CN108239745A - 一种在金属基材上形成双色双质感pvd膜层的方法及由此得到的金属基材 - Google Patents

一种在金属基材上形成双色双质感pvd膜层的方法及由此得到的金属基材 Download PDF

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Abstract

本发明涉及图案加工技术领域，公开了一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法及由此得到的金属基材。该方法包括：(1)将金属基材进行一次PVD镀膜处理，以在金属基材上形成两种不同颜色的底层膜层和顶层膜层；(2)在顶层膜层上设计所需要的图案，并在图案区涂覆遮蔽油墨，固化；(3)将步骤(2)得到的基材进行喷砂处理；(4)除去非图案区裸露的顶层膜层；(5)除去图案区固化的遮蔽油墨。本发明的方法能够实现在同一炉体内一次性在金属基材上完成双色双质感PVD膜层的镀膜且不会出现爆膜现象，减少了PVD镀膜工序，大大缩短了时间，节约了成本，且产品良率明显提高。

Description

一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法及由此得 到的金属基材
技术领域
本发明涉及图案加工技术领域，具体地，涉及一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法及由此得到的金属基材。
背景技术
随着科学技术的发展，人们对在金属基材表面制作的双色双质感PVD(物理气相沉积)膜层的要求越来越高。现有金属基材表面双色双质感PVD膜层的制作工艺为：金属基材—清洗—A色PVD镀膜—喷UV油墨—曝光—显影—除去未固化油墨—喷砂—清洗—B色PVD镀膜-退漆—清洗—镀防指纹膜，该工艺需要进行两次不同的PVD镀膜，由于PVD镀膜过程费时，尤其是当进行两次PVD镀膜时工序时间会进一步增加，因此导致工序时间加长，耗费人力物力增多，产品良率低。同时该工艺的复杂性也使得颜色的多样化受到限制。若在同一炉体内一次性进行两层不同颜色PVD镀膜，往往会出现爆膜的问题，因此，研发一种能够在同一炉体内一次性完成两层不同颜色PVD镀膜且不会出现爆膜现象的工艺，具有重要的现实意义和市场应用前景。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术中存在的上述缺陷，提供一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法及由此得到的金属基材，本发明的方法能够实现在同一炉体内一次性在金属基材上完成双色双质感PVD膜层的镀膜且不会出现爆膜现象，减少了PVD镀膜工序，大大节约了人力物力成本和时间成本，且产品良率明显提高。
为了实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法，该方法包括：
(1)将金属基材进行一次PVD镀膜处理，以在金属基材上形成两种不同颜色的底层膜层和顶层膜层；
(2)在步骤(1)得到的顶层膜层上设计所需要的图案，并在图案区和任选的非图案区涂覆遮蔽油墨，固化，然后除去任选的非图案区的遮蔽油墨；
(3)将步骤(2)得到的基材进行喷砂处理；
(4)除去非图案区裸露的顶层膜层，以露出非图案区的底层膜层；
(5)除去图案区固化的遮蔽油墨，以露出图案区的顶层膜层。
第二方面，本发明提供了一种金属基材，所述金属基材上形成有双色双质感PVD膜层，所述金属基材由本发明所述的方法制备得到。
本发明的方法以金属基材作为素材，能够实现在同一炉体内一次性在金属基材上完成两层不同颜色PVD膜层的镀膜且不会出现爆膜现象，减少了镀膜工序，大大节约了人力物力成本和时间成本，且产品良率明显提高；另外，喷砂处理的引入使得图案区为光面，非图案区为磨砂面(形成磨砂面质感)，从而使得在金属基材上形成的膜层为双色双质感(双质感即为在同一金属壳表面呈现光面和磨砂面两种质感。)PVD膜层。其中，通过严格控制物理气相沉积(如磁控溅射处理)的工艺参数，解决了现有方法中在同一炉体内一次性在金属基材上进行两层不同颜色PVD镀膜往往出现爆膜现象的问题，与现有双色双质感PVD镀膜方法相比，实现了在同一炉体内在金属基材上完成两层不同颜色PVD镀膜且不会出现爆膜现象，减少了一次PVD镀膜工序，有效缩短了工艺时间(平均做一次完整PVD镀膜流程需要7个小时左右)，降低成本，且产品良率明显提高，且得到的形成有双色双质感膜层的金属基材具有优异的附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能、耐刮擦性能、耐化学品性能和耐脏污性能，尤其是在百格附着力测试、振动耐磨测试、盐水喷雾试验和钢丝绒测试中具有优异的附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能和耐刮擦性能。同时，本发明的方法能够同时实现图案或LOGO与主体呈现不同颜色和不同的质感效果，颜色和质感选择多样化，丰富了膜层的颜色种类，能够提供更多在金属基材表面制作不同色彩、纹理、图文的可能性。
