CN110703941A - 触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明的实施例提供了一种触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置，涉及显示技术领域，能够提高触控显示装置的显示效果。其中的触控结构包括触控功能层；触控功能层包括第一导电层和第二导电层，触控功能层用于对触控进行识别。触控结构还包括第一透明层，第一透明层位于第一导电层远离第二导电层的一侧，第一透明层的折射率大于等于第一导电层的折射率。或者，第一透明层位于第一导电层和第二导电层之间，第一透明层的材料为绝缘材料，且第一透明层的折射率等于第一导电层的折射率；其中，第一导电层包括多个间隔的电极，电极之间的区域露出第一透明层。

Description

触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置

技术领域

本发明涉及触控显示领域，尤其涉及一种触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置。

背景技术

随着显示技术的发展，触控显示装置使用的范围越来越广泛。触控显示装置的核心部件是触控结构，触控结构用于识别由手指或者触控笔引发的触控，对触控显示装置进行输入，以使触控显示装置执行对应的操作。由于触控显示装置无需外接输入部件，例如键盘，因而具有体积小，操作便捷等优点，从而受到用户的青睐。

发明内容

本发明的实施例提供一种触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置，能够提高触控显示装置的显示效果。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供一种触控结构，包括触控功能层；所述触控功能层包括第一导电层和第二导电层，所述触控功能层用于对触控进行识别。

所述触控结构还包括第一透明层，所述第一透明层位于所述第一导电层远离所述第二导电层的一侧，所述第一透明层的折射率大于等于所述第一导电层的折射率。

或者，所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间，所述第一透明层的材料为绝缘材料，且所述第一透明层的折射率等于所述第一导电层的折射率；其中，所述第一导电层包括多个间隔的电极，所述电极之间的区域露出所述第一透明层。

可选的，在所述第一透明层位于所述第一导电层远离所述第二导电层的一侧的情况下，所述触控结构还包括沿所述第一透明层的厚度方向，设置于所述第一透明层一侧的第二透明层，所述第二透明层与所述第一透明层接触。

所述第二透明层的折射率小于所述第一透明层的折射率。

可选的，沿所述第一透明层的厚度方向，所述第二透明层与所述第一透明层的正投影完全重叠。

可选的，在所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间的情况下，所述触控结构还包括设置于所述第一透明层和所述第二导电层之间的第二透明层。

可选的，在所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间的情况下，所述触控结构还包括设置于所述第一透明层和所述第一导电层之间的第二透明层。

沿所述第一透明层的厚度方向，所述第一导电层的正投影覆盖所述第二透明层的正投影。

可选的，所述第二透明层的材料为绝缘材料。

可选的，所述第一导电层和第二导电层的材料为纳米银线。

可选的，所述第二透明层的厚度D＝(2a+1)×λ/4，其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长。

可选的，所述第二透明层位于所述第一透明层和所述第一导电层之间。

所述第二透明层的厚度D＝(2a+1)×λ/4，折射率n₃ ²＝n₁×n₂；

其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长，n₁为第一导电层的折射率，n₂为第一透明层的折射率，n₃为第二透明层的折射率。

另一方面，提供一种触控基板，包括衬底，设置于所述衬底上的如上所述的触控结构。

所述触控结构中第一导电层相对第二导电层更靠近所述衬底。

又一方面，提供一种触控显示装置，包括显示面板和上述的触控结构。

所述触控结构中第一导电层相对第二导电层更靠近所述触控显示装置的出光面。

可选的，所述触控结构设置于所述显示面板的出光侧。

可选的，所述显示面板包括阵列基板、对置基板、设置于所述阵列基板与所述对置基板之间的液晶层。

所述触控结构设置于所述对置基板中的衬底远离所述液晶层的一侧。

又一方面，提供一种触控结构的制备方法，包括：

通过一次构图工艺形成触控功能层中的第二导电层。

在所述第二导电层一侧形成第一透明层；所述第一透明层的材料为绝缘材料。

在第一透明层远离所述第二导电层的一侧，形成第一导电薄膜，并对所述第一导电薄膜进行一次构图工艺，形成触控功能层中的第一导电层。

其中，所述第一透明层的折射率等于所述第一导电层的折射率。

所述触控功能层用于对触控进行识别。

可选的，在形成第一透明层之后，形成第一导电薄膜之前，所述触控结构的制备方法还包括：

在第一透明层远离所述第二导电层的一侧，形成第二透明薄膜。

在对第一导电薄膜进行构图工艺时，同步对第二透明薄膜进行构图工艺，形成第二透明层，其中，沿所述第一透明层的厚度方向，所述第二透明层与所述第一导电层的正投影完全重叠。

本发明的实施例提供了一种触控结构及其制备方法、触控基板、触控显示装置，其中的触控结构包括第一透明层，第一透明层的折射率大于等于第一导电层的折射率，能够使触控结构的出光面上的反射率保持一致，从而保证入射至人眼中的反射光的强度一致，实现了对第一导电层的消影，提高了触控显示装置的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1a-图1c为本发明实施例提供的一种具有触控功能的液晶显示装置的结构示意图；

图2a和图2b为本发明实施例提供的一种具有触控功能的电致发光显示装置的结构示意图；

图3a为本发明实施例提供的触控结构的俯视示意图；

图3b-图3e为发明实施例提供的触控结构的纵截面示意图；

图3f为图3e中E处的放大示意图；

图4a为本发明实施例提供的一种第一电极和第二电极的结构示意图；

图4b为图4a中A处的放大示意图；

图4c为本发明实施例提供的另一种第一电极和第二电极的结构示意图；

图4d为图4c中C处的放大示意图；

图4e为本发明实施例提供的另一种第一电极和第二电极的结构示意图；

图4f为图4e中D处的放大示意图；

图4g为第一电极和第二电极之间所产生的电力线示意图；

图5a为现有技术中的触控结构的俯视示意图；

图5b为现有图5a中H-H′向的截面示意图；

图6a-图6c为本发明实施例提供的另一种触控结构的纵截面结构示意图；

图7a为本发明实施例提供的一种触控结构的制备方法的流程示意图；

图7b-图7d为本发明实施例提供的一种触控结构的制备过程示意图。

附图标记：

1-液晶显示面板；11-阵列基板；110-第一衬底；111-薄膜晶体管；112-像素电极；113-公共电极；114-第一绝缘层；115-第二绝缘层；12-对置基板；120-第二衬底；121-彩色滤光层；122-黑矩阵图案；13-液晶层；14-上偏光片；15-下偏光片；2-触控结构；21-触控功能层；210-第一导电层；211-第二导电层；212-绝缘层；213-电极；2131-第一电极；2132-第二电极；2133-第二子电极；2134-搭桥；22-第一透明层；23-第二透明层；3-盖板玻璃；4-电致发光显示面板；41-显示用基板；410-第三衬底；411-发光器件；4110-阳极；4111-发光功能层；4112-阴极；412-像素界定层；413-平坦层；42-封装层；5-偏光片；6-第一光学胶；7-电力线；8-入射光线；81-第一反射光线；82-第二反射光线；83-第三反射光线；9-可见光；91-第四反射光线；92-折射光线；93-第五反射光线；10-手指。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种触控显示装置，该触控显示装置可以为具有触控功能的液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)，也可以为具有触控功能的电致发光显示装置或光致发光显示装置。在触控显示装置为电致发光显示装置的情况下，电致发光显示装置可以为有机电致发光显示装置(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)或量子点电致发光显示装置(Quantum Dot Light Emitting Diodes，简称QLED)。在触控显示装置为光致发光显示装置的情况下，光致发光显示装置可以为量子点光致发光显示装置。

在触控显示装置为液晶显示装置的情况下，触控显示装置包括盖板玻璃、触控结构、液晶显示面板以及背光模组。背光模组用于为液晶显示面板提供光源。

如图1a、图1b以及图1c所示，液晶显示面板1的主要结构包括阵列基板11、对置基板12以及设置在阵列基板11和对置基板12之间的液晶层13。

示例的，如图1a、图1b以及图1c所示，阵列基板11包括第一衬底110、设置于第一衬底110上且位于每个亚像素中的薄膜晶体管111和像素电极112。薄膜晶体管111包括有源层、源极、漏极、栅极及栅绝缘层，源极和漏极分别与有源层接触，像素电极112与薄膜晶体管111的漏极电连接。

薄膜晶体管111可以是底栅型薄膜晶体管、顶栅型薄膜晶体管、双栅型薄膜晶体管中的一种，图1a、图1b以及图1c中均以底栅型薄膜晶体管为例进行示意。

在一些实施例中，如图1a、图1b以及图1c所示，阵列基板11还包括设置于第一衬底110上的公共电极113。像素电极112和公共电极113可以设置在同一层，在此情况下，像素电极112和公共电极113均为包括多个条状子电极的梳齿结构。像素电极112和公共电极113也可以设置在不同层，在此情况下，如图1a、图1b以及图1c所示，像素电极112和公共电极113之间设置有第一绝缘层114。在公共电极113设置在薄膜晶体管111和像素电极112之间的情况下，如图1a、图1b以及图1c所示，公共电极113与薄膜晶体管111之间还设置有第二绝缘层115。

在另一些实施例中，公共电极113设置在对置基板12上。

示例的，如图1a、图1b以及图1c所示，对置基板12包括第二衬底120、设置于第二衬底120一侧的彩色滤光层121，在此情况下，对置基板12也可以称为彩膜基板(Colorfilter，简称CF)。彩色滤光层121至少包括第一颜色滤光单元、第二颜色滤光单元和第三颜色滤光单元，第一颜色滤光单元、第二颜色滤光单元和第三颜色滤光单元一一对应的位于一个亚像素中。其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色为三基色，例如为红色、绿色和蓝色。对置基板12还包括设置在第二衬底120上的黑矩阵图案122，黑矩阵图案122用于将第一颜色滤光单元、第二颜色滤光单元和第三颜色滤光单元间隔开。

