KR101302402B1 - 도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 모재 일면에 도금에 의해 패턴을 형성하고, 상기 형성된 패턴 상에 미세 패턴을 추가로 형성함으로써 광원으로부터 발광된 빛을 전반사시켜 광손실을 최소화하고, 도광판 전체에 균일한 고휘도 광을 방출시킬 수 있는 도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조 방법 {Stamper For Manufacturing Light Guide Panel And Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 모재 일면에 도금에 의해 패턴을 형성하고, 상기 형성된 패턴 상에 미세 패턴을 추가로 형성함으로써 광원으로부터 발광된 빛을 전반사시켜 광손실 및 저 소비 전력을 최소화하고, 도광판 전체에 균일한 고휘도 광을 방출시킬 수 있는 도광판 제조용 스탬퍼 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치(LCD)는 CRT나 PDP에 비해 박막 설계가 가능하고, 저전력 소비특성을 가지고 있으며, 상대적으로 낮은 코스트로 대화면 및 고해상도의 구현이 가능함으로써, 노트북, TV, 휴대용 기기 등의 디스플레이 장치로 널리 이용되고 있다.
상기와 같은 액정표시장치는 다른 디스플레이 장치와 달리 자체적으로 발광되지 않는 수동발광 소자이기 때문에 백라이트 유닛을 포함하여 구성된다.
일반적으로, 백라이트 유닛은 냉음극형광램프(CCFL) 또는 LED와 같은 광원의 빛을 고르게 산란시키는 도광판과, 상기 도광판 하부에서 손실되는 빛을 반사하는 반사시트, 상기 도광판 상부에 적층되어 도광판의 광을 확산 및 집광하는 확산시트 및 프리즘 시트를 포함하여 구성된다.
특히, 백라이트의 광원이 LED인 경우 점광원의 특성 상 광 손실 없이 도광판 전체를 통해 균일한 휘도로 광을 방출시키기 어려운 문제가 있으므로 도광판의 패턴 설계가 매우 중요하다.
또한, 광원으로부터 발생된 광은 도광판을 통해 상부로 방출되는 과정에서 난반사 등에 의해 광 손실이 발생하여 휘도가 저하되고, 광원의 배치에 따라 균일한 휘도의 광을 방출시킬 수 없으며, 도광판을 통해 난반사 및 확산되는 광으로 부터 적정 휘도를 확보하기 위해 도광판 상부에 복수 개의 확산시트 및 프리즘 시트를 구비하여야 하므로 제작 단가가 상승하는 문제가 있었다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서 본 발명의 목적은 스탬퍼 표면에 형성된 패턴 상에 미세 패턴을 이중으로 형성함으로써 상기 패턴을 통해 집광된 광을 상기 미세 패턴을 통해 전반사시켜 광손실을 최소화함으로써 광의 균일성과 휘도를 향상하므로써 종래의 4매 구조의 시트구조를 1~2매로 줄일수 있으며 제조 단가를 줄이기 위한 도광판 제조용 스탬퍼 및 그 제조 방법을 제공하는 데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 도광판 제조용 스탬퍼는 스탬퍼 모재와 상기 스탬퍼 모재 상에 PR을 형성하고, 패턴이 형성될 영역의 PR을 제거하여 비패턴 PR만을 남긴 상태에서 도금을 통해 상기 비패턴 PR 사이의 상기 PR이 제거된 패턴 영역에만 도금체가 전착된 후, 상기 비패턴 PR이 스트립되어 형성된 패턴을 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 패턴 상면에 다이어몬드 바이트 가공 또는 레이저 가공에 의해 형성된 미세 패턴을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 미세 패턴은 연속적인 V홈 형상인 프리즘 형상 또는 V홈이 비 연속적으로 형성된 형상인 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 패턴은 규칙적인 간격 또는 불규칙적인 간격마다 형성되고, 횡단면이 원형, 타원형, 다각형상 또는 이들의 조합 형태를 가진 기둥, 다각면체, 원뿔대 또는 각뿔대 형태인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 미세 패턴은 제조되는 도광판의 광원이 배치된 축과 평행한 방향으로 프리즘 골과 마루가 형성된 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 미세 패턴은 제조되는 도광판이 광원이 모서리 부분에 형성되는 경우 상기 광원의 모서리에 배치된 2개의 축과 평행한 2개의 프리즘이 형성된 것을 특징으로 한다.
