CN110228950B

CN110228950B - 一种防眩光玻璃的制备方法

Info

Publication number: CN110228950B
Application number: CN201910426741.9A
Authority: CN
Inventors: 胡云慧; 杨红斌; 刘印; 虢晓双; 隆祖亿; 彭传才
Original assignee: Hunan Navigate Technology Co ltd
Current assignee: Hunan Navigate Technology Co ltd
Priority date: 2019-05-22
Filing date: 2019-05-22
Publication date: 2021-12-03
Anticipated expiration: 2039-05-22
Also published as: CN110228950A

Abstract

本发明公开了一种防眩光玻璃的制备方法，包括：S1、在玻璃基底的结构面上形成图形化的第一光刻胶层；S2、以第一光刻胶层为掩膜，通过第一湿法腐蚀将玻璃基底刻蚀至给定深度；S3、除去第一光刻胶层，得到结构面具有凸起阵列的玻璃基底；S4、在玻璃基底的结构面上形成图形化的第二光刻胶层；S5、以第二光刻胶层为掩膜，对玻璃基底进行第二湿法腐蚀，在玻璃基底结构面上形成凹槽阵列；S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗，并去除第二光刻胶层，即得防眩光玻璃。本方法简单可控、工艺稳定性好，制备的防眩光玻璃表面微观平整度好、透光率高、反射率低、光泽度高、性能参数稳定、且拥有等同于玻璃材料的良好性能。

Description

一种防眩光玻璃的制备方法

技术领域

本发明属于显示屏幕玻璃技术领域，尤其涉及一种防眩光玻璃的制备方法。

背景技术

防眩光玻璃是一种低反射率，高透明度的特殊玻璃，英文名为：Anti-glareglass，其原理是使玻璃的反光表面变得凹凸不平，形成哑光低反射表面，继而提高显示画面的可视角度和亮度，减少屏幕反光，从而显著改善显示效果。防眩光玻璃多用于触屏、显示屏、触板、视窗等，如车载导航、仪器仪表屏幕、手机、电脑、广告屏幕等产品都可以应用到防眩光玻璃。当前制作防眩光玻璃主要基于在玻璃表面制作微结构和玻璃表面涂层两种工艺方式。而表面涂层工艺由于涂层本身抗磨损性能差，往往使用寿命不长，因此，越来越多的企业通过在玻璃表面制作微结构来制造防眩光玻璃。目前，在玻璃表面制作微结构的防眩光玻璃，主要有两种，第一种是纳米级的粗糙表面微结构，这类防眩光玻璃在工艺的最后一个环节，增加微纳级细小磨粒对表面进行类似“打磨”的处理，实现纳米级结构的加工。纳米级的表面微结构，能明显提高防眩光性能，但由于防眩光表面是“打磨”形成，其微结构表面粗糙，使得这类防眩光玻璃在透光率，特别是光泽度上，损失较大，因此，实际应用时在清晰度方面表现不够理想。还有一种是十微米级的平整表面微结构，其表面微结构规则的成阵列排布，且微结构表面平整，因此，在透光率和光泽度上有明显优势，但其防眩光能力上，较纳米级微结构有差距。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种工艺简单可控、工艺稳定性好且能制备出表面的微观平整度好、透光率高、反射率低、光泽度高、性能参数稳定、且拥有等同于玻璃材料的良好性能的防眩光玻璃的制备方法。

为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：

一种防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：

S1、在经清洗的玻璃基底表面上形成图形化的第一光刻胶层；

S2、以图形化的第一光刻胶层为掩膜，通过第一湿法腐蚀将所述玻璃基底刻蚀至给定深度；

S3、将经刻蚀的玻璃基底进行清洗，除去所述第一光刻胶层，得到表面具有凸起阵列的玻璃基底；

S4、将步骤S3所得的玻璃基底再次进行清洗，然后在玻璃基底的表面上形成图形化的第二光刻胶层；

S5、以图形化的第二光刻胶层为掩膜，对玻璃基底进行第二湿法腐蚀，在玻璃基底结构面上形成凹槽阵列；

S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗，并去除所述第二光刻胶层，即得玻璃基底表面凸起阵列和凹槽阵列相间布置的防眩光玻璃。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，在所述玻璃基底表面上形成第一光刻胶层或第二光刻胶层前，还包括先在玻璃基底表面上涂覆一层增粘剂。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S2、S5中，所述的湿法腐蚀使用的刻蚀液是氢氟酸缓冲液，所述氢氟酸缓冲液的成分为：氢氟酸、氟化铵和去离子水以2.4～3.6∶4.8～7.2∶8～12的质量比混合。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S1、S2、S3、S4、S5和S6中，各工艺过程均在洁净等级1000级以上的洁净间完成，以保证制备产品的表面洁净度。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S1中，所述图形化的第一光刻胶层为光刻胶凸台阵列；