具体地，根据本发明的一种优选的实施方式，本发明的方法根据需要对金属基材表面进行适当的预处理，然后通过控制PVD镀膜的工艺参数，仅采用一次PVD镀膜工序就实现了在同一炉体内在金属基材上完成两层不同颜色PVD镀膜且不会出现爆膜现象(打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层的总厚度为0.1-1μm)，接着在顶层膜层上涂覆感光材料，将设计制作好的菲林或掩膜板遮盖在感光材料上，进行曝光及显影，被曝光的感光材料固化，而未被曝光的感光材料被显影液清除掉，最终使得顶层膜层上覆盖的为设计所需要图案形状的固化的感光材料，未被固化的感光材料覆盖的顶层膜层裸露。喷砂工艺使得裸露的顶层膜层部分形成砂面金属质感，且喷砂的效果可以穿透到底层膜层，使顶层膜层去除后露出的底层膜层具有磨砂效果，而覆盖有固化的感光材料的顶层膜层则不会被砂面化。由于感光材料耐腐蚀，因此根据顶层膜层的材质配制适当的退膜液，对未被固化的感光材料覆盖的顶层膜层进行化学蚀刻处理，而覆盖有固化的感光材料的顶层膜层则不能被腐蚀，从而使得裸露的顶层膜层在退膜液的作用下逐渐被腐蚀而从金属基材表面去除。因为被曝光后固化的感光材料呈现设计所需要的图案，除去图案区固化的感光材料后露出图案区的光面顶层膜层，最终在金属基材表面形成所需要的设计好的图案。制作的菲林或掩膜板的精度可达到0.5μm以下的精度，因此最终在金属基材表面形成的图案可达0.5-5μm的线分辨率，从而实现在金属基材表面加工出高精度的图案。根据本发明的一种优选实施方式，对得到的双色双质感PVD膜层进行清洗，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，能够防止指纹印影响光面LOGO的质感，使产品更加美观，耐用。
本发明的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
具体实施方式
以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。
第一方面，本发明提供了一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法，该方法包括：
(1)将金属基材进行一次PVD镀膜处理，以在金属基材上形成两种不同颜色的底层膜层和顶层膜层；
(2)在步骤(1)得到的顶层膜层上设计所需要的图案，并在图案区和任选的非图案区涂覆遮蔽油墨，固化，然后除去任选的非图案区的遮蔽油墨；
(3)将步骤(2)得到的基材进行喷砂处理；
(4)除去非图案区裸露的顶层膜层，以露出非图案区的底层膜层；
(5)除去图案区固化的遮蔽油墨，以露出图案区的顶层膜层。
本发明的方法中，优选情况下，在进行所述一次PVD镀膜处理前，将所述金属基材进行预处理。其中，可以根据实际情况对金属基材进行相应的预处理，例如预处理可以包括将金属基材进行清洗，以除去金属基材表面的浮尘和油污。对于清洗的方法没有特别的限定，可以为本领域常用的各种方法，例如用水或清洗剂溶液在一定温度或超声条件下在清洗线上清洗，具体的操作为本领域技术人员所熟知，在此不再赘述。
本发明的方法中，优选情况下，步骤(1)中，一次PVD镀膜处理的方法包括：在金属基材上依次镀打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层。本发明的发明人在研究中进一步发现，严格控制所述一次PVD镀膜处理的条件参数，能够在实现在同一炉体内在金属基材上完成两层不同颜色膜层的镀膜且不会出现爆膜现象的基础上，进一步提高附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能和耐刮擦性能，因此，优选情况下，镀打底层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为2-20min；镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5.5-15kW，镀膜时间为5-50min；镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为1-10min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5-12kW，镀膜时间为5-40min。
进一步优选地，镀打底层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为5-10min；镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为6-10kW，镀膜时间为20-40min；镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为2-5min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10- 3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为20-30min。
其中，在镀膜前，还包括将除去浮尘和油污的金属基材进行离子清洗，离子清洗的功率可以包括：功率为5-15kW，时间为8-30min；优选地，功率为8-10kW，时间为10-20min。该离子清洗属于镀膜工艺里的清洗，在真空条件下用等离子体轰击金属基材表面，让表面附着的很小的灰尘去除，同时也可以起到加大金属基材表面致密程度的作用。
