CN113747710A - 盖板及其制备方法、电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种盖板及其制备方法、电子设备。该盖板的制备方法中，先在盖板基材的表面形成遮蔽膜，遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区；盖板基材为玻璃时，在盖板基材上对应镂空区的区域形成疏水膜，再去除遮蔽膜，得到预制盖板；或盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶时，对盖板基材上对应镂空区的区域进行喷砂处理，再去除遮蔽膜，盖板基材上对应遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板；最后采用UV胶水对预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成UV固化膜，UV固化膜的厚度高于疏水膜的厚度。如此，能在盖板基材表面形成具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且制备过程中不需要热压或高压压制，良品率高。

Description

盖板及其制备方法、电子设备
技术领域
本发明涉及电子产品制备技术领域，特别是涉及一种盖板及其制备方法、电子设备。
背景技术
目前，电子设备的保护盖板的主流材质为玻璃、塑胶及陶瓷，盖板的制备常采用内装饰工艺，将油墨装饰层设置在盖板与器件接触的一面，称之为内表面，另一面则为外表面。利用盖板良好的通透性，用户可透过盖板的外表面看到油墨层呈现出的装饰效果。然而，传统的内装饰工艺只能应用于简单曲面玻璃的装饰，复杂曲面玻璃如四曲面玻璃或双曲面玻璃等对装饰的工艺条件要求苛刻，传统的内装饰工艺应用于制备复杂的曲面玻璃盖板时，玻璃形状会限制装饰方式的应用，影响装饰效果，大大限制了盖板的发展。且内装饰工艺的发展已接近瓶颈期，很难再有突破性的进步。技术人员将目光转移到在盖板的外表面进行装饰的外装饰工艺上。
技术人员尝试在玻璃的外表面进行装饰，例如通过镀膜工艺在玻璃外表面镀上硬质膜，或在玻璃盖板表面装饰纹理结构，一般通过热压凸纹理工艺或UV转印凸纹理工艺。然而，通过镀膜工艺在玻璃外表面镀上硬质膜时，在镀膜过程中，玻璃表面容易被划伤，导致制得的玻璃盖板的力学性能下降。在玻璃表面热压纹理时，尤其在热压复杂图案时，纹理图案的局部容易被破坏；而UV转印纹理图案的工艺需要在高压后进行压制，成本高，且易开裂，在转印复杂图案时，产品的良品率较低。
因此，现有技术仍有待改进。
发明内容
基于此，本发明提供了一种盖板及其制备方法、电子设备，该制备方法能制得具有精细的纹理装饰效果的盖板，且能提高良品率。
本发明的技术方案如下。
本发明的一方面提供了一种盖板的制备方法，包括如下步骤：
在盖板基材的表面形成遮蔽膜；所述遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区；
所述盖板基材为玻璃，在所述盖板基材上对应所述镂空区的区域形成疏水膜，再去除所述遮蔽膜，得到预制盖板；或
所述盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶，对所述盖板基材上对应所述镂空区的区域进行喷砂处理，再去除所述遮蔽膜，所述盖板基材上对应所述遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板；
采用UV胶水对所述预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成UV固化膜，所述UV固化膜的厚度高于所述疏水膜的厚度。
在其中一些实施例中，所述UV胶水的粘度为50Cps～800Cps。
在其中一些实施例中，所述UV固化膜的厚度高于所述疏水疏的厚度10μm～250μm。
在其中一些实施例中，所述涂布的步骤采用淋涂或刮涂进行，所述涂布的速度为500rpm～2000rpm，时间为0.2min～1min；或
所述涂布的步骤采用浸涂进行，所述涂布的时间为0.1min～1min；和/或
所述盖板基材为玻璃，所述在盖板基材的表面形成遮蔽膜的步骤如下：
在盖板基材的表面贴合镂空膜层、丝网印刷或曝光显影，以形成所述遮蔽膜。
