CN1629689A - 导光板模仁制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种导光板模仁制造方法，包括以下步骤：提供一基板，该基板具有一表面；涂覆光阻层在基板表面；用光源对光阻层进行曝光，控制光源的曝光强度，其曝光强度分布曲线与预定图案的凸凹相一致；对该经过曝光的光阻层进行显影，得到具有变化厚度光阻层的基板；对该基板进行蚀刻，得到具有预定图案的导光板模仁。本发明可减少光罩的使用及不同光罩之间的制程造成导光板模仁上图案相互干扰的现象，并提高导光板模仁的精准度及导光板良率、生产效率及品质。
Description
【技术领域】
本发明系关于一种模仁制造方法，尤其是指一种具有表面图案的导光板模仁制造方法。
【背景技术】
因为液晶显示器面板本身不具有发光特性，其光源装置必须能为其提供均匀的平面光，以获得良好的视觉效果。而其光源装置通常包括光源(线形光源如冷阴极管，或点状光源如发光二极管)、导光板与反射板，其工作原理是光源发出的光线直接或间接进入导光板内传播，经过导光板的具有光学结构设计的底面散射与导光板下的反射板反射，以某一角度扩散射出，并均匀分布在发光区域内，再利用扩散板及棱镜板调整光线倾斜角度，以配合液晶显示器的光学特性要求。
目前导光板的制造方法主要可分为两大类：印刷式制程与非印刷式制程。印刷式制程系在导光板基板完成后，将含有高发散光物质(如二氧化硅等)的印刷材料印制在导光板基板底部，然后进行热化固定。该原理系藉由高发散光物质对光吸收再扩散的性质，造成内部传播，进而破坏光在导光板内传播的全反射条件，使光由其正面均匀出射。非印刷式制程系将设计好的导光图样(导光的表面形状)制作在导光板模仁上，采用熔融塑料在模具中直接成型或压印制作，不必再经过热化固定步骤，简化制程。
导光板模仁的非印刷式制程有多种方式，传统方式系采用机械加工方式如高速洗削方式或采用光微影(Lithography)方式将图案印制在导光板模仁上。请一并参阅图1至图5，是现有光微影技术的基本范例。首先在基板10上溅镀一层薄膜层11，在薄膜层11上涂覆光阻剂层12，从具有特定图案光罩(Photomask)13上方以光14照射，将光阻剂层12曝光，因溶解的差异可使得曝光部分和非曝光部分分离，在基板10上的光阻剂层12形成预定的图案。显影后，施予蚀刻处理，没有被光阻剂层12覆盖的部分薄膜层11被蚀刻去除形成所需要的图案，最后去除光阻剂层12即可得到具有表面图案的基板。为了要制作具有复杂表面图案的导光板模仁，有时仍必须要采用同样的工程相当多次。
现有技术的光罩使用上，常发生使用不同光罩制程之间的图案相互干扰而造成导光板模仁图案精准度降低，使得导光板良率下降，光罩的使用数量愈多，也会造成制造成本的提高。
【发明内容】
为克服现有技术导光板模仁制造方法使用光罩过多，造成制造成本高、良率低的问题，本发明提供一种低成本与高生产效率的导光板模仁制造方法。
本发明解决技术问题所采用的技术方案是：提供一种导光板模仁制造方法，其包括：提供一基板，该基板具有一表面；涂覆光阻层在该基板表面；用光源对光阻层进行曝光，控制光源的曝光强度，使其曝光强度分布与预定得到图案的凸凹相一致；对该经过曝光的光阻层进行显影，得到具有相应图案光阻层的基板；对该基板进行蚀刻，得到具有预定图案的导光板模仁。
与现有技术相比，由于本发明导光板模仁制造方法利用控制光线的强度以减少光微影光罩的使用及不同光罩之间的制程造成相互干扰的现象，并提高导光板模仁图案精准度，同时减少光罩的使用数量，从而降低制造成本。
【附图说明】
图1是现有光微影技术的沉积过程示意图。
图2是现有光微影技术的曝光过程示意图。
图3是现有光微影技术的显影过程示意图。
图4是现有光微影技术的蚀刻过程示意图。
图5是现有光微影技术的去除光阻过程示意图。
图6是本发明导光板模仁制造方法所用基板的侧面示意图。
图7是本发明导光板模仁制造方法的涂覆光阻示意图。
图8是本发明导光板模仁制造方法的光微影曝光强度示意图。
图9是本发明曝光强度曲线示意图。
图10是本发明导光板模仁制造方法形成的光阻层图案示意图。
图11是本发明导光板模仁制造方法蚀刻完成的导光板模仁侧面示意图。
【具体实施方式】
请参阅图6，首先提供一基板20，其包括一表面210及一底面220。该基板20的形状是平板形，当然，也可以按模具的需要采用其它形状。该基板20的材质一般系采用硬度较高的金属镍以满足模仁的需要，也可以使用铬玻璃。
请参阅图7，将光阻剂滴到基板20表面210上，使滴有光阻剂的基板20以其中心为轴旋转，待光阻涂覆均匀后停止旋转，形成光阻剂层，最后并洗净该基板20底面220，同时除去该基板20周边的光阻剂。
请一并参阅图8、图9、图10及图11，以光源22对光阻层21进行曝光，控制光源22的曝光强度，使其曝光强度分布曲线与预定得到图案的凸凹相一致，在光阻剂层21的对应区域形成相应的曝光深度，即图8中的曝光部分23的深度对应光线26的强度，再经显影后，即可在基板20上形成如图9所示的光阻图案24，随后对具有光阻图案24的基板20进行蚀刻，蚀刻方式可采用干蚀刻，如电浆蚀刻，蚀刻光源可采用激光束或离子束，可得到如图11所示具有特定形状的导光板模仁25，而导光板模仁上图案成锯齿状，其顶角角度在95°至115°之间。
本发明的导光板模仁制造方法主要是利用控制光线的强度以减少光微影光罩的使用及不同光罩之间的制程造成相互干扰的现象，并提高导光板模仁图案精准度，同时减少光罩的使用数量进而降低制造成本。
Claims (8)
1.一种导光板模仁制造方法，其包括以下步骤：提供一基板，该基板具有一表面；涂覆光阻层在该基板表面；用光源对光阻层进行曝光，控制光源的曝光强度，使其曝光强度分布与预定得到图案的凸凹相一致；对该经过曝光的光阻层进行显影，得到具有相应图案光阻层的基板；对该基板进行蚀刻，得到具有预定图案的导光板模仁。
2.根据权利要求第1项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该基板材料是镍或铬玻璃。
3.根据权利要求第1项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该具有变化厚度光阻层的形状为锯齿状。
4.根据权利要求第3项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该锯齿状的顶角角度在75°～115°之间。
5.根据权利要求第1项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该蚀刻方式是干蚀刻。
6.根据权利要求第5项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该蚀刻方式是电浆蚀刻。
7.根据权利要求第1项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该蚀刻是用激光进行蚀刻。
8.根据权利要求第1项所述的导光板模仁制造方法，其特征在于：该蚀刻是用离子束进行蚀刻。
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| CN 200310117564 CN1629689A (zh) | 2003-12-17 | 2003-12-17 | 导光板模仁制造方法 |
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2003
- 2003-12-17 CN CN 200310117564 patent/CN1629689A/zh active Pending
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