CN115477475A - 具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法 - Google Patents

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李海贤
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
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    • B08B11/00Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto
    • B08B11/04Cleaning flexible or delicate articles by methods or apparatus specially adapted thereto specially adapted for plate glass, e.g. prior to manufacture of windshields
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B1/00Processes of grinding or polishing; Use of auxiliary equipment in connection with such processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

本申请揭示了一种具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法,包括前制程加工;蚀刻,包括按顺序进行的酸洗过程、蒙砂过程以及平抛过程,所述酸洗过程中采用第一酸洗液对所述玻璃基材进行处理,所述蒙砂过程中采用蒙砂液对所述玻璃基材进行处理,所述平抛过程中采用第二酸洗液对所述玻璃基材进行处理;后制程加工;所述蒙砂液中20%至60%的质量为金刚砂。本发明提供的具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法,金刚砂通过硅酸而被粘附于玻璃基材的表面,被金刚砂遮蔽处的玻璃基材表面不会被腐蚀,从而在玻璃基材表面迅速形成起伏不平的结构,达到了雾都效果;在平抛过程中,使用第二酸洗液将玻璃基材表面的金刚砂洗去,也能对玻璃基材进行抛光处理。

Description

具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法
技术领域
本发明涉及玻璃盖板的制备工艺领域,特别涉及一种具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法。
背景技术
电子白板、智能交互平板或会议机等都会具有玻璃盖板。而对于玻璃盖板为了更好的使用效果,需要具有防眩光的效果。采用蒙砂工艺的方法在玻璃盖板的表面形成雾度的效果,或者可以采用附加功能涂层的方法同时产生雾度和顺滑的效果。
采用附加功能涂层的方法具有顺滑度不够,动摩擦系数最高能做到≥0.35;膜层附着力低,耐磨次数≤3000次;AG(防止眩目)光学参数不稳定;手触摸时手感差;高雾度效果制作困难,成本高的问题。采用蒙砂工艺的方法虽然能形成较高的雾度,速度较慢、耗材较多,同时顺滑性能较差。
发明内容
本发明的主要目的为提供一种具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法,旨在解决采用蒙砂工艺的处理玻璃盖板速度较慢、耗材较多,且顺滑性能较差的问题。
为了实现上述目的,本发明提供一种具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,包括:
前制程加工,取玻璃基材并对其进行清洗;
蚀刻,包括按顺序进行的酸洗过程、蒙砂过程以及平抛过程,所述酸洗过程中采用第一酸洗液对所述玻璃基材进行处理,所述蒙砂过程中采用蒙砂液对所述玻璃基材进行处理,所述平抛过程中采用第二酸洗液对所述玻璃基材进行处理;
后制程加工,取所述平抛过程后的所述玻璃基材并对其进行清洗;
其中,所述蒙砂液中20%至60%的质量为金刚砂。
进一步地,所述蚀刻的步骤中,所述蒙砂液由以下质量百分比的原料组成:
Figure BDA0003117596910000021
进一步地,所述蚀刻的步骤中,所述第一酸洗液由以下质量百分比的原料组成:
盐酸和/或硫酸 8%-18%,
氢氟酸 1%-2%,
水 80%-90%。
进一步地,所述蚀刻的步骤中,所述第二酸洗液中包含氢氟酸,且所述氢氟酸占所述第二酸洗液的质量分数为15%-25%。
进一步地,所述前制程加工步骤中取玻璃基材并对其进行清洗之后还包括加工保护油墨于所述玻璃基材的背面的步骤。
进一步地,所述蚀刻步骤与所述后制程加工步骤之间还包括钢化处理。
进一步地,所述后制程加工的步骤之后包括丝印油墨黑边然后烘干的步骤。
进一步地,所述蚀刻的步骤与所述后制程加工的步骤之间还包括机械抛光步骤。
本发明还提供了一种根据上述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法得到的具有雾度且顺滑的玻璃。
本发明提供的具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法,在酸洗过程中以及蒙砂过程中,玻璃基材被氢氟酸腐蚀产生具有粘性的硅酸,蒙砂液中的金刚砂通过硅酸而被粘附于玻璃基材的表面,被金刚砂遮蔽处的玻璃基材表面不会被腐蚀,从而在玻璃基材表面迅速形成起伏不平的结构,达到了雾都效果;在平抛过程中,使用第二酸洗液一方面将玻璃基材表面的金刚砂洗去,一方面能对玻璃基材进行抛光处理。
附图说明
图1是本发明一实施例具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法的过程示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”“上述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本发明的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块和/或组件,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、单元、模块、组件和/或它们的组。应该理解,当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时,它可以直接连接或耦接到其他元件,或者也可以存在中间元件。此外,这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本发明所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
参照图1,本发明一实施例中,一种具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,包括:
S1、前制程加工,取玻璃基材并对其进行清洗;
S2、蚀刻,包括按顺序进行的酸洗过程、蒙砂过程以及平抛过程,所述酸洗过程中采用第一酸洗液对所述玻璃基材进行处理,所述蒙砂过程中采用蒙砂液对所述玻璃基材进行处理,所述平抛过程中采用第二酸洗液对所述玻璃基材进行处理;
S3、后制程加工,取所述平抛过程后的所述玻璃基材并对其进行清洗;
其中,所述蒙砂液中20%至60%的质量为金刚砂。
本实施例提供的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法中,玻璃基材经过一系列工艺后,形成能够用于显示设备、照明设备或结构基材的玻璃面板。根据具体的应用场景,玻璃基材可以是双面或者单面进行上述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法。玻璃基材的形状匹配其具体应用情况而可以是矩形、圆形或者其他的异形形状。
前制程加工的步骤中,上述的玻璃基材可以是裁切于整块玻璃板材然后经过磨边等机械加工获得。对玻璃基材进行清洗,去除颗粒杂质污染以及离子污染等,从而保证玻璃基材的污染不会影响蚀刻的步骤正常进行,也避免玻璃基材的污染被带入蚀刻的步骤中第一酸洗液、蒙砂液以及第一酸洗液。
本实施例中,不同于传统的蒙砂工艺过程,通过氢氟酸与玻璃的反应使得玻璃的表面变得粗糙,将玻璃表面的镜面反射大多都转变为漫反射,从而形成雾度的效果。
在本申请蚀刻的步骤中,酸洗过程除了能实现对玻璃基材的油污等进行进一步清洗;当第一酸洗液包含氢氟酸时,酸洗过程还能对玻璃基材进行一定程度的预腐蚀,由于第一酸洗液不像蒙砂液中的原料组成复杂,其对于玻璃基材的初步腐蚀效果较为均匀,从而利于其后的蒙砂过程的进行。第一酸洗液中氢氟酸的浓度不宜过高,以1%-2%为宜。合适氢氟酸浓度的第一酸洗液能形成均一的预腐蚀效果,从而在后续蒙砂过程中蒙砂液对玻璃基材的腐蚀过程较为高效。需要说明的是,第一酸洗液中氢氟酸的浓度过高时,在酸洗过程中对玻璃基材的预腐蚀的不均匀性会增加,且预腐蚀的程度也会不必要的增加;第一酸洗液中氢氟酸的浓度过低时,对玻璃基材的预腐蚀效果较差。
在蒙砂过程中,蒙砂液中包含氟化物、酸、水以及金刚砂。氟化物为氟化铵、氟氢化钾和氟化钙等中的至少一种,酸为盐酸和硫酸等中的至少一种。上述氟化物与酸形成了腐蚀玻璃基材的功能成份(氢氟酸)。而氢氟酸在腐蚀玻璃基材的过程中产生了具有粘性的硅酸。金刚砂不会被氢氟酸所腐蚀,通过上述硅酸而被粘附于玻璃基材的表面,那么被金刚砂遮蔽处的玻璃基材表面不会被腐蚀,没有被金刚砂遮蔽处的玻璃基材表面则会被腐蚀。那么玻璃基材的表面就能迅速形成起伏不平的结构,也就达到了雾都效果,也具有防眩光的效果。相比于传统的蒙砂过程,对整个玻璃表面进行腐蚀,对整个玻璃表面的平整度进行破坏的方法。本实施例中,在蒙砂液中加入20至60%质量分数含量的金刚砂,金刚砂对玻璃基材表面进行一定程度的遮蔽,不仅能加快产生雾度的速度,而且产生雾度所需的氢氟酸较少。通过生产实践的总结,通过上述金刚砂辅助蚀刻过程能节约80%的腐蚀玻璃基材的原料(氟化物和酸)。值得说明的是,通过调控金刚砂的颗粒度以及金刚砂在蒙砂液中的含量都能方便的调节经过蒙砂过程后玻璃基材的雾度参数。
在平抛过程中,使用第二酸洗液一方面将玻璃基材表面的金刚砂洗去,一方面能对玻璃基材进行抛光处理。通过控制第二酸洗液的冲洗位置、流量以及PH值,可以方便地控制平抛过程中对玻璃基材的抛光深度、抛光速度以及抛光的精细程度。通过对蒙砂过程和平抛过程的时间和强度进行管控,从而得到不同雾度参数、光泽度参数以及鲜映性参数的玻璃基材。
后制程加工的步骤中,对经过蚀刻的步骤处理的玻璃基材进行清洗,去除其上的各种杂质以获得具有雾度且顺滑的玻璃,方便对上述的具有雾度且顺滑的玻璃进行后续的加工工序。
通过本制备方法获得的产品,不是通过附加功能层实现雾度以及顺滑的效果,从而具有优良抗耐磨性;而由于金刚砂的遮蔽处理效果使得顺滑度性能也较为优越好,动摩擦系数可以达到≤0.2;通过对蒙砂过程和平抛过程的时间和强度进行管控,从而得到不同雾度参数、光泽度参数以及鲜映性参数的玻璃基材;表面蚀刻出的颗粒均匀细小,在显示画面下,无闪点。
在一个实施例中,所述蚀刻的步骤中,所述蒙砂液由以下质量百分比的原料组成:
Figure BDA0003117596910000051
在蒙砂过程中,蒙砂液中包含氟化物、酸、水以及金刚砂。氟化物为氟化铵、氟氢化钾和氟化钙中的至少一种,酸为盐酸和硫酸中的至少一种。上述氟化物与酸形成了腐蚀玻璃基材的功能成分。金刚砂起到遮蔽玻璃基材表面的作用。在蒙砂液中加入24%-40%质量分数含量的金刚砂,金刚砂对玻璃基材表面进行一定程度的遮蔽,不仅能加快产生雾度的速度,而且产生雾度所需的氢氟酸较少。通过生产实践的总结,通过上述金刚砂辅助蚀刻过程能节约80%的腐蚀玻璃基材的原料(氟化物和酸)。
在一个实施例中,所述蚀刻的步骤中,所述第一酸洗液由以下质量百分比的原料组成:
盐酸和/或硫酸 8%-18%,
氢氟酸 1%-2%,
水 80%-90%。
第一酸洗液中的酸分为盐酸和/或硫酸部分以及氢氟酸部分,且氢氟酸所占的比例较低。上述氢氟酸的浓度适中能在酸洗过程中形成均一的预腐蚀效果,从而在后续蒙砂液对玻璃基材的腐蚀过程较为高效,蒙砂液中的金刚砂也能很快的遮蔽于玻璃基材的表面。第一酸洗液中的盐酸和/或硫酸部分主要起对玻璃基材的清洗效果,以保证第一酸洗液中的氢氟酸不会被消耗过快。
在一个实施例中,所述蚀刻的步骤中,所述第二酸洗液中包含氢氟酸,且所述氢氟酸占所述第二酸洗液的质量分数为15%-25%。
在本实施例中,氢氟酸的浓度选取高,抛光速度加快,不但有助于形成圆滑、均匀的颗粒而且提升产能,在本方案中也利于将遮蔽于玻璃基板上的金刚砂去除。除了上述的氢氟酸,第二酸洗液中还可以包含一定浓度的盐酸和/或硫酸,氢氟酸主要起到抛光的作用,而氢氟酸之外的酸,可以起到清洗的作用,从而不至于在清洗过程中消耗大量的氢氟酸。
在一个实施例中,所述前制程加工步骤中取玻璃基材并对其进行清洗之后还包括加工保护油墨于所述玻璃基材的背面的步骤。
很多情况下,产品只需要对其正面进行雾度处理。通过上述具有耐酸特性的保护油墨能避免第一酸洗液、蒙砂液以及第一酸洗液对玻璃基材的背面的腐蚀,从而在蚀刻的步骤中,对玻璃基材的处理不用顾虑其背面被腐蚀。保护油墨可以通过丝印的方式加工于玻璃基材的背面。根据产品需要,在蚀刻的步骤之后可以增加一个清洗除去上述保护油墨的工艺过程(如使用有机溶剂清洗)。
在一个实施例中,所述蚀刻步骤与所述后制程加工步骤之间还包括钢化处理。
通过对玻璃基材的温度处理实现钢化效果,使得玻璃基材的强度增加,从而满足最终的产品性能要求。上述钢化处理过程中,将玻璃基材加热到接近软化点的温度,然后快速冷却,从而实现预应力的钢化处理效果。
在一个实施例中,所述后制程加工的步骤之后包括丝印油墨黑边然后烘干的步骤。
对于一些显示设备的盖板玻璃,需要一个油墨黑边。那么在后制程加工的步骤之后加工出油墨黑边以达到产品的出货要求。
在一个实施例中,所述蚀刻的步骤与所述后制程加工的步骤之间还包括机械抛光步骤。
在平抛过程中,由于使用第二酸洗液对玻璃基材进行腐蚀从而实现了快速抛光的效果。然而不管是上述第二酸洗液采用喷淋的方式或者浸没的方式处理玻璃基材,玻璃基材的表面的平整度都具有不达标的可能。在蚀刻的步骤与后制程加工的步骤之间增加一个机械抛光步骤,从而保证玻璃基材的平整度。需要说明的是,在上述的机械抛光步骤中,最好使用抛光毛刷或者较为细腻的打磨轮,从而实现精细抛光的效果。
本发明还提供了一种根据上述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法得到的具有雾度且顺滑的玻璃。
本发明提供的具有雾度且顺滑的玻璃及其制备方法,在酸洗过程中以及蒙砂过程中,玻璃基材被氢氟酸腐蚀产生具有粘性的硅酸,蒙砂液中的金刚砂通过硅酸而被粘附于玻璃基材的表面,被金刚砂遮蔽处的玻璃基材表面不会被腐蚀,从而在玻璃基材表面迅速形成起伏不平的结构,达到了雾都效果;在平抛过程中,使用第二酸洗液一方面将玻璃基材表面的金刚砂洗去,一方面能对玻璃基材进行抛光处理。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,包括:
前制程加工,取玻璃基材并对其进行清洗;
蚀刻,包括按顺序进行的酸洗过程、蒙砂过程以及平抛过程,所述酸洗过程中采用第一酸洗液对所述玻璃基材进行处理,所述蒙砂过程中采用蒙砂液对所述玻璃基材进行处理,所述平抛过程中采用第二酸洗液对所述玻璃基材进行处理;
后制程加工,取所述平抛过程后的所述玻璃基材并对其进行清洗;
其中,所述蒙砂液中20%至60%的质量为金刚砂。
2.根据权利要求1所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述蚀刻的步骤中,所述蒙砂液由以下质量百分比的原料组成:
Figure FDA0003117596900000011
3.根据权利要求2所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述蚀刻的步骤中,所述第一酸洗液由以下质量百分比的原料组成:
盐酸和/或硫酸 8%-18%,
氢氟酸 1%-2%,
水 80%-90%。
4.根据权利要求3所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述蚀刻的步骤中,所述第二酸洗液中包含氢氟酸,且所述氢氟酸占所述第二酸洗液的质量分数为15%-25%。
5.根据权利要求1所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述前制程加工步骤中取玻璃基材并对其进行清洗之后还包括加工保护油墨于所述玻璃基材的背面的步骤。
6.根据权利要求5所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述蚀刻步骤与所述后制程加工步骤之间还包括钢化处理。
7.根据权利要求6所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述后制程加工的步骤之后包括丝印油墨黑边然后烘干的步骤。
8.根据权利要求7所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法,其特征在于,所述蚀刻的步骤与所述后制程加工的步骤之间还包括机械抛光步骤。
9.一种根据权利要求1至8中任意一项所述的具有雾度且顺滑的玻璃的制备方法得到的具有雾度且顺滑的玻璃。
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