在其中一些实施例中，在盖板基材的表面丝网印刷或曝光显影在盖板基材的表面形成遮蔽膜，所述去除遮蔽膜的步骤如下：
将形成疏水膜的盖板置于碱液中浸泡2min～5min；
所述碱液的质量浓度为3％～5％。
在其中一些实施例中，所述疏水膜为防指纹膜或Hard Coat，厚度为20nm～40nm；和/或
所述喷砂处理在0.2Mpa～0.4Mpa下进行。
在其中一些实施例中，在所述涂布的步骤之后、且在所述固化的步骤之前，还包括将涂布后的UV胶水进行流平的步骤；和/或
在所述固化的步骤之后，还包括在所述UV固化膜和所述疏水膜对应的区域表面形成功能膜的步骤。
在其中一些实施例中，所述固化的步骤采用紫外固化进行，所述紫外固化采用的紫外光源的能量为800mi/cm2～1200mi/cm2。
本发明的另一方面，提供一种盖板，采用权利如上所述的盖板的制备方法制得。
本发明还提供一种电子设备，包括如上所述的盖板。
上述盖板的制备方法中，先在盖板基材的表面形成遮蔽膜，遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区，与盖板基材的表面贴合后，盖板基材的表面上与遮蔽区对应的区域会形成遮蔽区，与镂空区对应的区域形成未被遮盖的区域；盖板基材为玻璃时，在盖板基材上对应镂空区的区域形成疏水膜，再去除遮蔽膜，而盖板基材上去遮蔽膜后的区域(即对应遮蔽区的区域)为亲水区，得到预制盖板；或盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶时，对盖板基材上对应镂空区的区域进行喷砂处理，如此去除盖板基材上对应镂空区的区域覆盖的疏水膜，亲水区；再去除遮蔽膜，盖板基材上对应遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板；最后采用UV胶水对预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成固化膜；在涂布的过程中，UV胶水会停留在亲水的区域，而无法与疏水膜对应的区域有效接触停留；固化后的UV固化膜和疏水膜共同形成装饰层，且UV固化膜的厚度高于疏水膜的厚度。如此，形成具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且制备过程中不需要热压或高压压制，良品率高。
同时，遮蔽膜的形状或大小可以按照实际需求进行设计，从而在盖板基材表面形成各种复杂图案，且图案精细，良品率高，能满足对盖板装饰的多样性及大规模生产的需求。
进一步地，通过调控UV胶水的粘度或涂布工艺，可以调节图案的精细度和立体效果。
附图说明
图1为实施例1中在盖板基材的表面形成遮蔽膜的示意图；
图2为实施例1制得的预制盖板的示意图；
图3为实施例1制得的盖板的俯视示意图；
图4为实施例1制得的盖板的侧面示意图；
图5为实施例1制得的盖板的照片；
图6为实施例3制得的盖板的照片。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
传统技术中，制备盖板时，传统的内装饰工艺只能应用于简单曲面玻璃的装饰，复杂曲面玻璃如四曲面玻璃或双曲面玻璃等对装饰的工艺条件要求苛刻，传统的内装饰工艺应用于制备复杂的曲面玻璃盖板时，玻璃形状会限制装饰方式的应用，影响装饰效果，大大限制了盖板的发展。且内装饰工艺的发展已接近瓶颈期，很难再有突破性的进步。技术人员将目光转移到在盖板的外表面进行装饰的外装饰工艺上。
技术人员尝试在玻璃的外表面进行装饰，例如通过镀膜工艺在玻璃外表面镀上硬质膜，或在玻璃盖板表面装饰纹理结构，一般通过热压凸纹理工艺或UV转印凸纹理工艺。然而，通过镀膜工艺在玻璃外表面镀上硬质膜时，在镀膜过程中，玻璃表面容易被划伤，导致制得的玻璃盖板的力学性能下降。在玻璃表面热压纹理时，尤其在热压复杂图案时，纹理图案的局部容易被破坏；而UV转印纹理图案的工艺需要在高压后进行压制，成本高，且易开裂，在转印复杂图案时，产品的良品率较低。
基于此，本发明的技术人员通过大量的创造性研究后，研发出了本发明中不需要热压或高压压制，就能制得具有精细的纹理装饰效果的盖板，且能提高良品率的盖板的制备方法。
本发明一实施方式提供了一种盖板的制备方法，包括如下步骤S10～S30。
步骤S10、在盖板基材的表面形成遮蔽膜，遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区。
