JP4916597B2 - 型および型の製造方法ならびに反射防止膜 - Google Patents
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Description
実施例1〜4は、アルミニウム膜の厚さおよび/または表面の結晶粒の粒径の分布が互いに異なる。
14p 細孔
16 基材
18 アルミニウム膜
18a 結晶粒
18b 結晶粒界
18s アルミニウム膜の表面
100A モスアイ用型
Claims (13)
- 表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが50nm以上500nm未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造を表面に有する型の製造方法であって、
(a)基材上に堆積されており、厚さが0.5μm以上5μm以下であり、結晶粒径の平均値が、200nm以上5μm以下である複数の結晶粒が表面に存在するアルミニウム膜を用意する工程と、
(b)前記工程(a)の後に、前記アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、
(c)前記工程(b)の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部を拡大させる工程と
を包含する、型の製造方法。 - 表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが50nm以上500nm未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造を表面に有する型の製造方法であって、
(a)基材上に堆積されており、厚さが0.5μm以上5μm以下であり、結晶粒径の分布が、2つの極大値を有し、大きいほうの極大値は200nm以上である複数の結晶粒が表面に存在するアルミニウム膜を用意する工程と、
(b)前記工程(a)の後に、前記アルミニウム膜の表面を陽極酸化することによって、複数の微細な凹部を有するポーラスアルミナ層を形成する工程と、
(c)前記工程(b)の後に、前記ポーラスアルミナ層をエッチング液に接触させることによって、前記ポーラスアルミナ層の前記複数の微細な凹部を拡大させる工程と
を包含する、型の製造方法。 - 前記複数の結晶粒の粒径分布は、前記結晶粒径の平均値±50nmより広い範囲に広がっている、請求項1または2に記載の型の製造方法。
- 前記複数の結晶粒の結晶粒径の平均値は200nm以上5μm以下であり、
前記複数の結晶粒の粒径分布の大きいほうの極大値は400nm以上である、請求項2または3に記載の型の製造方法。 - 前記複数の結晶粒の粒径分布の大きいほうの極大値をR1とし、小さいほうの極大値をR2とすると、
前記複数の結晶粒には、粒径がR1−{(R1−R2)/2}より大きい結晶粒が5%以上含まれている、請求項2から4のいずれかに記載の型の製造方法。 - 前記アルミニウム膜の前記表面のn点平均粗さ(Rz)は100nm以上である、請求項2から5のいずれかに記載の型の製造方法。
- (d)前記アルミニウム膜の前記表面をさらに陽極酸化することによって、前記複数の微細な凹部を成長させる工程をさらに包含し、
前記工程(c)の後に前記工程(d)および(c)をさらに行う、請求項1から6のいずれかに記載の型の製造方法。 - 表面にポーラスアルミナ層を有し、
前記ポーラスアルミナ層は、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさが50nm以上500nm未満の複数の凹部を有する、反転されたモスアイ構造と、表面の法線方向から見たときの2次元的な大きさの分布が、2つの極大値を有し、大きいほうの極大値が200nm以上である複数の凸部とを有する、型。 - 前記複数の凸部の2次元的な大きさの分布は、前記複数の凸部の2次元的な大きさの平均値±50nmより広い範囲に広がっている、請求項8に記載の型。
- 前記複数の凸部の2次元的な大きさの平均値は200nm以上5μm以下であり、
前記複数の凸部の2次元的な大きさの分布の、大きいほうの極大値は400nm以上である、請求項8または9に記載の型。 - 前記複数の凸部の2次元的な大きさの分布の、大きいほうの極大値をL1とし、小さいほうの極大値をL2とすると、
前記複数の凸部には、2次元的な大きさがL1−{(L1−L2)/2}より大きい凸部が5%以上含まれている、請求項8から10のいずれかに記載の型。 - 請求項8から11のいずれかに記載の型の表面の凹凸構造が反転された凹凸構造を有する、反射防止膜。
- 積分球反射率が0.3%未満であり、ヘイズ値が1%以上5%以下である、請求項12に記載の反射防止膜。
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