CN116119936A - 一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 - Google Patents
一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116119936A CN116119936A CN202211605197.2A CN202211605197A CN116119936A CN 116119936 A CN116119936 A CN 116119936A CN 202211605197 A CN202211605197 A CN 202211605197A CN 116119936 A CN116119936 A CN 116119936A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cover plate
- glass cover
- ink layer
- textured surface
- photosensitive ink
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 102
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 16
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 2
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical compound [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N indole-3-acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CNC2=C1 SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明提出了一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺，所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺包括如下步骤：对玻璃盖板表面进行喷砂处理，得到喷砂处理后的玻璃盖板；在玻璃盖板喷砂处理后的表面形成感光油墨层后，对所述感光油墨层进行曝光显影，在玻璃盖板上形成留有感光油墨层保护的纹理图案，得到具有纹理图案的玻璃盖板；对玻璃盖板具有纹理图案的表面进行AG处理，即得到所述具有纹理化表面的玻璃盖板。本发明提出的一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺，通过先对玻璃盖板进行喷砂处理，再曝光显影，之后进行AG处理，从而获得了一种纹理感更强，外观效果更出众的玻璃盖板。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃加工技术领域，尤其涉及一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺。
背景技术
随着智能手机的热销，玻璃加金属的材质搭配引发了电子产品材质工艺的新趋势。玻璃被广泛应用于电子产品的外壳盖板，玻璃盖板的表面效果也从单纯的单色效果逐步发展为具备精细纹理的特殊效果，大大地丰富和美观了电子产品的外观。
目前，市场上玻璃盖板表面的纹理形成方法主要有三种：一种是用模具高温热压而成的，虽然此法能在玻璃上形成纹理图案，但是所得纹理尺寸公差较大，难以管控纹理的一致性和图案的透明度，因而所得产品档次低且效果差；一种是用纹理化塑料或树脂在玻璃上形成纹理图案，这些纹理化塑料或树脂材料不具有玻璃的耐磨损性，且随着重复使用而磨损；还有一种则是采用蚀刻处理在玻璃上形成纹理图案，在蚀刻前通过对部分区域进行保护，之后再对玻璃进行未保护区域蚀刻，最终形成包括光面区域和蚀刻区域的纹理化表面，这种纹理化表面的效果并不鲜明，纹理呈现效果较差。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺，通过先对玻璃盖板进行喷砂处理，再曝光显影，之后进行AG处理，从而获得了一种纹理感更强，外观效果更出众的玻璃盖板。
本发明提出的一种具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，包括如下步骤：
S1、对玻璃盖板表面进行喷砂处理，得到喷砂处理后的玻璃盖板；
S2、在玻璃盖板喷砂处理后的表面形成感光油墨层后，对所述感光油墨层进行曝光显影，在玻璃盖板上形成留有感光油墨层保护的纹理图案，得到具有纹理图案的玻璃盖板；
S3、对玻璃盖板具有纹理图案的表面进行AG处理，即得到所述具有纹理化表面的玻璃盖板。
