CN113955946A - 一种新型纹理效果的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种新型纹理效果的制作方法，首先将玻璃基板进行预处理和清洗处理，再进行光阻胶涂布，然后进行预烤，其次进行曝光，之后将玻璃基板进行显影，将显影后的玻璃基板进行涂布保护胶，再进行规定时间的固烤，固烤后进行微蚀刻，再将蚀刻玻璃浸泡于脱膜液中，最后脱模完成的玻璃进行清洗和烘干，之后将玻璃基板放入烤箱内将水分烤干，这样一种新型纹理效果的制作方法就使用完成了；本发明采用化学蚀刻技术，在AG玻璃上直接蚀刻出所需纹理，然后进行后一步的镀膜丝印加工来达到炫丽的纹理效果，在通过工艺流程所制作出来的纹理效果外观炫丽，且线宽线距可以做到0.03*0.03mm，同时可以极大的提高生产的良率和效果。
Description
技术领域
本发明涉及纹理制造工艺流程技术领域，尤其涉及一种新型纹理效果的制作方法。
背景技术
纹理效果的制作方法该工艺流程通过工序对玻璃基板进行纹理加工，玻璃基板是一种表面极其平整的薄玻璃片，玻璃基板是平板显示产业的关键基础材料之一；
传统的新型纹理效果的制作方法，其中丝印光油的工艺纹理效果经过NCVM镀膜丝印后，呈现出来的纹理效果会有很多麻点、断线，而且丝印只能做到线宽线距0.1mm以上的纹理效果，并且GDF转印工艺，是通过模具将纹理转印在防爆膜上，然后经过NCVM镀膜、丝印、镭射，然后与玻璃镜片进行贴合除泡作业，这个整体效果炫丽，但是整体工序繁多，且会影响产品本身的性能要求，导致良率一直偏低且不能满足客户的性能要求因此，本发明提出一种新型纹理效果的制作方法以解决现有技术中存在的问题。
发明内容
针对上述问题，本发明的目的在于提出一种新型纹理效果的制作方法，该新型纹理效果的制作方法解决了纹理效果会有很多麻点、断线并且整体工序繁多，且会影响产品本身的性能要求，导致良率一直偏低且不能满足客户的性能要求的问题。
为实现本发明的目的，本发明通过以下技术方案实现：一种新型纹理效果的制作方法，包括以下步骤：
步骤一：首先将需要进行加工的玻璃基板进行对外表面的预处理，之后在预处理完成后，再将洁净玻璃基板放置到PR清洗机中进行进一步的清洗处理；
步骤二：将清洗完成后的玻璃基板进行光阻胶涂布，首先利用伺服器注胶系统和伺服电机控制系统将注胶与刀头同步光阻，然后通过刀头吐出的光阻快速形成瀑幕涂敷在玻璃表面；
步骤三：将涂布完成的玻璃基板进行预烤，将玻璃基板进行加热烘烤直至玻璃基板与涂敷在玻璃表面的光阻溶剂充分反应；
步骤四：将预烤过后的玻璃基板放置到玻璃基板专用的曝光机中进行曝光，通过曝光机对玻璃基板的光阻层上曝光出炫光纹理图案，之后将曝光后的玻璃基板通过喷涂显影液进行溶解掉曝光有纹理图案的光阻层，最后使纹理图案显现出来；
步骤五：将显影后的玻璃基板进行涂布保护胶，首先将显影后的玻璃基板通过专用的翻转机将玻璃基板进行翻转，翻转至没有涂布光阻层，之后将没有涂布光阻层的一面涂敷光阻胶，然后涂布保护胶后的玻璃基板进行规定时间的固烤，通过固烤使玻璃基板的光阻进一步地进行固化；
步骤六：将固烤后的玻璃基板待冷却后进行微蚀刻，将玻璃基板用栏具插好浸泡于蚀刻槽体蚀刻液中，在浸泡的过程中通过蚀刻液在玻璃基板上没有光阻层覆盖的部分蚀刻出纹理图案，之后在浸泡特定的时间后将玻璃基板取出得到蚀刻玻璃，再将蚀刻玻璃浸泡于脱膜液中，通过特定时间的浸泡对蚀刻玻璃上的光阻层进行去除；
步骤七：在脱模完成的玻璃进行清洗和烘干，首先将脱模好的玻璃基板用喷淋方式进行清洗去除残留的脱模液，之后将玻璃基板放入烤箱内将水分烤干，在规定的时间后将玻璃基板取出进行冷却。
进一步改进在于：在所述步骤一中预处理是操作人员通过软毛刷对需要进行加工的玻璃基板的所有外表面进行清理碎屑等杂质。
进一步改进在于：在所述步骤一中PR清洗机通过自动化机台对玻璃基板首先通过滚刷进行清理，之后再对玻璃基板进行脱脂，然后再次进行循环水洗，最后通过两个风刀把玻璃基板上的水分进行吹干。