한편, 본 발명에 따른 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법은 스탬퍼 모재 상에 PR을 형성하는 단계와 상기 PR 중 패턴이 형성될 영역의 PR을 제거하여 비패턴 PR만을 남기는 PR 패터닝 단계와 상기 비패턴 PR 사이의 상기 PR이 제거된 패턴 영역에만 도금에 의해 패턴을 형성하는 단계와 상기 비패턴 PR을 스트립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 PR을 형성하는 단계는 상기 스탬퍼 모재 상에 액상의 PR을 도포하고 경화하여 형성하거나, 고체 필름 PR을 라미네이팅하여 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 PR 패터닝 단계는 상기 PR 상에 패턴이 형성된 포토 마스크를 접촉시킨 상태에서 노광 및 현상하거나, 상기 PR 상에 패턴이 형성되지 않을 영역에만 레이저를 조사하여 수행하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 패턴을 형성하는 단계는 환원제를 함유한 전해 및 무전해 도금액이 담긴 도금조에 상기 스탬퍼 모재를 넣고서 상기 전해 및 무전해 도금액의 산화-환원 반응을 통해 촉매작용이 있는 천이금속인 스탬퍼 모재의 표면으로만 선택적으로 금속이 석출되는 방식을 이용하여, 상기 스탬퍼 모재가 노출된 PR이 제거된 영역에만 도금체가 전착되어 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 패턴을 형성하는 단계는 초음파 진동자 및 교반기가 설치된 도금조 내에 도금체인 금속체를 투입하여 초음파 전착으로 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 상기 패턴 상면에 다이아몬드 바이트 또는 레이저 가공에 의해 미세 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 미세 패턴은 연속적인 V홈 형상을 가지는프리즘 형태 또는 비연속적인 V홈을 가지는 형상으로 형성하는 것을 특징으로 한다.
그리고 미세 패턴은 제조되는 도광판의 광원의 배치축과 평행하게 프리즘의 마루와 골을 형성하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 미세 패턴은 제조되는 도광판이 광원이 모서리 부분에 형성되는 경우 상기 광원의 모서리에 배치된 2개의 축과 평행한 2개의 프리즘을 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 도광판 제조용 스탬퍼 및 그 제조 방법은 금형 코아에 장착하여 도광판을 사출 성형하거나 또는 롤에 장착한 다음 성형 전사하여 도광판을 제조함으로써 패턴에 의해 집광된 광을 미세 패턴을 통해 전반사시켜 광 손실없이 균일한 고휘도 광을 상부로 방출시킴과 저소전력을 유도 할 수 있는 탁월한 효과가 발생한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스탬퍼를 제조하는 공정을 개략적으로 도시한 순서도이고, 도 2는 도 1의 각 공정별 흐름도이고, 도 3은 도 1에 의해 제조된 스탬퍼를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 패턴과 미세 패턴이 형성된 스탬퍼를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광원이 일 측면에 형성된 도광판을 도시한 것이고, 도 5는 광원이 모서리이 형성된 도광판을 도시한 것이다.도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 패턴 형상을 개략적으로 도시한 것이다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
본 발명에 사용되는 “도광판”은 디스플레이 장치인 LCD의 백라이트에 사용되어 광을 가이드하는 구성뿐만 아니라, 조명 장치에서 LED 광원으로부터 발생한 광을 손실없이 가이드하기 위한 구성을 포함하는 개념으로 정의하기로 한다.
도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 스탬퍼를 제조하는 공정을 개략적으로 도시한 순서도이고, 도 2는 도 1의 각 공정별 흐름도이고, 도 3은 도 1에 의해 제조된 스탬퍼를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도 1 내지 3을 참조하면, 먼저 스탬퍼 모재(10)를 필요한 크기로 절단하여 준비하고, 상기 스탬퍼 모재 상에 포토레지스트(이하, "PR"이라고 함, 20)를 형성한다.(S110, 도 1의 "(a)")
상기 스탬퍼 모재(10)는 STAVAX(니켈+크롬의 합금강재), 구리, 신주 등의 금속 및 음경 처리된 Glass 재료로 형성될 수 있으며, 바람직하게는 스테인레스강(SUS)으로 형성될 수 있다.
여기서, 상기 PR(20)을 형성하는 방법은 스탬퍼 모재(10)의 표면에서 이물질을 제거하고 세척을 한 후 액체인 PR을 스핀 코팅 등에 의해 스탬퍼 모재에 도포한 후 소프트 베이킹을 통해 경화시켜 형성할 수 있으며, 드라이 필름 PR(DFR)을 상기 스탬퍼 모재에 라미네이팅하여 형성할 수 있다.
상기와 같이 스탬퍼 모재 상에 PR(20)이 형성되면 상기 PR을 패터닝하여 패턴이 형성될 영역의 PR만을 제거하고, 패턴이 형성되지 않을 영역의 비패턴 PR(210)만 남긴다. (S120)
보다 구체적으로, 상기 스탬퍼 모재(10) 상에 PR(20)이 형성되면, PR이 제거될 영역과 남아 있어야 할 영역이 구분된 패턴이 형성된 포토 마스크(30)를 상기 PR(20)에 접촉시킨 상태에서 UV에 노광하고 현상하여 스탬퍼 모재(10) 상에 패턴이 형성되지 않을 영역의 비패턴 PR(210)을 남기고 패턴이 형성될 영역의 PR을 제거한다.
상기 PR(20)이 포지티브 타입인 경우에는 도 2의 (b1)과 같이 상기 포토 마스크(30)는 PR이 제거되지 않을 영역에 광차단부가 형성되고, PR이 제거되는 영역에 투과부가 형성되어 상기 투과부를 통한 UV와 PR이 반응하여 투과부의 PR만이 되고, 광차단부의 PR(210)만 남게된다.
그리고 PR이 네가티브 타입인 경우에는 반대로 상기 포토 마스크는 PR이 제되지 않을 영역에 투과부가 형성되고, PR이 제거되는 영역에 광차단부가 형성되어 상기 광차단부에 의해 UV광이 차단된 영역에만 PR이 제거된다.
상기의 방법은 포토마스크 공정을 통해 PR을 패터닝하는 것에 관한 것이지만, 도 2의 (b2)와 같이 레이저를 통해 PR을 직가공하여 패터닝할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 PR(20)이 형성된 스탬퍼 모재(10) 상에 패턴이 형성될 영역에만 레이저를 조사하여 패턴이 형성될 영역의 PR만을 제거하여 비패턴 PR(210)만을 남겨서 PR을 패터닝할 수 있다.
상기와 같이 PR이 패터닝되면, 전해 및 무전해 도금을 통해 PR이 제거된 영역에 양각의 패턴(40)을 형성한다.(S130, 도 2의 "(c)")
보다 구체적으로, 상기 비패턴 PR(210)만이 남은 스탬퍼 모재의 표면을 세척한 다음, 환원제를 함유한 전해 및 무전해 도금액이 담긴 도금조에 상기 스탬퍼 모재를 넣고서 상기 전해 및 무전해 도금액의 산화-환원 반응을 통해 촉매작용이 있는 천이금속인 스탬퍼 모재의 표면으로만 선택적으로 금속이 석출되는 방식을 이용하여, 상기 스탬퍼 모재가 노출된 PR이 제거된 영역에만 도금체가 전착되어 패턴(40)이 형성된다.
상기 스탬퍼 모재(10)는 금속 재질이기 때문에 모재가 노출된 영역에만 도금체인 금속이 전착되어 양각의 패턴(40)이 형성된다.
또한, 초음파 진동자가 설치된 도금조 내에 도금체인 금속을 투입하여 초음파 전착을 통해 스탬퍼 모재(10)가 노출된 영역에만 금속이 전착되어 양각의 패턴(40)이 형성될 수 있다.
상기 도금에 사용되는 도금체로 니켈, 니켈-인, 구리, 동, 인, 코발트 합금 등이 사용될 수 있다.
상기와 같이 스탬퍼 모재에 양각의 패턴이 형성되면 모재에 남아있는 PR을 스트립하여 제거한다.(S140, 도 2의 "(d)")
상기와 같이 스탬퍼 모재에 남아 있던 PR이 제거되면 스탬퍼 모재(10) 상에는 도금에 의해 형성된 양각의 패턴(40)만이 남게 된다.
여기서, 본 발명에 따른 스탬퍼는 스탬퍼 모재(10)로부터 도금에 의해 전사되는 것이 아니라, 스탬퍼 모재(10) 상에 패턴(40)만 도금에 의해 양각으로 형성되므로 스탬퍼 모재와 패턴이 이종의 재료로 형성되게 되고, 도금에 소요되는 금속의 양이 최소화되므로 스탬퍼 제작 비용이 절감되고, 전사되는 스탬퍼 모재를 스탬퍼로 그대로 활용할 수 있으므로 자원 효율적인 특징을 가진다.
상기와 같이 PR이 제거되면, 상기 스탬퍼 모재에 형성된 패턴 표면을 다이아몬드 바이트 등의 절삭 공구를 이용하여 황삭 및 정삭 가공한다.
상기 스탬퍼 모재(10)에 도금에 의해 패턴(40)이 형성되면, 상기 패턴 상부 표면은 평탄하지 않고, 도금된 금속의 미립자나 파티클 등에 의해 표면이 거칠은 형상이므로 표면이 경면과 같이 매끈하도록 황삭 및 정삭 가공한다.
상기와 같이 패턴(40) 표면이 가공되면, 상기 패턴(40) 상면에 미세 패턴을 형성한다.(S150)
보다 구체적으로, 상기 패턴(40) 상면을 레이저 또는 다이아몬드 바이트로 가공하여 V홈이 연속되는 프리즘 형상 또는 상기 V홈이 비연속적으로 형성되는 형상으로 미세 패턴(50)을 형성하게 된다.
즉, 본 발명에 따른 패턴은 패턴(40) 상에 미세 패턴(50)이 형성되는 이중 패턴 구조를 가지게 되고, 패턴(40)을 통해 집광된 광이 상기 미세 패턴(50)을 통해 전반사되어 도광판 상부로 방출되므로 광 손실 없이 균일한 고휘도의 광이 상부로 출사될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 미세 패턴은 V홈이 아닌 곡선형의 U홈으로 형성될 수 있다. 그리고 바람직하게는 반원 형상으로 형성될 수 있다. 반원형의 미세 패턴은 볼록 렌즈와 같이 표면에 입사되는 광을 수직방향으로 출사시킬수 있으므로 고휘도의 직진광을 출사시킬 수 있다.
그리고 상기 미세 패턴(50)은 광원이 배치되는 위치에 따라 방향이 결정된다.
광원으로부터 발생한 광을 전반사시키기 위해서는 광원의 배치 방향과 미세패턴의 골과 마루의 축 방향이 평행하게 배치되어야 한다.
따라서, 도 4와 같이 광원이 측면(A-A'축)에 배치되는 경우 패턴 상에 형성되는 미세 패턴의 프리즘 방향은 상기 A-A'축과 평행한 방향으로 형성될 수 있다.
그리고 도 5와 같이 광원이 모서리에 배치되는 경우에는 각 모서리에 배치되는 광원은 2개의 배치축(B-B'축, C-C'축)을 가지게 되므로 패턴 상에 형성되는 미세패턴의 프리즘도 상기 2개의 축과 평행하도록 격자형의 미세 패턴으로 형성될 수 있다.
본 실시예에 따른 패턴은 횡단면이 원형으로 형성되는 원기둥 형태에 대한 것이지만, 도 6a과 같이 상기 패턴은 횡단면이 삼각형, 사각형,직사각형 등의 다각형상을 가진 다각면체, 횡단면이 타원형인 타원기둥 형태뿐만 아니라, 원뿔대 또는 각뿔대 형태 또는 리플로우 처리를 통해 측면이 곡선형태로 형성된 도트 패턴으로 구성될 수 있다.
그리고 도 6b와 같이 미세 패턴(50)은 패턴(40)상에 레이저 또는 다이아몬드 바이트를 통해 직가공되어 V홈으로 형성되되, 비연속적으로 V홈이 형성되는 형태로 가공될 수 있다.
그리고 도 6c와 같이 미세 패턴(50)은 U홈(바람직하게는 반원형)으로 연속적 또는 비 연속적으로 형성될 수 있다.
또한, 균일한 휘도의 광을 상부로 전송하기 위해 상기 패턴(40) 상에 형성되는 V홈의 수는 광원의 위치에 따라 다르게 설정될 수 있다.
보다 구체적으로, 광원에서 가까운 패턴(40)은 V홈의 각도가 작게 형성되고, 광원에서 먼 패턴(40)은 V홈의 각도가 크게 형성되어 도 6d와 같이 광원에서 먼 패턴(40)에 V홈 높이(H2)가 광원에서 가까운 패턴의 V홈 높이(H1)보다 점차적으로 커지도록 변할수 있도록 구성될 수 있다.
또한, V홈의 각도를 동일한 각도로 형성하되, V홈의 높이를 광원에서 멀어질수록 증가하도록 구성할 수 있다.
상기 패턴의 형상은 PR을 패터닝하는 광학 마스크의 설계에 따라 다양한 형태로 형성될 수 있다.
상기 패턴은 발광한 빛을 집광하는 역할을 담당하므로, 균일한 휘도로 광을 전송하기 위해 광원이 배치된 영역에서 멀어질수록 패턴의 크기와 수가 증가하도록 설계할 수 있다.
본 실시예에 따른 스탬퍼에 의해 제조되는 도광판의 패턴은 스탬퍼가 양각 패턴이므로 도광판의 패턴이 음각 형태를 가지게 된다.
그러나, 상기 스탬퍼를 전주 복제하여 음각,양각의 패턴을 구비한 스탬퍼를 제조할 수 있으며, 이 경우 도광판의 패턴은 양각,음각의 두 형태를 가질 수 있다.
여기서, 상기 스탬퍼의 패턴이 음각 형태로 형성되어 도광판의 패턴이 양각 패턴을 가질 경우 다른 광학 시트와의 결합시 접합부에서 광 손실 및 시트 갈림등의 문제가 발생될수 있으므로 도광판을 음각 형태로 제작하는 것이 바람직하다.
상기와 같이 제조된 스탬퍼는 금형 코아에 부착하여 도광판을 사출 성형하거나 또는 압출 성형된 도광판 모재에 대하여 롤러 외주연에 상기 스탬퍼를 장착한 후 열 압착하는 정압 롤 패턴 전사 방식으로 패턴을 전사 성형하여 제조할 수 있다.
상기와 같이 성형된 도광판은 패턴에 의해 집광된 광을 미세 패턴을 통해 전반사시켜 도광판 전체에 고휘도를 유지하면서 휘도 균일성을 확보할 수 있다.
따라서, 도광판 상부에 배치되는 확산시트 또는 프리즘 시트의 수를 감소시켜 제작 단가를 낮추고 공정의 효율성을 높일 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명의 보호범위는 상기 실시예에 한정되는 것이 아니며, 해당 기술분야의 통상의 지식을 갖는 자라면 본 발명의 사상 및 기술영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10 : 스탬퍼 모재 20 : PR
30 : 포토마스크 40 : 패턴
50 : 미세 패턴

Claims (20)

  1. 스탬퍼 모재와;
    상기 스탬퍼 모재 상에 PR을 형성하고, 패턴이 형성될 영역의 PR을 제거하여 비패턴 PR만을 남긴 상태에서 도금을 통해 상기 비패턴 PR 사이의 상기 PR이 제거된 패턴 영역에만 도금체가 전착된 후, 상기 비패턴 PR이 스트립되어 형성된 패턴과;
    상기 패턴 상면에 다이어몬드 바이트 가공 또는 레이저 가공에 의해 형성된 프리즘 형상의 미세 패턴을 포함하여;
    상기 패턴에 의해 집광된 광을 상기 미세 패턴을 통해 전반사시키는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 패턴은
    규칙적인 간격 또는 불규칙적인 간격마다 형성된 도트 형상으로 구성되고,
    횡단면이 원형, 타원형, 사각형, 직사각형, 다각형상 및 이들의 혼합 형상을 가진 기둥, 다각면체, 원뿔대 또는 각뿔대 형태인 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  3. 삭제
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    V홈 형상이 연속적으로 형성된 프리즘 형상 또는 비 연속적으로 형성된 형상인 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    곡선의 U홈 형상 또는 반원 형상이 연속적으로 형성된 형상 또는 비 연속적으로 형성된 형상인 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    광원과 가까운 영역의 V홈의 높이가 광원과 먼 영역으로 갈수록 점차적으로 증가하도록 형성된 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  7. 제 5항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    제조되는 도광판의 광원이 배치된 축과 평행한 방향으로 홈의 골과 마루가 형성된 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    제조되는 도광판이 광원이 모서리 부분에 형성되는 경우
    상기 광원의 모서리에 배치된 2개의 축과 평행한 2개의 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 스탬퍼 모재는
    SUS, STAVAX, 구리, 신주 중 선택된 금속 또는 은경 처리된 글라스로 형성된 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼.
  10. 스탬퍼 모재 상에 PR을 형성하는 단계;
    상기 PR 중 도트 패턴이 형성될 영역의 PR을 제거하여 비패턴 PR만을 남기는 PR 패터닝 단계와;
    상기 비패턴 PR 사이의 상기 PR이 제거된 패턴 영역에만 도금에 의해 패턴을 형성하는 단계와;
    상기 비패턴 PR을 스트립하는 단계와;
    상기 패턴 상면에 다이아몬드 바이트 또는 레이저 가공에 의해 프리즘 형상의 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함하여;
    상기 패턴에 의해 집광된 광을 상기 미세 패턴을 통해 전반사시키는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  11. 제 10항에 있어서,
    상기 PR을 형성하는 단계는
    상기 스탬퍼 모재 상에 액상의 PR을 도포하고 경화하여 형성하거나, 고체 필름 PR을 라미네이팅하여 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  12. 제 10항에 있어서,
    상기 PR 패터닝 단계는
    상기 PR 상에 패턴이 형성된 포토 마스크를 접촉시킨 상태에서 노광 및 현상하거나, 상기 PR 상에 패턴이 형성되지 않을 영역에만 레이저를 조사하여 수행하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  13. 제 10항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계는
    환원제를 함유한 전해 및 무전해 도금액이 담긴 도금조에 상기 스탬퍼 모재를 넣고서 상기 무전해 도금액의 산화-환원 반응을 통해 촉매작용이 있는 천이금속인 스탬퍼 모재의 표면으로만 선택적으로 금속이 석출되는 방식을 이용하여, 상기 스탬퍼 모재가 노출된 PR이 제거된 영역에만 도금체가 전착되어 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  14. 제 10항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계는
    초음파 진동자 및 교반기가 설치된 도금조 내에 도금체인 금속체를 투입하여 초음파 전착으로 도트 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  15. 삭제
  16. 제 10항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    V홈, U홈, 반원형 홈 중 선택된 어느 하나의 홈이 연속적으로 형성된 프리즘 형태 또는 상기 홈이 비 연속적으로 형성된 형상인 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  17. 제 10항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    제조되는 도광판의 광원의 배치축과 평행한 방향으로 홈의 마루와 골을 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  18. 제 16항에 있어서,
    상기 미세 패턴은
    제조되는 도광판이 광원이 모서리 부분에 형성되는 경우
    상기 광원의 모서리에 배치된 2개의 축과 평행한 방향으로 2개의 상기 홈을 형성하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조용 스탬퍼 제조 방법.
  19. 제 10항 내지 제14항, 제16항 내지 제18항 중 선택된 어느 하나의 항에 의해 제조된 스템퍼를 금형 코아에 부착하여 도광판을 사출 성형하거나 압출 성형된 도광판 모재에 대하여 롤러 외주연에 상기 스템퍼를 장착한 후 열 압착하는 정압 롤 패턴 전사 방식으로 도광판을 제조하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법.
  20. 제 19항에 있어서,
    상기 스템퍼를 전주 복제하여 상기 도광판의 패턴 및 미세패턴을 양각,음각의 형태로 제조하는 것을 특징으로 하는 도광판 제조 방법.
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