本发明中，先对玻璃盖板进行喷砂处理，在玻璃盖板表面形成多个微细的散光凹坑，之后在具有该散光凹坑的玻璃表面形成感光油墨层，曝光显影后，形成留有感光油墨层保护的纹理图案，接着进行AG处理，玻璃盖板上未被感光油墨层保护的区域则被进一步AG蚀刻，而留有感光油墨层保护的纹理图案区域由于被遮蔽则仅被喷砂处理而没有经过AG蚀刻，最终在玻璃盖板上形成纹理化表面，并且该纹理化表面实质上包括仅经过喷砂处理的区域和依次经过喷砂、AG处理的区域；相比于现有技术中通过蚀刻形成纹理化表面的方法中，由于后者的纹理化表面实质上包括的是光面区域和经过蚀刻的区域，前者由于仅经过喷砂处理的区域上具有多个散光凹坑，因此形成了略微模糊的消光表面，而依次经过喷砂、AG处理的区域，由于AG处理是在喷砂后的表面进行，而经过喷砂表面呈现凹凸不平的结构，其相对光面具有多个微结构区域，因此AG处理的效率更高，AG效果也更优异，形成了更加规整且透明的表面，因此与喷砂处理的区域所形成的消光表面对比更加鲜明，即最终形成的纹理化表面纹理感更强，外观效果也更出众。
优选地，步骤S1中，所述喷砂处理的砂为绿碳化硅，其粒度优选为1-30μm。
本发明中，采用绿碳化硅对玻璃盖板表面进行喷砂处理，当喷射到玻璃盖板表面时，不仅有助于形成数千万个微细凹坑，而且保证在后续AG后形成不同粗糙度，确保玻璃的纹理化处理效果。
优选地，步骤S1中，还包括采用酸液对玻璃盖板喷砂处理后的表面进行蚀刻处理；
本发明中，喷砂处理后会对玻璃表面造成微裂纹而降低玻璃强度，因此利用酸液对玻璃盖板喷砂处理后的表面预先进行蚀刻处理，有助于将玻璃表面的微裂纹去除，并将已形成的凹坑表面的粗糙毛刺刻蚀掉，有助于后续AG处理的效果。
优选地，所述酸液包括5-15wt％的氢氟酸、10-20wt％的柠檬酸、0.01-1wt％的含氟表面活性剂以及余量的水。
本发明中，上述组成的酸液不仅对玻璃表面的微裂纹具有较高的蚀刻效率，且对于凹坑表面的粗糙毛刺也形成了一定的打磨效果。
优选地，步骤S2中，所述感光油墨层是将玻璃盖板喷砂处理后的表面涂布感光油墨，再烘烤固化形成；
优选地，所述感光油墨层的厚度为5-20μm，烘烤固化的温度优选为70-120℃，时间为5-15min。
本发明中，如果烘烤温度不足，感光油墨中的溶剂未充分挥发，后续曝光后会形成浮胶或使图形变形；而如果烘烤温度过高则会导致感光油墨层翘曲硬化，形成不易溶于显影液中的感光油墨层。
优选地，步骤S2中，所述曝光的曝光能量为100-500mj/cm2，所述显影的显影液为浓度0.2-3wt％的氢氧化钾或碳酸钠溶液。
优选地，步骤S2中，还包括在玻璃盖板上没有形成感光油墨层的表面形成耐酸油墨层。
优选地，步骤S3中，所述AG处理是将玻璃盖板浸入AG药水中进行蚀刻处理后实现。
优选地，步骤S3中，还包括对AG处理后的玻璃盖板进行褪墨清洗，以去除残留的感光油墨层。
本发明还提出一种具有纹理化表面的玻璃盖板，其是上述制备工艺制备而成。
本发明提出的一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺，通过将物理喷砂和化学AG处理有效结合，不仅可以获得具有良好AG效果的玻璃表面，而且可以在玻璃盖板表面蚀刻出独特的纹理结构，呈现出绚丽的光影立体感和出众的外观效果。
附图说明
图1为本发明实施例所述具有纹理化表面的玻璃盖板的示意图。
具体实施方式
下面，通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明，但是应该明确，提出这些实施例用于举例说明，但是不解释为限制本发明的范围。
实施例
本实施例中提出了一种具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，具体包括如下步骤：
(1)采用涂布机对玻璃盖板无需喷砂处理的表面涂布耐酸油墨，烘烤固化后形成耐酸油墨层；再采用绿碳化硅(粒度为10-20μm)对玻璃盖板待喷砂处理的表面进行喷砂处理，喷砂处理时间为25min；之后将喷砂处理后的玻璃盖板浸入酸液中进行蚀刻处理，酸液包括：10wt％的氢氟酸、15wt％的柠檬酸、0.05wt％的氟辛酸以及余量的水，蚀刻处理的时间为5min；之后将蚀刻处理后的玻璃盖板放入清洗槽中进行清洗，风干后，得到喷砂处理后的玻璃盖板；
(2)采用涂布机对上述玻璃盖板喷砂处理后的表面涂布感光油墨，感光油墨具体可采用环氧丙烯酸酯为主要材料，烘烤固化使感光油墨中的溶剂挥发后形成感光油墨层(厚度为10μm)，烘烤固化的温度为90℃，时间为10min；再采用紫外曝光机对玻璃盖板上的感光油墨层进行曝光，玻璃盖板上的感光油墨层曝光出纹理图案，其中曝光能量为150mj/cm2；之后采用显影液对曝光处理后的玻璃盖板进行显影，溶解掉部分感光油墨层后，使纹理图案显现出来，其中显影液为浓度2wt％的氢氧化钾溶液；再将显影后的玻璃盖板放入清洗槽中进行清洗，去除残存显影液，风干后，得到具有纹理图案的玻璃盖板；
(3)对上述具有纹理图案的玻璃盖板进行AG处理，具体地，将玻璃盖板浸入AG药水中浸泡，玻璃盖板上没有被耐酸油墨层和感光油墨层覆盖的区域被进一步AG处理，其中AG药水具体可包括：25％的氢氟酸铵、15％的草酸、11％的硫酸铵、8wt％的氟硅酸、6％的甘油、3wt％的硫酸钡、2wt％的氟硼酸钠和余量的水，浸泡温度为35℃，浸泡时间为2min；再将AG处理后的玻璃盖板放入清洗槽中进行清洗，去除残存的AG药水；之后将玻璃盖板浸入脱膜液中进行褪墨清洗，去除玻璃盖板上的耐酸油墨层和感光油墨层，其中脱膜液为质量比为1:1的氢氧化钠和水的混合液，褪墨清洗温度为50℃，褪墨清洗时间为10min；最后将褪墨清洗后的玻璃盖板经过清洗、风干后，即得到所述具有纹理化表面的玻璃盖板。