前述镀膜过程中，通入的气体种类及其气量，可以根据镀膜种类、颜色和使用的具体机台设定，此为本领域技术人员所熟知，在此不再赘述。
本发明的方法中，为了防止爆膜并缩短时间、提高生产效率，优选情况下，步骤(1)中，打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层的总厚度为0.1-1μm，优选为0.6-1μm。对于打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层各自的厚度没有特别的限定，可以根据实际需求进行设定，只要满足打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层的总厚度为0.1-1μm(优选为0.6-1μm)即可。
本发明的方法中，对于底层膜层和顶层膜层各自的颜色和材质没有特别的限定，可以根据实际需求进行选择，具体的选择为本领域技术人员所熟知，优选情况下，所述底层膜层和所述顶层膜层各自独立地为TiN、CrC、TiCN或CrN，所述打底层与所述底层膜层的金属种类相同，所述中间膜层与所述顶层膜层的金属种类相同，且所述底层膜层为含钛层、所述顶层膜层为含铬层，或者所述底层膜层为含铬层、所述顶层膜层为含钛层。本领域技术人员应该理解的是，打底层和中间膜层的作用都是为了增加相应膜层的附着力。
本发明的方法中，优选情况下，金属基材为不锈钢基材或铝合金基材。
本发明的方法中，步骤(2)中，“在图案区和任选的非图案区涂覆遮蔽油墨，固化，然后除去任选的非图案区的遮蔽油墨”是指可以不在非图案区涂覆遮蔽油墨而仅仅在图案区涂覆遮蔽油墨，此种情况下，也就不需要除去非图案区的遮蔽油墨(因为未在非图案区涂覆遮蔽油墨)；也可以同时在图案区和非图案区涂覆遮蔽油墨，固化后除去相应的非图案区的遮蔽油墨。因此，优选情况下，所述步骤(2)的实施方式包括：在步骤(1)得到的顶层膜层上设计所需要的图案，仅在图案区涂覆遮蔽油墨，固化；或者
在步骤(1)得到的顶层膜层上涂覆遮蔽油墨，设计所需要的图案并制作菲林或掩膜板，将菲林或掩膜板遮盖在遮蔽油墨上，曝光，然后用显影液清洗以除去未曝光的遮蔽油墨。
其中，遮蔽油墨可以为感光材料或热固性油墨，优选地，所述遮蔽油墨为感光材料，进一步优选为光刻胶或高解析度的光固化油墨，更进一步优选为UV油墨。
对于涂覆遮蔽油墨的方式没有特别的限定，可以为本领域技术人员熟知的各种方式，例如涂覆遮蔽油墨的方式可以为旋涂、浸涂、喷涂、辊涂、刮涂或丝网印刷，具体的方法为本领域技术人员所熟知，在此不再赘述。
优选地，遮蔽油墨的涂覆厚度为10-20μm。
本发明的方法中，优选情况下，曝光的条件包括：在激光、可见光、红外光或紫外光下曝光，曝光时间为0.1-10min。
优选地，除去未曝光的遮蔽油墨的条件包括：显影液的浓度为10-50重量％，温度为60-90℃，清洗时间为0.1-30min；进一步优选地，所述显影液为Na2CO3溶液、NaHCO3溶液、NaOH溶液、KOH溶液、Ba(OH)2溶液、K2CO3溶液、KHCO3溶液和氨水溶液中的至少一种。本领域技术人员应该理解的是，显影液的浓度为显影液中各溶质的总重量百分比。本领域技术人员可以根据显影液的浓度控制适当的清洗时间和显影液的温度。
本发明的方法中，对于喷砂处理没有特别的限定，可以为本领域常用的各种方法，为了实现更好的双质感，优选情况下，步骤(3)中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.23-0.25MPa，往复2-4次，走速为12-22Hz。其中，可以使用205陶瓷砂，摇摆频率可以为33Hz(机台固定频率)。
本发明的方法中，优选情况下，步骤(4)中，除去非图案区裸露的顶层膜层的方法包括：根据顶层膜层配制退膜液，使用所述退膜液清洗步骤(3)得到的基材，所述退膜液的浓度为10-40重量％，清洗温度为30-60℃，清洗时间为5-30min。本领域技术人员应该理解的是，退膜液的浓度为退膜液中各溶质的总重量百分比。本领域技术人员可以根据退膜液的浓度控制适当的清洗时间和退膜液的温度。其中，在使用退膜液去除顶层膜层的同时也会把中间膜层去掉。
为了实现仅仅除去顶层膜层和中间膜层而不会除去底层膜层，且将顶层膜层和中间膜层去除干净又不会过度腐蚀底层膜层的效果，优选地，顶层膜层为含钛层时所用的退膜液含有NaOH、双氧水、十二烷基磺酸钠、葡萄糖酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，NaOH的含量为1-10重量％，双氧水的含量为1-30重量％，十二烷基磺酸钠的含量为0.05-0.5重量％，葡萄糖酸钠的含量为0.5-10重量％。
为了实现仅仅除去顶层膜层和中间膜层而不会除去底层膜层，且将顶层膜层和中间膜层去除干净又不会过度腐蚀底层膜层的效果，优选地，顶层膜层为含铬层时所用的退膜液含有KMnO4、NaOH、葡萄糖酸钠、十二烷基硫酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，KMnO4的含量为5-40重量％，NaOH的含量为1-20重量％，葡萄糖酸钠的含量为1-10重量％，十二烷基硫酸钠的含量为0.1-2重量％。