所述在经清洗的玻璃基底的表面上形成图形化的第一光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的表面上形成光刻胶层，然后在采用第一图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，对所述玻璃基底进行光刻处理，得到表面上具有光刻胶凸起阵列的玻璃基底。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S4中，所述图形化的第二光刻胶层为带有阵列凹槽的光刻胶层；

所述在玻璃基底的表面上形成图形化的第二光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的表面上形成光刻胶层，在采用第二图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，对所述玻璃基底进行光刻处理，以在玻璃基底表面上形成具有凹槽阵列的第二光刻胶层。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S1中，第一图案掩膜板图形为直径1～50μm圆形阵列，或为1μm×1μm～50μm×50μm方形图案阵列，或是边长为1～50μm的三角形、五边形、六边形阵列，相邻小图案之间的间隙为1～50μm；

所述步骤S4中，第二图案掩膜板图形为直径1～50μm圆孔阵列，或为1μm×1μm～50μm×50μm方孔阵列，或是边长为1～50μm的三角形、五边形、六边形孔阵列，相邻孔之间的间隙为1～50μm。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述的玻璃基底为透明材质；所述透明材料为无机硅玻璃或有机透明玻璃；所述有机透明玻璃的材质为聚对苯二甲酸乙二脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或由聚甲基丙烯酸甲酯与聚碳酸酯组成的混合物。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S1、S4中，所述的光刻胶为AZ1500、AZ3100系列、AZ6100系列或AZ GXR600系列光刻胶，胶厚为1～2μm。

上述的防眩光玻璃的制备方法，优选地，所述步骤S1、S4中，所述玻璃基底的清洗工艺参数为：先于90℃～120℃下进行SPM清洗，然后于60℃～80℃下进行APM清洗，再于60℃～80℃下进行SC2清洗，最后于22℃～26℃下进行DHF清洗。

本发明通过选用合适的玻璃原材料和特定的工艺，实现了玻璃上1μm尺寸的光刻结构制作，并最终成功在玻璃上刻蚀出一致性良好的最小结构尺寸达到0.5μm的均匀微结构阵列，表面微结构尺寸的缩小，在同等防眩光性能要求下，能降低微结构在玻璃表面的表面积占比，从而在实现防眩光效果的同时，降低因防眩光工艺而产生的负面影响，如透光率和光泽度的降低。本发明创新AG玻璃表面微结构选择和布局，通过两次光刻腐蚀工艺，在玻璃表面不同平面上制备了凸起和凹槽（凹坑）两种微结构，可以形成平整的腐蚀面，削弱因防眩光工艺而对玻璃透光率产生的负面影响。且凸台和凹坑两种依次间隔的微结构布局方式，不仅可分散反射光的集中度，而且可实现入射光的二次甚至三次反射，从而削弱反射光强。通过测试，相较于其他同类产品，在同等防眩光性能下，能大大降低玻璃表面微结构的密度和表面积占比，有利于提高表面透光率和光泽度，大大提升了本发明AG玻璃的反射率、透光率和光泽度等综合性能。

本发明的有益效果是：

（1）本发明针对玻璃基材进行加工，制得的防眩光表面拥有等同于玻璃材料的良好性能，如高硬度、耐磨损、抗腐蚀等；本发明制作的防眩光玻璃具有的良好防眩光功能，且微观上，结构表面的平整度高，使得本发明制得的防眩光玻璃拥有极佳的透光率和光泽度。

（2）本发明制作的防眩光玻璃，刻蚀完成后，玻璃表面的阵列结构最小尺寸为500nm，且经过两次光刻，制作的微凸台阵列和微凹槽（微凹坑）阵列在不同平面上，其组合使得其防眩光效果较现有的纳米级防眩光玻璃有提升。

（3）本发明制作的AG玻璃拥有良好的透光率，相对于粗糙平面的AG玻璃对透射光较严重的衰减，本发明制作的防眩光玻璃，透射光仅在微结构侧面斜坡处产生较大衰减，在其他区域，由于表面很平整，拥有等同于玻璃的透光性，整体透光率优于同类产品。

（4）本发明制作的AG玻璃拥有良好的光泽度，粗糙平面的AG玻璃通过光的漫反射来分散特定方向的入射光，以实现AG功能，因此玻璃的光泽度普遍不高。本发明制作的防眩光玻璃，既通过平整的表面来增加透射率，从而降低总体的反射光总量，又通过具有高度差的微结构阵列，来实现反射光的二次甚至三次反射，从而进一步降低反射光总量，以实现所要求的AG性能，因此，在非结构区，仍有少量反射光有定向性，只是相较于入射光，被削弱，因此具有良好的光泽度。

（5）本发明通过表面的微结构降低玻璃表面的反射，其各项性能参数可通过微结构的形貌、尺寸和微结构密度进行调整，可通过设计针对性的表面图案，实现指定性能参数的防眩光玻璃的制造。

（6）本发明采用光刻腐蚀工艺制作玻璃表面微结构，其控制精度高，稳定性好，每个工序操作简单，易于实现大批量生产。

（7）本发明的整个制备过程在1000级以上的洁净车间完成，使玻璃表面更加洁净，镀膜与基底结合的更好，不易脱落，且能大大降低周边环境对工艺过程的影响，工艺质量稳定性好。

附图说明

图1是本发明制备防眩光玻璃的工艺流程示意图。

图2是本发明AG玻璃表面凸台形貌尺寸示意图。

图3是本发明AG玻璃表面凹槽（凹坑）形貌尺寸示意图。

具体实施方式

以下结合说明书附图和具体优选的实施例对本发明作进一步描述，但并不因此而限制本发明的保护范围。

以下实施例中所采用的材料和仪器均为市售。

一种防眩光玻璃的制备方法，包括如下步骤：

S1、在经清洗的玻璃基底的结构面上形成图形化的第一光刻胶层；

S3、将经刻蚀的玻璃基底进行清洗，除去所述第一光刻胶层，得到结构面具有凸起阵列的玻璃基底；

S4、将步骤S3所得的玻璃基底再次进行清洗，然后通过掩膜板的十字标记和玻璃基底第一湿法腐蚀形成的十字标记的对准，在玻璃基底的结构面上形成图形化的第二光刻胶层；

S5、以图形化的第二光刻胶层为掩膜，对玻璃基底进行第二湿法腐蚀，在玻璃基底结构面上形成凹槽（凹坑）阵列；

S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗，并去除第二光刻胶层，即得结构面上凸起阵列和凹槽（凹坑）阵列相间的防眩光玻璃。

在所述玻璃基底结构面上形成第一光刻胶层或第二光刻胶层前，还包括先在玻璃基底结构面上涂覆一层增粘剂。在当前的玻璃表面处理工艺中，若直接在玻璃上涂覆光刻胶，在进行几个微米的光刻结构的显影时，显影后的结构尺寸极易失真。且在进行玻璃刻蚀时，浸泡在氢氟酸中的光刻胶通常1～2min后就开始出现浮胶，造成腐蚀后图形转移失真，因此，在匀胶前，往往会在玻璃上预镀金属膜层，如铬等，以增强玻璃表面光刻胶在刻蚀液中的稳定性，但膜层的加入，不仅导致工艺流程的复杂，同时，因为金属膜层在刻蚀期间被腐蚀，而致光刻图形转移失真，因此制作的结构，往往制作的结构尺寸通常大于十个微米，来确保腐蚀完成后的结构一致性。本发明通过在匀胶前增加增粘剂的涂覆，增强了光刻胶在玻璃上的粘附性，从而实现最小1μm尺寸结构的良好显影，解决了现有工艺得到的微结构尺寸大的缺陷。

所述步骤S2和S5中，所述的湿法腐蚀使用的刻蚀液是氢氟酸缓冲液，所述氢氟酸缓冲液的成分为：氢氟酸、氟化铵和去离子水以2.4～3.6∶4.8～7.2∶8～12的质量比混合，优选比例为3∶6∶10。通过对实验确定了特定的由氟化铵固体和氢氟酸溶液配置的氢氟酸缓冲液，经过验证，在实验的刻蚀液温度下，玻璃上的光刻胶在其中能保持良好的粘附性，10min内不会出现浮胶现象，克服了采用其他刻蚀液容易出现浮胶现象的缺陷。

