来的圆形颗粒现在变成了正六边形，即该面的玻璃基板变成了具有蜂窝状外观的防眩光玻璃表面。

在一示例性的实施方式中，化学抛光在抛光至玻璃表面每相邻两个颗粒相交并共享同一条边后，还可以根据需要继续进行化学抛光，此时玻璃的表面颗粒直径尺寸不再继续扩大，但是颗粒的深度会逐渐变小，即玻璃表面粗糙度Ra与Rz会逐渐变小，这会使得玻璃光泽度随之增加，雾度减小。

在一示例性的实施方式中，化学抛光在抛光至玻璃表面每相邻两个颗粒相交并共享同一条边后，还可以根据需要继续进行化学抛光，在抛光后的玻璃基板Ra减小至0.03μm和/或Rz减小至0.1μm时停止化学抛光。

在一示例性的实施方式中，Ra表示的是轮廓算术平均偏差：在取样长度内，轮廓偏距绝对值的算术平均值。

在一示例性的实施方式中，Rz表示的是微观不平度十点高度：在取样长度内最大的轮廓峰高的平均值与五个最大的轮廓谷深的平均值之和。

在一示例性的实施方式中，化学抛光的目的是为使蚀刻形成的独立分布的凹形颗粒尺寸逐渐扩大，直至相邻凹形颗粒相交并共享同一条边且没有平面凸起，在玻璃基板表面形成尺寸、深度、形状一致的微观形貌。

在一示例性的实施方式中，化学抛光使得没有平面凸起，可以理解为，在化学蚀刻时，出现凹形颗粒，而凹形颗粒之间区域还是表面平整的平面区域，该平面区域相对于凹形颗粒为平面凸起，如图2中的a3与b3所示；化学抛光在扩大凹形颗粒的直径尺寸时，还会逐步的降低平面区域直至消除平面区域，如图2中的a4-a6以及b4-b6所示；平面区域消除后，继续化学抛光，此时凹形颗粒直径尺寸不变，深度尺寸会逐渐减小，可以降低表面粗糙度Ra和Rz，提升玻璃光泽度、减小雾度。

在一示例性的实施方式中，化学蚀刻时，通过蚀刻液对玻璃基板进行蚀刻。

在一示例性的实施方式中，化学抛光时，通过抛光液对玻璃基板进行抛光。

在一示例性的实施方式中，蚀刻液为氢氟酸溶液，或氢氟酸与硫酸、盐酸以及硝酸的混合溶液。

在一示例性的实施方式中，蚀刻液为氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的混合溶液时，氢氟酸浓度为1%-12%wt，硫酸浓度为0%-12%wt，盐酸浓度为0%-12%wt，硝酸浓度为0%-12%wt，即蚀刻液可以为硝酸、硫酸以及盐酸三者中任意一种与氢氟酸混合，亦可以为上述氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的任意组合，或者蚀刻液单纯的为氢氟酸，氢氟酸浓度为1%-12%wt。

在一示例性的实施方式中，化学蚀刻时，蚀刻液的温度范围为16℃-22℃。

在一示例性的实施方式中，抛光液为氢氟酸与硫酸的混合溶液。

在一示例性的实施方式中，抛光液的氢氟酸浓度为3%-12%wt，硫酸浓度为3%-12%wt。

在一示例性的实施方式中，抛光时，抛光液的温度范围为29℃-35℃。

在一示例性的实施方式中，本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法，在对玻璃基板进行附着掩膜层之前，还包括对玻璃基板进行表面清洗，在附着掩膜层之前进行清洗在于清除玻璃基板表面杂质，避免掩膜层附着不牢固以及蚀刻深度不均匀情况的出现，如图2中的a1与b1所示。

在一示例性的实施方式中，在化学蚀刻之前，还包括附着保护膜层。

在一示例性的实施方式中，当只在玻璃基板的一个面进行化学蚀刻，或者分先后顺序对一个面进行蚀刻时，即只在玻璃基板的一面附着掩膜层时，在玻璃基板的相反面附着耐酸腐蚀保护膜。