参照图1可知，本实施例所得具有纹理化表面的玻璃盖板表面上同时形成具有低闪和高闪效果的纹理表面，纹理感强，并且对应低闪和高闪效果的区域之间界限分明。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤：
S1、对玻璃盖板表面进行喷砂处理，得到喷砂处理后的玻璃盖板；
S2、在玻璃盖板喷砂处理后的表面形成感光油墨层后，对所述感光油墨层进行曝光显影，在玻璃盖板上形成留有感光油墨层保护的纹理图案，得到具有纹理图案的玻璃盖板；
S3、对玻璃盖板具有纹理图案的表面进行AG处理，即得到所述具有纹理化表面的玻璃盖板。
2.根据权利要求1所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S1中，所述喷砂处理的砂为绿碳化硅，其粒度优选为1-30μm。
3.根据权利要求2所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S1中，还包括采用酸液对玻璃盖板喷砂处理后的表面进行蚀刻处理；
优选地，所述酸液包括5-15wt％的氢氟酸、10-20wt％的柠檬酸、0.01-1wt％的含氟表面活性剂以及余量的水。
4.根据权利要求1-3任一项所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S2中，所述感光油墨层是将玻璃盖板喷砂处理后的表面涂布感光油墨，再烘烤固化形成；
优选地，所述感光油墨层的厚度为5-20μm，烘烤固化的温度优选为70-120℃，时间为5-15min。
5.根据权利要求1-4任一项所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S2中，所述曝光的曝光能量为100-500mj/cm2，所述显影的显影液为浓度0.2-3wt％的氢氧化钾或碳酸钠溶液。
6.根据权利要求1-5任一项所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S2中，还包括在玻璃盖板上没有形成感光油墨层的表面形成耐酸油墨层。
7.根据权利要求1-6任一项所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S3中，所述AG处理是将玻璃盖板浸入AG药水中进行蚀刻处理后实现。
8.根据权利要求1-7任一项所述具有纹理化表面的玻璃盖板的制备工艺，其特征在于，步骤S3中，还包括对AG处理后的玻璃盖板进行褪墨清洗，以去除残留的感光油墨层。
9.一种具有纹理化表面的玻璃盖板，其特征在于，其是权利要求1-8任一项所述制备工艺制备而成。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211605197.2A CN116119936A (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202211605197.2A CN116119936A (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN116119936A true CN116119936A (zh) | 2023-05-16 |
Family
ID=86307101
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202211605197.2A Pending CN116119936A (zh) | 2022-12-14 | 2022-12-14 | 一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN116119936A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108262646A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-07-10 | 文山科泰丰电子有限公司 | 一种手机ag玻璃盖板的生产方法 |
| CN113391381A (zh) * | 2021-04-22 | 2021-09-14 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 | 一种具有不同ag组合效果的玻璃盖板及其制备方法 |
| CN113716875A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-11-30 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 | 一种雾面纸质效果的玻璃及其制备方法 |
| CN113772956A (zh) * | 2021-09-28 | 2021-12-10 | 蓝思科技(东莞)有限公司 | 一种防眩光玻璃及其制备方法 |
| CN113800776A (zh) * | 2020-06-15 | 2021-12-17 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和移动终端 |
-
2022
- 2022-12-14 CN CN202211605197.2A patent/CN116119936A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108262646A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-07-10 | 文山科泰丰电子有限公司 | 一种手机ag玻璃盖板的生产方法 |
| CN113800776A (zh) * | 2020-06-15 | 2021-12-17 | Oppo广东移动通信有限公司 | 壳体组件及其制备方法和移动终端 |
| CN113391381A (zh) * | 2021-04-22 | 2021-09-14 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 | 一种具有不同ag组合效果的玻璃盖板及其制备方法 |
| CN113716875A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-11-30 | 安徽金龙浩光电科技有限公司 | 一种雾面纸质效果的玻璃及其制备方法 |
| CN113772956A (zh) * | 2021-09-28 | 2021-12-10 | 蓝思科技(东莞)有限公司 | 一种防眩光玻璃及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 王承遇: "玻璃表面装饰", 31 January 2011, 北京：国防工业出版社, pages: 277 * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101787570B1 (ko) | 커버글라스 및 이의 제조 방법 | |
| CN105645785B (zh) | 一种高强度保护玻璃的强化方法 | |
| CN113800776B (zh) | 壳体组件及其制备方法和移动终端 | |
| TW201233816A (en) | Stainless steel article and method for making the same | |
| CN113772956B (zh) | 一种防眩光玻璃及其制备方法 | |
| CN107663028A (zh) | 一种含蚀刻纹路图案的镀膜玻璃板的制备方法及玻璃板 | |
| CN111995257A (zh) | 一种仿生纹玻璃盖板的制作方法及玻璃盖板 | |
| CN107663030A (zh) | 一种含蚀刻纹路图案的玻璃板的制备方法及玻璃板 | |
| CN113955946A (zh) | 一种新型纹理效果的制作方法 | |
| CN113391381A (zh) | 一种具有不同ag组合效果的玻璃盖板及其制备方法 | |
| CN116119936A (zh) | 一种具有纹理化表面的玻璃盖板及其制备工艺 | |
| TWI303180B (zh) | ||
| CN113716875A (zh) | 一种雾面纸质效果的玻璃及其制备方法 | |
| CN103397329A (zh) | 一种不锈钢点阵摩擦板的生产工艺 | |
| JPS6055827B2 (ja) | フオトマスク基板の加工法 | |
| US3489624A (en) | Etching techniques for glass | |
| KR20150126317A (ko) | 커버글라스 및 이의 제조 방법 | |
| TWI557622B (zh) | Sensing circuit structure and manufacturing method thereof | |
| CN115385579A (zh) | 一种摄像头镜片加工工艺 | |
| US3518130A (en) | Method of making conductive circuit patterns by intaglio process | |
| CN113747710A (zh) | 盖板及其制备方法、电子设备 | |
| CN109363307A (zh) | 一种不产生含有毒重金属铬废水的水钻后道生产方法 | |
| CN113233742A (zh) | 一种异形3d玻璃组合式热弯工艺 | |
| CN102398437A (zh) | 一种图纹转移方法及表面具有图纹的模具的制备方法 | |
| JPH01287282A (ja) | 金型の表面処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |