CN107340928B - 触控显示面板及其制造方法、触控显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种触控显示面板及其制造方法、触控显示装置,属于显示技术领域。所述触控显示面板包括:黑矩阵和阵列排布的多个像素单元,其中,所述黑矩阵为导体,且所述黑矩阵与触控集成电路IC相连接。本申请解决了整个OLED显示装置较厚的问题,减少了触控显示面板所在的显示装置的厚度,本申请用于触控显示。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种触控显示面板及其制造方法、触控显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展,具有触控功能的有机发光二极管(英文:OrganicLight-Emitting Diode;简称:OLED)显示装置得到了广泛的应用。示例的,具有触控功能的OLED显示装置可以包括:叠加的OLED显示基板、盖板和触控面板。
相关技术中,触控面板包括衬底基板以及设置在衬底基板上的触控电极,触控电极连接至触控集成电路(英文:integrated circuit;简称:IC)。在实现OLED显示面板的触控功能时,显示IC可以通过触控IC向触控电极施加交流信号,并获取触控电极与地形成的电容,进而确定OLED显示面板上被触控的位置,并根据OLED显示面板上被触控的位置控制OLED显示面板显示相应的图像。
由于具有触控功能的OLED显示装置中,OLED显示装置还包括触控面板,因此,整个OLED显示装置较厚。
发明内容
为了解决整个OLED显示装置较厚的问题,本申请提供了一种触控显示面板及其制造方法、触控显示装置。所述技术方案如下:
第一方面,提供了一种触控显示面板,所述触控显示面板包括:黑矩阵和阵列排布的多个像素单元,
其中,所述黑矩阵为导体,且所述黑矩阵与触控集成电路IC相连接。
可选的,所述黑矩阵包括:相互绝缘的n个遮光导电图案,
每个所述遮光导电图案上具有至少两个镂空区域,每个所述镂空区域设置有一个所述像素单元,所述n为大于或等于2的整数。
可选的,每个所述遮光导电图案上具有用于容置一行像素单元的镂空区域。
可选的,所述触控显示面板具有:显示区域和非显示区域,所述n个遮光导电图案位于所述显示区域内;
所述非显示区域内设置有:与所述n个遮光导电图案一一对应的n根连接导线,所述n根连接导线中的每根连接导线的一端与所述触控IC相连接,所述每根连接导线的另一端与对应的遮光导电图案相连接。
可选的,所述触控显示面板还包括:设置在所述黑矩阵至少一侧的抗反射层。
可选的,所述触控显示面板还包括:位于所述n个遮光导电图案的间隙处的遮光绝缘图案。
可选的,每个所述像素单元包括:色阻块,
第一像素单元和第二像素单元分别位于两个相邻的遮光导电图案的镂空区域中,且所述第一像素单元与所述第二像素单元相邻;
所述第一像素单元中的色阻块向所述第二像素单元延伸,所述第二像素单元中的色阻块向所述第一像素单元延伸,且所述第一像素单元中的色阻块的延伸部与所述第二像素单元中的色阻块的延伸部叠加。
可选的,所述触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述衬底基板与所述盖板相对设置,
所述衬底基板朝向所述盖板的一侧设置有所述多个像素单元,每个所述像素单元还包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极、所述封装层和所述色阻块在所述衬底基板上依次叠加;
设置有所述多个像素单元的衬底基板上设置有所述黑矩阵;
设置有所述黑矩阵的衬底基板上设置有所述硬涂层。
可选的,所述触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述衬底基板与所述盖板相对设置,
所述衬底基板朝向所述盖板的一侧设置有阵列排布的多个发光结构,每个所述发光结构包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极和所述封装层在所述衬底基板上依次叠加;
设置有所述多个发光结构的衬底基板上设置有所述黑矩阵;
设置有所述黑矩阵的衬底基板上设置有阵列排布的多个色阻块,每个所述像素单元包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层上的一个色阻块;
设置有所述多个色阻块的衬底基板上设置有所述硬涂层。
可选的,所述触控显示面板为液晶触控显示面板。
第二方面,提供了一种触控显示面板的制造方法,所述方法包括:
制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的触控显示面板,其中,所述黑矩阵为导体,且所述黑矩阵与触控集成电路IC相连接。
可选的,所述触控显示面板还包括:设置在所述黑矩阵至少一侧的抗反射层。
可选的,所述触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的触控显示面板,包括:
在所述衬底基板上形成所述多个像素单元,其中,每个所述像素单元包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极、封装层和色阻块,且所述阳极、所述发光层、所述阴极、所述封装层和所述色阻块在所述衬底基板上依次叠加;
在形成有所述多个像素单元的衬底基板上形成所述黑矩阵;
在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成所述硬涂层;
将形成有所述硬涂层的衬底基板和所述盖板相对设置,使得所述硬涂层位于所述衬底基板和所述盖板之间。
可选的,所述触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的触控显示面板,包括:
在所述衬底基板上形成阵列排布的多个发光结构,每个所述发光结构包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极和所述封装层在所述衬底基板上依次叠加;
在形成有所述多个发光结构的衬底基板上形成所述黑矩阵;
在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成阵列排布的多个色阻块,每个所述像素单元包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层上的一个所述色阻块;
在形成有所述多个色阻块的衬底基板上形成所述硬涂层;
将形成有所述硬涂层的衬底基板和所述盖板相对设置,使得所述硬涂层位于所述衬底基板和所述盖板之间。
第三方面,提供了一种触控显示装置,所述触控显示装置包括:触控显示面板和触控集成电路IC,所述触控显示面板为第一方面所述的触控显示面板。
本申请提供的技术方案带来的有益效果是:
由于触控显示面板中的黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示面板所在的显示装置的厚度。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种触控显示面板的应用场景示意图;
图2为本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视图;
图3为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的俯视图;
图4为本发明实施例提供的一种触控显示面板的截面示意图;
图5为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的截面示意图;
图6为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的截面示意图;
图7为本发明实施例提供的一种触控显示面板的制造方法的方法流程图;
图8为本发明实施例提供的一种制造触控显示面板的方法流程图;
图9-1为本发明实施例提供的一种触控显示面板的局部结构示意图;
图9-2为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的局部结构示意图;
图9-3为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的局部结构示意图;
图10为本发明实施例提供的一种制造触控显示面板的方法流程图;
图11-1为本发明实施例提供的再一种触控显示面板的局部结构示意图;
图11-2为本发明另一实施例提供的一种触控显示面板的局部结构示意图;
图11-3为本发明另一实施例提供的另一种触控显示面板的局部结构示意图;
图11-4为本发明另一实施例提供的又一种触控显示面板的局部结构示意图。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。
图1为本发明实施例提供的一种触控显示面板的应用场景示意图,如图1所示,触控显示面板0同时具有触控和显示的功能,也即是,用户可以使用手指触摸触控显示面板0,以使得触控显示面板根据用户手指触摸的位置,显示图像。
图2为本发明实施例提供的一种触控显示面板的俯视图,如图1所示,触控显示面板0可以包括:黑矩阵01和阵列排布的多个像素单元02,其中,黑矩阵01为导体,且黑矩阵01与触控IC 1相连接。
综上所述,由于本发明实施例提供的触控显示面板中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示面板所在的显示装置的厚度。
需要说明的是,图2中的触控显示面板可以为有机发光二极管(英文:OrganicLight-Emitting Diode;简称:OLED)触控显示面板,也可以为液晶触控显示面板,或者其他类型的触控显示面板,本发明实施例对此不作限定。
可选的,黑矩阵01可以包括:相互绝缘的n个遮光导电图案011,n为大于或等于2的整数。每个遮光导电图案011上具有至少两个镂空区域,每个镂空区域设置有一个像素单元02。进一步的,每个遮光导电图案011上具有用于容置一行像素单元02的镂空区域。也即是,n个遮光导电图案011所在的区域为n个触控区域,且每个触控区域内设置有至少两个像素单元02。
触控显示面板0可以具有显示区域和非显示区域,n个遮光导电图案011可以位于显示区域内。非显示区域内设置有:与n个遮光导电图案011一一对应的n根连接导线03,n根连接导线03中的每根连接导线03的一端与触控IC 1相连接,每根连接导线03的另一端与对应的遮光导电图案011相连接。也即是,每个遮光导电图案011通过对应的一根连接导线03连接至触控IC 1。
可选的,该触控显示面板0还可以包括:设置在黑矩阵01至少一侧的抗反射层(图2中未示出)。示例的,如图2所示,触控显示面板0可以包括设置在黑矩阵01两侧的抗反射层。其中,当黑矩阵01靠近触控显示面板的出光侧的一侧设置有抗反射层时,则该抗反射层能够防止黑矩阵01对环境光的反射,从而提高触控显示面板的显示效果。当黑矩阵01远离触控显示面板的出光侧的一侧设置有抗反射层时,该抗反射层能够防止黑矩阵01将触控显示面板内的光线反射至两个遮光导电图案011之间,从而提高触控显示面板的显示效果。
图3为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的俯视图,如图3所示,n个遮光导电图案011互相绝缘,也即是,任意两个相邻的遮光导电图案011之间存在间隙。在图2的基础上,该触控显示面板0还可以包括:位于n个遮光导电图案的间隙处的遮光绝缘图案04,该遮光绝缘图案04的材质可以为黑色绝缘材质。该遮光绝缘图案04的存在并不影响n个遮光导电图案011互相绝缘的前提,且在遮光绝缘图案04的作用下,触控显示面板0内的光线无法从该间隙处射出触控显示面板,从而防止了光线从间隙处射出触控显示面板,提高了触控显示面板的显示效果。
图4为本发明实施例提供的一种触控显示面板的截面示意图,该触控显示面板0可以为有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode;简称:OLED)触控显示面板。如图4所示,在图2的基础上,每个像素单元02可以包括:色阻块021。
示例的,请结合图2和图4,第一像素单元A1和第二像素单元A2分别位于两个相邻的遮光导电图案011的镂空区域中,且第一像素单元A1与第二像素单元A2相邻;第一像素单元A1中的色阻块021向第二像素单元A2延伸,第二像素单元A2中的色阻块021向第一像素单元A1延伸,且第一像素单元A1中的色阻块021的延伸部与第二像素单元A2中的色阻块021的延伸部叠加。也即是,本发明实施例中,设置第一像素单元的色阻块和第二像素单元的色阻块分别向对方延伸,并且使得这两个色阻块的延伸部叠加。这样一来,在这两个色阻块的延伸部的叠加作用下,能够防止触控显示面板内的光线从间隙处射出触控显示面板,提高了触控显示面板的显示效果。
进一步的,该触控显示面板0还可以包括:衬底基板05、硬涂层06和盖板07,衬底基板05与盖板07相对设置。衬底基板05朝向盖板07的一侧设置有多个像素单元02,每个像素单元02还可以包括:至少一个薄膜晶体管022、阳极023、发光层024、阴极025和封装层026,且阳极023、发光层024、阴极025、封装层026和色阻块021在衬底基板05上依次叠加,示例的,该发光层024可以包括:阵列排布的多个电致发光块X1以及位于每两个相邻的电致发光块X1之间的像素限定块X2。设置有多个像素单元02的衬底基板05上设置有黑矩阵01;设置有黑矩阵01的衬底基板05上设置有硬涂层06。
也即是,本发明实施例提供的触控显示面板中,色阻块设置在黑矩阵的下方,在制造该触控显示面板时,是在形成多个色阻块后才形成黑矩阵,因此,在形成黑矩阵时使用的强酸不会对色阻块下方的薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层造成伤害。
图5为本发明实施例提供的另一种触控显示面板的截面示意图,该触控显示面板0可以为有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode;简称:OLED)触控显示面板。如图5所示,在图2的基础上,每个像素单元可以包括:色阻块021。
示例的,请结合图2和图5,第一像素单元A1和第二像素单元A2分别位于两个相邻的遮光导电图案011的镂空区域中,且第一像素单元A1与第二像素单元A2相邻;第一像素单元A1中的色阻块021向第二像素单元A2延伸,第二像素单元A2中的色阻块021向第一像素单元A1延伸,且第一像素单元A1中的色阻块021的延伸部与第二像素单元A2中的色阻块021的延伸部叠加。也即是,本发明实施例中,设置第一像素单元的色阻块和第二像素单元的色阻块分别向对方延伸,并且使得这两个色阻块的延伸部叠加。这样一来,在这两个色阻块的延伸部的叠加作用下,能够防止触控显示面板内的光线从间隙处射出触控显示面板,提高了触控显示面板的显示效果。
进一步的,该触控显示面板0还可以包括:衬底基板05、硬涂层06和盖板07,衬底基板05与盖板07相对设置,衬底基板05朝向盖板07的一侧设置有阵列排布的多个发光结构,每个发光结构包括:至少一个薄膜晶体管022、阳极023、发光层024、阴极025和封装层026,且阳极023、发光层024、阴极025和封装层026在衬底基板05上依次叠加,示例的,该发光层024可以包括:阵列排布的多个电致发光块X1以及位于每两个相邻的电致发光块X1之间的像素限定块X2;设置有多个发光结构的衬底基板05上设置有黑矩阵01;设置有黑矩阵01的衬底基板05上设置有阵列排布的多个色阻块021,每个像素单元可以包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层026上的一个色阻块021;设置有多个色阻块021的衬底基板05上设置有硬涂层06。也即是,本发明实施例提供的触控显示面板中,色阻块设置在黑矩阵的上方,在制造该触控显示面板时,是在形成黑矩阵之后才形成多个色阻块。
图6为本发明实施例提供的又一种触控显示面板的截面示意图,该触控显示面板0可以为液晶触控显示面板。如图6所示,在图2的基础上,该触控显示面板还可以包括:阵列基板和彩膜基板。
阵列基板包括:第一衬底基板C1、薄膜晶体管C2、像素电极C3,彩膜基板可以包括:第二衬底基板D1、公共电极D2、色阻块D3和黑矩阵01。液晶E位于阵列基板和彩膜基板之间。
综上所述,由于本发明实施例提供的触控显示面板中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示面板所在的显示装置的厚度。
图7为本发明实施例提供的一种触控显示面板的制造方法的方法流程图,如图7所示,该触控显示面板的制造方法可以包括:
步骤701、制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的触控显示面板,其中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接。
综上所述,由于本发明实施例提供的触控显示面板的制造方法所制造的触控显示面板中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示装置的厚度。
可选的,图7所示的触控显示面板的制造方法所制造的触控显示面板可以为图2、图3、图4、图5和图6中任一所示的触控显示面板。
一方面,当图7所示的触控显示面板的制造方法所制造的触控显示面板如图4所示时,如图8所示,步骤701可以包括:
步骤7011a、在衬底基板上形成多个像素单元,其中,每个像素单元包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极、封装层和色阻块,且阳极、发光层、阴极、封装层和色阻块在衬底基板上依次叠加。
如图9-1所示,在步骤7011a中,可以依次在衬底基板05上依次形成:至少一个薄膜晶体管022、阳极023、发光层024、阴极025、封装层026和色阻块021,从而在衬底基板05上形成多个像素单元,示例的,该发光层024可以包括:阵列排布的多个电致发光块X1以及位于每两个相邻的电致发光块X1之间的像素限定块X2。
步骤7012a、在形成有多个像素单元的衬底基板上形成黑矩阵。
如图9-2所示,在步骤7012a中,可以在形成有多个像素单元的衬底基板05上形成黑矩阵01,示例的,该黑矩阵01中遮光导电图案的分布情况可以参考图2。
示例的,黑矩阵01可以包括多个遮光导电图案011,且当衬底基板上的两个相邻的像素单元分别位于两个相邻的两个遮光导电图案011的镂空区域中时,这两个像素单元的色阻块分别向对方延伸,并且两个像素单元的色阻块的延伸部叠加。这样一来,在这两个色阻块的延伸部的叠加作用下,能够防止触控显示面板内的光线从两个相邻的遮光导电图案之间的间隙处射出触控显示面板,提高了触控显示面板的显示效果。
需要说明的是,在形成黑矩阵时,首先需要在色阻块上形成黑色导电层,然后使用强酸对该黑色导电层进行刻蚀,以形成多个遮光导电图案,得到黑矩阵。由于色阻块设置在黑矩阵的下方,因此,在形成黑矩阵时使用的强酸不会对色阻块下方的薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层造成伤害。
可选的,在形成黑矩阵01之前,还可以首先在形成有多个像素单元的衬底基板上形成抗反射层,然后,再在形成有抗反射层的衬底基板上形成黑矩阵01;在形成黑矩阵01之后,还可以在形成有黑矩阵的衬底基板上再次形成抗反射层,从而使得黑矩阵的两侧均设置有抗反射层。当黑矩阵01靠近触控显示面板的出光侧的一侧设置有抗反射层时,则该抗反射层能够防止黑矩阵01对环境光的反射,从而提高触控显示面板的显示效果。当黑矩阵01远离触控显示面板的出光侧的一侧设置有抗反射层时,该抗反射层能够防止黑矩阵01将触控显示面板内的光线反射至两个遮光导电图案011之间,从而提高触控显示面板的显示效果。
步骤7013a、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成硬涂层。
如图9-3所示,在形成黑矩阵后,可以继续在衬底基板05上形成硬涂层06。示例的,可以采用涂覆、溅射、沉积等方式形成该硬涂层。
步骤7014a、将形成有硬涂层的衬底基板和盖板相对设置,使得硬涂层位于衬底基板和盖板之间。
如图4所示,在形成硬涂层06后,就可以直接将盖板07覆盖在形成有硬涂层06的衬底基板05上,从而得到触控显示面板。
另一方面,当图7所示的触控显示面板的制造方法所制造的触控显示面板如图5所示时,如图10所示,步骤701可以包括:
步骤7011b、在衬底基板上形成阵列排布的多个发光结构,每个发光结构包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且阳极、发光层、阴极和封装层在衬底基板上依次叠加。
如图11-1所示,在步骤7011b中,可以依次在衬底基板05上依次形成:至少一个薄膜晶体管022、阳极023、发光层024、阴极025和封装层026,从而在衬底基板05上形成多个发光结构。示例的,该发光层024可以包括:阵列排布的多个电致发光块X1以及位于每两个相邻的电致发光块X1之间的像素限定块X2。
步骤7012b、在形成有多个发光结构的衬底基板上形成黑矩阵。
如图11-2所示,在步骤7012b中,可以在封装层026上形成黑矩阵01,示例的,该黑矩阵01中遮光导电图案的分布情况可以参考图2。
可选的,在形成黑矩阵01之前,还可以首先在形成有多个像素单元的衬底基板上形成抗反射层,然后,再在形成有抗反射层的衬底基板上形成黑矩阵01;在形成黑矩阵01之后,还可以在形成有黑矩阵的衬底基板上再次形成抗反射层,从而使得黑矩阵的两侧均设置有抗反射层。
步骤7013b、在形成有黑矩阵的衬底基板上形成阵列排布的多个色阻块,每个像素单元包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层上的一个色阻块。
如图11-3所示,在步骤7013b中,可以在形成有黑矩阵01的衬底基板05上形成多个色阻块021。
示例的,黑矩阵01可以包括多个遮光导电图案011,且当衬底基板上的两个相邻的像素单元分别位于两个相邻的两个遮光导电图案011的镂空区域中时,这两个像素单元的色阻块分别向对方延伸,并且两个像素单元的色阻块的延伸部叠加。这样一来,在这两个色阻块的延伸部的叠加作用下,能够防止触控显示面板内的光线从两个相邻的遮光导电图案之间的间隙处射出触控显示面板,提高了触控显示面板的显示效果。
步骤7014b、在形成有多个色阻块的衬底基板上形成硬涂层。
如图11-4所示,在形成色阻块后,可以继续在衬底基板05上形成硬涂层06。示例的,可以采用涂覆、溅射、沉积等方式形成该硬涂层。
步骤7015b、将形成有硬涂层的衬底基板和盖板相对设置,使得硬涂层位于衬底基板和盖板之间。
如图5所示,在形成硬涂层06后,就可以直接将盖板07覆盖在形成有硬涂层06的衬底基板05上,从而得到触控显示面板。
综上所述,由于本发明实施例提供的触控显示面板的制造方法所制造的触控显示面板中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示面板所在的显示装置的厚度。
本发明实施例提供了一种触控显示装置,该触控显示装置可以包括:触控显示面板和触控IC,该触控显示面板可以为图2、图3、图4、图5或图6任一所示的触控显示面板。
综上所述,由于本发明实施例提供的触控显示装置中的触控显示面板中,黑矩阵为导体,且黑矩阵与触控IC相连接,因此,可以直接通过触控IC与黑矩阵实现触控显示面板的触控功能。而无需在触控显示面板上叠加触控面板,从而减少了触控显示装置的厚度。
需要说明的是,本发明实施例提供的方法实施例能够与相应的触控显示面板实施例相互参考,本发明实施例对此不做限定。本发明实施例提供的方法实施例步骤的先后顺序能够进行适当调整,步骤也能够根据情况进行相应增减,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化的方法,都应涵盖在本发明的保护范围之内,因此不再赘述。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。
以上所述仅为本申请的可选实施例,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。
Claims (11)
1.一种自容式触控显示面板,其特征在于,所述自容式触控显示面板包括:黑矩阵、阵列排布的多个像素单元以及抗反射层,
其中,所述黑矩阵为导体,且所述黑矩阵与触控集成电路IC相连接,所述抗反射层设置在所述黑矩阵的至少一侧;
所述黑矩阵包括:相互绝缘的n个遮光导电图案,
每个所述遮光导电图案上具有至少两个镂空区域,每个所述镂空区域设置有一个所述像素单元,所述n为大于或等于2的整数;
每个所述像素单元包括:色阻块,
第一像素单元和第二像素单元分别位于两个相邻的遮光导电图案的镂空区域中,且所述第一像素单元与所述第二像素单元相邻;
所述第一像素单元中的色阻块向所述第二像素单元延伸,所述第二像素单元中的色阻块向所述第一像素单元延伸,且所述第一像素单元中的色阻块的延伸部与所述第二像素单元中的色阻块的延伸部叠加。
2.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,
每个所述遮光导电图案上具有用于容置一行像素单元的镂空区域。
3.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,所述自容式触控显示面板具有:显示区域和非显示区域,所述n个遮光导电图案位于所述显示区域内;
所述非显示区域内设置有:与所述n个遮光导电图案一一对应的n根连接导线,所述n根连接导线中的每根连接导线的一端与所述触控IC相连接,所述每根连接导线的另一端与对应的遮光导电图案相连接。
4.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,
所述自容式触控显示面板还包括:位于所述n个遮光导电图案的间隙处的遮光绝缘图案。
5.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,所述自容式触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述自容式触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述衬底基板与所述盖板相对设置,
所述衬底基板朝向所述盖板的一侧设置有所述多个像素单元,每个所述像素单元还包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极、所述封装层和所述色阻块在所述衬底基板上依次叠加;
设置有所述多个像素单元的衬底基板上设置有所述黑矩阵;
设置有所述黑矩阵的衬底基板上设置有所述硬涂层。
6.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,所述自容式触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述自容式触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述衬底基板与所述盖板相对设置,
所述衬底基板朝向所述盖板的一侧设置有阵列排布的多个发光结构,每个所述发光结构包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极和所述封装层在所述衬底基板上依次叠加;
设置有所述多个发光结构的衬底基板上设置有所述黑矩阵;
设置有所述黑矩阵的衬底基板上设置有阵列排布的多个色阻块,每个所述像素单元包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层上的一个色阻块;
设置有所述多个色阻块的衬底基板上设置有所述硬涂层。
7.根据权利要求1所述的自容式触控显示面板,其特征在于,
所述自容式触控显示面板为液晶触控显示面板。
8.一种自容式触控显示面板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
制造包括黑矩阵、阵列排布的多个像素单元以及抗反射层的自容式触控显示面板,其中,所述黑矩阵为导体,且所述黑矩阵与触控集成电路IC相连接,所述抗反射层设置在黑矩阵至少一侧;
所述黑矩阵包括:相互绝缘的n个遮光导电图案,
每个所述遮光导电图案上具有至少两个镂空区域,每个所述镂空区域设置有一个所述像素单元,所述n为大于或等于2的整数;
每个所述像素单元包括:色阻块,
第一像素单元和第二像素单元分别位于两个相邻的遮光导电图案的镂空区域中,且所述第一像素单元与所述第二像素单元相邻;
所述第一像素单元中的色阻块向所述第二像素单元延伸,所述第二像素单元中的色阻块向所述第一像素单元延伸,且所述第一像素单元中的色阻块的延伸部与所述第二像素单元中的色阻块的延伸部叠加。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述自容式触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述自容式触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的自容式触控显示面板,包括:
在所述衬底基板上形成所述多个像素单元,其中,每个所述像素单元包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极、封装层和色阻块,且所述阳极、所述发光层、所述阴极、所述封装层和所述色阻块在所述衬底基板上依次叠加;
在形成有所述多个像素单元的衬底基板上形成所述黑矩阵;
在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成所述硬涂层;
将形成有所述硬涂层的衬底基板和所述盖板相对设置,使得所述硬涂层位于所述衬底基板和所述盖板之间。
10.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述自容式触控显示面板为有机发光二极管OLED触控显示面板,所述自容式触控显示面板还包括:衬底基板、硬涂层和盖板,所述制造包括黑矩阵以及阵列排布的多个像素单元的自容式触控显示面板,包括:
在所述衬底基板上形成阵列排布的多个发光结构,每个所述发光结构包括:至少一个薄膜晶体管、阳极、发光层、阴极和封装层,且所述阳极、所述发光层、所述阴极和所述封装层在所述衬底基板上依次叠加;
在形成有所述多个发光结构的衬底基板上形成所述黑矩阵;
在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成阵列排布的多个色阻块,每个所述像素单元包括:一个发光结构以及叠加在发光结构中封装层上的一个所述色阻块;
在形成有所述多个色阻块的衬底基板上形成所述硬涂层;
将形成有所述硬涂层的衬底基板和所述盖板相对设置,使得所述硬涂层位于所述衬底基板和所述盖板之间。
11.一种触控显示装置,其特征在于,所述触控显示装置包括:自容式触控显示面板和触控集成电路IC,
所述自容式触控显示面板为权利要求1至7任一所述的自容式触控显示面板。
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