所述步骤S1、S2、S3、S4、S5和S6中，各工艺过程均在洁净等级1000级以上的洁净间完成。

所述步骤S1中，所述图形化的第一光刻胶层为光刻胶凸台阵列；

所述在经清洗的玻璃基底的结构面上形成图形化的第一光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的结构面上形成光刻胶层，然后在采用设计好的第一图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，采用光刻机对所述玻璃基底进行光刻处理，得到结构面上具有光刻胶凸台阵列的玻璃基底。

所述步骤S4中，所述图形化的第二光刻胶层为带有阵列凹槽（凹坑）的光刻胶层；

所述在玻璃基底的结构面上形成图形化的第二光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的结构面上形成光刻胶层，然后通过掩膜板上的十字标记和玻璃基底第一湿法腐蚀形成的十字标记对准，在采用设计好的第二图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，采用光刻机对所述玻璃基底进行光刻处理，以在玻璃基底结构面上形成具有凹槽（凹坑）阵列的第二光刻胶层。

所述步骤S1中，第一图案掩膜板为带有不透光图案结构的透光材料板（具体为在透光材料板上构建不透光图案结构得到），所述不透光图案结构为阵列图案，所述阵列图案为直径1～50μm的圆形图案阵列，或为1μm×1μm～50μm×50μm方形图案阵列，或是边长为1～50μm的三角形、五边形、六边形阵列，相邻图案之间的间隙为1～50μm。

所述步骤S4中，所述第二图案掩膜板为带有图案化透光结构的不透光材料板（具体为在不透光材料板上构建透光结构得到），透光结构为阵列孔，所述阵列孔为直径1～50μm的圆孔阵列，或为1μm×1μm～50μm×50μm方孔阵列，或是边长为1～50μm的三角形、五边形、六边形孔阵列，相邻孔之间的间隙为1～50μm。

所述的玻璃基底为透明材质；所述透明材料为无机硅玻璃或有机透明玻璃；所述有机透明玻璃的材质为聚对苯二甲酸乙二脂（PET）、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）、聚碳酸酯（PC）或PMMA+PC。优选采用无机硅玻璃，在本发明的刻蚀条件下，相对于普通玻璃120nm/min的刻蚀速率，无机硅玻璃刻蚀速率达到500nm/min，玻璃刻蚀的时间大大缩短，使得胶层在氢氟酸刻蚀液中浸泡的时间减少，从而保证本发明的工艺路线更顺利实现。

所述步骤S1、S4中，所述的光刻胶为AZ1500、AZ3100系列、AZ6100系列或AZ GXR600系列光刻胶，胶厚为1～2μm。

所述步骤S1、S4中，所述玻璃基底的清洗工艺参数为：先于90℃～120℃下进行SPM清洗，然后于60℃～80℃下进行APM清洗，再于60℃～80℃下进行SC2清洗，最后于22℃～26℃下进行DHF清洗。以此工艺进行玻璃清洗，能有效提高玻璃清洗的洁净度，有利于提高光刻胶的粘附性，大大降低成品表面的结构缺陷。

所述第一图案掩膜板和第二图案掩膜板上相邻图案的间距优选相等，有利于后续控制形成凹槽和凸起相间的微结构。

实施例1

原材料准备：

制作两张掩膜版，1#掩膜板为透光材料板，透光材料板上构建图案化结构，图案化结构为阵列铬圆，铬圆的直径为3μm，相邻铬圆间距12μm。2#掩膜板为铬掩膜板，铬掩膜板上构建图案化透光结构，透光结构为阵列圆孔，阵列圆孔的直径为1μm，相邻圆孔的间距为12μm。

在两张掩膜板上分别制作十字对准标记，对准标记为100μm×100μm的方形铬块中间制作一个十字镂空，此十字由两个50μm×10μm的镂空长方形十字相交形成，在掩膜板左侧和右侧中间各制作一个，两张掩膜板对准标记制作在掩膜板上同一位置，使得当1#掩膜板叠在2#掩膜板上时，若十字对准标记重合，1#掩膜板上的铬圆恰好位于2#掩膜板上两相邻空圆中间位置，1#掩膜板铬圆和2#掩膜板圆孔等距离交错（间隔）排布。

按下列步骤配置氢氟酸缓冲液，3份广州金华大的含量96%的氟化铵，6份上海国药的含量40%的氢氟酸，10份去离子水，超声混合。

一种本发明的防眩光玻璃的制备方法，工艺流程图如图1所示，包括以下步骤：

（1）将玻璃基底清洗干净

取一张4寸，500μm厚的玻璃圆片，将玻璃片在RCA设备内干净，清洗工艺流程依次为：先进行SPM清洗30min（体积比，浓硫酸（98 w.t.%）∶双氧水（37 w.t.%）=3∶1混合溶液），去离子水冲洗15min；然后进行APM清洗15min（体积比，氨水（26 w.t.%）∶双氧水（37 w.t.%）∶去离子水=1∶1∶5混合溶液），去离子水冲洗15min；再进行SC2清洗10min（体积比，盐酸（36w.t.%）∶双氧水（37w.t.%）=1∶1∶3混合溶液），去离子水冲洗15min；最后进行DHF清洗1min（浓度为1%wt的氢氟酸），去离子水冲洗15min。经测试，以此工艺进行玻璃清洗，能有效提高玻璃清洗的洁净度，有利于提高光刻胶的粘附性，大大降低成品表面的结构缺陷。

（2）在玻璃基底表面涂覆光刻胶，通过光刻工艺制作第一掩膜图形

采用旋转涂胶法，先在玻璃表面以最高转速2000r/min涂覆一层增粘剂，然后涂覆一层AZ1500光刻胶，最高转速5000r/min，胶厚1.2μm，100℃前烘60s，使用1#掩膜板在光刻机上曝光8s，然后使用2.38%显影液显影65s，显影出表面结构图形，最后在130℃后烘180s，在玻璃基底表面形成直径为3μm的胶圆凸台阵列，相邻胶圆凸台之间间距为12μm。

本步骤的光刻胶可以为AZ3100系列、AZ6100系列或AZ GXR600系列光刻胶，优选采用AZ1500光刻胶。

（3）湿法刻蚀玻璃基底

使用氢氟酸缓冲液进行各项同性刻蚀，40℃刻蚀3min，刻蚀深度1.5μm，腐蚀完成后，得到结构面具有凸起阵列的玻璃基底，凸起的直径为500nm，完成结构刻蚀工艺。步骤（3）所述的湿法腐蚀使用的刻蚀液是氢氟酸缓冲液，其配比为3份广州金华大的含量96%的氟化铵，6份上海国药的含量40%的氢氟酸，10份去离子水，超声混合。

（4）去除表面光刻胶

使用去胶液去除玻璃表面的光刻胶，冲洗干净。

（5）对玻璃基底进行二次清洗

将冲洗后的玻璃片在RCA设备中清洗干净，清洗工艺依次为，于120℃下进行SPM清洗30min（体积比，浓硫酸（98w.t.%）∶双氧水（37w.t.%）=3∶1混合溶液），去离子水冲洗15min；然后进行APM清洗15min（体积比，氨水（26w.t.%）∶双氧水（37w.t.%）∶去离子水=1∶1∶5混合溶液），去离子水冲洗15min；再进行SC2清洗10min（体积比，盐酸（36 w.t.%）∶双氧水（37w.t.%）=1∶1∶3混合溶液），去离子水冲洗15min；最后进行DHF清洗1min（浓度为1%wt的氢氟酸），去离子水冲洗15min。本步骤将玻璃基底清洗干净，能极大降低光刻工艺产生的工艺缺陷，且对光刻胶粘附性有积极影响。

（6）在玻璃基底表面涂覆光刻胶，通过光刻工艺制作第二掩膜图形

先在玻璃表面以最高转速2000r/min涂覆一层增粘剂，然后涂覆一层AZ1500光刻胶，最高转速5000r/min，胶厚1.2μm，100℃前烘60s，使用2#掩膜板光刻，2#掩膜板上十字标记与玻璃在第一湿法腐蚀出的十字标记对准，在光刻机上曝光8s，然后使用2.38%显影液显影65s，显影出表面结构图形，最后130℃后烘180s，以在玻璃基底结构面上形成具有凹槽（凹坑）阵列的第二光刻胶层。

（7）湿法刻蚀玻璃基底

将玻璃片放入循环的温度为40℃的氢氟酸缓冲溶液中刻蚀3min，刻蚀深度为1.5μm，在玻璃基底结构面上形成凹槽（凹坑）阵列。

（8）去除表面光刻胶，得到防眩光玻璃

使用去胶液去除玻璃表面的光刻胶，冲洗干净，得到结构面上凸起阵列和凹槽（凹坑）阵列相间的防眩光玻璃，工艺完成。

本发明制备出的防眩光玻璃表面具有相间设置的凸起和凹槽阵列，凸起的微观结构如图2所示，凹槽的微观结构如图3所示，而且凸起和凹槽表面平滑，透光率和光泽度高，本发明的防眩光玻璃由于特殊的整体结构，光反射率大大降低，透光率大大增加。本实施例制成的防眩光玻璃表面的微结构尺寸减小到3.5μm，结构上最小尺寸为0.5μm，既实现了良好防眩光功能，同时有具备极佳的透光率和光泽度。本发明制备出的防眩光玻璃保留了原材料的基本物理性质，制得的防眩光表面拥有等同于玻璃材料良好性能，如高硬度、耐磨损、抗腐蚀等；且光反射率低至0.5%，同类产品通常在1%，透射率达到90%，同类产品通常在86%，光泽度达到127°，远远优于同类产品的90°。使用本发明制备的防眩光玻璃不会降低玻璃的视觉效果。本发明通过表面的微结构降低玻璃表面的反射，其效果可通过微结构的形貌、尺寸和密度进行调整，可通过设计针对性的表面图案，实现指定性能参数的防眩光玻璃的制造。制备过程在1000级以上的洁净车间完成，能大大降低周边环境对工艺过程的影响，工艺质量稳定性好。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制。虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明的精神实质和技术方案的情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims

1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S6、将经第二湿法腐蚀的玻璃基底进行清洗，并去除所述第二光刻胶层，即得玻璃基底表面凸起阵列和凹槽阵列相间布置的防眩光玻璃；

所述在经清洗的玻璃基底的表面上形成图形化的第一光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的表面上形成光刻胶层，然后在采用第一图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，对所述玻璃基底进行光刻处理，得到表面上具有光刻胶凸台阵列的玻璃基底；

所述步骤S4中，所述图形化的第二光刻胶层为带有阵列凹槽的光刻胶层；

所述在玻璃基底的表面上形成图形化的第二光刻胶层的步骤包括：在经清洗的玻璃基底的表面上形成光刻胶层，在采用第二图案掩膜板对所述玻璃基底的保护下，对所述玻璃基底进行光刻处理，以在玻璃基底表面上形成具有凹槽阵列的第二光刻胶层；

所述步骤S1中，第一图案掩膜板图形为直径1～50μm圆形阵列，或为1μm×1μm～50μm×50μm方形图案阵列，或是边长为1～50μm的三角形、五边形、六边形阵列，相邻小图案之间的间隙为1～50μm；

2.如权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在所述玻璃基底表面上形成第一光刻胶层或第二光刻胶层前，还包括先在玻璃基底表面上涂覆一层增粘剂。

3.如权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S2、S5中，所述的湿法腐蚀使用的刻蚀液是氢氟酸缓冲液；所述氢氟酸缓冲液的成分为：氢氟酸、氟化铵和去离子水以2.4～3.6∶4.8～7.2∶8～12的质量比混合。

4.如权利要求1～3任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S1、S2、S3、S4、S5和S6中，各工艺过程均在洁净等级1000级以上的洁净间完成。

5.如权利要求1～3任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述的玻璃基底为透明材质；所述透明材料为无机硅玻璃或有机透明玻璃；所述有机透明玻璃的材质为聚对苯二甲酸乙二脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯或由聚甲基丙烯酸甲酯与聚碳酸酯组成的混合物。

6.如权利要求1～3任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S1、S4中，所述玻璃基底的清洗工艺参数为：先于90℃～120℃下进行SPM清洗，然后于60℃～80℃下进行APM清洗，再于60℃～80℃下进行SC2清洗，最后于22℃～26℃下进行DHF清洗。

7.如权利要求1～3任一项所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述步骤S1、S4中，所述的光刻胶为AZ1500、AZ3100系列、AZ6100系列或AZ GXR600系列光刻胶，胶厚为1～2μm。