本发明的方法中，优选情况下，步骤(5)中，除去图案区固化的遮蔽油墨的方法包括：用脱漆剂清洗步骤(4)得到的基材，清洗温度为30-90℃，清洗时间为0.1-10min。优选地，所述脱漆剂为乙醇、异丙醇、丁醇、乙酸、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、丙酮、丁酮、乙醚、汽油和丁基卡必醇中的至少一种。
本发明的方法中，为了防止指纹印影响光面LOGO的质感，使产品更加美观，耐用，优选情况下，所述方法还包括：将步骤(5)得到的基材进行清洗、烘干，然后在基材表面进行镀膜以形成防指纹膜。
对于形成防指纹膜的方法没有特别的限定，可以为本领域常用的各种方法，优选地，形成防指纹膜的方式为物理蒸发镀膜，所述物理蒸发镀膜的方法包括：在基材上依次镀氧化膜和防指纹(AF，Anti-finger print)膜，其中，
镀氧化膜的条件包括：温度为10-60℃，膜层为SiO2膜层和/或Al2O3膜层，镀膜时间为1-30min，镀膜功率为1-9kW，
镀防指纹膜的条件包括：温度为10-60℃，药丸蒸镀时间为5-20min。
第二方面，本发明提供了一种金属基材，所述金属基材上形成有双色双质感PVD膜层，所述金属基材由本发明所述的方法制备得到。
实施例
以下将通过实施例对本发明进行详细描述，但并不因此限制本发明。以下实施例中，如无特别说明，所用的方法均为本领域的常规方法，所用的材料均可通过商购获得。
磁控溅射仪购自北京实力源科技开发有限责任公司，型号为SP2016。
实施例1
(1)将不锈钢基材进行清洗，以除去不锈钢基材表面的浮尘和油污；
(2)将清洗后的不锈钢基材表面加热至90℃，在9kW功率下离子清洗15min，然后通过磁控溅射方式在不锈钢基材上依次镀Cr打底层、CrC底层膜层、Ti中间膜层和TiN顶层膜层，以在不锈钢基材表面形成黑色的CrC底层膜层和金色的TiN顶层膜层，膜层总厚度为0.8μm，其中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为8min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为30min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为4min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为25min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变；
(3)在步骤(2)得到的顶层膜层上喷涂UV感光油漆，涂覆厚度为15μm，80℃烘干30min；设计所需要的华为LOGO图案并制作掩膜板，将掩膜板遮盖在喷涂好的UV感光油漆上，在紫外光下曝光8min，曝光功率为800kW，然后在80℃用浓度为20重量％的Na2CO3溶液清洗6min，除掉未曝光的UV感光油漆；
(4)将步骤(3)得到的基材用205陶瓷砂进行喷砂处理，形成砂面金属质感；其中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.24Mpa，往复3次，走速为18Hz，摇摆频率为33Hz；
(5)用退膜液清洗步骤(4)得到的基材，除去裸露的金色TiN顶层膜层而保留黑色的CrC底层膜层，其中，退膜液含有NaOH、双氧水、十二烷基磺酸钠、葡萄糖酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，NaOH的含量为5.74重量％，双氧水的含量为23.90重量％，十二烷基磺酸钠的含量为0.14重量％，葡萄糖酸钠的含量为1.4重量％，清洗温度为40℃，清洗时间为10min；
(6)用异丙醇清洗步骤(5)得到的基材，清洗温度为60℃，清洗时间为5min，除去固化的UV感光油漆，露出光面的金色华为LOGO图案；
(7)将步骤(6)得到的双色双质感PVD膜层金属基材(金色高光LOGO和底色黑色砂面)进行清洗，烘干，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，得到基材A1，其中，物理蒸发镀膜的条件包括：先在镀SiO2膜层，然后镀防指纹膜，镀SiO2膜层的温度为40℃，镀膜时间为10min，镀膜功率为6kW，镀防指纹膜的温度为40℃，药丸蒸镀时间为10min。
实施例2
(1)将不锈钢基材进行清洗，以除去不锈钢基材表面的浮尘和油污；
(2)将清洗后的不锈钢基材表面加热至80℃，在8kW功率下离子清洗20min，然后通过磁控溅射方式在不锈钢基材上依次镀Ti打底层、TiN底层膜层、Cr中间膜层和CrC顶层膜层，以在不锈钢基材表面形成金色的TiN底层膜层和黑色的CrC顶层膜层，膜层总厚度为0.7μm，其中，镀Ti打底层的条件包括：镀膜温度为80℃，真空度为5×10-3Pa，镀膜功率为8kW，镀膜时间为10min；镀TiN底层膜层的条件包括：镀膜温度为80℃，真空度为5×10-3Pa，镀膜功率为10kW，镀膜时间为20min，起始气体N2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变；镀Cr中间膜层的条件包括：镀膜温度为80℃，真空度为5×10- 3Pa，镀膜功率为8kW，镀膜时间为5min；镀CrC顶层膜层的条件包括：镀膜温度为80℃，真空度为5×10-3Pa，镀膜功率为8kW，镀膜时间为30min，起始气体C2H2气量为10SCCM，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；
