CN111029373A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板及其制备方法，所述显示面板包括阵列基板以及触控层，其中，所述触控层包括触控电极单元、有机层及微锯齿层，设于所述有机层一侧的表面。所述显示面板的制备方法包括阵列基板提供步骤以及触控层制备步骤，其中，所述触控层制备步骤包括触控电极单元制备步骤、有机层制备步骤，其中，所述有机层的上表面设有一微锯齿层。本发明的技术效果在于，降低面板表面对外界环境光的反射，提高透过率。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本发明涉及显示器领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
目前，触控技术已经广泛应用到各种带有显示面板的电子产品中，如移动电话、电脑、个人数字助理(PAD)以及平板电视等。
触控式显示面板依照感应原理的不同，可分为电阻式、电容式、光学式、声波式以及电磁式等，由于电容触控显示面板具有反应速度快、灵敏度高、可靠度佳以及耐用度高等优点而被业内认可，并广泛使用。
目前市场上OLED显示器触控面板基本采用外挂式电容屏结构，外挂式结构的电容屏主要为GFF(Glass-Film-Flim)结构或GF(Glass-Film)结构，即玻璃盖板-薄膜电极-薄膜电极或玻璃盖板-薄膜电极结构。而最新技术中，已出现在OLED面板封装层上直接制作显示面板的新技术(oncell)，此技术实现OLED面板与触控面板集成化，能有效降低OLED触控屏厚度，提高柔性面板弯折性能，并且降低制作成本，是柔性OLED面板未来发展方向。
如图1所示，现有的显示面板包括：第一无机层2100、第二无机层2200、驱动电极310、接收电极320及有机层400。现有的触控面板面临着光透过率不高，显示效果不佳等问题。
发明内容
本发明的目的在于，解决现有技术中显示面板透过率较低等技术问题。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括阵列基板；以及触控层，设于所述阵列基板一侧的表面；其中，所述触控层包括：触控电极单元；有机层，设于所述触控电极单元远离所述阵列基板一侧的表面；以及微锯齿层，设于所述有机层远离所述触控电极单元一侧的表面。
进一步地，所述齿状凸起为直线形柱体，两个以上齿状凸起彼此平行；或者，所述齿状凸起为锥形，两个以上齿状凸起排成一矩阵。
进一步地，所述齿状凸起的高度为100～300纳米；和/或，所述齿状凸起的宽度为100～300纳米；和/或，任意两个相邻的齿状凸起顶端之间的距离为100～300纳米。
进一步地，所述显示面板还包括：第一无机层，设于所述阵列基板一侧的表面；以及第二无机层，设于所述第一无机层远离所述阵列基板一侧的表面；其中，所述触控电极单元设于所述第一无机层一侧的表面，且设于所述第二无机层内。
进一步地，所述阵列基板包括：基板；衬底层，设于所述基板一侧的表面；阵列层，设于所述衬底层远离所述基板一侧的表面；像素层，设于所述阵列层远离所述衬底层一侧的表面；以及封装层，设于所述像素层远离所述阵列层一侧的表面。
为实现上述目的，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：阵列基板提供步骤，提供一阵列基板；以及触控层制备步骤，在所述阵列基板的上表面制备出触控层；其中，所述触控层制备步骤包括：触控电极单元制备步骤，在一阵列面板上制备出触控电极单元；以及有机层制备步骤，在所述触控电极单元的上表面制备出一有机层；其中，所述有机层的上表面设有一微锯齿层。
进一步地，所述有机层制备步骤包括：涂布步骤，在一阵列面板上涂布一有机光阻材料；曝光步骤，曝光涂布完所述有机光阻材料的阵列面板；显影步骤，对曝光后的阵列面板进行显影处理；烘烤步骤，烘烤显影后的阵列面板；以及辉化步骤，辉化烘烤后的阵列面板，在所述阵列面板的一表面形成有机层。
进一步地，在所述曝光步骤之前，还包括掩膜版放置步骤，在所述有机光阻材料表面放置具有周期锯齿纳米图形的掩膜版；在所述显影步骤之后，还包括掩膜版移除步骤，移除所述掩膜版。
进一步地，在所述辉化步骤中，采用离子束轰击所述有机层。
本发明的技术效果在于，在现有的显示面板有机层的上表面制备一微锯齿层，降低面板表面对外界环境光的反射，提高透过率，齿状凸起的顶角的角度越小，齿状凸起的高度越高，面板的透过率越高。
附图说明
图1为现有技术中显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例所述触控层的结构示意图；
图3为本发明实施例所述微锯齿层的结构示意图；
图4为本发明实施例所述触控电极单元的平面图；
图5为本发明实施例所述显示面板的结构示意图；
图6为本发明实施例所述显示面板的制备方法的流程图；
图7为本发明实施例所述有机层制备步骤的流程图；
图8为本发明实施例所述另一种有机层制备步骤的流程图。
部分组件的标识如下：
100、第一无机层；200、第二无机层；310、驱动电极；320、接收电极；400、有机层；
1、阵列基板；2、触控层；
11、基板；12、衬底层；13、阵列层；14、像素层；15、封装层；
21、第一无机层；22、第二无机层；231、驱动电极；232、接收电极；24、有机层；25、微锯齿层；251、齿状凸起。
具体实施方式
以下结合说明书附图详细说明本发明的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本发明的技术内容，以举例证明本发明可以实施，使得本发明公开的技术内容更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本发明。然而本发明可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本发明的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本发明的范围。
本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本发明，而不是用来限定本发明的保护范围。
在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本发明并没有限定每个组件的尺寸和厚度。
当某些组件，被描述为“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接置于所述另一组件上；也可以存在一中间组件，所述组件置于所述中间组件上，且所述中间组件置于另一组件上。当一个组件被描述为“安装至”或“连接至”另一组件时，二者可以理解为直接“安装”或“连接”，或者一个组件通过一中间组件“安装至”或“连接至”另一个组件。
如图2所示，本实施例提供一种显示面板，包括：阵列基板1以及触控层2。
阵列面板1依次包括基板11、衬底层12、阵列层13、像素层14及封装层15等部件。
所述显示面板的应用范围广泛，可用于可穿戴设备，包括智能手环、智能手表、VR(Virtual Reality，即虚拟现实)等设备、移动电话机、电子书和电子报纸、电视机、个人便携电脑、可折叠以及可卷曲OLED等柔性OLED显示及照明设备等。
如图3所示，触控层2包括第一无机层21、第二无机层222、触控电极单元、有机层24及微锯齿层25。
第二无机层22贴附于第一无机层21的上表面，所述触控电极单元设于第一无机层21的上表面，第二无机层22覆盖所述触控电极单元，如图3、图4所示，所述触控电极单元包括驱动电极231及接收电极232，每一驱动电极231可与一驱动信号线相连，每一接收电极232与一接收信号线相连，驱动电极231与接收电极232交叉分布且相互绝缘，驱动电极231在本实施例中优选为高透过率金属制成的菱形阵列，在其他实施例中，也可为金属网格结构，驱动电极231的材质可为氧化铟锡等金属氧化物。接收电极232在本实施例中优选为高透过率金属制成的菱形阵列，在其他实施例中，也可为金属网格结构，驱动电极231的材质可为氧化铟锡等金属氧化物。驱动电极231与接收电极232及中间的第二无机层形成互电容耦合，用于检测触控信号，当有触控动作发生于驱动电极231与接收电极232所在区域时，触控处的互电容值发生变化，其感应信号也随之变化，通过测试所述感应信号，即可定位触控位置。
第一无机层21与第二无机层22的材质均为无机材料，起到绝缘作用。驱动电极231与接收电极232为金属材料与透明导电材料相结合的结构，所述金属层为金属网层或菱形阵列，所述金属层的材质为金属材料或合金材料，所述透明导电层的材质为氧化铟锡、氧化铝锌或氧化铟锌。采用金属材料与透明导电材料相结合的方式制备而成的驱动电极231与接收电极232，有效降低负载。
如图5所示，微锯齿层25包括两个以上纳米级齿状凸起251，突出于且均匀分布于有机层24的上表面。
齿状凸起251为直线形主体时，多个齿状凸起相互平行；齿状凸起251为锥形时，多个锥形齿状凸起排列成一矩阵。齿状凸起251的纵向截面为三角形，齿状凸起251的高度H的范围为100～300nm，任意两个相邻的齿状凸起51的顶端之间的距离D1为100～300nm，齿状凸起251的宽度D2为100～300nm。
本实施例中，微锯齿层25用以降低显示面板表面对外界环境光的反射，提高显示面板的透过率。齿状凸起251的高度越高，每个齿状凸起251顶角的角度越小，显示面板的透过率越高，以增强显示面板的显示效果。
本实施例所述显示面板的技术效果在于，在现有的显示面板的上表面制备一微锯齿层，降低面板表面对外界环境光的反射，提高透过率，齿状凸起的顶角的角度越小，齿状凸起的高度越高，面板的透过率越高。
如图6所示，本发明还提供一种显示面板的制备方法，包括阵列面板制备步骤以及触控层制备步骤，所述触控层制备步骤包括步骤S1～S4。
S1第一无机层制备步骤，在一阵列面板的封装层的上表面制备出一第一无机层。
S2第二无机层制备步骤，在所述第一无机层的上表面制备出一第二无机层。
S3触控电极单元制备步骤，在所述第一无机层上制备出一触控电极单元，所述触控电极单元包括驱动电极及接收电极。
S4有机层制备步骤，在所述第二无机层的上表面制备出一有机层。
如图7所示，所述有机层制备步骤可以包括步骤S401～S407。S401涂布步骤，在一显示面板上涂布一有机光阻材料；S402掩膜版放置步骤，在所述有机光阻材料表面放置具有周期锯齿纳米图形的掩膜版；S403曝光步骤，曝光涂布完所述有机光阻材料的显示面板；S404显影步骤，对曝光后的显示面板进行显影处理；S405掩膜版移除步骤，移除所述掩膜版；S406烘烤步骤，烘烤显影后的显示面板；S407辉化步骤，辉化烘烤后的显示面板，经曝光、显影、烘烤、辉化后形成一有机层。
如图8所示，在另一实施例中，所述有机层制备步骤可以包括步骤S411～S415。
S411涂布步骤，在一面板上涂布一有机光阻材料；S412曝光步骤，曝光涂布完所述有机光阻材料的面板；S413显影步骤，对曝光后的面板进行显影处理；S414烘烤步骤，烘烤显影后的面板；S415辉化步骤，通过使用氧气(O2)、氩气(Ar)源的离子束轰击所述有机层，增加辉化时间、提高辉化工艺功率或加强气体气压，辉化烘烤后的面板，使得所述有机层的上表面产生粗糙程度不同的纳米形貌，即为两个以上的齿状凸起，经曝光、显影、烘烤、辉化后形成一有机层。
所述齿状凸起为直线形主体时，多个齿状凸起相互平行；所述齿状凸起为锥形时，多个锥形齿状凸起排列成一矩阵。所述齿状凸起的纵向截面为三角形。
所述微锯齿层还可使用喷墨打印、纳米压印等方式实现。
本实施例所述的显示面板的制备方法的技术效果在于，可使用光刻、激光处理、喷墨打印、纳米压印等方式制备微锯齿层，不改变原有的显示面板的制备流程，减小制作成本。在现有的显示面板有机层的上表面制备一微锯齿层，降低面板表面对外界环境光的反射，提高透过率，齿状凸起的顶角的角度越小，齿状凸起的高度越高，面板的透过率越高。
本实施例还提供一种触控面板的制备方法，包括上述显示面板的制备步骤，还包括显示面板的制备步骤，包括：基板设置步骤、衬底层制备步骤、阵列层制备步骤、像素层制备步骤及封装层制备步骤。
本实施例所述的触控面板的制备方法的技术效果在于，在现有的显示面板的上表面制备一有机层，降低面板表面对外界环境光的反射，提高透过率，齿状凸起的顶角的角度越小，齿状凸起的高度越高，面板的透过率越高。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板；以及
触控层，设于所述阵列基板一侧的表面；
其中，所述触控层包括：
触控电极单元；
有机层，设于所述触控电极单元远离所述阵列基板一侧的表面；以及
微锯齿层，设于所述有机层远离所述触控电极单元一侧的表面。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述微锯齿层包括
两个以上齿状凸起，突出于且均匀分布于所述有机层一侧的表面。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述齿状凸起为直线形柱体，两个以上齿状凸起彼此平行；或者，
所述齿状凸起为锥形，两个以上齿状凸起排成一矩阵。
4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，
所述齿状凸起的高度为100～300纳米；和/或，
所述齿状凸起的宽度为100～300纳米；和/或，
任意两个相邻的齿状凸起顶端之间的距离为100～300纳米。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述触控层还包括：
第一无机层，设于所述阵列基板一侧的表面；以及
第二无机层，设于所述第一无机层远离所述阵列基板一侧的表面；
其中，所述触控电极单元设于所述第一无机层一侧的表面，且设于所述第二无机层内。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，
所述阵列基板包括：
基板；
衬底层，设于所述基板一侧的表面；
阵列层，设于所述衬底层远离所述基板一侧的表面；
像素层，设于所述阵列层远离所述衬底层一侧的表面；以及
封装层，设于所述像素层远离所述阵列层一侧的表面。
7.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括
阵列基板提供步骤，提供一阵列基板；以及
触控层制备步骤，在所述阵列基板的上表面制备出触控层；
其中，所述触控层制备步骤包括：
触控电极单元制备步骤，在一阵列面板上制备出触控电极单元；以及
有机层制备步骤，在所述触控电极单元的上表面制备出一有机层；其中，所述有机层的上表面设有一微锯齿层。
8.如权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
所述有机层制备步骤包括：
涂布步骤，在一阵列面板上涂布一有机光阻材料；
曝光步骤，曝光涂布完所述有机光阻材料的阵列面板；
显影步骤，对曝光后的阵列面板进行显影处理；
烘烤步骤，烘烤显影后的阵列面板；以及
辉化步骤，辉化烘烤后的阵列面板，在所述阵列面板的一表面形成有机层。
9.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
在所述曝光步骤之前，还包括
掩膜版放置步骤，在所述有机光阻材料表面放置具有周期锯齿纳米图形的掩膜版；
在所述显影步骤之后，还包括
掩膜版移除步骤，移除所述掩膜版。
10.如权利要求8所述的显示面板的制备方法，其特征在于，
在所述辉化步骤中，采用离子束轰击所述有机层。
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