如图1a、图1b以及图1c所示，液晶显示面板1还包括设置在对置基板12远离液晶层13一侧的上偏光片14以及设置在阵列基板11远离液晶层13一侧的下偏光片15。

在一些实施例中，如图1a和图1b所示，触控结构2可以设置于液晶显示面板1的出光侧。其中，如图1a所示，触控结构2可以设置在盖板玻璃3和上偏光片14之间，在此基础上，触控结构2例如可设置在盖板玻璃3上。或者，如图1b所示，触控结构2可以设置在上偏光片14和对置基板12之间，在此基础上，触控结构2例如可设置在第二衬底120远离阵列基板11的表面。

在另一些实施例中，如图1c所示，触控结构2设置在第一衬底110和第二衬底120之间。

需要说明的是，在触控结构2包括第一导电层和第二导电层的情况下，第一导电层相对于第二导电层更靠近液晶显示面板1的出光面。示例的，如图1a所示，第一导电层相对于第二导电层更靠近盖板3，其中，盖板3远离液晶层13的一侧为液晶显示面板1的出光面。

在触控显示装置为电致发光显示装置的情况下，如图2a和图2b所示，电致发光显示装置主要结构包括电致发光显示面板4、触控结构2、偏光片5、第一光学胶(OpticallyClear Adhesive，简称OCA)6和盖板玻璃3。

其中，电致发光显示面板4包括显示用基板41和用于封装显示用基板41的封装层42。此处，封装层42可以为封装薄膜，也可以为封装基板。

如图2a和图2b所示，上述的显示用基板41包括第三衬底410、设置在第三衬底410上且位于每个亚像素中的发光器件411和驱动电路。驱动电路包括多个薄膜晶体管111，且其中一个薄膜晶体管111作为驱动晶体管。发光器件411包括阳极4110、发光功能层4111以及阴极4112，阳极4110和驱动晶体管的漏极电连接。显示用基板41还包括像素界定层412，像素界定层412包括多个开口区，每个发光器件411一一对应的设置在一个开口区中。

发光器件411可以是底发光型发光器件、顶发光型发光器件以及双面发光型发光器件中的一种。

在一些实施例中，发光功能层4111包括发光层。在另一些实施例中，发光功能层4111除包括发光层外，还包括电子传输层(election transporting layer，简称ETL)、电子注入层(election injection layer，简称EIL)、空穴传输层(hole transporting layer，简称HTL)以及空穴注入层(hole injection layer，简称HIL)中的一层或多层。

如图2a和图2b所示，显示用基板41还包括设置在驱动晶体管和阳极4110之间的平坦层413。

在一些实施例中，触控结构2可以设置于电致发光显示面板4的出光侧。其中，如图2a所示，触控结构2可直接设置在封装层42上，即，触控结构2和封装层42之间不设置其它膜层。或者，如图2b所示，触控结构2可以设置在盖板玻璃3与偏光片5之间。示例的，触控结构2直接设置在盖板玻璃3靠近偏光片5的一侧上。

需要说明的是，在触控结构2包括第一导电层和第二导电层的情况下，第一导电层相对于第二导电层更靠近电致发光显示面板4的出光面。示例的，如图2b所示，第一导电层相对于第二导电层更靠近盖板3，其中，盖板3远离显示用基板41的一侧为电致发光显示面板4的出光面。

对于光致发光显示装置，其结构与电致发光显示装置类似，参考上述电致发光显示装置的结构即可，在此不再赘述。

在触控显示装置为电致发光显示装置或光致发光显示装置的情况下，触控显示装置更容易制作成柔性显示装置。

本发明实施例还提供一种触控基板，包括衬底以及设置于衬底一侧的上述的触控结构2。

当该触控基板应用于触控显示装置时，在一些实施例中，触控基板可直接贴合在上述的液晶显示面板1、电致发光显示面板4和光致发光显示面板的出光侧。示例的，触控基板贴合在液晶显示面板1中的上偏光片14远离液晶层13的一侧，在其中的触控结构2包括第一导电层和第二导电层的情况下，第二导电层相对于第一导电层更靠近上偏光片14。

当该触控基板应用于触控显示装置时，在另一些实施例中，触控基板中的衬底为上述的盖板玻璃3，此时，该触控显示装置为OGS(One Glass Solution，一体化触控)触摸屏。在该OGS触摸屏中的触控结构2包括第一导电层和第二导电层的情况下，其中的第一导电层相对于第二导电层更靠近衬底。

本发明的实施例提供一种触控结构2，如图3a至图3e所示，该触控结构2包括触控功能层21。触控功能层21包括第一导电层210和第二导电层211，触控功能层21用于对触控进行识别。

触控结构2还包括第一透明层22，第一透明层22位于第一导电层210远离第二导电层211的一侧；第一透明层22的折射率大于等于第一导电层210的折射率。可以理解的是，第一导电层210和第二导电层211之间还设置有绝缘层212。

如图4a所示，第一导电层210包括多个间隔的第一电极2131，第一电极2131沿第一方向延伸；第二导电层211包括多个第二电极2132，第二电极2132沿第二方向延伸，第一方向和第二方向交叉。其中，图4a以多个第一电极2131可均沿竖直方向延伸，多个第二电极2132可均沿水平方向延伸为例进行示意。

或者，如图4c和图4e所示，第一导电层210包括多个间隔设置且沿第一方向延伸的第一电极2131以及多组第二子电极，每组第二子电极包括多个沿第二方向间隔排布的第二子电极2133，第一电极2131和第二子电极2133相互绝缘。第二导电层211可以包括多个搭桥2134，每个搭桥2134用于连接同一组第二子电极中相邻两个第二子电极2133，其中，每组第二子电极以及用于将该组第二子电极中任意相邻两个第二子电极2133电连接的搭桥2134组成一个第二电极2132。

当然，也可以是：第二导电层211包括间隔设置且沿第一方向延伸的第一电极2131以及多组第二子电极，每组第二子电极包括多个沿第二方向间隔排布的第二子电极2133，第一电极2131和第二子电极2133相互绝缘。第一导电层210可以包括多个搭桥2134，每个搭桥2134用于连接同一组第二子电极中相邻两个第二子电极2133，其中，每组第二子电极以及用于将该组第二子电极中任意相邻两个第二子电极2133电连接的搭桥2134组成一个第二电极2132。

在图4c中以第一电极2131和第二子电极2133的形状均为矩形，第一电极2131沿竖直方向延伸，每组第二子电极中的多个第二子电极2133沿水平方向排布，且第二子电极2133位于相邻两列第一电极2131之间进行示意。

在图4e中以第一电极2131和第二子电极2133的形状均为菱形，第一电极2131沿竖直方向延伸，每组第二子电极中的多个第二子电极2133沿水平方向排布，且第二子电极2133位于相邻两列第一电极2131之间进行示意。

需要说明的是，本领域技术人员应该知道，要实现触控功能，第一电极2131和第二电极2132之间必然相互绝缘。但为了清楚的呈现第一电极2131和第二电极2132的结构，在图4a至图4f中并未示出位于第一导电层210和第二导电层211之间的绝缘层212，搭桥2134通过该绝缘层212上的过孔与第二子电极2133电连接。

由上述对第一导电层210和第二导电层211的结构描述可知，本实施例中提供的触控结构2为互容式的触控结构。即，第一电极2131和第二电极2132为感应电极和驱动电极，感应电极和驱动电极被设计为具有不同的电位，使其之间可以产生一定的电力线。当用户的手指接近触控功能层21时，由于手指具有电容性质，驱动电极和感应电极之间的电力线会被手指吸引，导致感应电极和驱动电极之间的互容量降低，从而识别出手指触控的具体位置。如图4g所示，在第一电极2131和第二电极2132之间的交叉区域以及边缘区域均能产生电力线7。但由于屏蔽效应的缘故，位于第一电极2131和第二电极2132交叉区域内的大部分电力线7不会受到手指10太大的影响，受手指10影响的电力线7主要分布在如图4b、图4d以及图4f所示的区域B中。

第一导电层210和第二导电层211均通过对导电薄膜进行图案化后得到。

其中，第一导电层210和第二导电层211的材料可以为透明导电材料。透明导电材料例如可以为透明金属氧化物、导电无机物或者导电有机物中的一种。

第一导电层210和第二导电层211的材料也可以为金属，在此情况下，第一电极2131和第二电极2132的结构为金属网格结构。

其中，金属可以包括金属单质、金属合金、金属纳米线等金属材料。

示例的，金属可以为银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)、或铝铌合金(AlNb)合金等。

可选的，第一导电层210和第二导电层211的材料为纳米银线(AgNW)。

在第一导电层210的材料为纳米银线的情况下，第一导电层210的折射率为1.4～1.5。基于此，示例的，第一透明层22的折射率可以为1.8。

第一透明层22可无需图案化。即，第一透明层22可位于整个触控功能层21所在区域。示例的，在该触控结构2应用在触控显示装置时，触控功能层21位于显示区，则，第一透明层22可覆盖显示区。

可选的，第一透明层22的材料为绝缘材料，该绝缘材料可以是有机物，也可以是无机物，例如TiO₂(二氧化钛)、AOI-UV树脂(异氰酸酯丙烯乙酯-光敏树脂)中的任一种。其中的AOI-UV树脂是通过利用异氰酸酯丙烯乙酯对UV树脂(光敏树脂)进行改性而得到的，AOI-UV树脂的折射率范围为1.65～1.8。

需要说明的是，本发明实施例中，第一透明层22的材料不限于绝缘材料，例如还可以是导电材料。在此基础上，第一透明层22与第一导电层210和第二导电层211均绝缘，即，在第一透明层22与第一导电层210之间还需设置绝缘层212。

相对于如图5a和图5b所示，触控结构2仅包括第一导电层210和第二导电层211、以及位于二者之间的绝缘层212。以触控结构2具体应用在触控显示装置时，第一导电层210相对第二导电层211更靠近触控显示装置的出光面为例，从环境中入射至触控功能层21中的入射光线8，在经过第一导电层210的反射后转换为第一反射光线81，经过绝缘层212的反射后转换为第二反射光线82。由于第一导电层210和绝缘层212的材料并不相同，导致第一导电层210的折射率、反射率和绝缘层212的折射率、反射率并不相同。以第一导电层210的结构如图5b所示为例，在第一导电层210的折射率大于绝缘层212的折射率的情况下，第一反射光线81的强度将大于第二反射光线82的强度。所以，当人眼接收到强度不同的第一反射光线81和第二反射光线82时，能够识别出第一导电层210中一条一条分布的第一电极2131的形状，影响触控结构2的显示效果。

在本发明的实施例中，由于第一透明层22位于第一导电层210远离第二导电层211的一侧，且第一透明层22的折射率大于等于第一导电层210的折射率，只需保证在触控结构2具体应用在触控显示装置时，使第一导电层210相对第二导电层211更靠近触控显示装置的出光面，便可避免上述问题。具体的，如图3b所示，从环境中入射至触控结构2的入射光线8在经过第一透明层22的反射后转换为第一反射光线81，同时由于整层平铺的第一透明层22遮挡了位于其下侧的第一导电层210。此时，第一透明层将作为触控结构2的出光面，又因其表面的反射率是相同的，且第一透明层22的折射率大于等于第一导电层210的折射率；所以，大部分的入射光线8将被第一透明层22反射，而经过第一透明层22折射的入射光线8在进入第一导电层210，被第一导电层210反射后，其反射光线的强度较弱，可以忽略，所以人眼主要接收到了第一反射光线81。当人眼仅接收到了一种强度的反射光线时，便无法根据反射光线的强度差异识别到位于第一透明层22下侧的第一导电层210的具体结构。所以，第一透明层22因其折射率大于等于第一导电层210的折射率，从而具有一定的对环境光的遮光作用，实现对第一导电层210中具体结构的消影作用，使得触控结构2的显示效果较好。

本发明的实施例提供了一种触控结构2，将第一透明层22设置在触控功能层21中第一导电层210远离第二导电层211的一侧，且第一透明层22的折射率大于等于第一导电层210的折射率。当该触控结构2具体应用在触控显示装置时，通过使第一导电层210相对第二导电层211更靠近触控显示装置的出光面，可使入射至触控结构2中的入射光线8，被第一透明层22反射后，入射至人眼中的反射光线只有一种，可使得位于第一透明层22下的第一导电层210的结构无法被人眼识别到，实现了对第一导电层210的消影作用，从而提高了触控结构2的显示效果。

可选的，如图3c至图3e所示，上述的触控结构2还包括沿第一透明层22的厚度方向，设置于第一透明层22一侧的第二透明层23，第二透明层23与第一透明层22接触。第二透明层23的折射率小于第一透明层22的折射率。

即，在此情况下，第一透明层22和第二透明层23均位于第一导电层210远离第二导电层211的一侧。

其中，如图3c所示，第二透明层23可以位于第一透明层22远离第一导电层210的一侧；或者，如图3d和图3e所示，第二透明层23可以位于第一透明层22靠近第一导电层210的一侧。

可选的，如图3c和图3d所示，沿第一透明层22的厚度方向，第二透明层23与第一透明层22的正投影完全重叠。

即，第二透明层23也无需图案化。第一透明层22和第二透明层23均位于整个触控功能层21所在区域。示例的，在该触控结构2应用在触控显示装置时，触控功能层21位于显示区，则，第一透明层22和第二透明层23均覆盖显示区。

可选的，如图3e所示，在第二透明层23位于第一透明层22靠近第一导电层210的一侧的情况下，沿第一透明层22的厚度方向，第二透明层23的正投影可以与第一导电层210的正投影完全重叠。此时，第二透明层23与第一导电层210可通过同一次构图工艺制备。

可选的，第二透明层23的材料为绝缘材料，该绝缘材料可以是有机物，也可以是无机物，例如二氧化硅(SiO₂)。在第一导电层210为纳米银线的情况下，示例的，第二透明层23的折射率例如为1.1～1.3。

需要说明的是，第二透明层23的材料并不限于绝缘材料，可以根据第二透明层23的具体设置位置选择合适的材料。例如，如图3c所示，当第二透明层23位于第一透明层22远离第一导电层210一侧时，第二透明层23也可以为导电材料。

第二透明层23用于实现增透作用，提高从第二导电层211一侧入射的光线的透光率，该光线例如可以是可见光，也可以是可见光中的一种或者几种光线，还可以是紫外光，在此不做限定。下面以从第二导电层211一侧入射的光线为可见光为例进行说明第二透明层23的增透原理。如图3f所示，对于第二透明层23的反射率R₃可以用第一导电层210的折射率n₁、第一透明层22的折射率n₂和第二透明层23的折射率n₃，以及可见光9在第二透明层23两个界面反射的第四反射光线91和第五反射光线93之间的相位差θ表示：

对于一定的第一导电层210和第一透明层22，n₁、n₂均为常数，所以根据上述的公式(一)可知，第二透明层23的反射率R₃将随着相位差θ而变化，因而也随着第二透明层23的光学厚度n₃×h而变化，其中

h为第二透明层23的厚度，λ为可见光9的波长，α为可见光9在入射至第二透明层23中的入射角。在可见光9的波长和入射角α确定的情况下，如果将与n₂大小关系不同的n₃代入上述的公式(一)中，可以得出只有当n₃小于n₂时，R₃才会小于第一透明层22的反射率R₂，其中，当n₃等于n₂时，根据公式(一)计算出来的数值即为R₂。又因对于第二透明层23而言，其透射率与反射率之和等于1，所以，在第二透明层23的折射率小于第一透明层22的折射率的情况下，第二透明层23可以起到对第一透明层22增透的作用。

通过在第一透明层22的一侧设置与其接触的第二透明层23，且第二透明层23的折射率小于第一透明层22的折射率，使得第二透明层23对从第二导电层211一侧入射的可见光9的反射率R₃小于只具有第一透明层22时，第一透明层22对从第二导电层211一侧入射的可见光9的反射率R₂。所以，第二透明层23提高了触控结构2对可见光9的透过率，具有增透作用。

可选的，如图3d和图3e所示，在第二透明层23位于第一透明层22和第一导电层210之间，且第一透明层22的折射率大于第一导电层210的情况下，第二透明层23的厚度D＝(2a+1)×λ/4，折射率n₃ ²＝n₁×n₂，其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长，n₁为第一导电层210的折射率，n₂为第一透明层22的折射率，n₃为第二透明层23的折射率。

上述，可见光的波长范围为380nm～780nm。

如图3f所示，从第一导电层210一侧入射的可见光9在到达第二透明层23和第一透明层22后，可见光9在第二透明层23靠近第一导电层210的一侧表面反射后得到第四反射光线91；可见光9的折射光线92进第二透明层23后，在第二透明层23靠近第一透明层22的一侧表面发生反射，得到第五反射光线93。由图3f可知，第四反射光线91和第五反射光线93之间的光程差等于第二透明层23厚度D的2倍，其中的光程差即为第二透明层23的光学厚度n₃×h，所以有2D＝n₃×h。同时为了使第四反射光线91和第五反射光线93发生干涉相消，需要第四反射光线91和第五反射光线93之间的光程差n₃×h为可见光9的半波长的奇数倍，即有n₃×h＝(2a+1)λ/2，所以存在2D＝(2a+1)λ/2，即D＝(2a+1)×λ/4。

在第二透明层23的厚度D＝(2a+1)×λ/4的情况下，第四反射光线91和第二第五反射光线93之间始终可以产生干涉相消，因而，可进一步提高第二透明层23的透过率。

在此基础上，为了使第四反射光线91和第五反射光线93完全发生干涉相消，即使得第四反射光线91和第五反射光线93之间的相位差θ等于π，将θ＝π代入上述的公式(一)中，可得

因此，为了使得第二透明层23的反射率为0，需要第一导电层210、第二透明层23和第一透明层22该三个膜层的折射率满足关系n₃ ²＝n₁×n₂；而R₃与第二透明层23的透过率之和等于1，所以，在R₃等于0时，第二透明层23的透过率将等于1，折射光线92的亮度将达到最大，从而更进一步的提高了第二透明层23对可见光9的透过率。

本发明的实施例还提供了一种触控结构2，如图6a至图6c所示，该触控结构2包括触控功能层21。触控功能层21包括第一导电层210和第二导电层211，触控功能层21用于对触控进行识别。

触控结构2还包括第一透明层22，第一透明层22位于第一导电层210和第二导电层211之间，第一透明层22的材料为绝缘材料，且第一透明层22的折射率等于第一导电层210的折射率；其中，第一导电层210包括多个间隔的电极213，电极213之间的区域露出第一透明层22。

需要说明的是，第一导电层210的结构可参考上述，当该第一导电层210的结构为如图4a所示的结构时，第一电极2131为此处的电极213；当该第一导电层210的结构为如图4c和图4e所示的结构时，第一电极2131和第二子电极2133为此处的电极213。

第一透明层22的材料为绝缘材料，该绝缘材料可以是有机绝缘材料，也可以是无机绝缘材料，例如TiO₂(二氧化钛)、AOI-UV树脂(异氰酸酯丙烯乙酯-光敏树脂)中的任一种。

其中，第一透明层22无需图案化。

由于第一透明层22的材料为绝缘材料，因此其可以充当第一导电层210和第二导电层211之间的绝缘层，使得触控结构2的整体厚度减小。

第一导电层210和第二导电层211的材料和结构如前述所述，因此不再赘述。

上述的触控结构2具体应用在触控基板时，第一导电层210相对于第二导电层211更靠近衬底。

上述的触控结构2具体应用在触控显示装置时，第一导电层210相对于第二导电层211更靠近触控显示装置的出光面。

如图6a至图6c所示，从环境中入射至第一导电层210的入射光线8经过第一导电层210的反射后转换为第一反射光线81，入射至第一透明层22的入射光线8经第一透明层22反射后转换为第三反射光线83，此时，触控结构2的出光面包括第一导电层210和相邻电极213之间的镂空区所暴露的第一透明层22。由于第一透明层22的折射率等于第一导电层210的折射率，因此，第一反射光线81的强度等于第三反射光线83的强度，从而入射至人眼中的反射光线的强度相等，人眼将无法识别到第一导电层210中的各个电极213的形态，第一透明层22实现了对第一导电层210中各电极213的消影作用。

本发明的实施例提供了一种触控结构2，包括第一导电层210、

第二导电层211和第一透明层22，第一透明层22位于第一导电层210和第二导电层211之间，第一透明层22的材料为绝缘材料，且第一透明层22的折射率等于第一导电层210的折射率。当该触控结构2具体应用在触控显示装置时，通过使第一导电层210相对第二导电层211更靠近触控显示装置的出光面，可使从环境中入射至触控结构2中的入射光线8，被第一透明层22和第一导电层210反射后，使得入射至人眼中的第一反射光线81和第三反射光线83的强度相同，即，从触控结构2的出光面反射的光线的强度是相等的，从而位于第一透明层22上的第一导电层210中存在的电极213的形状无法被人眼识别到，实现对第一导电层210的消影作用，从而提高了触控结构2的显示效果。

在此基础上，可选的，如图6b和图6c所示，触控结构2还包括第二透明层23，第二透明层23与第一透明层22接触。第二透明层23的折射率小于第一透明层22的折射率。

可选的，如图6b所示，第二透明层23可以位于第一透明层22和第二导电层211之间。

在此基础上，沿第一透明层22的厚度方向，第二透明层23与第一透明层22的正投影可以完全重叠。即，第二透明层23无需图案化，第一透明层22和第二透明层23均位于整个触控功能层21所在区域。示例的，在该触控结构2应用在触控显示装置时，触控功能层21位于显示区，则，第一透明层22和第二透明层23均覆盖显示区。

可选的，如图6c所示，第二透明层23位于第一导电层210和第一透明层22之间。沿第一透明层22的厚度方向，第一导电层210的正投影覆盖第二透明层23的正投影。

在此基础上，可选的，如图6c所示，第一导电层210的正投影可以与第二透明层23的正投影可以完全重叠。这样，在制备时，第二透明层23和第一导电层210可以通过同一次构图工艺制备，制备较为简单。

在图6b和图6c所示的触控结构2中，第二透明层23起增透作用，可以提高从第二导电层211一侧入射的可见光9的透过率，从而提高触控显示装置的亮度。

可选的，第二透明层23的材料为SiO₂，其折射率为1.1～1.3。第二透明层23的材料可以选用将正硅酸乙酯(TEOS)和二甲基二乙氧基硅烷(DDS)在碱性条件下共水解缩聚,再以六甲基二氮硅烷(HMDS)做进一步的改性，从而得到的SiO₂材料的第二透明层23。

在此基础上，可选的，第二透明层23的厚度D＝(2a+1)×λ/4，其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长。

当第二透明层23的厚度满足D＝(2a+1)×λ/4时，位于第二透明层23两侧的界面的反射光线将发生干涉相消，能够提高触控显示装置的透过率。

本发明的实施例还提供了一种触控结构2的制备方法，如图7a所示，包括：

S1、如图7b所示，通过一次构图工艺形成触控功能层21中的第二导电层211。

S2、如图7c所示，在第二导电层211一侧形成第一透明层22；第一透明层22的材料为绝缘材料。

S3、如图6a所示，在第一透明层22远离第二导电层211的一侧形成第一导电薄膜，并对第一导电薄膜进行一次构图工艺，形成触控功能层21中的第一导电层210；其中，第一透明层22的折射率等于第一导电层210的折射率；触控功能层21用于对触控进行识别。

示例的，第一导电薄膜的材料为AgNW。

可选的，在形成第一透明层22之后，形成第一导电薄膜之前，触控结构2的制备方法还包括：

S20、如图7d所示，在第一透明层22远离第二导电层211的一侧，形成第二透明薄膜。

S3、如图6c所示，在对第一导电薄膜进行构图工艺时，同步对第二透明薄膜进行构图工艺，形成第二透明层23，其中，沿第一透明层22的厚度方向，第二透明层23与第一导电层210的正投影完全重叠。

示例的，在对第一导电薄膜进行构图工艺时，使用激光镭射方式，同步对第一导电薄膜和第二透明薄膜进行光刻，形成第一导电层210和第二透明层23。

上述触控结构2的制备方法具有与上述触控结构2相同的有益效果，因此不再赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (15)

1.一种触控结构，其特征在于，包括触控功能层；所述触控功能层包括第一导电层和第二导电层，所述触控功能层用于对触控进行识别；

所述触控结构还包括第一透明层，所述第一透明层位于所述第一导电层远离所述第二导电层的一侧，所述第一透明层的折射率大于等于所述第一导电层的折射率；

或者，

所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间，所述第一透明层的材料为绝缘材料，且所述第一透明层的折射率等于所述第一导电层的折射率；其中，所述第一导电层包括多个间隔的电极，所述电极之间的区域露出所述第一透明层。

2.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，在所述第一透明层位于所述第一导电层远离所述第二导电层的一侧的情况下，所述触控结构还包括沿所述第一透明层的厚度方向，设置于所述第一透明层一侧的第二透明层，所述第二透明层与所述第一透明层接触；

所述第二透明层的折射率小于所述第一透明层的折射率。

3.根据权利要求2所述的触控结构，其特征在于，沿所述第一透明层的厚度方向，所述第二透明层与所述第一透明层的正投影完全重叠。

4.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，在所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间的情况下，所述触控结构还包括设置于所述第一透明层和所述第二导电层之间的第二透明层。

5.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，在所述第一透明层位于所述第一导电层和所述第二导电层之间的情况下，所述触控结构还包括设置于所述第一透明层和所述第一导电层之间的第二透明层；

沿所述第一透明层的厚度方向，所述第一导电层的正投影覆盖所述第二透明层的正投影。

6.根据权利要求2-5任一项所述的触控结构，其特征在于，所述第二透明层的材料为绝缘材料。

7.根据权利要求1所述的触控结构，其特征在于，所述第一导电层和第二导电层的材料为纳米银线。

8.根据权利要求6所述的触控结构，其特征在于，所述第二透明层的厚度D＝(2a+1)×λ/4，其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长。

9.根据权利要求2所述的触控结构，其特征在于，所述第二透明层位于所述第一透明层和所述第一导电层之间；

所述第二透明层的厚度D＝(2a+1)×λ/4，折射率n₃ ²＝n₁×n₂；

其中a为小于等于10的自然数，λ为可见光的波长，n₁为第一导电层的折射率，n₂为第一透明层的折射率，n₃为第二透明层的折射率。

10.一种触控基板，其特征在于，包括衬底，设置于所述衬底上的如权利要求1至9任一项所述的触控结构；

所述触控结构中第一导电层相对第二导电层更靠近所述衬底。

11.一种触控显示装置，其特征在于，包括显示面板和如权利要求1至9任一项所述的触控结构；

所述触控结构中第一导电层相对第二导电层更靠近所述触控显示装置的出光面。

12.根据权利要求11所述的触控显示装置，其特征在于，所述触控结构设置于所述显示面板的出光侧。

13.根据权利要求12所述的触控显示装置，其特征在于，所述显示面板包括阵列基板、对置基板、设置于所述阵列基板与所述对置基板之间的液晶层；

所述触控结构设置于所述对置基板中的衬底远离所述液晶层的一侧。

14.一种触控结构的制备方法，其特征在于，包括：

通过一次构图工艺形成触控功能层中的第二导电层；

在所述第二导电层一侧形成第一透明层；所述第一透明层的材料为绝缘材料；

在第一透明层远离所述第二导电层的一侧，形成第一导电薄膜，并对所述第一导电薄膜进行一次构图工艺，形成触控功能层中的第一导电层；

其中，所述第一透明层的折射率等于所述第一导电层的折射率；

所述触控功能层用于对触控进行识别。

15.根据权利要求14所述的触控结构的制备方法，其特征在于，

在形成第一透明层之后，形成第一导电薄膜之前，所述触控结构的制备方法还包括：

在第一透明层远离所述第二导电层的一侧，形成第二透明薄膜；

在对第一导电薄膜进行构图工艺时，同步对第二透明薄膜进行构图工艺，形成第二透明层，其中，沿所述第一透明层的厚度方向，所述第二透明层与所述第一导电层的正投影完全重叠。

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