JP7026785B2 - 高強度指紋防止ガラス、その製造方法、高強度指紋防止ガラスの外装部品およびその製造方法 - Google Patents
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Description
白ガラス原料を取得するステップであって、白ガラス原料は、互いに対向して設けられた第1の表面および第2の表面を含む、ステップ、および光化学エッチング(photochemical etching)法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成し、2D高強度指紋防止ガラスを得るステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に白ガラス原料を2.5D形状へ処理するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成し、2.5D高強度指紋防止ガラスを取得するステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に白ガラス原料を3D形状へ処理するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、もしくは、最初に光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いでマイクロテクスチャ構造を有する白ガラス原料を3D形状へと処理して、3D高強度指紋防止ガラスを取得するステップ、
ここで、マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、第1の表面または第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、マイクロテクスチャユニットとマイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲であり、
光化学エッチング法の具体的な操作は、以下の通りである。エッチングされる白ガラス原料を洗浄するステップ、白ガラス原料を乾燥させた後、白ガラス原料をフォトレジストの層で被覆するステップ、露光および現像後にエッチングされる領域を外部へ露出させるステップ、および白ガラス原料をエッチング溶液の中へ置くステップ、および白ガラス原料が2から10秒の間エッチングされた後、白ガラス原料を取り出し、膜を除去してマイクロテクスチャ構造を得るステップであり、エッチング溶液は、フッ化水素および/または別の弱酸性物質を含む。エッチングされる領域は、エッチングの間にエッチング溶液と接触し、分解および腐食効果を達成して、凹凸または中空の効果を形成し、例えば、エッチングは、様々なパターン、設計、規模および格子を形成するために実施される。
白ガラス原料を取得するステップであって、白ガラス原料は互いに対向して設けられる第1の表面および第2の表面を含む、ステップ、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を切断およびCNC(コンピュータ数値制御、Computer numerical control)処理を実施するステップ、次いで光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、CNC処理は、ガラスを2D形状のままにするか、または2.5D形状に形成することを可能にしている、または
白ガラス原料を取得するステップ、切断、CNC、熱間曲げおよび研磨処理を連続して実行することにより、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を処理するステップ、光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、3D形状は熱間曲げ処理において形成される、または
白ガラス原料を取得するステップ、切断の後、光化学エッチング法を使用することにより、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、CNCおよび熱間曲げを連続して実施することにより、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を処理するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を取得ステップとを含み、3D形状は熱間曲げ処理において形成される、
ここで、マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、第1の表面または第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、マイクロテクスチャユニットとマイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲である。
互いに対向して設けられる第1の表面および第2の表面を含む白ガラス原料を取得するステップ、および光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成し、2D高強度指紋防止ガラスを得るステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に白ガラス原料を2.5D形状へと加工するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施してマイクロテクスチャ構造を形成し、2.5D高強度指紋防止ガラスを得るステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に白ガラス原料を3D形状へと加工するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、または、最初に光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いでマイクロテクスチャ構造を有する白ガラス原料を3D形状へと加工し、3D高強度指紋防止ガラスを得るステップ、
ここで、マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、第1の表面または第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、マイクロテクスチャユニットとマイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲である。
白ガラス原料を取得するステップであって、白ガラス原料は、互いに対向して設けられる第1の表面および第2の表面を含むステップ、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を切断およびCNC加工を実施するステップ、次いで光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、CNC処理は、ガラスを2D形状のままにするか、もしくは2.5D形状を形成することを可能にする、または
白ガラス原料を取得するステップ、切断、CNC、熱間曲げおよび研磨処理を連続して実施することにより、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を処理するステップ、光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、3D形状は熱間曲げ処理において形成されるか、または
白ガラス原料を取得するステップと、切断後、光化学エッチング法を使用して、白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、CNCおよび熱間曲げを連続して実施することにより、外装部品の設計要件を満たすように白ガラス原料を処理するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、3D形状は熱間曲げ処理において形成される、ここで
マイクロテクスチャ構造は複数のマイクロテクスチャユニットを含み、第1の表面または第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、マイクロテクスチャユニットとマイクロテクスチャユニットが配置される表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲であり、
光化学エッチング法の具体的な操作は、以下のとおりである:エッチングされる白ガラス原料を洗浄するステップ、白ガラス原料を乾燥した後、白ガラス原料をフォトレジスト層で被覆するステップ、露光および現像後、エッチングされる領域を外側に露出させるステップ、白ガラス原料をエッチング溶液に置くステップ、および白ガラス原料が2から10秒の間エッチングされた後、白ガラス原料を取り出し、膜を除去して、マイクロテクスチャ構造を得るステップを含み、エッチング溶液はフッ化水素および/または別の弱酸物質を含む。エッチングされる領域は、エッチング時にエッチング溶液と接触し、分解および腐食効果を達成して、凹凸または中空効果を形成し、例えば、エッチングは、様々なパターン、設計、規模および格子を形成する。任意選択で、エッチング時間は2から4秒または5から8秒である。エッチング溶液内のフッ化水素の質量濃度は、20%から40%、または30%から40%さえも、または25%から35%である。
携帯電話の高強度指紋防止ガラスの背面カバーは、携帯電話の背面カバーマトリクス(2.5Dガラス)を含む。携帯電話の背面カバーマトリクスは、互いに対向して設けられる第1の表面および第2の表面を含み、マイクロテクスチャ構造が第1の表面上に設けられ、指紋防止保護フィルムがさらに配置される。この実施形態では、第1の表面は、ユーザが直接接触することができ、および携帯電話の外側に面する側面である。マイクロテクスチャ構造は、複数の半球状の突起を含む。
(1)0.51mmの厚さを有する白ガラス板を取得し、設計サイズに基づいて白ガラス板を切断し、白ガラス板上でCNCおよび研磨を実施して、白ガラス板が携帯電話の背面カバーの設計要件を満たすことを可能にし、2.5D形状を形成するステップ、
(2)白ガラスであり、携帯電話の背面カバーとして予め設定されている外面(携帯電話の外側に向いた面)側の表面上にフォトレジストを被覆し、露光、現像を実施するステップ、
(3)エッチングされる領域の保護膜を除去するステップ、エッチングされる領域を外側に露出させるステップ、2から10秒間のエッチングのために白ガラスをエッチング溶液に置いて、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、およびエッチングが完了した後、白ガラスを取り出し、膜を除去し、白ガラスを洗浄するステップ、ここでエッチング溶液は質量含有率30%のフッ化水素を含む、並びに
(4)最後に、マイクロテクスチャ構造を有する表面上に指紋防止被覆を施して指紋防止保護膜を形成し、携帯電話の2.5Dガラス背面カバーを得る。
携帯電話の高強度指紋防止ガラス背面カバーは、携帯電話の背面カバーマトリクス(2.5Dガラス)を含み、携帯電話の背面カバーマトリクスは、互いに対向して設けられる第1の表面および第2の表面を含む。マイクロテクスチャ構造は第1の表面上に設けられ、指紋防止保護膜がさらに配置される。この実施形態では、第1の表面は、ユーザが直接接触することができ、携帯電話の外側に面する側面である。マイクロテクスチャ構造は、複数の方形状の突起を含む。
携帯電話の高強度指紋防止ガラス背面カバーが提供される。背面カバーと実施形態1のものとの唯一の違いは、携帯電話の背面カバーマトリクスが3Dガラスであることである。
(1)0.51mmの厚さを有する白ガラス板を取得し、設計サイズに基づいて白ガラス板を切断し、白ガラス板上でCNCおよび研磨を実施して、白ガラス板が携帯電話の背面カバーの設計要件を満たすことができるようにするステップ、
(2)ガラスの熱間曲げ補正サイズに基づいてCNC切削を実施し、3Dガラス熱間曲げ機を用いて熱間曲げを実施し、3D形状を形成するステップ、
(3)熱間曲げを介して得られたガラスに両面研磨を実施し、次いで携帯電話の背面カバーの外面(携帯電話の外側に向かう面)側の表面上にフォトレジストを被覆して、露光および現像を実施するステップ、
(4)エッチングされる領域の保護膜を除去するステップ、エッチングされる領域を外部に露出させるステップ、4秒間のエッチングのために白ガラスをエッチング溶液の中に置いてマイクロテクスチャ構造を形成するステップ、およびエッチングが完了した後、白ガラスを取り出し、膜を除去し、白ガラスを洗浄するステップを含み、エッチング溶液は質量含有率30%のフッ化水素を含み、並びに
(5)最後に、マイクロテクスチャ構造を有する表面上に指紋防止被覆を施して、携帯電話の3Dガラス背面カバーを得るステップ。
本発明の実施形態における技術的解決策によりもたらされる有益な効果に対する強力なサポートを提供するために、以下の性能試験が以下のように特別に提供される。
2 半球状の突起
10 タッチスクリーンカバー
11 中間平面領域
12 弧状縁部領域
Claims (13)
- ガラス原料を含む、高強度指紋防止ガラスであって、前記ガラス原料は、互いに対向して設けられた第1の表面および第2の表面を含み、前記第1の表面または前記第2の表面の少なくとも一方は、マイクロテクスチャ構造が設けられており、前記マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、前記第1の表面または前記第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2(0.0004mm2および0.0144mm2を含む)の範囲であり、前記マイクロテクスチャユニットと前記マイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は、2μmから7μmの範囲であり、前記第1の表面および前記第2の表面の少なくとも一方の局所領域または全領域は、テクスチャ勾配領域として設定されている、高強度指紋防止ガラス。
- 任意の2つの隣接するマイクロテクスチャユニット間の間隔は、0.02mmから0.2mmである、請求項1に記載の高強度指紋防止ガラス。
- 前記複数のマイクロテクスチャユニットは、前記ガラス原料上に規則的または不規則に配置されている、請求項1または2に記載の高強度指紋防止ガラス。
- 前記マイクロテクスチャユニットは、幾何学的または非幾何学的形状の溝または突起である、請求項1から3のいずれか一項に記載の高強度指紋防止ガラス。
- 前記複数のマイクロテクスチャユニットは、同じ形状であり、前記第1の表面または前記第2の表面上に同じ正投影領域を有しており、前記ガラス原料上にアレイ状に配置される、請求項1から4のいずれか一項に記載の高強度指紋防止ガラス。
- 前記高強度指紋防止ガラスの厚さは、0.5mmから0.7mmであり、耐衝撃強度は、0.5ジュール/m2から1.25ジュール/m2である、請求項1から5のいずれか一項に記載の高強度指紋防止ガラス。
- 前記高強度指紋防止ガラスは、2Dガラス、2.5Dガラスまたは3Dガラスである、請求項1から6のいずれかに記載の高強度指紋防止ガラス。
- 以下のステップを含む、高強度指紋防止ガラスを製造する方法であって、
白ガラス原料を取得するステップであって、前記白ガラス原料は、互いに対向して設けられた第1の表面および第2の表面を含む、ステップ、および光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の前記第1の表面および前記第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成し、2D高強度指紋防止ガラスを得るステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に前記白ガラス原料を2.5D形状へ加工するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成し、2.5D高強度指紋防止ガラスを取得するステップ、または
白ガラス原料を取得するステップ、最初に前記白ガラス原料を3D形状へ加工するステップ、および次いで光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、もしくは、最初に光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで前記マイクロテクスチャ構造を有する前記白ガラス原料を3D形状へ加工して、3D高強度指紋防止ガラスを取得するステップ、
ここで、前記マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、前記第1の表面または前記第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、前記マイクロテクスチャユニットと前記マイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲であり、
前記第1の表面および前記第2の表面の少なくとも一方の局所領域または全領域は、テクスチャ勾配領域として設定されている、高強度指紋防止ガラスを製造する方法。 - 前記光化学エッチング法の具体的な操作は、エッチングされる白ガラス原料を洗浄するステップ、前記白ガラス原料を乾燥させた後、前記白ガラス原料をフォトレジストの層で被覆するステップ、露光および現像後にエッチングされる領域を外側へ露出させるステップ、前記白ガラス原料をエッチング溶液の中へ置くステップ、および前記白ガラス原料が2から10秒の間エッチングされた後、前記白ガラス原料を取り出し、膜を除去して、マイクロテクスチャ構造を得るステップであり、前記エッチング溶液は、フッ化水素および/または別の弱酸性物質を含む、請求項8に記載の高強度指紋防止ガラスを製造する方法。
- 高強度指紋防止ガラスの外装部品であって、ガラス外装部品マトリクスおよび前記ガラス外装部品マトリクスの表面上に配置された指紋防止保護膜を含み、前記ガラス外装部品マトリクスは、請求項1から7のいずれか一項に記載の高強度指紋防止ガラスで作られる、高強度指紋防止ガラスの外装部品。
- 前記ガラス外装部品マトリクスは、端子ハウジング、端子カバー、キー、タッチスクリーン、メーターガラス、またはカメラ保護カバーを含む、請求項10に記載の高強度指紋防止ガラスの外装部品。
- 前記ガラス外装部品マトリクスは、互いに対向して設けられた第1の表面および第2の表面を含み、前記第1の表面および第2の表面の少なくとも一方の縁部領域はテクスチャ勾配領域として設定され、前記テクスチャ勾配領域の幅は2mmから10mmであり、前記テクスチャ勾配領域における内周から外周へ、前記第1の表面または前記第2の表面上のマイクロテクスチャユニットの正投影領域は徐々に減少し、2つの隣接するマイクロテクスチャユニット間の間隔は徐々に増大する、請求項10または11に記載の高強度指紋防止ガラスの外装部品。
- 以下のステップを含む、高強度指紋防止ガラスの外装部品を製造する方法であって、
白ガラス原料を取得するステップであって、前記白ガラス原料は互いに対向して設けられた第1の表面および第2の表面を含む、ステップ、外装部品の設計要件を満たすように前記白ガラス原料を切断およびCNC処理を実施するステップ、次いで光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の前記第1の表面および前記第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、前記高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、CNC処理は、前記ガラスを2D形状のままにするか、または2.5D形状に形成することを可能にしている、または
白ガラス原料を取得するステップ、切断、CNC、熱間曲げおよび研磨処理を連続して実行することにより、外装部品の設計要件を満たすように前記白ガラス原料を処理するステップ、光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、および次いで指紋防止被覆を施して、前記高強度指紋防止ガラスの外装部品を得るステップを含み、3D形状は前記熱間曲げ処理において形成される、または
白ガラス原料を取得するステップ、光化学エッチング法を使用することにより、前記白ガラス原料の第1の表面および第2の表面の少なくとも一方でエッチングを実施して、マイクロテクスチャ構造を形成するステップ、CNCおよび熱間曲げを連続して実施することにより、外装部品の設計要件を満たすように前記白ガラス原料を処理するステップ、および次いで前記指紋防止被覆を施して、前記高強度指紋防止ガラスの前記外装部品を得るステップを含み、3D形状は前記熱間曲げ処理において形成され、
ここで、前記マイクロテクスチャ構造は、複数のマイクロテクスチャユニットを含み、前記第1の表面または前記第2の表面上の各マイクロテクスチャユニットの正投影領域は、0.0004mm2から0.0144mm2の範囲であり、前記マイクロテクスチャユニットと前記マイクロテクスチャユニットが配置されている表面との間の最大距離は2μmから7μmの範囲であり、
前記第1の表面および前記第2の表面の少なくとも一方の局所領域または全領域は、テクスチャ勾配領域として設定されている、方法。
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