(3)在步骤(2)得到的顶层膜层上喷涂UV感光油漆，涂覆厚度为10μm，80℃烘干25min；设计所需要的HTC LOGO图案并制作掩膜板，将掩膜板遮盖在喷涂好的UV感光油漆上，在紫外光下曝光5min，曝光功率为900kW，然后在70℃用浓度为35重量％的NaOH溶液清洗4min，除掉未曝光的UV感光油漆；
(4)将步骤(3)得到的基材用205陶瓷砂进行喷砂处理，形成砂面金属质感；其中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.23Mpa，往复4次，走速为12Hz，摇摆频率为33Hz；
(5)用退膜液清洗步骤(4)得到的基材，除去裸露的黑色CrC顶层膜层而保留金色的TiN底层膜层，其中，退膜液含有KMnO4、NaOH、葡萄糖酸钠、十二烷基硫酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，KMnO4的含量为9.92重量％，NaOH的含量为4.96重量％，葡萄糖酸钠的含量为1.65重量％，十二烷基硫酸钠的含量为0.83重量％，清洗温度为30℃，清洗时间为25min；
(6)用丁醇清洗步骤(5)得到的基材，清洗温度为40℃，清洗时间为10min，除去固化的UV感光油漆，露出光面的黑色HTC LOGO图案；
(7)将步骤(6)得到的双色双质感PVD膜层金属基材(黑色高光LOGO和底色金色砂面)进行清洗，烘干，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，得到基材A2，其中，物理蒸发镀膜的条件包括：先在镀SiO2膜层，然后镀防指纹膜，镀SiO2膜层的温度为30℃，镀膜时间为18min，镀膜功率为4kW，镀防指纹膜的温度为30℃，药丸蒸镀时间为18min。
实施例3
(1)将不锈钢基材进行清洗，以除去不锈钢基材表面的浮尘和油污；
(2)将清洗后的不锈钢基材表面加热至100℃，在10kW功率下离子清洗10min，然后通过磁控溅射方式在不锈钢基材上依次镀Cr打底层、银色的CrN底层膜层、Ti中间膜层和金色的TiN顶层膜层，以在不锈钢基材表面形成银色的CrN底层膜层和金色的TiN顶层膜层，膜层总厚度为0.85μm，其中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为100℃，真空度为1×10-3Pa，镀膜功率为10kW，镀膜时间为5min；镀CrN底层膜层的条件包括：镀膜温度为100℃，真空度为1×10-3Pa，镀膜功率为6W，镀膜时间为40min，起始气体N2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为100℃，真空度为1×10-3Pa，镀膜功率为10kW，镀膜时间为2min；镀TiN顶层膜层的条件包括：镀膜温度为100℃，真空度为1×10-3Pa，镀膜功率为10kW，镀膜时间为20min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变；
(3)在步骤(2)得到的顶层膜层上喷涂UV感光油漆，涂覆厚度为20μm，80℃烘干50min；设计所需要的HTC LOGO图案并制作掩膜板，将掩膜板遮盖在喷涂好的UV感光油漆上，在紫外光下曝光10min，曝光功率为900kW，然后在90℃用浓度为15重量％的NaHCO3溶液清洗15min，除掉未曝光的UV感光油漆；
(4)将步骤(3)得到的基材用205陶瓷砂进行喷砂处理，形成砂面金属质感；其中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.25Mpa，往复2次，走速为20Hz，摇摆频率为33Hz；
(5)用退膜液清洗步骤(4)得到的基材，除去裸露的金色的TiN顶层膜层而保留银色的CrN底层膜层，其中，退膜液含有NaOH、双氧水、十二烷基磺酸钠、葡萄糖酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，NaOH的含量为4.8重量％，双氧水的含量为20.2重量％，十二烷基磺酸钠的含量为0.25重量％，葡萄糖酸钠的含量为3重量％，清洗温度为60℃，清洗时间为8min；
(6)用乙酸乙酯清洗步骤(5)得到的基材，清洗温度为80℃，清洗时间为2min，除去固化的UV感光油漆，露出光面的金色HTC LOGO图案；
(7)将步骤(6)得到的双色双质感PVD膜层金属基材(金色高光LOGO和底色银色砂面)进行清洗，烘干，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，得到基材A3，其中，物理蒸发镀膜的条件包括：先在镀Al2O3膜层，然后镀防指纹膜，镀Al2O3膜层的温度为50℃，镀膜时间为8min，镀膜功率为9kW，镀防指纹膜的温度为50℃，药丸蒸镀时间为8min。
实施例4
(1)将不锈钢基材进行清洗，以除去不锈钢基材表面的浮尘和油污；