在一示例性的实施方式中，例如，只需要对玻璃基板的正面进行蚀刻处理时，即只对玻璃基板的正面具有防眩光效果的要求时，在玻璃基板的背面附着保护膜层，避免背面被蚀刻液侵蚀。

在一示例性的实施方式中，保护膜层包括耐酸腐蚀保护膜。

在一示例性的实施方式中，本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法，当只对玻璃基板的一面进行蚀刻处理时，是先附着掩膜层还是先附着保护膜层没有特殊要求，二者可以不分先后同步进行。

在一示例性的实施方式中，在化学蚀刻和化学抛光结束后，可选择的还包括有对玻璃基板进行清洗，避免残余的蚀刻液和抛光液对玻璃基板进行腐蚀，避免破坏玻璃基板表面规则的防眩光纹理。

在一示例性的实施方式中，当附着有保护膜层时，在化学抛光结束后，还包括清除保护膜层。

在一示例性的实施方式中，当玻璃基板的两面均需要进行蚀刻处理时，可以通过先处理一面，再处理另外一面的方式实现，亦可以为两面同步进行的方式进行防眩光工艺的处理。

在一示例性的实施方式中，通过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获取的防眩光玻璃，具有规则的表面微观颗粒结构，可以大幅度降低防眩光玻璃的闪点值，能获得高防眩光性能的同时还具有闪点小的优异特性。

实施例2

本发明实施例2为防眩光玻璃，该防眩光玻璃采用上述实施例的防眩光玻璃的制备方法制作而成。

在一示例性的实施方式中，为了更进一步的体现本申请实施例的防眩光玻璃的优异性能，表1为本申请实施例的防眩光玻璃与现有技术的在玻璃基板表面采用传统化学蚀刻成型的防眩光玻璃性能对比表：

表1

60度角镜面光泽度

鲜映度

雾度

粗糙度

闪点（220PPI）

颗粒形状

颗粒直径尺寸

平均颗粒深度

对比例1

63%

98.90%

18.60%

0.028μm

0.50

无规则

1.896μm

0.16μm

对比例2

25.40%

39.50%

25.60%

0.227μm

4.09

无规则

19.866μm

1.2μm

第一组

22.50%

2.20%

33%

0.316μm

1.85

正六边形

25.06μm

1.57μm

第二组

23.20%

3.60%

32.50%

0.311μm

1.87

正方形

25.04μm

1.52μm

第三组

23%

40.50%

32.70%

0.219μm

1.1

正六边形

20.03μm

1.211μm

第四组

65.2%

22.3%

5.4%

0.143μm

2.213

正六边形

25.06μm

0.54μm

第五组

64.3%

99.1%

19.1%

0.025μm

0.114

正六边形

1.8μm

0.158μm

在一示例性的实施方式中，如表1所示，对比例1与对比例2均为在玻璃基板表面采用传统化学蚀刻成型的防眩光玻璃，传统化学蚀刻成型的防眩光玻璃工艺通常是：先直接在玻璃表面均匀喷洒化学蚀刻液，并保持一定时间后清洗干净，再进行化学抛光。化学抛光同样是对化学蚀刻后的玻璃表面直接均匀喷洒抛光液并保持一定时间，通过化学蚀刻液与抛光液的组成不同以及反应时间不同达到防眩光玻璃处理的效果。例如表1中的对比例1中的防眩光玻璃，其采用的工艺如下：首先，直接在玻璃表面均匀喷洒化学蚀刻液，并保持3分钟后取出清洗干净；化学蚀刻液成分包含氟化铵、草酸、硫酸铵、硫酸钠、甘油和水，其中氟化铵浓度为16.8wt%，草酸为8wt%，硫酸铵为9wt%，硫酸钠为15.7wt%，甘油为39.3wt%，水占比为11.2wt%；然后，在化学蚀刻后的玻璃表面直接均匀喷撒化学抛光液而成。采用对比例1制备的防眩光玻璃闪点低，但是防眩光能力差。

而表1中的对比例2中的防眩光玻璃，采用的工艺如下：首先，直接在玻璃表面均匀喷洒化学蚀刻液，并保持20分钟后取出清洗干净；化学蚀刻液成分包含氟化铵、草酸、硫酸铵、硫酸钠、甘油和水，其中氟化铵浓度为9.8wt%，草酸为4.5wt%，硫酸铵为6.5wt%，硫酸钠为11wt%，甘油为25.2wt%，水占比为43wt%。然后，再对化学蚀刻后的玻璃表面直接均匀喷撒化学抛光液。采用对比例2制备的防眩光玻璃虽然防眩光效果提高了，但是闪点同样也很高。

从表1可以看出，在对比例1中闪光点很小时，其存在着防眩光性能弱的问题；而在对比例2中提高防眩光性能时，又会出现闪点大的问题，无法像本申请实施例的防眩光玻璃一样可以兼顾低闪点与高防眩光性能的技术要求。

在一示例性的实施方式中，如表1所示，第一组数据为经过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获得；掩膜层上的孔的直径为3μm，中心距为25μm，孔的排列方式为正三角形，化学蚀刻后，相邻凹形颗粒中心距为25μm，平均深度为1.57μm，最大深度为3μm；化学抛光后，凹型颗粒直径为25.06μm，平均深度为1.57μm，最大深度为3μm，粗糙度Ra达到0.316μm时取得的数据。

在一示例性的实施方式中，如表1所示，第二组数据为经过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获得；掩膜层上的孔直径3μm，中心距25μm，孔的排列方式为正方形，化学蚀刻后，相邻两个凹型颗粒中心距为25μm，平均深度为1.52μm，最大深度为3μm；化学抛光后，凹型颗粒直径为25.04μm，平均深度为1.52μm，最大深度为3μm，粗糙度Ra达到0.311μm时取得的数据。

在一示例性的实施方式中，如表1所示，第三组数据为经过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获得；掩膜层上的孔直径3μm，中心距20μm，孔的排列方式为正三角形，化学蚀刻后，相邻两个凹型颗粒中心距为20μm，平均深度为1.211μm，最大深度为2.32μm；化学抛光后，凹型颗粒直径为20.03μm，平均深度为1.211μm，最大深度为2.32μm，粗糙度Ra达到0.311μm时取得的数据。

在一示例性的实施方式中，从表1中可以看出，第一至第三组数据均与对比例2在相近的60度角镜面光泽度下进行的对比，对比例2的鲜映度为39.50%，第三组在鲜映度为40.50%与对比例2相近的情况下，对比例2的闪点值为4.09，而第三组的闪点则只有1.1；而第一组与第二组在鲜映度为2.20%和3.60%时，二者的闪点值仍然只有1.85和1.87。从上述对比数据可以看出，经过本申请实施例工艺处理后的防眩光玻璃与现有的常规化学工艺处理的防眩光玻璃，在相同的检测条件下，无论是相近的防眩光效果时，还是更优异的防眩光效果时，其闪点值均远远的低于经过现有的常规化学工艺处理的防眩光玻璃。

在一示例性的实施方式中，如表1所示，第四组数据为经过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获得；掩膜层上的孔直径3μm，中心距25μm，孔的排列方式为正三角形，化学蚀刻后，相邻两个凹型颗粒中心距为25μm，平均深度为1.57μm，最大深度为3μm；化学抛光后，凹型颗粒直径为25.06μm，平均深度为0.54μm，最大深度为0.964μm，粗糙度Ra达到0.143μm时取得的数据。

在一示例性的实施方式中，从表1中可以看出，第四组数据在鲜映度为22.3%时，远远的低于对比例2的39.50%鲜映度，闪点值仍然达到2.213，远远的低于对比例2的闪点为4.09。

在一示例性的实施方式中，如表1所示，第五组数据为经过本申请实施例的防眩光玻璃的制备方法获得；掩膜层上的孔直径1μm，中心距1.8μm，排列方式为正三角形，化学蚀刻后，相邻两个凹型颗粒中心距为1.5μm，平均深度为0.158μm，最大深度为0.337μm；化学抛光后，颗粒直径尺寸为1.8μm，颗粒平均深度为0.158μm，粗糙度Ra达到0.143μm时取得的数据。

在一示例性的实施方式中，从表1中可以看出，第五组与对比例1在相近的60度角镜面光泽度下进行的对比：在二者鲜映度相近时，对比例1的闪点为0.5，而第五组的闪点却只有0.114；可见，在同等60独角镜面光泽度，且在同等防眩光性能时，经过本申请实施例工艺处理后的防眩光玻璃的闪点远远的低于现有的常规化学工艺处理的防眩光玻璃的闪点数值。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (16)

1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括：

附着掩膜层，在玻璃基板的至少一面附着掩膜层，所述掩膜层包括有多个规则排列的孔；

化学蚀刻，对所述玻璃基板附着掩膜层的一面进行蚀刻；

清除掩膜层，在所述化学蚀刻完成后清除所述掩膜层，获得表面均匀分布独立凹形颗粒的玻璃基板；

化学抛光，对所述玻璃基板清除所述掩膜层后的一面进行化学抛光；

所述化学抛光为在相邻的所述凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边时形成规则的孔；

在所述化学抛光将相邻的所述凹形颗粒被抛光至相交并共享同一条边后，还包括对所述玻璃基板继续抛光，在抛光后的玻璃基板Ra减小至0.03μm和/或Rz减小至0.1μm时停止抛光。

2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述掩膜层为耐酸腐蚀掩膜层。

3.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述掩膜层上的多个规则排列的孔包括：

相邻孔的中心距离相同；

所述孔的直径尺寸为1μm-100μm。

4.根据权利要求3所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，任意相邻的三个孔的中心相连接组成等边三角形。

5.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，任意相邻两个孔的中心距离为1.5μm-100μm。

6.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学蚀刻，包括，对附着有所述掩膜层的一面上位于所述孔内的玻璃基板进行蚀刻，所述蚀刻的深度尺寸为0.1μm-50μm。

7.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述蚀刻，包括通过蚀刻液对所述玻璃基板进行蚀刻，所述蚀刻液为氢氟酸溶液，或氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的混合溶液。

8.根据权利要求7所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述蚀刻液为氢氟酸与硝酸、硫酸以及盐酸的混合溶液时，所述氢氟酸浓度为1%-12%wt，所述硫酸浓度为0%-12%wt，所述盐酸浓度为0%-12%wt，所述硝酸浓度为0%-12%wt。

9.根据权利要求7所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述蚀刻液的温度范围为16℃-22℃。

10.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学蚀刻的时间为5-1800秒。

11.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述化学抛光，包括通过抛光液对所述玻璃基板进行抛光，所述抛光液为氢氟酸与硫酸的混合溶液。

12.根据权利要求11所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述抛光液中所述氢氟酸浓度为3%-12%wt，所述硫酸浓度为3%-12%wt。

13.根据权利要求12所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述抛光液的温度范围为29℃-35℃。

14.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在所述化学蚀刻之前，还包括：

附着保护膜层，当只在所述玻璃基板的一面附着所述掩膜层时，在所述玻璃基板的相反面附着耐酸腐蚀保护膜。

15.根据权利要求14所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在所述化学抛光结束之后，还包括：清除所述耐酸腐蚀保护膜。

16.一种防眩光玻璃，其特征在于，采用权利要求1-15任意一项所述的防眩光玻璃的制备方法制作而成。