CN114873925B - 多纹理蒙砂玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法和应用。该方法包括以下步骤：提供玻璃基底，玻璃基底具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面；于第一表面设置保护层之后，采用第一玻璃蒙砂液对第二表面进行第一蒙砂处理，形成第一纹理；在第二表面上形成遮盖第一纹理的部分区域的遮蔽层；采用第二玻璃蒙砂液对第一纹理未遮盖的部分区域进行第二蒙砂处理，形成第二纹理，第二玻璃蒙砂液的酸性强于第一玻璃蒙砂液；去除遮蔽层以露出被遮盖区域内的第一纹理。该方法能够制备在在控制玻璃表面断差较低的情况下形成兼具多部分蒙砂纹理的玻璃。
Description
技术领域
本发明涉及蒙砂玻璃技术领域，特别是涉及一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法。
背景技术
随着社会的发展，人们对电子产品的外观要求越来越严格，由以前单一的黑色外观变为要求产品外观绚丽多彩才能吸引客户的消费。同时电子产品的材质也会影响其外观，由以前PMMA材质更换为玻璃材质，面对材质的更换工艺条件也会有所不同。PMMA由于材质的受限基本采用喷涂的方式改善外观的绚丽，依靠物理吸附，而玻璃材质基本采用化学蚀刻的方式，经过特殊的化学工艺处理，使其原玻璃反光表面变为漫反射表面，防止炫光以外还使光度下降，减少光影，从而增加产品的外观绚丽。
目前，市场上的蒙砂玻璃，基本都采用整面化学AG的方式来增加玻璃的朦胧艺术使其表面更加具有美感，同时可以使的电子产品的外壳具有防眩光的效果。但随着电子产品的不断更新换代，单一的整面蒙砂方式已经越来越难以满足客户对壳体外观丰富程度的追求。
发明内容
基于此，为了提供一种具有多部分蒙砂纹理的玻璃，有必要提供一种多纹理蒙砂玻璃的制备方法。
根据本发明的一个实施例，一种多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其包括以下步骤：
提供玻璃基底，所述玻璃基底具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；
于所述第一表面设置保护层之后，采用第一玻璃蒙砂液对所述第二表面进行第一蒙砂处理，形成第一纹理；
在所述第二表面上形成遮盖所述第一纹理的部分区域的遮蔽层；
采用第二玻璃蒙砂液对所述第一纹理未被遮盖的部分区域进行第二蒙砂处理，形成第二纹理，所述第二玻璃蒙砂液的酸性强于所述第一玻璃蒙砂液；
去除所述遮蔽层以露出被遮盖区域内的所述第一纹理。
在其中一个实施例中，所述第一纹理和第二纹理的断差为0.5μm～5μm。
在其中一个实施例中，所述第一玻璃蒙砂液由第一蒙砂原料经熟化制备，所述第一蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵10～25份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾8～12份和无机酸3～5份。
在其中一个实施例中，所述第二玻璃蒙砂液由第二蒙砂原料经熟化制备，所述第二蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵35～45份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾6～10份和无机酸0～2份。
在其中一个实施例中，在进行第一蒙砂处理时，控制处理的时间为60s～200s；在进行第二蒙砂处理时，控制处理的时间为60s～180s。
在其中一个实施例中，所述第二蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数与所述第一蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数之比为(1.5～2.5):1。
在其中一个实施例中，在所述第二表面上形成遮盖所述第一的纹理部分区域的遮蔽层的步骤包括：
在具有所述第一纹理的第二表面上施加感光油墨，采用菲林遮蔽部分的所述感光油墨，通过UV固化处理和脱墨清洗处理，使固化后的感光油墨形成遮蔽层，剩余部分的玻璃表面露出；和/或
去除所述遮蔽层以露出被遮盖区域内的所述第一纹理的步骤包括：采用碱性溶液在加热的条件下浸泡溶解所述遮蔽层。
在其中一个实施例中，在设置所述保护层之后以及进行第一蒙砂处理之前，还包括采用第一氢氟酸水溶液对所述第二表面进行第一预清洁处理的步骤，在所述第一氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；在第一预清洁处理的步骤中，控制处理的时间为15s～30s。
在其中一个实施例中，在形成所述遮蔽层之后以及进行第二蒙砂处理之前，还包括采用第二氢氟酸水溶液对所述第二表面进行第二预清洁处理的步骤，在所述第二氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；在第二预清洁处理的步骤中，控制处理的时间为15s～30s。
本发明还提供一种多纹理蒙砂玻璃，通过如上的多纹理蒙砂玻璃的制备方法制得。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，包括：在玻璃基底的其中一表面(第一表面)设置保护层，在与之相对的另一表面(第二表面)进行第一蒙砂处理形成第一纹理，再形成遮盖第一纹理的部分区域的遮蔽层，露出剩余区域，对露出的区域进行第二次蒙砂处理，再去除遮蔽层以露出被遮盖区域的第一纹理。
其中，采用第一玻璃蒙砂液对第二表面进行第一次蒙砂处理(整面蒙砂)，蚀刻形成第一纹理，赋予玻璃表面一定的粗糙度和雾度，使玻璃具有防眩晕效果和朦胧的美感。再采用酸性较强的第二玻璃蒙砂液对未被遮蔽层遮住的部分进行第二次蒙砂处理(局部蒙砂)，通过此局部蒙砂使部分玻璃表面进一步被蚀刻，形成了与第一纹理断差较小且无缝衔接的第二纹理，在保证触感顺滑无台阶感的同时提高玻璃外观的丰富性。
另外，本发明提供的多纹理蒙砂玻璃的制备方法具有操作简单、设备投资少、质量可控并且易于工业化等优点，能产生较好的经济和社会效益。
经测试，在一些较优的实施方式中，本发明制得的多纹理蒙砂玻璃中的第一纹理和第二纹理的断差Rz≤5μm，第一纹理的粗糙度为500μm～650μm，雾度(Haze)为75％～85％，低粗低雾，断差控制为0μm，第二纹理的粗糙度为850μm～950μm，雾度为85％～95％，高粗高雾，断差为≤5μm，第一纹理和第二纹理之间粗糙度和雾度均差异较大，使纹理之间色差明显，手感明显，纹理效果极佳。其可以用于2D结构、2.5D结构或3D结构的手机后盖，同时也适用于其他电子产品，如iPad、电脑以及电子手表等。
附图说明
图1为本发明的多纹理蒙砂玻璃的纹理示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例和附图对本发明作进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
本文所使用的术语“和/或”、“或/和”、“及/或”的可选范围包括两个或两个以上相关所列项目中任一个项目，也包括相关所列项目的任意的和所有的组合，任意的和所有的组合包括任意的两个相关所列项目、任意的更多个相关所列项目、或者全部相关所列项目的组合。
在使用本文中描述的“包括”、“具有”、和“包含”的情况下，意图在于覆盖不排他的包含，除非使用了明确的限定用语，例如“仅”、“由……组成”等，否则还可以添加另一部件。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本发明的描述中，“若干”的含义是至少一个，例如一个，两个等，除非另有明确具体的限定。
本发明中的词语“优选地”、“更优选地”等是指，在某些情况下可提供某些有益效果的本发明实施方案。然而，在相同的情况下或其他情况下，其他实施方案也可能是优选的。此外，对一个或多个优选实施方案的表述并不暗示其他实施方案不可用，也并非旨在将其他实施方案排除在本发明的范围之外。
当本文中公开一个数值范围时，上述范围视为连续，且包括该范围的最小值及最大值，以及这种最小值与最大值之间的每一个值。进一步地，当范围是指整数时，包括该范围的最小值与最大值之间的每一个整数。此外，当提供多个范围描述特征或特性时，可以合并该范围。换言之，除非另有指明，否则本文中所公开之所有范围应理解为包括其中所归入的任何及所有的子范围。
除非相反地提及，否则单数形式的术语可以包括复数形式，并不能理解为其数量为一个。
在本发明中，“一种或几种”指所列项目的任一种、任两种或任两种以上。
传统技术中一般仅能够在蒙砂玻璃表面形成单纹理的蒙砂玻璃，为了提高玻璃外观的丰富性，本发明提供了一种多纹理蒙砂玻璃的制备方法。
以下具体实施方式所用的原料、试剂材料等，如无特殊说明，均为市售购买产品。本文中的断差指的是所取轮廓范围内的最高点与最低点之差。
本发明的技术方案如下：
一种多纹理蒙砂玻璃的制备方法，包括以下步骤：
提供玻璃基底，玻璃基底具有第一表面以及与第一表面相对的第二表面；
于第一表面设置保护层之后，采用第一玻璃蒙砂液对第二表面进行第一蒙砂处理，形成第一纹理；
在第二表面上形成遮盖第一纹理的部分区域的遮蔽层；
采用第二玻璃蒙砂液对第一纹理未遮盖的部分区域进行第二蒙砂处理，形成第二纹理，第二玻璃蒙砂液的酸性强于第一玻璃蒙砂液；
去除遮蔽层以露出被遮盖区域内的第一纹理。
上述制备方法制备的多纹理蒙砂玻璃的示意图如图1所示，阴影区域为具有较高粗糙度和雾度的第二纹理，空白区域为具有较低粗糙度和雾度的第一纹理。
其中，采用第一玻璃蒙砂液对第二表面进行第一次蒙砂处理(整面蒙砂)，蚀刻形成第一纹理，赋予玻璃表面一定的粗糙度和雾度，使玻璃具有防眩晕效果和朦胧的美感。再采用酸性较强的第二玻璃蒙砂液对未被遮蔽层遮住的部分进行第二次蒙砂处理(局部蒙砂)，通过此局部蒙砂使部分玻璃表面进一步被蚀刻，形成了与第一纹理断差较小且无缝衔接、高粗糙度和高雾度的第二纹理，在保证触感顺滑无台阶感的同时提高玻璃外观的丰富性。
在其中一个实施例中，玻璃基底为2D玻璃、2.5D玻璃或3D玻璃。其可以根据客户需求制作多种不同外形结构的蒙砂玻璃，满足各种需求。
在其中一个实施例中，可以通过控制第二玻璃蒙砂液与第一玻璃蒙砂液的具体配方，以使得第一纹理和第二纹理的断差为0.5μm～5μm。
在其中一个实施例中，保护层的材质选自耐酸性材料。优选地，保护层的材质为油墨，在玻璃的光面进行丝印一层耐酸保护油，由于蒙砂药水的成份通常为酸性，所以保护层的油墨耐酸性，可以有效的防止玻璃的光面(非AG面)不被蒙砂液腐蚀，用于保护层的油墨稳定性强，不会和蒙砂药水发生化学反应。
在其中一个实施例中，在设置保护层之后以及进行第一蒙砂处理之前，还包括采用第一氢氟酸水溶液对第二表面进行第一预清洁处理的步骤。预清洁处理可以将第二表面的油渍等杂质去除，保证蒙砂处理的顺利进行以及蒙砂表面的均匀性。
在其中一个实施例中，在第一氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；第一预清洁处理的时间为15s～30s。比如预处理时间为15s、20s、25s、30s，其中HF与SiO2的反应程度不同，随着擦拭时间的越长玻璃软化的越强，蒙砂后的Rz也越大。
可以理解地，玻璃蒙砂液的原料通常可以包括氟化氢铵等原料，还可以添加例如柠檬酸、硫酸钡等其他原料，经过熟化后可以制备得到较为稳定的含有氢氟酸的蒙砂液。
在其中一个实施例中，第一玻璃蒙砂液由第一蒙砂原料经熟化制备，第一蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵10～25份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾8～12份和无机酸3～5份。其中，无机酸可以选自无机强酸，例如盐酸。
熟化指的是将第一蒙砂原料中的氟化氢铵、柠檬酸等加入水中进行反应，以形成第一玻璃蒙砂液。第一玻璃蒙砂液可以对玻璃表面进行蒙砂处理。蒙砂处理主要利用是HF和玻璃中主要成分SiO2发生反应，具体机理如下：HF和SiO2反应生成SiF4,SiF4进一步和HF溶液反应生成H2SiF6，而H2SiF6是强酸，稳定性差，会继续和玻璃成分中的Na+反应生产Na2SiF6附着在玻璃表面，阻止反应继续进行控制蚀刻的深度达到外观需求，化学反应式如下；
4HF+SiO2→SiF4+2H2O ①
SiF4+2HF→H2SiF6 ②
H2SiF6+2Na+→Na2SiF6+2H+ ③
在其中一个实施例中，将反应后的混合液用筛网过滤得到第一玻璃蒙砂液，过滤的固体可回收重复利用。
在其中一个实施例中，第一蒙砂原料中还可以包括8～12份的增稠剂。进一步地，增稠剂可以选自淀粉。
在其中一个实施例中，第一蒙砂处理的时间为60s～200s。通过控制第一蒙砂处理的所采用的玻璃蒙砂液配方和蒙砂处理时间，进一步达到控制第一纹理表面粗糙度、雾度和断差的目的。
在其中一个实施例中，第一玻璃蒙砂液的制备方法包括如下步骤：
将第一蒙砂原料的各组分于水中混合，反应48～72h；或者，也可以先将第一蒙砂原料的各组分混合，然后将粉料混合物与水混合，反应48～72h。在熟化处理时，加入少量水作为反应溶剂即可，例如控制第一蒙砂原料与水的比为(2～4):1，熟化处理完后，可以通过过滤的方式去除不溶于水的固体。
在其中一个实施例中，将反应后的混合液用筛网过滤得到第一玻璃蒙砂液，过滤的固体可回收重复利用。
在其中一个实施例中，在第二表面上形成遮盖第一纹理的部分区域的遮蔽层包括：
在具有第一纹理的第二表面上施加感光油墨，采用菲林遮蔽部分的感光油墨，通过UV固化处理和脱墨清洗处理，使固化后的感光油墨形成遮蔽层，剩余部分的玻璃表面露出。
对应地，去除遮蔽层以露出被遮盖区域内的第一纹理的步骤包括：采用碱性溶液在加热的条件下浸泡溶解遮蔽层。具体地，碱性溶液可以是氢氧化钠溶液，氢氧化钠溶液的浓度可以为10％～20％，加热处理的温度可以控制在70℃～100℃。
在其中一个实施例中，在形成遮蔽层之后以及进行第二蒙砂处理之前，还包括采用第二氢氟酸水溶液对第二表面进行第二预清洁处理的步骤。预清洁处理可以将第二表面的油渍等杂质去除，保证蒙砂处理的顺利进行以及蒙砂表面的均匀性。
在其中一个实施例中，在第二氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；第二预清洁处理的时间为15s～30s。比如预处理时间为15s、20s、25s、30s，其HF与SiO2的反应程度不同，随着擦拭时间的越长玻璃软化的越强，蒙砂后的Rz也越大。
在其中一个实施例中，第二玻璃蒙砂液由第二蒙砂原料经熟化制备，第二蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵35～45份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾6～10份和无机酸0～2份。其中，无机酸可以选自无机强酸，例如盐酸。另外，第二蒙砂原料中还可以包括增稠剂2～5份。增稠剂可以选自淀粉。
在其中一个实施例中，第二蒙砂处理的时间为60s～180s。通过控制第二蒙砂处理的所采用的玻璃蒙砂液配方和蒙砂处理时间，进一步达到控制第二纹理表面粗糙度、雾度和断差的目的。
在其中一个实施例中，第二玻璃蒙砂液的制备方法包括如下步骤：
将第二蒙砂原料的各组分于水中混合，反应48～72h；或者，也可以先将第二蒙砂原料的各组分混合后加入水中，反应48～72h。在熟化处理时，加入少量水作为反应溶剂即可，例如控制第二蒙砂原料与水的比为(2～4):1，熟化处理完后，可以通过过滤的方式去除不溶于水的固体。
第二蒙砂原料中可以加入相较于第一蒙砂原料中的无机酸量少的无机酸，或者不加入无机酸，以使得第二玻璃蒙砂液的酸性比第一玻璃蒙砂液低，又或者第二蒙砂原料中可以加入。
在其中一个实施例中，将反应后的混合液用筛网过滤得到第二玻璃蒙砂液，过滤的固体可回收重复利用。
在其中一个实施例中，第二蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数高于第一蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数，以使得第二纹理的粗糙度和雾度更高，与第一纹理之间形成更为明显的区分。较为优选地，第二蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量与第一蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量比为(1.5～2.5):1，以获得区别更为清晰的两部分蒙砂区域，同时保证第一纹理和第二纹理的断差为0.5μm～5μm。
在其中一个实施例中，在去除遮蔽层的步骤之后，还包括采用化学抛光液对具有第一纹理和第二纹理的玻璃进行化学抛光处理的步骤。通过化学抛光处理使玻璃表面粗糙度进一步降低。其中，化学抛光液选自含有氢氟酸的化学抛光液。
本发明还提供一种多纹理蒙砂玻璃，通过如上的多纹理蒙砂玻璃的制备方法制得。
本发明还提供一种电子产品，包含如上的多纹理蒙砂玻璃。
以下为具体实施例：
实施例1
本实施例提供一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法，具体地：
(1)制备第一玻璃蒙砂液和制备第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将15份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、12份淀粉、3份盐酸加入15.36份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将35份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、3份淀粉加入17.92份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为3％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面15s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液60s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为2％的HF水溶液擦拭玻璃表面15s。
(8)采用第二玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为60s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到双纹理蒙砂玻璃，参见图1，具有斜纹理。
实施例2
本实施例提供一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法，具体地：
(1)制备第一玻璃蒙砂液和制备第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将20份氟化氢铵、10份硫酸钡、2份柠檬酸、10份氟化钾、10份淀粉、3份盐酸加入17.6份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将40份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、3份淀粉加入19.52份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为2％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面20s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液80s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为2％的HF水溶液擦拭玻璃表面20s。
(8)采用第二玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为60s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到双纹理蒙砂玻璃。
实施例3
本实施例提供一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法，具体地：
(1)制备第一玻璃蒙砂液和制备第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将20份氟化氢铵、10份硫酸钡、2份柠檬酸、12份氟化钾、8份淀粉、4份盐酸加入17.92份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将40份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、3份淀粉加入19.52份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为2％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面20s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液80s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为3％的HF水溶液擦拭玻璃表面25s。
(8)采用第二玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为60s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到双纹理蒙砂玻璃。
实施例4
本实施例提供一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法，具体地：
(1)制备第一玻璃蒙砂液和制备第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将25份氟化氢铵、12份硫酸钡、2份柠檬酸、12份氟化钾、10份淀粉、4份盐酸加入20.8份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将42份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、3份淀粉加入20.16份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第一玻璃蒙砂液：将氟化氢铵、硫酸钡、柠檬酸、氟化钾、淀粉、盐酸加入水中混合，使得氟化氢铵的浓度为25％，硫酸钡的浓度为12％，柠檬酸的浓度为2％，氟化钾的浓度为12％，淀粉的浓度为10％，盐酸的浓度为4％，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将氟化氢铵、硫酸钡、柠檬酸、氟化钾、淀粉加入水中混合，使得氟化氢铵的浓度为42％，硫酸钡的浓度为8％，柠檬酸的浓度为2％，氟化钾的浓度为8％，淀粉的浓度为3％，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为2％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面30s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液80s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为3％的HF水溶液擦拭玻璃表面30s。
(8)采用第二玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为80s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到双纹理蒙砂玻璃。
实施例5
本实施例提供一种多纹理蒙砂玻璃及其制备方法，具体地：
(1)制备第一玻璃蒙砂液和制备第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将25份氟化氢铵、12份硫酸钡、4份柠檬酸、12份氟化钾、10份淀粉、5份盐酸加入21.76份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将45份氟化氢铵、10份硫酸钡、2份柠檬酸、6份氟化钾、3份淀粉加入21.12份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为2％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面25s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液75s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为2％的HF水溶液擦拭玻璃表面30s。
(8)采用第二玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为75s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到双纹理蒙砂玻璃。
对比例1
(1)制备第一玻璃蒙砂液：第一玻璃蒙砂液：将15份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、12份淀粉、3份盐酸加入15.36份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为3％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面15s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液60s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为2％的HF水溶液擦拭玻璃表面15s。
(8)采用第一玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为60s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到蒙砂玻璃。
对比例2
(1)制备第一玻璃蒙砂液和第二玻璃蒙砂液：
第一玻璃蒙砂液：将35份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、3份淀粉加入17.92份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
第二玻璃蒙砂液：将15份氟化氢铵、8份硫酸钡、2份柠檬酸、8份氟化钾、12份淀粉、3份盐酸加入15.36份水中混合，搅拌均匀，反应72h。
(2)提供2D玻璃，在第一表面(非AG表面)设置保护层：在玻璃的非AG面丝印一层耐酸保护油作为保护层，然后将其放入夹具中，另一表面作为待AG表面；
(3)用HF擦拭和水洗：用海绵刷沾上质量含量为3％的HF水溶液均匀滴擦拭待处理表面15s，再使用清水冲洗玻璃表面保证表面无污渍；
(4)将清洗干净的玻璃置于蒙砂槽内，开启耐酸泵，充分搅拌第一蒙砂液对玻璃的待AG表面进行均匀连续地淋蒙砂液60s，形成第一纹理。
(5)清洗：第一次蒙砂完成后，迅速地将蒙砂后的玻璃放到清洗架上，立即用水枪冲洗玻璃。
(6)形成遮蔽层：第一次蒙砂完成后在玻璃的蒙砂面喷涂复性的感光油墨，进行曝光显影，形成遮蔽部分第一纹理的遮蔽层。
(7)用质量含量为2％的HF水溶液擦拭玻璃表面15s。
(8)采用第一玻璃蒙砂液露出的玻璃表面进行第二次蒙砂，蒙砂时间为60s。
(9)脱油、清洗：用15％的氢氧化钠溶液，升温至80℃浸泡10min，去除遮蔽层。
(10)化学抛光：采用含有HF的化学抛光液对经过2次蒙砂处理的玻璃进行化抛，得到蒙砂玻璃。
按照如下方式测试上述各实施例和对比例分别在第一次蒙砂处理、第二次蒙砂处理和化学抛光处理后的粗糙度、雾度和断差，结果可见于表1～表3。粗糙度通过Mitutoyo-SJ-310设备进行测量；雾度通过仪电物光WGT-S雾度仪进行测量；断差通过Mitutoyo-SJ-310设备进行测量。
表1：第一次蒙砂处理后(第一纹理)的测试结果
| 粗糙度(μm) | 雾度 | 断差(μm) | |
| 实施例1 | 610 | 71％ | 0 |
| 实施例2 | 720 | 74％ | 0 |
| 实施例3 | 680 | 76％ | 0 |
| 实施例4 | 750 | 82％ | 0 |
| 实施例5 | 730 | 82％ | 0 |
| 对比例1 | 710 | 81％ | 0 |
| 对比例2 | 925 | 89％ | 0 |
表2：叠加第二次蒙砂处理后(第二纹理)的测试结果
| 粗糙度(μm) | 雾度 | 断差(μm) | |
| 实施例1 | 930 | 84％ | 4.2 |
| 实施例2 | 940 | 88％ | 4.12 |
| 实施例3 | 950 | 90％ | 4.6 |
| 实施例4 | 920 | 91％ | 4.5 |
| 实施例5 | 910 | 93％ | 4.2 |
| 对比例1 | 715 | 79％ | 8.2 |
| 对比例2 | 890 | 88％ | 8.1 |
表3：经化学抛光后的测试结果
实施例1～5均用以说明本发明的技术方案的有效性。对比例1和实施例1基本相同，其主要差异为，对比例1在两次蒙砂过程中均采用了如实施例1中的第一玻璃蒙砂液，由于第二次蒙砂时的蒙砂玻璃液与第一次蒙砂时的蒙砂玻璃液酸性相同，因此导致第二纹理与第一纹理之间断差过高。对比例2在两次蒙砂过程中所用的玻璃蒙砂液相较于实施例1恰好相反，不仅导致了第二纹理与第一纹理之间断差过高的问题，还导致了第二纹理和第一纹理之间难以产生雾度和粗糙度的区分。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上实施例仅表达了本发明的几种实施方式，便于具体和详细地理解本发明的技术方案，但并不能因此而理解为对发明专利保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。应当理解，本领域的普通技术人员在本发明提供的技术方案的基础上，通过合乎逻辑的分析、推理或者有限的试验得到的技术方案，均在本发明所附权利要求的保护范围内。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求的内容为准，说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。
Claims (10)
1.一种多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供玻璃基底，所述玻璃基底具有第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面；
于所述第一表面设置保护层之后，采用第一玻璃蒙砂液对所述第二表面进行第一蒙砂处理，形成第一纹理；
在所述第二表面上形成遮盖所述第一纹理的部分区域的遮蔽层；
采用第二玻璃蒙砂液对所述第一纹理未被遮盖的部分区域进行第二蒙砂处理，形成第二纹理，所述第二玻璃蒙砂液的酸性强于所述第一玻璃蒙砂液；
去除所述遮蔽层以露出被遮盖区域内的所述第一纹理，所述第一纹理和所述第二纹理的断差为0.5μm～5μm。
2.根据权利要求1所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一玻璃蒙砂液由第一蒙砂原料经熟化制备，所述第二玻璃蒙砂液由第二蒙砂原料经熟化制备，所述第二蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数高于第一蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数。
3.根据权利要求2所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，所述第一蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵10～25份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾8～12份和无机酸3～5份。
4.根据权利要求3所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，所述第二蒙砂原料包括如下重量份的组分：氟化氢铵35～45份，硫酸钡8～12份，柠檬酸2～4份，氟化钾6～10份和无机酸0～2份。
5.根据权利要求4所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，在进行第一蒙砂处理时，控制处理的时间为60s～200s；在进行第二蒙砂处理时，控制处理的时间为60s～180s。
6.根据权利要求4所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，所述第二蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数与所述第一蒙砂原料中所用的氟化氢铵的质量份数之比为(1.5～2.5):1。
7.根据权利要求1所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，在所述第二表面上形成遮盖所述第一的纹理部分区域的遮蔽层的步骤包括：
在具有所述第一纹理的第二表面上施加感光油墨，采用菲林遮蔽部分的所述感光油墨，通过UV固化处理和脱墨清洗处理，使固化后的感光油墨形成遮蔽层，剩余部分的玻璃表面露出；和/或
去除所述遮蔽层以露出被遮盖区域内的所述第一纹理的步骤包括：采用碱性溶液在加热的条件下浸泡溶解所述遮蔽层。
8.根据权利要求1至7任一项所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，在设置所述保护层之后以及进行第一蒙砂处理之前，还包括采用第一氢氟酸水溶液对所述第二表面进行第一预清洁处理的步骤，在所述第一氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；在第一预清洁处理的步骤中，控制处理的时间为15s～30s。
9.根据权利要求1至7任一项所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法，其特征在于，在形成所述遮蔽层之后以及进行第二蒙砂处理之前，还包括采用第二氢氟酸水溶液对所述第二表面进行第二预清洁处理的步骤，在所述第二氢氟酸水溶液中，氢氟酸的质量含量为1％～3％；在第二预清洁处理的步骤中，控制处理的时间为15s～30s。
10.一种多纹理蒙砂玻璃，其特征在于，通过权利要求1至9任一项所述的多纹理蒙砂玻璃的制备方法制得。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| CB02 | Change of applicant information | ||
| CB02 | Change of applicant information |
Address after: 437300 Zhonghuo Optical Valley Industrial Park, Chibi Economic Development Zone, Xianning City, Hubei Province Applicant after: Weidali Technology Co.,Ltd. Address before: 437300 Zhonghuo Optical Valley Industrial Park, Chibi Economic Development Zone, Xianning City, Hubei Province Applicant before: WEIDALI INDUSTRY (CHIBI) CO.,LTD. |
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |