CN108262646A - 一种手机ag玻璃盖板的生产方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于手机配件技术领域,具体涉及一种手机AG玻璃盖板的生产方法。一种手机AG玻璃盖板的生产方法,包含:开料,印刷,喷砂,清洗,抛光,退墨,检测,磨边,镀膜等步骤。本发明是为了解决现有技术的不足,提供一种手机AG玻璃盖板的生产方法。
Description
技术领域
本发明属于手机配件技术领域,具体涉及一种手机AG玻璃盖板的生产方法。
背景技术
手机盖板是手机配件的一种。随着科技的不断进步,越来越多的新型材料被用于生产和制造手机盖板。AG玻璃盖板手机盖板就是这些新型手机盖板中的一种。AG玻璃盖板手机盖板以其特用的防眩光功能越来越多的被用在了手机或者其他的电子产品的显示器上。
现有的AG玻璃盖板手机盖板多采用喷涂AG或者镀膜AG生产而成,此两种工艺所生产的手机盖板耐磨性差,硬度不够,用在手机显示器会出现刮痕。而采用化学蚀刻生产的AG玻璃手机盖板,在玻璃空气面直接经过化学预处理后做蒙砂抛光工序,此工艺制备的AG玻璃表面粒子颗粒度均匀性较差:粒子凹坑直径极差范围为40~60um。该方法加工的AG玻璃满足一般客户要求,但针对高端领域,AG面微光粒子均匀性达不到理想效果。
本发明是为了解决现有技术的不足,提供一种手机AG玻璃盖板的生产方法。
本发明是通过如下技术方案来实现的:
一种手机AG玻璃盖板的生产方法,包含如下步骤:
(1)开料:选择3D曲面玻璃作为原材料,根据产品图纸进行加工余量放量,加工余量放量的方法为单边留0.1mm作为余量,然后将放量后的产品尺寸数据输入到玻璃基板切割机里进行粗坯制作;
(2)印刷:将玻璃粗坯吸附在抛光设备上盘,启动抛光设备抛光3-6min,然后卸下用清洗机清洗干净,在玻璃的废工作面用抗酸油墨进行印刷;
(3)喷砂:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1; 然后对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
(4)清洗:采用超声波清洗,清洗掉玻璃板表面残留的废渣;
(5)抛光:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产;
(6)退墨:采用退墨剂除去玻璃非工作面的抗酸油墨并对将玻璃两面清洗干净;
(7)检测:人工检测,去掉有破裂、刮花、污点污渍和透过率<89%、清晰度<79、解析度<3:1的玻璃产品;
(8)磨边:采用精雕机砂轮对毛坯玻璃进行磨边,去除余量,并通过钻头将玻璃原料进行倒边和钻孔,用细砂轮对外形及摄像头孔精加工,加工精度达0.01mm;
(9)采用氢氧化钠溶液,在600℃条件下对玻璃产品进行钢化处理,钢化处理的时间为4-6h;对钢化后的玻璃产品进行落球测试,确保玻璃产品可以经受60-130g钢球从65cm处落下的冲击;
(10)镀膜:用弱碱性的清洗剂清洗玻璃产品表面后,将AF药液镀在玻璃产品表面成膜,
(11)在烤箱中在120℃条件下烤30min后取出清洗,对清洗过后的产品进行包装即得产品。
优选的,所述的AG玻璃抛光液包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
优选的,所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。
与现有技术相比,本发明通过增加一道物理抛光工序来提高AG玻璃表面微观颗粒度,提高均匀性,粒子凹坑直径极差由原来的40~60um,提高到极差在10以内。同时,因为粒子凹坑均匀性提高,AG制程中的暗斑和暗点蚀刻不良减少,不良率由原来的10%以上下降到到3%以下。将本发明的方法用于制作手机盖板,所生产出来的手机盖板透过率≥89%、清晰度≥79、解析度≥3:1,能够很好的满足手机使用者的需求。本发明的方法还对手机盖板进行了钢化处理和镀膜处理,使得所得到的手机盖板强度大大的提高,同时不会因长期触摸而产生指纹。
具体实施方式
下面结合实施例对发明做进一步说明,但本发明的保护范围不受实施例所限制。
实施例1
一种手机AG玻璃盖板的生产方法,包含如下步骤:
(1)开料:选择3D曲面玻璃作为原材料,根据产品图纸进行加工余量放量,加工余量放量的方法为单边留0.1mm作为余量,然后将放量后的产品尺寸数据输入到玻璃基板切割机里进行粗坯制作;
(2)印刷:将玻璃粗坯吸附在抛光设备上盘,启动抛光设备抛光3-6min,然后卸下用清洗机清洗干净,在玻璃的废工作面用抗酸油墨进行印刷;
(3)喷砂:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1; 然后对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
(4)清洗:采用超声波清洗,清洗掉玻璃板表面残留的废渣;
(5)抛光:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产;
(6)退墨:采用退墨剂除去玻璃非工作面的抗酸油墨并对将玻璃两面清洗干净;
(7)检测:人工检测,去掉有破裂、刮花、污点污渍和透过率<89%、清晰度<79、解析度<3:1的玻璃产品;
(8)磨边:采用精雕机砂轮对毛坯玻璃进行磨边,去除余量,并通过钻头将玻璃原料进行倒边和钻孔,用细砂轮对外形及摄像头孔精加工,加工精度达0.01mm;
(9)采用氢氧化钠溶液,在600℃条件下对玻璃产品进行钢化处理,钢化处理的时间为4-6h;对钢化后的玻璃产品进行落球测试,确保玻璃产品可以经受60-130g钢球从65cm处落下的冲击;
(10)镀膜:用弱碱性的清洗剂清洗玻璃产品表面后,将AF药液镀在玻璃产品表面成膜,
(11)在烤箱中在120℃条件下烤30min后取出清洗,对清洗过后的产品进行包装即得产品。
优选的,所述的AG玻璃抛光液包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
优选的,所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。
采用本实施例的方法进行手机盖板生产,能够适用于绝大多数的手机产品。
Claims (3)
1.一种手机AG玻璃盖板的生产方法,其特征在于,包含如下步骤:
(1)开料:选择3D曲面玻璃作为原材料,根据产品图纸进行加工余量放量,加工余量放量的方法为单边留0.1mm作为余量,然后将放量后的产品尺寸数据输入到玻璃基板切割机里进行粗坯制作;
(2)印刷:将玻璃粗坯吸附在抛光设备上盘,启动抛光设备抛光3-6min,然后卸下用清洗机清洗干净,在玻璃的废工作面用抗酸油墨进行印刷;
(3)喷砂:对玻璃的工作面用药液进行预洗1-5min;药液主要成分为稀释的氢氟酸和硫酸,其中氢氟酸的浓度为2%;硫酸的浓度为1%;氢氟酸与硫酸的质量比2:1; 然后对玻璃工作面在蒙砂设备上,用蒙砂药液进行蒙砂处理50-100s,使玻璃工作面形成大小形状相似的非透明的微观凹坑形貌;
(4)清洗:采用超声波清洗,清洗掉玻璃板表面残留的废渣;
(5)抛光:对玻璃工作面在化学抛光设备上,用AG玻璃抛光液进行抛光处理20-30min,使玻璃工作面上的非透明微观凹坑形貌处理透亮,达到漫反射效果从而形成AG防炫效果,即可完成AG玻璃的生产;
(6)退墨:采用退墨剂除去玻璃非工作面的抗酸油墨并对将玻璃两面清洗干净;
(7)检测:人工检测,去掉有破裂、刮花、污点污渍和透过率<89%、清晰度<79、解析度<3:1的玻璃产品;
(8)磨边:采用精雕机砂轮对毛坯玻璃进行磨边,去除余量,并通过钻头将玻璃原料进行倒边和钻孔,用细砂轮对外形及摄像头孔精加工,加工精度达0.01mm;
(9)采用氢氧化钠溶液,在600℃条件下对玻璃产品进行钢化处理,钢化处理的时间为4-6h;对钢化后的玻璃产品进行落球测试,确保玻璃产品可以经受60-130g钢球从65cm处落下的冲击;
(10)镀膜:用弱碱性的清洗剂清洗玻璃产品表面后,将AF药液镀在玻璃产品表面成膜,
(11)在烤箱中在120℃条件下烤30min后取出清洗,对清洗过后的产品进行包装即得产品。
2.根据权利要求1所述的一种手机AG玻璃盖板的生产方法,其特征在于,所述的AG玻璃抛光液包括如下重量份的原料组成:CeO2占质量比为25%,La2O3占质量比为20%,质量浓度为40%的氢氟酸质量比为25%;质量浓度为40%硫酸占质量比为17%;质量浓度为75%硝酸占质量比为8%。
3.根据权利要求1所述的一种手机AG玻璃盖板的生产方法,其特征在于,所述的蒙砂药液成分及质量分数占比分别为:氟化氢铵50%~55%;氟硅酸铵3.5%~4%;淀粉6%~7%;柠檬酸13%~15%;氟化钙1.5%;水20%。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
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