CN113772956B - 一种防眩光玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种防眩光玻璃的制备方法，包括以下步骤：对玻璃基材一侧进行防眩光处理，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻；退镀光阻剂，清洗，即得。本申请还提供一种防眩光玻璃。本申请提供的防眩光玻璃及其制备方法，不仅具有雾面效果，能够防炫光，同时还具有一定的表面凹凸感，形成平滑磨砂触感，可以改善用户体验，提升AG玻璃产品市场竞争力。
Description
技术领域
本申请涉及玻璃技术领域，特别是涉及一种防眩光玻璃及其制备方法。
背景技术
AG玻璃(Anti-Glare Glass)，又称为防眩光玻璃，其特点是使原玻璃反光表面变为哑光漫反射表面。可使反光影响模糊，防止眩光，减少光影。
因AG玻璃具有良好的抗划伤、防眩晕效果，在汽车玻璃、手机盖板行业内得到广泛的运用。其中，手机玻璃盖板行业，因客户和市场需求，AG效果产品呈多样化发展，如普通AG、雪花AG、闪点AG、AG纹理等。
制备AG玻璃，常用的方法包括物理喷砂工艺、化学蚀刻工艺等。其中，物理喷砂工艺均匀度佳，无环境废水污染问题，但由于喷砂不破坏玻璃表面层，因此喷砂工艺制得的AG玻璃没有晶型颗粒，耐候性差，耐磨性差，易出现涂层脱落及脂溶现象而导致花屏问题，并且产能低、生产成本高，噪音大。而化学蚀刻工艺，是用化学反应将玻璃表面由光滑面变成微米级颗粒表面，其工艺原理是电离平衡、化学反应及溶解和再结晶、离子置换等多种反应共同作用的结果，蚀刻工艺制备的AG玻璃表面有晶型颗粒，不存在脱落问题，耐候性好。
但即使采用化学蚀刻工艺，所制得的AG玻璃，其表面虽然具有凹凸不平的细微颗粒感，但其磨砂触感和用户体验都有待提高。
发明内容
为解决上述技术问题，本发明的第一个目的为提供一种防眩光玻璃的制备方法；本发明的第二个目的为提供一种使用上述制备方法制得的防眩光玻璃；本申请提供的防眩光玻璃及其制备方法，不仅具有雾面效果，能够防炫光，同时还具有一定的表面凹凸感，形成平滑磨砂触感，可以改善用户体验，提升AG玻璃产品市场竞争力。
本发明提供的技术方案如下：
一种防眩光玻璃的制备方法，包括以下步骤：
对玻璃基材一侧进行防眩光处理，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；
对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；
对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻；
退镀光阻剂，清洗，即得。
优选地，所述玻璃基材经防眩光处理后，粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％；
对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻时，蚀刻深度1＜H≤2C。
优选地，对玻璃基材一侧进行防眩光处理，具体包括以下步骤：
在玻璃基材一侧形成保护油墨层；
第一超声清洗；
对玻璃基材远离保护油墨层的一侧，利用AG药剂进行蒙砂处理，然后使用氢氟酸进行化学抛光处理；
第二超声清洗。
优选地，所述AG药剂具体为电子蚀刻粉，蒙砂处理的时间为60-90s，蒙砂处理的温度为28-32℃；
化学抛光所用的氢氟酸的质量百分浓度为3-6％，化学抛光处理的时间为2-6min，化学抛光处理温度为28-32℃。
优选地，所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂所形成的图案为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um。
优选地，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂具体为：光阻剂使用感光油墨，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧形成感光油墨层，然后利用具有图案的光罩，对感光油墨层进行曝光、显影，使玻璃基材表面保留的感光油墨形成图案。
优选地，所述感光油墨层的厚度为5-15μm；和/或，
所述曝光步骤用紫外光曝光油墨，曝光能量UVA≥50mw/cm2，时间1-3s和/或，
使用碳酸钠显影液进行显影，所述碳酸钠显影液的电导率为12±0.5ms/cm，显影时间为40-80s。