步骤S20、盖板基材为玻璃，在盖板基材上对应镂空区的区域形成疏水膜，再去除遮蔽膜，得到预制盖板；或
盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶，对盖板基材上对应所述镂空区的区域进行喷砂处理，再去除遮蔽膜，盖板基材上对应遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板。
上述盖板的制备方法中，先在盖板基材的表面形成遮蔽膜，遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区，与盖板基材的表面贴合后，盖板基材的表面上与遮蔽区对应的区域会形成遮蔽区，与镂空区对应的区域形成未被遮盖的区域；盖板基材为玻璃时，在盖板基材上对应镂空区的区域形成疏水膜，再去除遮蔽膜，而盖板基材上去遮蔽膜后的区域(即对应遮蔽区的区域)为亲水区，得到预制盖板；或盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶时，对盖板基材上对应镂空区的区域进行喷砂处理，如此去除盖板基材上对应镂空区的区域覆盖的疏水膜，亲水区；再去除遮蔽膜，盖板基材上对应遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板。
步骤S30、采用UV胶水对步骤S20获得的预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成UV固化膜，UV固化膜的厚度高于疏水膜的厚度，得到盖板。
采用UV胶水对预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成固化膜；在涂布的过程中，UV胶水会停留在亲水的区域，而无法与疏水膜对应的区域有效接触停留；固化后的UV固化膜和疏水膜共同形成装饰层，且UV固化膜的厚度高于疏水膜的厚度。如此，形成具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且制备过程中不需要热压或高压压制，良品率高。
同时，遮蔽膜的形状或大小可以按照实际需求进行设计，从而在盖板基材表面形成各种复杂图案，且图案精细，良品率高，能满足对盖板装饰的多样性及大规模生产的需求。
在其中一些实施例中，步骤S10中，盖板基材为玻璃，在盖板基材的表面形成遮蔽膜的步骤如下：
在盖板基材的表面贴合镂空膜层、丝网印刷或曝光显影，以形成遮蔽图膜。
可理解，根据实际需求，涉及制备具有特定图案的镂空膜层、或丝网印刷网板或喷涂油层进行曝光显影，从而在盖板基材的表面形成遮蔽膜。
在一具体的示例中，盖板基材为玻璃，通过在盖板基材的表面贴合镂空膜层，形成遮蔽膜。请参照图1，镂空膜层具有遮蔽区和镂空区，镂空区具有多条平行的镂空条纹。由于镂空图膜具有镂空处，与盖板基材的表面贴合后，盖板基材的表面上会形成被镂空图膜的遮蔽区遮盖的遮蔽区110，以及未被镂空图膜遮盖的区域，及镂空区对应的区域120。
在其中一些实施例中，在盖板基材的表面丝网印刷或曝光显影在盖板基材的表面形成遮蔽膜，去除遮蔽膜的步骤如下：
将形成疏水膜的盖板置于碱液中浸泡2min～5min；
碱液的质量浓度为3％～5％。
进一步地，浸泡的温度为60℃～80℃。
采用丝网印刷或曝光显影形成镂空图案时，需要通过在盖板基材的表面形成油墨层或感光油层，故去除镂空图膜时，采用碱液浸泡以褪除油墨层或感光油层。
在其中一些实施例中，采用在盖板基材的表面贴合镂空膜层形成遮蔽膜，在去除遮蔽膜的步骤中，可以直接通过手动或机械撕除遮蔽膜。
进一步地，步骤S20中，盖板基材为玻璃，在盖板基材上对应镂空区的区域形成疏水膜的步骤采用真空溅射镀膜、化学沉积或涂覆的方式。
在其中一些实施例中，表面覆盖疏水膜的塑胶的制备步骤如下：
在塑胶基材的表面淋涂疏水涂料，固化，得到表面覆盖疏水膜的塑胶。
在其中一些实施例中，上述疏水膜为防指纹膜或Hard Coat，厚度为20nm～40nm。
相对于镂空区对应的盖板基材的表面或喷砂处理后的塑胶表面，疏水膜表面更光滑，与液体的接触角很大，即不容易被液体润湿，在涂布的过程中，UV胶水与疏水膜无法进有效接触。
具体地，防指纹膜采用AF膜。此处对AF膜的材料进行介绍，包括但不限于如下材料：
AF是Anti-Fingerprint的缩写，意思是抗指纹膜，具备疏水性，可以抗指纹、抗污，且易清洁。常用的AF膜的材料为含氟材料。
此处对AF膜的材料进行举例，包括但不限于AF药丸或980AF-3材料。
具体地，盖板基材为玻璃，疏水膜为防指纹膜。表面覆盖疏水膜的塑胶中的疏水膜为Hard Coat。
在一具体的示例中，盖板基材为玻璃，采用在盖板基材的表面贴合镂空膜层的方式形成遮蔽膜，然后采用AF药丸对盖板基材上对应镂空区的区域的表面进行镀膜，形成疏水膜，再直接撕除镂空图膜。如此，在盖板基材的表面形成精细图案，得到具有预制图案的预制盖板。具体请参照图2，在预制盖板的表面上，撕除镂空图膜形成亲水区域130，对应镂空区的区域会形成疏水区域140。
在其中一些实施例中，上述盖板基材为玻璃。进一步地，玻璃为经钢化处理的钢化玻璃。
在其中一些实施例中，塑胶选自PC(聚碳酸酯)、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、SAN(丙烯腈-苯乙烯共聚物)、PP(聚丙烯)、PE(聚乙烯)、Nylon(尼龙)、POM(聚甲醛)、PVC(聚氯乙烯)、PS(聚苯乙烯)、ABS(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物)和PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)中的一种或多种的复合材料。
在其中一些实施例中，步骤S20中，喷砂处理在0.2Mpa～0.4Mpa下进行。
进一步地，喷砂处理的时间为1s/cm2-5s/cm2。
具体地，喷砂处理采用的砂粒为300目～800目的钢玉。
在其中一些实施例中，步骤S30中，UV胶水的粘度为50Cps～800Cps。
在其中一些实施例中，步骤S30中，涂布的步骤采用淋涂或刮涂进行，涂布的速度为500rpm～2000rpm，时间为0.1min～1min。
在其中一些实施例中，涂布的步骤采用浸涂进行，涂布的时间为1min～2min。
通过调控UV胶水的粘度或涂布工艺，可以调控形成的图案的凸纹的高度，从而调节图案的精细度和立体效果。
进一步地，上述盖板基材为玻璃，涂布的步骤采用淋涂或刮涂进行；上述盖板基材为塑胶，涂布的步骤采用浸涂进行。
在一具体的示例中，上述盖板基材为玻璃，涂布的步骤采用淋涂进行。在涂布的过程中，UV胶水会停留在亲水的区域，而无法与疏水的区域有效接触停留；请参考图3，固化后形成较高的UV固化膜150，而疏水膜160较低。如此，UV固化膜和疏水共同形成装饰图层具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且制备过程中不需要热压或高压压制，良品率高。进一步地，盖板的侧面示意图，可以看出，盖板具有凹凸感的立体纹理。
在其中一些实施例中，UV固化膜的厚度高于疏水膜的厚度10μm～250μm。
具体地，请参考图3，盖板表面具有多个平行的条形的亲水的区域，每个平行的条形的亲水的区域的宽度为0.1mm～5mm。
通过调控条形的亲水的区域的宽度、UV胶水的粘度或涂布工艺，可以调节UV固化膜和疏水膜的厚度差，从而调节图案的精细度和立体效果。
需要说明的是，UV固化膜和疏水膜的厚度差即为形成的装饰层的凸纹的高度。
例如，调控每个条形的亲水的区域的宽度为0.1mm，UV胶水的粘度为50CPS，固化后，形成凸纹理的高度为10μm～12μm。
调控每个条形的亲水的区域的宽度为5mm，UV胶水的粘度为50CPS，固化后，形成凸纹理的高度为150μm～165μm。
调控每个条形的亲水的区域的宽度为0.1mm，UV胶水的粘度为500Cps，固化后，形成凸纹理的高度为10μm～12μm。
调控每个条形的亲水的区域的宽度为5mm，UV胶水的粘度为500CPS，固化后，形成凸纹理的高度为190μm～205μm。
在其中一些实施例中，步骤S20中，固化的步骤采用紫外固化进行，紫外固化采用的紫外光源的能量为800mi/cm2～1200mi/cm2。
通过调控固化的条件，进一步提高制得的盖板的强度。
在其中一些实施例中，在涂布的步骤之后、且在固化的步骤之前，还包括将涂布后的表面进行流平的步骤。
通过流平的步骤，可以使UV胶水在盖板基材的表面均匀过渡，形成均匀的纹理图案。
进一步地，流平的步骤的条件为：于40℃～70℃下流平0.5min～5min。
在其中一些实施例中，在固化的步骤之后，还包括在固化后的UV固化膜和疏水膜对应的区域表面形成功能膜的步骤。
可理解，根据实际应用的需求，在UV固化膜和疏水膜形成的装饰膜的表面形成进行镀膜，以镀上功能性膜层，例如防指纹膜、防静电膜等。
本发明一实施方式还提供一种盖板，采用如上所述的盖板的制备方法制得。
该盖板的纹理精细，且可以呈现复杂多变的视觉效果。
进一步地，本发明还提供一种电子设备，包括如上所述的盖板。
该电子设备可以呈现复杂多变的视觉效果。
在其中一些实施例中，在上述电子设备中，盖板作为电子设备的保护后盖，且盖板中具有图案的一面作为保护后盖的外表面。
上述电子设备包括但不限于手机、平板电脑、数码相机、GPS及点播机等。
下面将结合具体的实施例对本发明进行了说明，但本发明并不局限于下述实施例，应当理解，所附权利要求概括了本发明的范围，在本发明构思的引导下本领域的技术人员应意识到，对本发明的各实施例所进行的一定的改变，都将被本发明的权利要求书的精神和范围所覆盖。
具体实施例
以下为具体实施例。
实施例1
(1)提供钢化后的钢化2D玻璃基板，厚度为0.7mm。
(2)请参照图1。钢化2D玻璃的表面贴合镂空膜层形成遮蔽膜。镂空膜层具有多条平行的镂空区。由于镂空图膜具有镂空处，与盖板基材的表面贴合后，盖板基材的表面上会形成被镂空图膜遮盖的遮蔽区110以及未被镂空图膜遮盖的区域120。
(3)采用AF药丸对盖板基材上未被镂空图膜遮盖的区域120进行镀膜，形成疏水膜，厚度为20-40nm，再直接撕除镂空膜，如此，在盖板基材的表面形成精细图案，得到具有预制图案的预制盖板，具体请参照图2，盖板基材对应遮蔽区110的区域撕除镂空图膜后形成多个平行的条形的亲水的区域130，以及多个平行的条形的疏水的图案区域140，得到预制盖板。
(4)采用UV胶水对预制盖板表面进行淋涂，UV胶水粘度为60-300CPS，淋涂的速度为200-1000rpm，时间为1min，淋涂完毕后，于60℃下流平排泡5min。然后经UV固化，UVA能量控制在800-1200mj/cm2，固化0.2-0.5min，得到盖板。请参考图3，固化后的图案区域形成较高的UV固化膜，为凸区150，而疏水的区域膜较低，为凹区160。如此，UV固化膜和疏水膜共同形成具有凹凸感的立体纹理装饰层，图案精细，且无翘曲及变形问题。盖板的侧面示意图如图4，UV固化膜和疏水膜的厚度差为50-70μm。盖板的照片如图5所示，可以看出，盖板具有凹凸感的立体纹理。
(5)重复步骤(1)～(4)100次，获得100片盖板，检测盖板图案是否完整、是否村子翘曲及变形问题，没有即为合格产品，有即为不合格产品。以合格产品与盖板总数的百分比值为良品率。结果表明：采用实施例1的方法制得的盖板的良品率为90％。
实施例2
(1)提供透明玻璃盖板，厚度为0.68mm。
(2)在复合板的表面使用420目网板丝印保护油，单片保护油厚度控制在±2um，然后经UV固化能量2000mj/cm2，再于140℃下IR烘烤40s成型，表面保护油层不开裂及不掉胶，在复合板的表面形成镂空膜层，镂空膜层具有多条平行的镂空条纹，具体请参照实施例1步骤(2)中的镂空图膜。由于镂空图膜具有镂空处，盖板基材的表面上会形成被镂空图膜遮盖的遮蔽区以及未被镂空图膜遮盖的区域。
(3)采用AF药丸对盖板基材上未被镂空图膜遮盖的区域进行镀膜，形成疏水膜，厚度为20～40nm，然后将复合板浸泡在5％NaOH水溶液中，于60℃浸泡5h，以褪除镂空图膜，如此，在盖板基材的表面形成精细图案，得到具有预制图案的预制盖板，预制盖板的表面上会形成多个平行的条形的亲水的图案区域，及多个平行的条形的疏水的区域。
(4)将预制盖板经UV胶水槽下拉浸泡UV胶水(胶水的型号为3395-002)，UV胶水粘度为800CPS，浸泡时间为1min，浸泡完毕后，于1min内将预制盖板上拉，于60℃下流平排泡5min。然后经UV固化，UVA能量控制在800-1200mj/cm2，固化40min，得到盖板。固化后的UV固化膜较高，而疏水膜较低，UV固化膜和疏水膜共同形成具有凹凸感的立体纹理装饰层，UV固化膜和疏水膜的厚度差为30～150μm。如此，形成具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且无翘曲及变形问题。
(5)重复步骤(1)～(4)100次，获得100片盖板，检测盖板图案是否完整、是否村子翘曲及变形问题，没有即为合格产品，有即为不合格产品。以合格产品与盖板总数的百分比值为良品率。
结果表明：采用实施例2的方法制得的盖板的良品率为90％。
实施例3
(1)提供透明采0.5mm后的透明PC板材。
(2)在PC板材外表面淋涂Hard Coat并固化形成疏水膜，然后贴合使镂空保护膜，镂空保护膜的形状同实施例1中的镂空图膜，具有多条平行镂空区和遮蔽区。然后对PC板材对应镂空区的区域进行喷砂，喷砂压力为0.2～0.4Mpa，砂粒选择200～600目的棕钢玉，以除去PC板材对应镂空区的区域的疏水膜，形成亲水区。然后撕除镂空图膜，形成疏水区，清洗，得预制盖板。
(3)使用仿型点胶设备在预制盖板表面进行涂胶(胶水的型号为3395-002)，再于60℃下流平排泡5min。最后经UV固化，得到盖板。固化后的UV固化膜较高，而疏水膜层较低，UV固化膜和疏水膜共同形成具有凹凸感的立体纹理装饰层，UV固化膜和疏水膜的厚度差为30～150μm。如此，形成具有凹凸感的立体纹理图案，图案精细，且无翘曲及变形问题。其中，UVA能量控制在800～1200mj/cm2。盖板的照片如图6所示。
(3)重复步骤(1)～(3)100次，获得100片盖板，检测盖板图案是否完整、是否村子翘曲及变形问题，没有即为合格产品，有即为不合格产品。以合格产品与盖板总数的百分比值为良品率。
结果表明：采用实施例3的方法制得的盖板的良品率为92％。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种盖板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在盖板基材的表面形成遮蔽膜；所述遮蔽膜具有遮蔽区和镂空区；
所述盖板基材为玻璃，在所述盖板基材上对应所述镂空区的区域形成疏水膜，再去除所述遮蔽膜，得到预制盖板；或
所述盖板基材为表面覆盖疏水膜的塑胶，对所述盖板基材上对应所述镂空区的区域进行喷砂处理，再去除所述遮蔽膜，所述盖板基材上对应所述遮蔽膜的区域保留疏水膜，得到预制盖板；
采用UV胶水对所述预制盖板具有疏水膜的表面进行涂布，固化形成UV固化膜，所述UV固化膜的厚度高于所述疏水膜的厚度。
2.如权利要求1所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述UV胶水的粘度为50Cps～800Cps。
3.如权利要求1所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述UV固化膜的厚度高于所述疏水膜的厚度10μm～250μm。
4.如权利要求1～3任一项所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述涂布的步骤采用淋涂或刮涂进行，所述涂布的速度为500rpm～2000rpm，时间为0.5min～1min；或
所述涂布的步骤采用浸涂进行，所述涂布的时间为0.5min～2min；和/或
所述盖板基材为玻璃，所述在盖板基材的表面形成遮蔽膜的步骤如下：
在盖板基材的表面贴合镂空膜层、丝网印刷或曝光显影，以形成所述遮蔽膜。
5.如权利要求4所述的盖板的制备方法，其特征在于，在盖板基材的表面丝网印刷或曝光显影在盖板基材的表面形成遮蔽膜，所述去除遮蔽膜的步骤如下：
将形成疏水膜的盖板置于碱液中浸泡2min～5min；
所述碱液的质量浓度为3％～5％。
6.如权利要求1～3任一项所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述疏水膜为防指纹膜或Hard Coat，厚度为20nm～40nm；和/或
所述喷砂处理在0.2Mpa～0.4Mpa下进行。
7.如权利要求1～3任一项所述的盖板的制备方法，其特征在于，在所述涂布的步骤之后、且在所述固化的步骤之前，还包括将涂布后的UV胶水进行流平的步骤；和/或
在所述固化的步骤之后，还包括在所述UV固化膜和所述疏水膜对应的区域表面形成功能膜的步骤。
8.如权利要求1～3任一项所述的盖板的制备方法，其特征在于，所述固化的步骤采用紫外固化进行，所述紫外固化采用的紫外光源的能量为800mi/cm2～1200mi/cm2。
9.一种盖板，采用权利要求1至8任一项所述的盖板的制备方法制得。
10.一种电子设备，其特征在于，包括如权利要求9所述的盖板。
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