进一步改进在于：所述循环水洗首先通过中压水洗进行冲洗玻璃基板，然后再通过高压水洗玻璃基板再一次进行冲洗，最后通过纯水进行最后一次清洗，PR清洗机对玻璃基板的清洗速度为4m/min。
进一步改进在于：在所述步骤二中涂布的光敏胶为GX245A，并且光阻胶涂布的膜厚为2.5±0.5um，同时涂布的GAP值100±10um。
进一步改进在于：在所述步骤三中通过加热烘烤进一步的将光阻中的溶剂含量降低，并且光阻厚度变薄，提升附着力，对玻璃基板烘烤的温度为130±10℃，并且时间烘烤时间为三至五分钟。
进一步改进在于：在所述步骤四中曝光机的曝光能量为200±50mj/cm^2和曝光GAP值为150um，并且显影液的浓度为2％至3％的碱性溶液、显影的温度为20至25℃和显影速度为4m/min。
进一步改进在于：在所述步骤五中涂覆的光阻胶为GX245A，膜厚度为2.5±0.5um，涂布的GAP值100±10um，并且固烤的温度为130±10℃和固烤时间3-5min。
进一步改进在于：在所述步骤六中微蚀刻过程中的蚀刻的温度为26±2℃和蚀刻的时间为2-3min，并且在脱模的过程中脱膜的温度为50-70℃和脱膜的时间为6-8min。
进一步改进在于：在所述步骤七中清洗喷淋的时间为三十秒，并且烘干箱中的烘干的温度为100℃，烘干额的时间为四十五秒。
本发明的有益效果为：本发明采用化学蚀刻技术，在AG玻璃上直接蚀刻出所需纹理，然后进行后一步的镀膜丝印加工来达到炫丽的纹理效果，在通过工艺流程所制作出来的纹理效果外观炫丽，且线宽线距可以做到0.03*0.03mm，同时可以极大的提高生产的良率和效果。
附图说明
图1为本发明的蚀刻纹理工艺流程示意图。
图2为本发明的抗放射面工艺流程示意图。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例对本发明做进一步详述，本实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。
实施例一
根据图1所示，本实施例提供了一种新型纹理效果的制作方法，包括以下步骤：
步骤一：首先将需要进行加工的玻璃基板进行对外表面的预处理，之后在预处理完成后，再将洁净玻璃基板放置到PR清洗机中进行进一步的清洗处理；
步骤二：将清洗完成后的玻璃基板进行光阻胶涂布，首先利用伺服器注胶系统和伺服电机控制系统将注胶与刀头同步光阻，然后通过刀头吐出的光阻快速形成瀑幕涂敷在玻璃表面；
步骤三：将涂布完成的玻璃基板进行预烤，将玻璃基板进行加热烘烤直至玻璃基板与涂敷在玻璃表面的光阻溶剂充分反应；
步骤四：将预烤过后的玻璃基板放置到玻璃基板专用的曝光机中进行曝光，通过曝光机对玻璃基板的光阻层上曝光出炫光纹理图案，之后将曝光后的玻璃基板通过喷涂显影液进行溶解掉曝光有纹理图案的光阻层，最后使纹理图案显现出来；
步骤五：将显影后的玻璃基板进行涂布保护胶，首先将显影后的玻璃基板通过专用的翻转机将玻璃基板进行翻转，翻转至没有涂布光阻层，之后将没有涂布光阻层的一面涂敷光阻胶，然后涂布保护胶后的玻璃基板进行规定时间的固烤，通过固烤使玻璃基板的光阻进一步地进行固化；
步骤六：将固烤后的玻璃基板待冷却后进行微蚀刻，将玻璃基板用栏具插好浸泡于蚀刻槽体蚀刻液中，在浸泡的过程中通过蚀刻液在玻璃基板上没有光阻层覆盖的部分蚀刻出纹理图案，之后在浸泡特定的时间后将玻璃基板取出得到蚀刻玻璃，再将蚀刻玻璃浸泡于脱膜液中，通过特定时间的浸泡对蚀刻玻璃上的光阻层进行去除；
步骤七：在脱模完成的玻璃进行清洗和烘干，首先将脱模好的玻璃基板用喷淋方式进行清洗去除残留的脱模液，之后将玻璃基板放入烤箱内将水分烤干，在规定的时间后将玻璃基板取出进行冷却。
在所述步骤一中预处理是操作人员通过软毛刷对需要进行加工的玻璃基板的所有外表面进行清理碎屑等杂质。
在所述步骤一中PR清洗机通过自动化机台对玻璃基板首先通过滚刷进行清理，之后再对玻璃基板进行脱脂，然后再次进行循环水洗，最后通过两个风刀把玻璃基板上的水分进行吹干。
所述循环水洗首先通过中压水洗进行冲洗玻璃基板，然后再通过高压水洗玻璃基板再一次进行冲洗，最后通过纯水进行最后一次清洗，PR清洗机对玻璃基板的清洗速度为4m/min。
在所述步骤二中涂布的光敏胶为GX245A，并且光阻胶涂布的膜厚为2.5±0.5um，同时涂布的GAP值100±10um。
在所述步骤三中通过加热烘烤进一步的将光阻中的溶剂含量降低，并且光阻厚度变薄，提升附着力，对玻璃基板烘烤的温度为130±10℃，并且时间烘烤时间为三至五分钟。
在所述步骤四中曝光机的曝光能量为200±50mj/cm^2和曝光GAP值为150um，并且显影液的浓度为2％至3％的碱性溶液、显影的温度为20至25℃和显影速度为4m/min。
在所述步骤五中涂覆的光阻胶为GX245A，膜厚度为2.5±0.5um，涂布的GAP值100±10um，并且固烤的温度为130±10℃和固烤时间3-5min。
在所述步骤六中微蚀刻过程中的蚀刻的温度为26±2℃和蚀刻的时间为2-3min，并且在脱模的过程中脱膜的温度为50-70℃和脱膜的时间为6-8min。
在所述步骤七中清洗喷淋的时间为三十秒，并且烘干箱中的烘干的温度为100℃，烘干额的时间为四十五秒。
使用时,首先将需要进行加工的玻璃基板进行对外表面的预处理，之后在预处理完成后，再将洁净玻璃基板放置到PR清洗机中进行进一步的清洗处理，再将清洗完成后的玻璃基板进行光阻胶涂布，其次将涂布完成的玻璃基板进行预烤，将玻璃基板进行加热烘烤直至玻璃基板与涂敷在玻璃表面的光阻溶剂充分反应，然后将预烤过后的玻璃基板放置到玻璃基板专用的曝光机中进行曝光，之后将曝光后的玻璃基板通过喷涂显影液进行溶解掉曝光有纹理图案的光阻层，完成显影后将显影后的玻璃基板进行涂布保护胶，首先将显影后的玻璃基板通过专用的翻转机将玻璃基板进行翻转，翻转至没有涂布光阻层，之后将没有涂布光阻层的一面涂敷光阻胶，然后涂布保护胶后的玻璃基板进行规定时间的固烤，然后固烤后的玻璃基板待冷却后进行微蚀刻，将玻璃基板用栏具插好浸泡于蚀刻槽体蚀刻液中，在浸泡的过程中通过蚀刻液在玻璃基板上没有光阻层覆盖的部分蚀刻出纹理图案，之后在浸泡特定的时间后将玻璃基板取出得到蚀刻玻璃，再将蚀刻玻璃浸泡于脱膜液中，通过特定时间的浸泡对蚀刻玻璃上的光阻层进行去除，最后脱模完成的玻璃进行清洗和烘干，之后将玻璃基板放入烤箱内将水分烤干，这样一种新型纹理效果的制作方法就使用完成了。
实施例二
根据图2所示，本实施例提供了一种玻璃AG面的制作方法，包括以下步骤
步骤一：将纹理加工完的玻璃原材料用平面清洗机进行喷淋清洗、冲刷、烘干，之后在玻璃原材非AG面用辊压式覆膜机进行覆防酸保护膜作业，最后把覆好膜的玻璃原材放至AG入料口；
步骤二：将玻璃进行稀酸清洗，之后在清洗完成后玻璃进入礞砂段进行礞砂，在礞砂的过程中对玻璃表面进行礞砂蚀刻；
步骤三：将礞砂蚀刻完成的玻璃进行毛刷和水洗，在冲刷完成后玻璃进入化学抛光装置进行抛光，通过喷淋药水对玻璃表面进行化学抛光；
步骤四：在化学抛光完成后进行最后的清水喷淋冲洗，通过清水的冲洗对玻璃表面的酸残留进行深度清洗，最后撕去防酸保护膜，进行品质检验。
在所述步骤二中酸洗液的比例为10%的氢氟酸与90%的水混合液。
在所述步骤三中礞砂药水的比例为30%的盐酸和100kg的礞砂粉混合液体，并在化学抛光中，抛光药水的比例为30%氢氟酸、20%盐酸和50%的水的混合酸。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (10)
1.一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：首先将需要进行加工的玻璃基板进行对外表面的预处理，之后在预处理完成后，再将洁净玻璃基板放置到PR清洗机中进行进一步的清洗处理；
步骤二：将清洗完成后的玻璃基板进行光阻胶涂布，首先利用伺服器注胶系统和伺服电机控制系统将注胶与刀头同步光阻，然后通过刀头吐出的光阻快速形成瀑幕涂敷在玻璃表面；
步骤三：将涂布完成的玻璃基板进行预烤，将玻璃基板进行加热烘烤直至玻璃基板与涂敷在玻璃表面的光阻溶剂充分反应；
步骤四：将预烤过后的玻璃基板放置到玻璃基板专用的曝光机中进行曝光，通过曝光机对玻璃基板的光阻层上曝光出炫光纹理图案，之后将曝光后的玻璃基板通过喷涂显影液进行溶解掉曝光有纹理图案的光阻层，最后使纹理图案显现出来；
步骤五：将显影后的玻璃基板进行涂布保护胶，首先将显影后的玻璃基板通过专用的翻转机将玻璃基板进行翻转，翻转至没有涂布光阻层，之后将没有涂布光阻层的一面涂敷光阻胶，然后涂布保护胶后的玻璃基板进行规定时间的固烤，通过固烤使玻璃基板的光阻进一步地进行固化；
步骤六：将固烤后的玻璃基板待冷却后进行微蚀刻，将玻璃基板用栏具插好浸泡于蚀刻槽体蚀刻液中，在浸泡的过程中通过蚀刻液在玻璃基板上没有光阻层覆盖的部分蚀刻出纹理图案，之后在浸泡特定的时间后将玻璃基板取出得到蚀刻玻璃，再将蚀刻玻璃浸泡于脱膜液中，通过特定时间的浸泡对蚀刻玻璃上的光阻层进行去除；
步骤七：在脱模完成的玻璃进行清洗和烘干，首先将脱模好的玻璃基板用喷淋方式进行清洗去除残留的脱模液，之后将玻璃基板放入烤箱内将水分烤干，在规定的时间后将玻璃基板取出进行冷却。
2.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤一中预处理是操作人员通过软毛刷对需要进行加工的玻璃基板的所有外表面进行清理碎屑等杂质。
3.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤一中PR清洗机通过自动化机台对玻璃基板首先通过滚刷进行清理，之后再对玻璃基板进行脱脂，然后再次进行循环水洗，最后通过两个风刀把玻璃基板上的水分进行吹干。
4.根据权利要求2所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：所述循环水洗首先通过中压水洗进行冲洗玻璃基板，然后再通过高压水洗玻璃基板再一次进行冲洗，最后通过纯水进行最后一次清洗，PR清洗机对玻璃基板的清洗速度为4m/min。
5.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤二中涂布的光敏胶为GX245A，并且光阻胶涂布的膜厚为2.5±0.5um，同时涂布的GAP值100±10um。
6.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤三中通过加热烘烤进一步的将光阻中的溶剂含量降低，并且光阻厚度变薄，提升附着力，对玻璃基板烘烤的温度为130±10℃，并且时间烘烤时间为三至五分钟。
7.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤四中曝光机的曝光能量为200±50mj/cm^2和曝光GAP值为150um，并且显影液的浓度为2％至3％的碱性溶液、显影的温度为20至25℃和显影速度为4m/min。
8.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤五中涂覆的光阻胶为GX245A，膜厚度为2.5±0.5um，涂布的GAP值100±10um，并且固烤的温度为130±10℃和固烤时间3-5min。
9.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤六中微蚀刻过程中的蚀刻的温度为26±2℃和蚀刻的时间为2-3min，并且在脱模的过程中脱膜的温度为50-70℃和脱膜的时间为6-8min。
10.根据权利要求1所述的一种新型纹理效果的制作方法，其特征在于：在所述步骤七中清洗喷淋的时间为三十秒，并且烘干箱中的烘干的温度为100℃，烘干额的时间为四十五秒。
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