CN106990871A - 一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置。该触控面板包括基底和设置在基底上的触控电极，在触控电极的表面设置有光线处理结构，光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少触控电极表面对光线的反射。该触控面板通过设置光线处理结构，能够使照射到触控电极表面的光线发生散射，以减少触控电极表面对光线的反射，从而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，进而降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。

Description

一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置。
背景技术
近年来，显示器已经由过去的阴极射线显像管(Cathode Ray Tube，即CRT)显示器、液晶(LCD)显示器逐渐过渡发展到有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示器。OLED显示器可以实现柔性显示(Flexible Display)。在OLED显示面板上设置触控面板能够实现OLED显示面板的触控显示。
但是，由于设置于OLED显示面板上的触控面板中的触控电极采用金属网格(MetalMesh)，所以从外部环境入射至触控电极表面的光线会发生反射，这使触控面板出光侧的光线反射率会增加7％以上，导致OLED显示面板在户外使用时亮度明显下降。
如何降低触控面板中触控电极对光线的反射率已成为目前亟待解决的问题。
发明内容
本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置。该触控面板能够使照射到触控电极表面的光线发生散射，以减少触控电极表面对光线的反射，从而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，进而降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
本发明提供一种触控面板，包括基底和设置在所述基底上的触控电极，在所述触控电极的表面设置有光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。
优选地，所述光线处理结构包括多个凸起部，多个所述凸起部均匀分布于所述触控电极的表面。
优选地，任意相邻两个所述凸起部之间的间距范围为1nm～1μm。
优选地，所述凸起部的沿垂直于所述触控电极表面的截面形状包括三角形、矩形、梯形、半圆形、半椭圆形或规则或不规则多边形。
优选地，所述凸起部的材料包括氧化铟锡、金属材料或碳。
优选地，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧的所述触控电极表面；
或者，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧和入光侧的所述触控电极表面。
优选地，所述触控电极的分布形状为网格状；所述触控电极的材料包括金属材料，所述光线处理结构的材料与所述触控电极的材料相同。
本发明还提供一种显示面板，包括上述触控面板。
优选地，所述显示面板为有机电致发光面板或液晶面板。
本发明还提供一种显示装置，包括上述显示面板。
本发明还提供一种触控面板的制备方法，包括在基底上形成触控电极，所述形成触控电极包括：在所述触控电极的表面形成光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。
优选地，所述在所述触控电极的表面形成光线处理结构包括：
在采用构图工艺形成所述触控电极时，在刻蚀过程中对所述触控电极的表面进行刻蚀处理，以在所述触控电极的表面形成所述光线处理结构；
或者，首先通过打印法形成具有所述光线处理结构的膜层，然后将该具有所述光线处理结构的膜层压印到所述触控电极的表面。
本发明的有益效果：本发明所提供的触控面板，通过设置光线处理结构，能够使照射到触控电极表面的光线发生散射，以减少触控电极表面对光线的反射，从而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，进而降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
本发明所提供的显示面板和显示装置，通过采用上述触控面板，提升了该显示面板和显示装置的显示亮度，特别是提升了该显示面板和显示装置在户外显示时的显示亮度，从而提高了该显示面板和显示装置的显示效果。
附图说明
图1为本发明实施例1中触控面板的结构剖视图；
图2为本发明实施例1中触控面板的结构俯视图；
图3为本发明实施例2中触控面板的结构剖视图。
其中的附图标记说明：
1.基底；2.触控电极；3.光线处理结构；31.凸起部；4.触控面板出光侧；5.触控面板入光侧。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种触控面板及其制备方法、显示面板和显示装置作进一步详细描述。
实施例1：
本实施例提供一种触控面板，如图1所示，包括基底1和设置在基底1上的触控电极2，在触控电极2的表面设置有光线处理结构3，光线处理结构3能使照射到其上的光线发生散射，以减少触控电极2表面对光线的反射。
通过设置光线处理结构3，能够使照射到触控电极2表面的光线发生散射，以减少触控电极2表面对光线的反射，从而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，进而降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
本实施例中，光线处理结构3包括多个凸起部31，多个凸起部31均匀分布于触控电极2的表面。
优选的，本实施例中，任意相邻两个凸起部31之间的间距范围为1nm～1μm。如此设置，能使光线处理结构3能够更好地使照射到触控电极2表面的光线发生散射，以减少触控电极2表面对光线的反射的作用。
本实施例中，光线处理结构3是对触控电极2的表面进行粗糙度处理，以使触控电极2的表面形成多个凸起部31，凸起部31能使触控电极2的表面变得比较粗糙，同时使照射到触控电极2表面的光线发生散射，从而减少触控电极2表面对照射到其上光线的反射。其中，通过在触控电极2表面设置凸起部31从而减少触控电极2表面对光线反射的具体原理遵循以下公式(1)：
在公式(1)中，R为触控电极2表面对光线的反射系数；k为触控电极2表面对光线的吸收系数；s为触控电极2表面对光线的散射系数；f(R)为触控电极2表面对光线的反射率。从公式(1)中可以看出，触控电极2表面对光线的散射系数越大，则触控电极2表面对光线的反射率越小。由于触控电极2表面的粗糙度越高，则触控电极2表面对光线的散射系数越高，即触控电极2表面的散射系数会随着触控电极2表面粗糙度的增加而增加，所以触控电极2表面的粗糙度越高，则其对光线的反射率越小。因此，通过使触控电极2的表面变得粗糙，能够使照射到其上的光线发生散射，从而减少触控电极2表面对光线的反射，进而提高采用该触控面板的显示面板的显示亮度。
另外，光线处理结构3的材料与触控电极2的材料相同，触控电极2表面凸起部31的设置，不仅增加了触控电极2表面的粗糙度，而且还增加了触控电极2的表面的面积，根据公式(2)：Ω＝ρ(L/A)；其中，Ω为触控电极2的电阻；ρ为电阻率；L为触控电极2的长度；A为触控电极2表面的面积。随着触控电极2表面的面积的增加，触控电极2的电阻减小。同时，根据公式(3)：C＝ε(A/d)；其中，C为触控电极2的电容；ε为介电常数；A为触控电极2表面的面积；d为触控电极2的厚度。随着触控电极2表面的面积的增加，触控电极2的电容增大。触控电极2的电阻减小且电容增大，能够提升触控电极2的触控感应特性，从而提升触控面板的电学特性和触控性能。
需要说明的是，凸起部31也可以采用与触控电极2不同的材料制成，如触控电极2采用金属材料制成，凸起部31采用氧化铟锡、其他金属材料或碳制成，这些材料的凸起部31同样能够起到使照射到其上的光线发生散射，以减少触控电极2表面对光线的反射的作用。
本实施例中，凸起部31的沿垂直于触控电极2表面的截面形状为三角形。
需要说明的是，凸起部31的沿垂直于触控电极2表面的截面形状也可以为矩形、梯形、半圆形、半椭圆形或规则或不规则多边形等其他的任意形状。只要能确保使触控电极2的表面变得粗糙，使照射到其上的光线发生散射即可，对凸起部31的具体形状不做限定。
本实施例中，触控电极2的表面为位于触控面板出光侧4的触控电极2表面。在触控面板出光侧4的触控电极2表面设置凸起部31，能使触控面板出光侧4的触控电极2表面变得粗糙，从而使照射到其上的光线发生散射，进而减少了触控面板出光侧4的触控电极2表面对光线的反射，最终提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
本实施例中，如图2所示，触控电极2的分布形状为网格状；触控电极2的材料包括金属材料。当然，触控电极2的分布形状也可以是其它的形状，触控电极2的材料也可以是透明导电材料，如氧化铟锡材料等。
基于触控面板的上述结构，本实施例中还提供一种该触控面板的制备方法，包括在基底1上形成触控电极2，形成触控电极2包括：在触控电极2的表面形成光线处理结构3，光线处理结构3能使照射到其上的光线发生散射，以减少触控电极2表面对光线的反射。
本实施例中，在触控电极2的表面形成光线处理结构3包括：在采用构图工艺形成触控电极2时，在刻蚀过程中对触控电极2的表面进行刻蚀处理，以在触控电极2的表面形成光线处理结构3。即在采用构图工艺(包括膜层沉积、曝光、显影和刻蚀等步骤)形成触控电极2时，在刻蚀过程中直接对触控电极2的表面进行刻蚀处理，以使触控电极2表面形成凸起部31。
需要说明的是，在触控电极2的表面形成光线处理结构3还可以通过以下方法，即首先通过打印法形成具有光线处理结构3的膜层，然后将该具有光线处理结构3的膜层压印到触控电极2的表面。即首先采用打印的方法并采用形成触控电极2的材料形成具有凸起部31的薄膜，然后将该薄膜压印到触控电极2表面，以使触控电极2的表面变得粗糙。
实施例2：
本实施例提供一种触控面板，与实施例1不同的是，如图3所示，触控电极2的表面为位于触控面板出光侧4和入光侧5的触控电极2表面。即触控面板的出光侧4和入光侧5的触控电极2表面均设置有光线处理结构3(即多个凸起部31)。
触控面板入光侧5的触控电极2表面凸起部31的设置能使触控面板入光侧5的触控电极2表面变得粗糙，从而使照射到触控面板入光侧5的触控电极2表面的光线发生散射，减少了触控电极2该侧表面对光线的反射，进而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
本实施例中触控面板的其他结构以及触控面板的制备方法均与实施例1中相同，此处不再赘述。
实施例1-2的有益效果：实施例1-2所提供的触控面板，通过设置光线处理结构，能够使照射到触控电极表面的光线发生散射，以减少触控电极表面对光线的反射，从而提升了采用该触控面板的显示面板的显示亮度，进而降低了采用该触控面板的显示面板在户外使用时的亮度下降程度。
实施例3：
本实施例提供一种显示面板，包括实施例1-2任意一个中的触控面板。
该显示面板为有机电致发光面板或液晶面板。
通过采用实施例1-2任意一个中的触控面板，提升了该显示面板的显示亮度，特别是提升了该显示面板在户外显示时的显示亮度，从而提高了该显示面板的显示效果。
实施例4：
本实施例提供一种显示装置，包括实施例3中的显示面板，通过采用实施例3中的显示面板，提升了该显示装置的显示效果。
本发明所提供的显示装置可以为，OLED面板、OLED电视、液晶面板、液晶电视、显示器、手机、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种触控面板，包括基底和设置在所述基底上的触控电极，其特征在于，在所述触控电极的表面设置有光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述光线处理结构包括多个凸起部，多个所述凸起部均匀分布于所述触控电极的表面。
3.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，任意相邻两个所述凸起部之间的间距范围为1nm～1μm。
4.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凸起部的沿垂直于所述触控电极表面的截面形状包括三角形、矩形、梯形、半圆形、半椭圆形或规则或不规则多边形。
5.根据权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凸起部的材料包括氧化铟锡、金属材料或碳。
6.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧的所述触控电极表面；
或者，所述触控电极的表面为位于所述触控面板出光侧和入光侧的所述触控电极表面。
7.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述触控电极的分布形状为网格状；所述触控电极的材料包括金属材料，所述光线处理结构的材料与所述触控电极的材料相同。
8.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-7任意一项所述的触控面板。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为有机电致发光面板或液晶面板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8-9任意一项所述的显示面板。
11.一种触控面板的制备方法，包括在基底上形成触控电极，其特征在于，所述形成触控电极包括：在所述触控电极的表面形成光线处理结构，所述光线处理结构能使照射到其上的光线发生散射，以减少所述触控电极表面对光线的反射。
12.根据权利要求11所述的触控面板的制备方法，其特征在于，所述在所述触控电极的表面形成光线处理结构包括：
在采用构图工艺形成所述触控电极时，在刻蚀过程中对所述触控电极的表面进行刻蚀处理，以在所述触控电极的表面形成所述光线处理结构；
或者，首先通过打印法形成具有所述光线处理结构的膜层，然后将该具有所述光线处理结构的膜层压印到所述触控电极的表面。
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