CN118108416A - 一种防眩光玻璃及其蚀刻ag工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及防眩光玻璃技术领域，具体为一种防眩光玻璃及其蚀刻AG工艺。该工艺包括以下步骤：1)将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净并覆上保护层；2)将玻璃的锡面保护层去除，并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃的锡面完成蒙砂和化学抛光；3)将玻璃的非锡面上的抗酸保护层去除，再将锡面覆上抗酸保护层；4)将玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃的非锡面进行化学蚀刻；5)将玻璃去除锡面抗酸保护层，清洗后即得到防眩光玻璃。本发明将浮法玻璃锡面做防眩光AG面，分别对玻璃锡面和非锡面进行化学蚀刻抛光，在不影响AG玻璃性能和品质的前提下，有效解决浮法玻璃做AG玻璃时的翘曲和暗影条纹问题，极大提高了生产良率。
Description
技术领域
本发明涉及防眩光玻璃技术领域，具体为一种防眩光玻璃及其蚀刻AG工艺；此玻璃可用于车载、电脑、手机、户外商显等一系列平板显示器盖板玻璃。
背景技术
防眩光(Anti-glare,AG)玻璃是将玻璃表面进行特殊处理后，玻璃表面变为凹凸不平的哑光无反射表面。与普通玻璃相比，AG玻璃的镜面反射小，在光线强烈的环境下，可以降低镜面反射光进入人眼的量，从而达到防眩的目的。因此AG玻璃在降低环境光干扰的同时，又提高了屏幕画面的对比度及可视角度，还能对眼睛起到保护作用。
目前AG玻璃主要通过物理或化学的方式对玻璃进行表面处理，物理方法包括喷砂法和喷涂法，喷涂法耐久性较差，涂层容易脱落，而喷砂法会对玻璃表面产生深入的微裂纹而影响玻璃的强度。化学方法即化学蚀刻法，通过含氟物质将玻璃表面蚀刻出密集的凹凸点，该方法做出的产品在耐久性、强度等方面均表现优秀，将是未来防眩光玻璃生产的主流工艺方法。
目前市场上主流的平板玻璃主要通过浮法工艺和溢流法工艺生产，溢流法工艺生产的平板玻璃外观缺陷少，但产量小并且成本较高，而浮法工艺产量大，生产成本低，但外观品质稍差，锡面与非锡面存在差异。溢流法玻璃做蚀刻防眩光的良率高，但成本也同样很高。而浮法玻璃成本低，但良率也相对较低，影响良率的主要问题为暗影条纹和钢化后翘曲，具体为：若锡面做AG面，由于锡面有渗锡层，化学强化后玻璃向锡面翘曲，使原本向AG面(锡面)的翘曲进一步增大，严重影响后加工生产；而非锡面做AG面，虽然翘曲较小，但防眩光玻璃表面出现数量不等、平行于玻璃拉引方向、贯穿的暗影条纹，严重影响产品外观质量和良率。随着防眩光玻璃的应用领域和市场需求量日益增大，如何提高产品品质的同时降低成本是业界面临的主要问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的至少一种缺陷(不足)，提供一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，该工艺能解决目前浮法玻璃蚀刻AG暗影条纹和翘曲问题导致的良率低问题。
为了实现以上发明目的，本发明的具体技术方案如下：
一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，包括以下步骤：
1)将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净并覆上保护层；
2)将经步骤1)处理后玻璃的锡面保护层去除，并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃的锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)将经步骤2)处理后玻璃的非锡面上的抗酸保护层去除，再将锡面覆上抗酸保护层；
4)将经步骤3)处理后的玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃的非锡面进行化学蚀刻；
5)将经步骤4)处理后的玻璃去除锡面抗酸保护层，清洗后即得到防眩光玻璃。
作为本申请中一种较好的实施方式，所述步骤1)中的玻璃原材为高铝硅浮法玻璃、锂铝硅浮法玻璃，厚度为0.4～5.0mm。
作为本申请中一种较好的实施方式，所述步骤1)中覆上的保护层，锡面覆普通易撕下的PE静电膜，非锡面覆抗酸膜或抗酸油墨的其中一种。
作为本申请中一种较好的实施方式，步骤2)中所述的蚀刻AG玻璃自动生产线，主要由前清洗、蒙砂、化学抛光、后清洗几个部分组成，可做AG玻璃参数为：雾度(H)：2～80％，光泽度(G)：10～130％，粗糙度(Ra)：0.02～1.0μm。
作为本申请中一种较好的实施方式，所述步骤3)中的锡面上的抗酸保护层，可以是抗酸膜和抗酸油墨的其中一种。更优选地，锡面抗酸保护层为抗酸膜。
作为本申请中一种较好的实施方式，所述步骤4)化学抛光生产设备中装填有抛光液，使用的抛光液主要成分由氢氟酸、硫酸、盐酸、硝酸、氟化氢铵、氟化铵中的至少一种的水溶液组成，浓度为0.5～15wt％。
更优选地，化学抛光生产设备中使用的抛光液主要由氢氟酸、硫酸、盐酸至少一种的水溶液组成；抛光液浓度为1～10wt％。
作为本申请中一种较好的实施方式，所述步骤4)中化学蚀刻使玻璃锡面蚀刻减薄厚度为0～50μm；更优选地，化学蚀刻使玻璃锡面蚀刻减薄厚度为2～30μm。
本申请的另外一个发明目的是保护采用以上任一方法或方法步骤的组合得到的防眩光玻璃。
与现有的技术相比，本发明的有益效果是：
本发明将浮法玻璃锡面做防眩光AG面，分别对玻璃锡面和非锡面进行化学蚀刻抛光，在不影响AG玻璃性能和品质的前提下，有效解决浮法玻璃做AG玻璃时的翘曲和暗影条纹问题，极大提高了生产良率。
具体实施方式
以下将结合实施例对本发明的构思及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本发明的目的、特征和效果。下面结合实施例，对本发明作进一步地详细说明，但本发明的实施方式不限于此。
下述实施例中所使用的实验方法如无特殊要求，均为常规方法。
下述实施例中所使用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。
实施例1：
一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，具体过程为：
1)、选取某国产高铝硅平板玻璃为原材，规格：1300*1100*0.55mm，将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净，并将锡面覆普通PE静电膜，非锡面覆抗酸膜；
2)、将经步骤1)处理的玻璃的锡面上的PE保护膜撕下并投入蚀刻AG玻璃自动生产线(现有技术，不赘述)，使玻璃锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)、将经步骤2)处理的玻璃的非锡面上的抗酸膜去除，再将锡面覆抗酸膜；
4)、将经步骤3玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃非锡面进行化学蚀刻(现有技术，不赘述)减薄厚度约30μm；
5)、将经步骤4)处理后的玻璃去除锡面的抗酸膜，清洗后即得到防眩光玻璃。
6)、将步骤5)中得到的防眩光玻璃按542*361mm尺寸裁切成小片，并进行化学强化，强化条件为：100％KNO3，420℃/280min。
实施例2
一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，具体过程为：
1)、选取某国产高铝硅平板玻璃为原材，规格：1300*1100*0.55mm，将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净，并将锡面覆普通PE静电膜，非锡面覆抗酸摸；
2)、将经步骤1)处理后玻璃的锡面上的PE保护膜撕下并投入蚀刻AG玻璃自动生产线(现有技术，不赘述)，使玻璃锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)、将经步骤2)处理后玻璃的非锡面上的抗酸膜去除，再将锡面覆上抗酸膜；
4)、将经步骤3)处理后的玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃非锡面进行化学蚀刻(现有技术，不赘述)，减薄厚度约10μm；
5)、将经步骤4)处理后的玻璃去除锡面上的抗酸膜，清洗后即得到防眩光玻璃。
6)、按542*361mm尺寸将步骤5)中得到的防眩光玻璃裁切成小片，并进行化学强化，强化条件为：100％KNO3，420℃/280min。
对比例1：
一种防眩光玻璃的制备，具体过程为：
1)、选取某国产高铝硅平板玻璃为原材，规格：1300*1100*0.55mm，将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净，并将锡面覆普通PE静电膜，非锡面覆抗酸摸；
2)、将经步骤1)处理后玻璃的锡面上的PE保护膜撕下并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)、将经步骤2)处理后玻璃的非锡面的抗酸膜去除，清洗后即得到防眩光玻璃。
4)、按542*361mm尺寸将步骤3)中得到的防眩光玻璃裁切成小片，并进行化学强化，强化条件为：100％KNO3，420℃/280min。
对比例2
一种防眩光玻璃的制备，具体过程为：
1)、选取某国产高铝硅平板玻璃为原材，规格：1300*1100*0.55mm，将玻璃原材锡面和锡面清洗干净，并将非锡面覆普通PE静电膜，锡面覆抗酸摸；
2)将经步骤1)处理后玻璃非锡面的PE保护膜撕下并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃非锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)、将经步骤2)处理后玻璃锡面的抗酸膜去除，再将非锡面覆抗酸膜；
4)、将经步骤3)处理后的玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃锡面进行化学蚀刻；
5)、将经步骤4)处理后的玻璃去除非锡面抗酸膜，清洗后即得到防眩光玻璃。
6)、按542*361mm尺寸将步骤5)中得到的防眩光玻璃裁切成小片，并进行化学强化，强化条件为：100％KNO3，420℃/280min。
对比例3：
本实施例制备了一种防眩光玻璃，具体过程为：
1)、选取某国产高铝硅平板玻璃为原材，规格：1300*1100*0.55mm，将玻璃原材锡面和2、锡面清洗干净，并将非锡面覆普通PE静电膜，锡面覆抗酸摸；
2)、将经步骤1)处理后的玻璃非锡面的PE保护膜撕下并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃非锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)、将经步骤2)处理后玻璃锡面的抗酸膜去除，清洗后即得到防眩光玻璃。
4)、按542*361mm尺寸将步骤3)中得到的防眩光玻璃裁切成小片，并进行化学强化，强化条件为：100％KNO3，420℃/280min。
将实施例1-2以及对比例1-3中得到的防眩光玻璃进行性能比较，具体结果如下：
表1防眩光玻璃进行性能比较表
通过表1可以看出，本发明中实施例与对比例AG参数与应力参数基本相同，但翘曲与暗影条纹实施例都优于对比例。
以上所述实施例仅表达了本申请的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请技术方案构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。
提供本背景技术部分是为了大体上呈现本发明的上下文，当前所署名的发明人的工作、在本背景技术部分中所描述的程度上的工作以及本部分描述在申请时尚不构成现有技术的方面，既非明示地也非暗示地被承认是本发明的现有技术。
Claims (10)
1.一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于包括以下步骤：
1)将玻璃原材的锡面和非锡面清洗干净并覆上保护层；
2)将经步骤1)处理后玻璃的锡面保护层去除，并投入蚀刻AG玻璃自动生产线，使玻璃的锡面完成蒙砂和化学抛光；
3)将经步骤2)处理后玻璃的非锡面上的抗酸保护层去除，再将锡面覆上抗酸保护层；
4)将经步骤3)处理后的玻璃投入化学抛光生产设备，对玻璃的非锡面进行化学蚀刻；
5)将经步骤4)处理后的玻璃去除锡面抗酸保护层，清洗后即得到防眩光玻璃。
2.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于：步骤1)中所述的玻璃原材为高铝硅浮法玻璃或锂铝硅浮法玻璃，厚度为0.4～5.0mm。
3.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于：所述步骤1)中，锡面覆普通易撕下的PE静电膜；非锡面覆抗酸膜或抗酸油墨中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于，步骤2)中所述的蚀刻AG玻璃自动生产线，主要包括前清洗、蒙砂、化学抛光和后清洗部分；经处理后，AG玻璃参数为：雾度H为2～80％，光泽度G为10～130％，粗糙度Ra为0.02～1.0μm。
5.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于，步骤3)中所述的抗酸保护层为抗酸膜和抗酸油墨中的任意一种。
6.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于，步骤4)所述化学抛光生产设备中装填有抛光液；该抛光液的主要成分由氢氟酸、硫酸、盐酸、硝酸、氟化氢铵、氟化铵中的至少一种的水溶液组成，浓度为0.5～15wt％。
7.根据权利要求1所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于：通过步骤4)中的化学蚀刻，使玻璃锡面蚀刻减薄厚度为0～50μm。
8.根据权利要求6所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于：抛光液主要由氢氟酸、硫酸、盐酸中的至少一种的水溶液组成；抛光液浓度为1～10wt％。
9.根据权利要求7所述的一种防眩光玻璃蚀刻AG工艺，其特征在于：化学蚀刻使玻璃锡面蚀刻减薄厚度为2～30μm。
10.一种防眩光玻璃，采用如权利要求1-9中任一所述防眩光玻璃蚀刻AG工艺制得。
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN118108416A true CN118108416A (zh) | 2024-05-31 |
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