优选地，使用氢氟酸对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，氢氟酸的质量百分浓度为3-4％，蚀刻的温度为28-32℃，蚀刻的时间为4-8min。
优选地，使用碱性退镀液退镀光阻剂，退镀的温度为65-75℃，退镀的时间为20-40min。
使用上述任一项所述的制备方法制得的防眩光玻璃。
本申请提供一种防眩光玻璃的制备方法，对玻璃基材先进行防眩光处理，然后利用黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂，再进行蚀刻，退镀光阻剂后所得的防眩光玻璃，不仅具有雾面效果，能够防炫光，同时还具有一定的表面凹凸感，形成平滑磨砂触感，可以改善用户体验，提升AG玻璃产品市场竞争力。
本申请提供的防眩光玻璃的制备方法，所制得的防眩光玻璃，尤其适合制备手机后盖。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明防眩光例2中对玻璃基材一侧进行防眩光处理后，玻璃基材的微观图，经粗糙度测试仪测得粗糙度为295nm，雾度为41％；
图2为本发明实施例中光罩图案示意图；
图3为本发明实施例中碳酸钠显影液处理后，在感光油墨层上显影出的无规则磨砂外观形貌图；
图4为本发明防眩光例2与蚀刻例2结合所制得的防眩光玻璃外观形貌图；
图5为本发明防眩光例2与蚀刻例2结合所制得的防眩光玻璃的微观图，放大倍数为5X，粗糙度测试仪测得粗糙度为4000nm，雾度为75％。
具体实施方式
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上，它可以直接在另一个元件上或者间接设置在另一个元件上；当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至另一个元件上。
需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”、“若干个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
须知，本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本申请可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本申请所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本申请所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。
本申请实施例采用递进的方式撰写。
请如图1至图5所示，本发明实施例提供一种防眩光玻璃的制备方法，包括以下步骤：
对玻璃基材一侧进行防眩光处理，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；
对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；
对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻；
退镀光阻剂，清洗，即得。
本申请提供一种防眩光玻璃的制备方法，对玻璃基材先进行防眩光处理，然后利用黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂，再进行蚀刻，退镀光阻剂后所得的防眩光玻璃，不仅具有雾面效果，能够防炫光，同时还具有一定的表面凹凸感，形成平滑磨砂触感，可以改善用户体验，提升AG玻璃产品市场竞争力。
本申请所用的玻璃基材优选为AG基材，更优选AG基材由铝硅玻璃经AG处理得到。AG基材具有雾面圆滑颗粒效果，相较于使用未经AG处理的白玻璃，所制得的防眩光玻璃具有更好的平滑磨砂触感。
优选地，所述玻璃基材经防眩光处理后，粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％；
对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻时，蚀刻深度1＜H≤2C。
优选地，本申请提供的制备方法，经防眩光处理后，粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％，然后在对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻时，蚀刻深度(H值)范围是1＜H≤2C，使得最终制得的防眩光玻璃，平滑磨砂触感明显。C为本领域常用的长度单位，1C＝10um。
本申请提供的防眩光玻璃的制备方法，所制得的防眩光玻璃，尤其适合制备手机后盖。
优选地，对玻璃基材一侧进行防眩光处理，具体包括以下步骤：
在玻璃基材一侧形成保护油墨层；
第一超声清洗；
对玻璃基材远离保护油墨层的一侧，利用AG药剂进行蒙砂处理，然后使用氢氟酸进行化学抛光处理；
第二超声清洗。
优选地，所述AG药剂具体为电子蚀刻粉，蒙砂处理的时间为60-90s，蒙砂处理的温度为28-32℃；
化学抛光所用的氢氟酸的质量百分浓度为3-6％，化学抛光处理的时间为2-6min，化学抛光处理温度为28-32℃。
对玻璃基材一侧进行防眩光处理的具体步骤包括形成保护油墨层、第一超声清洗、AG药剂蒙砂处理和氢氟酸化学抛光处理，以及第二超声清洗。
其中，AG药剂具体为电子蚀刻粉，蒙砂处理的时间为60-90s，蒙砂处理的温度为28-32℃；然后再使用氢氟酸进行化学抛光，氢氟酸的质量百分浓度为3-6％，化学抛光处理的时间为2-6min，化学抛光处理温度为28-32℃，使得最终玻璃基材的粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％，与后续蚀刻工艺相结合，可以保证最终制得的防眩光玻璃具有平滑磨砂触感。
本申请所用的电子蚀刻粉为本领域常规的电子蚀刻粉，对牌号无具体要求。
保护油墨可以保护玻璃基材不需要进行防眩光处理的一侧，使其保持表面的平滑度，避免被电子蚀刻粉等破坏。本申请所用的保护油墨为本领域常规的保护油墨，对牌号无具体要求。
其中，电子蚀刻粉的粗糙度优选为100-600nm。
其中，第一超声清洗、第二超声清洗，都优选使用中性清洗剂，质量百分浓度优选为4-5％，清洗时间优选为60-120s，清洗温度优选为60-70℃。其中，第一超声清洗可以有效清洁玻璃基材表面，配合保护油墨的操作，提升AG工艺良率。第二超声清洗则有效清洁玻璃表面，增加喷涂过程中感光油墨的附着力，提升黄光工序(即曝光、显影的工序)的产品良率。
本申请提供的制备方法中，最后的清洗步骤优选也采用超声清洗。
超声清洗优选使用九槽超声清洗设备进行。
保护油墨层优选使用喷涂、固烤的方式形成。在玻璃基材的一侧喷涂保护油墨后，擦拭干净另一侧的保护油墨，然后在温度160-180℃/时间30-60min固烤，即形成保护油墨层。
本申请提供的制备方法，通过改变蒙砂处理的粗糙度，以及化学抛光的氢氟酸浓度、抛光时间、温度，可以控制所制得的防眩光玻璃的粗糙度和雾度，满足不同要求。
优选地，所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂所形成的图案为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um。
玻璃基材表面涂覆光阻剂后，经曝光、显影，感光的光阻剂显影时被去除或得以保留(根据光阻剂类型不同)，那么感光时使光线透过图案照射在光阻剂上，就可以使最终部分覆盖在玻璃基材表面的光阻剂形成图案。图案优选为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um，则经过曝光、显影、蚀刻后得到的防眩光玻璃表面也会呈现无规则条形无规则分布的图案，体现出磨砂的特性。图案如图2所示。
申请人试验过程中发现，图案长度为50um同时图案间距为50um时，感光油墨曝光显影过程玻璃边缘1-2mm位置图案缺失不具备量产性；而图案长度为300um同时图案间距为300um时，玻璃表面图案凸起线条大，缺失平滑磨砂触感。申请人经过多次实验，最终选定无规则条形图案的长度为50-200um，条形图案间距为100-300um作为光罩。同时，无规则条形图案的宽度没有具体的要求。
本申请提供的制备方法，通过控制防眩光处理后的粗糙度、雾度，以及蚀刻深度，并结合光罩图案的选择，使得制备的防眩光玻璃，既具有AG效果，同时触感又具有平滑磨砂感。
优选地，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂具体为：光阻剂使用感光油墨，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧形成感光油墨层，然后利用具有图案的光罩，对感光油墨层进行曝光、显影，使玻璃基材表面保留的感光油墨形成图案。
本申请使用的光阻剂优选为感光油墨，在曝光、显影过程中仍停留在玻璃基材上，最后经退镀除去，相较于使用光阻油墨。感光油墨光照时油墨固化，显影过程得到保留，而光阻油墨相反，光照射到的光阻油墨显影过程会被去除。市场上光阻油墨价格高于感光油墨，本发明蚀刻过程使用感光油墨和光阻油墨都可以实现，但因AG蒙砂过程光阻油墨易脱落，所以优选采用感光油墨，同时感光油墨耐酸碱性优于光阻油墨。
光阻油墨在显影过程中去除，而感光油墨在显影过程中保留。本申请所指的“对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻”，不论光阻剂是使用感光油墨还是光阻油墨，都是对玻璃基材表面未覆盖光阻剂的部位进行蚀刻。为了获得理想的防眩光玻璃，申请人在选择使用感光油墨或光阻油墨时，需要对应选择合适的光罩。感光油墨和光阻油墨所用的光罩互为负片，从而无论是使用光阻油墨与其配套的光罩，还是使用感光油墨与其配套的光罩，最后蚀刻时，未覆盖光阻剂的部分是申请人所希望暴露的部分。
优选地，所述感光油墨层的厚度为5-15μm；和/或，
所述曝光步骤具体为：用紫外光曝光油墨，曝光能量UVA≥50mw/cm2，时间1-3s；和/或，
使用碳酸钠显影液进行显影，所述碳酸钠显影液的电导率为12±0.5ms/cm，显影时间为40-80s。
本申请提供的制备方法，所形成的感光油墨层，优选厚度为5-15μm。感光油墨厚度小于5um则蚀刻过程出现条形图案断线；感光油墨厚度高于15um则显影过程易出现条形图案断线和牙缺等不良。
感光油墨层优选使用喷涂、固烤的方式形成，优选在160℃左右固烤30min形成感光油墨层。
优选显影采用碳酸钠显影液进行，碳酸钠显影液处理后，在感光油墨层上显影出的无规则磨砂外观形貌如图3所示。
优选地，使用氢氟酸对玻璃基材形成有光罩图案的一侧进行蚀刻，氢氟酸的质量百分浓度为3-4％，蚀刻的温度为28-32℃，蚀刻的时间为4-8min。
优选地，使用碱性退镀液退镀油墨，退镀的温度为65-75℃，退镀的时间为20-40min。退镀时，无论是保护油墨还是感光油墨都同时被退镀液退镀。
优选蚀刻采用氢氟酸进行，然后进行退镀，清洗，得到平滑磨砂触感的防眩光玻璃。
使用上述任一项所述的制备方法制得的防眩光玻璃。
实施例及对比例
一、防眩光处理工艺研究
研究玻璃基材在不同蒙砂和化学抛光条件下处理得到的粗糙度和雾度。
具体步骤如下：
1)在玻璃基材一侧形成保护油墨层；
2)第一超声清洗；使用中性清洗剂，质量百分浓度为4％，清洗时间为120s，清洗温度为65℃；
3)对玻璃基材远离保护油墨层的一侧，利用防眩光工艺药剂电子蚀刻粉进行蒙砂处理，然后使用氢氟酸进行化学抛光处理；
4)第二超声清洗，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；使用中性清洗剂，质量百分浓度为4.5％，清洗时间为120s，清洗温度为65℃；
其中，步骤3)中使用防眩光工艺药剂电子蚀刻粉进行蒙砂处理的时间、温度，以及使用氢氟酸进行化学抛光处理时的氢氟酸浓度、化学抛光时间、化学抛光温度，以及得到的粗糙度和雾度，如表1所示：
表1
二、蚀刻工艺研究
选取靠近粗糙度和雾度中间值的防眩光例2进行蚀刻深度的研究，具体如下：
以防眩光例2制备的玻璃基材，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧形成厚度为10μm的感光油墨层，然后利用光罩，对感光油墨层进行曝光，使用碳酸钠显影液显影，碳酸钠显影液的电导率为12ms/cm，显影时间为60s，形成光罩图案；其中，光罩图案为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um；
对玻璃基材形成有光罩图案的一侧，使用氢氟酸进行蚀刻，以使得所述玻璃基材上未形成所述光罩图案的部分被蚀刻；
使用碱性退镀液退镀油墨，退镀的温度为70℃，退镀的时间为25min，超声清洗。
其中，蚀刻的时间、温度以及氢氟酸浓度如表2所示：
表2
三、防眩光工艺、蚀刻工艺与产品外观及磨砂效果研究
表1和表2分别给出了不同工艺条件，所得的防眩光结果和蚀刻结果之间的关系，但不能给出两者结合后与产品外观及磨砂效果之间的关系。申请人进一步展开研究。选择蚀刻深度不同的蚀刻例1-5，对防眩光例1-5制备的玻璃基材进行处理，得到防眩光(防眩光工艺蒙砂和化学抛光处理)后粗糙度和雾度不同、以及蚀刻深度不同的防眩光玻璃，对其外观和磨砂效果进行检测，如表3所示：
表3
根据表3的结果进行整理，得到表4：
表4
对表4中数据分析如下：
(1)防眩光工艺粗糙度位于250-350nm和蚀刻深度位于1＜H≤2时平滑磨砂触感明显OK；
(2)防眩光工艺粗糙度位于150-250nm和蚀刻深度位于1＜H≤2时，因玻璃表面颗粒小磨砂触感不明显效果NG；
(3)防眩光工艺粗糙度位于250-350nm和蚀刻深度位于0.5＜H≤1时，因蚀刻深度太浅，磨砂触感不明显效果NG；
(4)防眩光工艺粗糙度位于350nm-400nm和蚀刻深度位于1＜H≤2时，因玻璃表面颗粒偏大触感偏粗糙，效果NG；
(5)蚀刻深度大于2C，防眩光工艺磨砂玻璃缺少平滑触感，效果NG；
综合判断，当蚀刻深度小于1C，条形图案蚀刻深度过浅，手触摸图案过于平滑，缺失磨砂触感；蚀刻深度大于2C，条形图案深度过深，产生刮手触感缺失平滑性。当防眩光工艺粗糙度位于100-250nm时，玻璃基材防眩光工艺颗粒过小，基材玻璃表面过滑；防眩光工艺粗糙度位于350nm以上时，玻璃基材表面颗粒大触感粗糙，缺失平滑性。防眩光工艺粗糙度位于250-350nm和蚀刻深度位于1＜H≤2C，平滑磨砂触感良好得到客户认可推广，可以应用于手机后盖新项目。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (8)
1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
对玻璃基材一侧进行防眩光处理，在所述玻璃基材上形成晶型颗粒；
对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂；
对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，所述玻璃基材上未覆盖光阻剂的部分被蚀刻；
退镀光阻剂，清洗，即得；
其中，所述玻璃基材经防眩光处理后，粗糙度为250-350nm，雾度为30-80％；对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻时，蚀刻深度1＜H≤2C；所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂所形成的图案为无规则分布的无规则条形图案，无规则条形图案的长度为50um-200um；条形图案间距为100um-300um。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对玻璃基材一侧进行防眩光处理，具体包括以下步骤：
在玻璃基材一侧形成保护油墨层；
第一超声清洗；
对玻璃基材远离保护油墨层的一侧，利用AG药剂进行蒙砂处理，然后使用氢氟酸进行化学抛光处理；
第二超声清洗。
3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述AG药剂具体为电子蚀刻粉，蒙砂处理的时间为60-90s，蒙砂处理的温度为28-32℃；
化学抛光所用的氢氟酸的质量百分浓度为3-6％，化学抛光处理的时间为2-6min，化学抛光处理温度为28-32℃。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧进行黄光处理，使所述玻璃基材表面部分覆盖光阻剂具体为：光阻剂使用感光油墨，对玻璃基材形成有晶型颗粒的一侧形成感光油墨层，然后利用具有图案的光罩，对感光油墨层进行曝光、显影，使玻璃基材表面保留的感光油墨形成图案。
5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述感光油墨层的厚度为5-15μm；和/或，
所述曝光步骤具体为：用紫外光曝光油墨，曝光能量UVA≥50mw/cm2，时间1-3s；和/或，
使用碳酸钠显影液进行显影，所述碳酸钠显影液的电导率为12±0.5ms/cm，显影时间为40-80s。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，使用氢氟酸对玻璃基材部分覆盖光阻剂的一侧进行蚀刻，氢氟酸的质量百分浓度为3-4％，蚀刻的温度为28-32℃，蚀刻的时间为4-8min。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，使用碱性退镀液退镀光阻剂，退镀的温度为65-75℃，退镀的时间为20-40min。
8.使用权利要求1-7中任一项所述的制备方法制得的防眩光玻璃。
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