(2)将清洗后的不锈钢基材表面加热至90℃，在9kW功率下离子清洗15min，然后通过磁控溅射方式在不锈钢基材上依次镀Cr打底层、CrC底层膜层、Ti中间膜层和TiCN顶层膜层，以在不锈钢基材表面形成黑色的CrC底层膜层和粉色的TiCN顶层膜层，膜层总厚度为0.8μm，其中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为8min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为30min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为4min；镀TiCN顶层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为25min，起始气体N2气量为10SCCM，起始气体C2H2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体N2气量渐变，气体C2H2气量渐变；
(3)在步骤(2)得到的顶层膜层上喷涂UV感光油漆，涂覆厚度为15μm，80℃烘干30min；设计所需要的华为LOGO图案并制作掩膜板，将掩膜板遮盖在喷涂好的UV感光油漆上，在紫外光下曝光8min，曝光功率为800kW，然后在70℃用浓度为25重量％的Na2CO3溶液清洗8min，除掉未曝光的UV感光油漆；
(4)将步骤(3)得到的基材用205陶瓷砂进行喷砂处理，形成砂面金属质感；其中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.24Mpa，往复3次，走速为18Hz，摇摆频率为33Hz；
(5)用退膜液清洗步骤(4)得到的基材，除去裸露的粉色TiCN顶层膜层而保留黑色的CrC底层膜层，其中，退膜液含有NaOH、双氧水、十二烷基磺酸钠、葡萄糖酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，NaOH的含量为5.74重量％，双氧水的含量为23.90重量％，十二烷基磺酸钠的含量为0.14重量％，葡萄糖酸钠的含量为1.4重量％，清洗温度为45℃，清洗时间为12min；
(6)用甲苯清洗步骤(5)得到的基材，清洗温度为60℃，清洗时间为5min，除去固化的UV感光油漆，露出光面的粉色华为LOGO图案；
(7)将步骤(6)得到的双色双质感PVD膜层金属基材(粉色高光LOGO和底色黑色砂面)进行清洗，烘干，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，得到基材A4，其中，物理蒸发镀膜的条件包括：先在镀SiO2膜层，然后镀防指纹膜，镀SiO2膜层的温度为40℃，镀膜时间为10min，镀膜功率为6kW，镀防指纹膜的温度为40℃，药丸蒸镀时间为10min。
实施例5
按照实施例1的方法制备基材A5，不同的是，步骤(2)中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为70℃，真空度为6×10-3Pa，镀膜功率为6kW，镀膜时间为15min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为70℃，真空度为6×10-3Pa，镀膜功率为5.5kW，镀膜时间为45min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为70℃，真空度为6×10-3Pa，镀膜功率为6kW，镀膜时间为8min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为70℃，真空度为6×10-3Pa，镀膜功率为12kW，镀膜时间为15min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变。
实施例6
按照实施例1的方法制备基材A6，不同的是，步骤(2)中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为110℃，真空度为8×10-3Pa，镀膜功率为12kW，镀膜时间为3min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为110℃，真空度为8×10-3Pa，镀膜功率为15kW，镀膜时间为10min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为110℃，真空度为8×10-3Pa，镀膜功率为12kW，镀膜时间为6min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为110℃，真空度为8×10-3Pa，镀膜功率为5kW，镀膜时间为40min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变。
实施例7
按照实施例1的方法制备基材D1，不同的是，步骤(2)中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为5kW，镀膜时间为5min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为5kW，镀膜时间为20min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为10min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为30min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变。
实施例8
按照实施例1的方法制备基材D2，不同的是，步骤(2)中，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为10min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为20min，起始气体C2H2气量为10SCCM(每分钟标准毫升)，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；镀Ti中间膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为5kW，镀膜时间为10min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为30min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变。
对比例1
(1)将不锈钢基材进行清洗，以除去不锈钢基材表面的浮尘和油污；
(2)将清洗后的不锈钢基材表面加热至90℃，在9kW功率下离子清洗15min，然后通过磁控溅射方式在不锈钢基材上依次镀Cr打底层和CrC膜层，镀Cr打底层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为8min；镀CrC底层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为30min，起始气体C2H2气量为10SCCM，终止气体C2H2气量为20SCCM，气体C2H2气量渐变；
(3)在步骤(2)得到的膜层上喷涂UV感光油漆，涂覆厚度为15μm，80℃烘干30min；设计所需要的华为LOGO图案并制作掩膜板，将掩膜板遮盖在喷涂好的UV感光油漆上，在紫外光下曝光8min，曝光功率为800kW，然后在80℃用浓度为20重量％的Na2CO3溶液清洗6min，除掉未曝光的UV感光油漆；
(4)将步骤(3)得到的基材用205陶瓷砂进行喷砂处理，形成砂面金属质感；其中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.24Mpa，往复3次，走速为18Hz，摇摆频率为33Hz；
(5)在清洗线上清洗步骤(4)得到的基材除去残留的205陶瓷砂；
(6)将步骤(5)得到的基材上表面加热至90℃，在9kW功率下离子清洗15min，然后通过磁控溅射方式在依次镀Ti打底层和TiN膜层，镀Ti打底膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为10min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为90℃，真空度为3×10-3Pa，镀膜功率为9kW，镀膜时间为25min，起始气体N2气量为10SCCM，终止气体N2气量为20SCCM，气体N2气量渐变；
(7)用异丙醇清洗步骤(6)得到的基材，清洗温度为60℃，清洗时间为5min，除去固化的UV感光油漆，露出光面的金色华为LOGO图案；
(8)将步骤(7)得到的PVD膜层金属基材进行清洗，烘干，然后进行物理蒸发镀膜形成防指纹膜，得到基材D3，其中，物理蒸发镀膜的条件包括：先在镀SiO2膜层，然后镀防指纹膜，镀SiO2膜层的温度为40℃，镀膜时间为10min，镀膜功率为6kW，镀防指纹膜的温度为40℃，药丸蒸镀时间为10min。
试验例
1、外观观察：在100倍显微镜下观察，膜层外观无异常，无变色、无气泡、无裂口、无突起、无脱落(包括外力擦拭、弯折时无脱落)等，视为无爆膜(100倍显微镜下膜层有少许不明显裂纹，且该裂纹肉眼不可见时也可视为无爆膜)，而出现前述现象的则为爆膜。结果见表1。
2、百格附着力测试：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的附着力，结果见表1：
1)测试前检查外观无异常，无变色、气泡、裂口、脱落等，并用无尘布将基材表面擦拭干净；
2)握住切割刀具，划格时刀面与测试面垂直防止刀口将膜层翘起，划格方向与样品成45度角，对切割刀具均匀施力(力度以使刀刃刚好透过膜层到达底材为准)形成10×10个连续的1mm×1mm的正方形小格；
3)用无尘布将测试区域的碎片刷干净，均匀拉出一段NICHIBAN CT405AP-24胶带，除去最前面的一段，然后剪下约55mm的胶带，把该胶带的中心点放在网格上方，方向与一组切割线平行，然后用指甲把胶带在网格区上方的部位压平，确保胶带与膜层接触良好(注意指甲不允许刮伤胶带及膜层)，胶带长度至少超过网格20mm；
4)贴上胶带静置90s，拿住胶带悬空的一端，并在尽可能接近60度的角度，在0.5-1.0s内迅速拉下胶带；
5)检查膜层脱落状况，其中，达到或者超过4B时为合格，具体的评定标准如下：
5B：切割边缘完全平滑，无一脱落；
4B：在切口交叉处有少许涂层脱落，受影响的交叉切割面积不大于5％；
3B：在切口交叉处和/或沿切口边缘有涂层脱落，受影响的交叉切割面积大于5％，但不大于15％；
2B：膜层沿切割边缘部分或全部以大碎片脱落，和/或在格子不同部分上部分或全部脱落，受影响的交叉切割面积大于15％，但不大于35％；
1B：涂层沿切割边缘大碎片剥落，和/或一些方格部分或者全部出现脱落，受影响的交叉切割面积大于35％，但不大于65％；
0B：剥落的程度超过1B。
3、耐磨性能：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的耐磨性能，结果见表1：
1)准备3份RKF 10K(黄色圆锥体)和1份RKK15P(绿色棱锥体)，共15L，加入到振动摩擦设备(ROSLER，型号为R180/530TE-30，频率为50±0.5Hz，振幅为1.65±0.1mm)研磨槽内；
2)用移液管吸取FC120 10ml至研磨槽内，并加入0.5L水；
3)测试过程中每隔30min加入0.5L水和10ml FC120；
4)准备测试用整机或配重的整机，将各样品安装在整机上，放入振动摩擦测试设备进行测试，各样品每1小时检查一次，记录符合标准(连续锯齿磨损不超过10mm(锯齿定义：线性磨损区域有两个以上位置宽度在1-1.5mm之间，宽度超过1.5mm不接受)；点磨损不超过1.5mm*1.5mm；1mm*1mm～1.5mm*1.5mm不超过2个；1mm*1mm以下不计)的最长时间。
4、盐水喷雾试验：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的耐腐蚀性能，结果见表1：在温度为35℃、湿度为90％的密闭环境中，用pH值为6.8、5重量％的NaCl溶液连续对基材表面进行盐水喷雾；试验一定时间后，检查样品外观；然后使用38℃的温水进行轻柔的冲洗，并用无尘布擦拭干净，常温放置2小时后检查样品，记录膜层外观无异常、外观无明显变化(如锈蚀、变色及表面处理层剥落等)的最长时间。
5、耐刮擦性：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的耐刮擦性能，结果见表1：用专用的钢丝绒(钢丝绒型号：#0000，厂家：Bon Star STEEL WOOL)施加1kgf的负载，测试压头面积为2*2cm，以40次/min的速度在样品表面来回摩擦，记录无明显划痕的最大次数，其中，单程行程为40mm，来回行程记为1次。
6、抗化学品试验：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的耐化学品性能，结果见表1：分别将食用油、防晒油、唇膏、粉底液、驱蚊液、护手霜等均匀涂抹于基材上，放于温度为70℃、湿度为90％的恒温恒湿箱中24h后，然后在25℃放置4h，用酒精擦拭产品，无明显残留痕迹，即为合格。
7、耐脏污试验：按照如下方法测定基材A1-A8和D1的耐脏污性能，结果见表1：使用ZEBRA油性笔，油性笔与膜层表面呈约90°角，施加约1N的力在膜层表面匀速画出5条10mm的笔迹，然后将各样品置于温度为55℃、湿度为95％的环境中存储2小时，取出后用酒精擦拭表面，样品表面无痕迹残留即为合格。
表1
由表1中A1-A8和D1的各性能参数的结果可以看出，本发明的方法，能够实现在同一炉体内一次性在金属基材上完成双色双质感膜层的镀膜且不会出现爆膜现象，且得到的形成有双色双质感膜层的金属基材具有优异的附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能、耐刮擦性能、耐化学品性能和耐脏污性能，尤其是在百格附着力测试、振动耐磨测试、盐水喷雾试验和钢丝绒测试中具有优异的附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能和耐刮擦性能。而且，该方法能够同时实现图案或LOGO与主体呈现不同颜色和不同的质感效果，不仅减少了PVD镀膜工序，有效缩短了工艺时间，降低了生产成本，提高了生产效率和产品良率，膜层之间结合更加致密，膜层自身的性能也更加强韧。
由表1中A1和A5-A8的各性能参数的结果可以看出，按照参数：镀打底层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为2-20min；镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5.5-15kW，镀膜时间为5-50min；镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为1-10min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5-12kW，镀膜时间为5-40min进行磁控溅射时，能够明显提高附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能和耐刮擦性能；而按照参数：镀打底层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为5-10min；镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为6-10kW，镀膜时间为20-40min；镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为2-5min；镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为20-30min进行磁控溅射时，能够进一步提高附着力、耐磨性能、耐腐蚀性能和耐刮擦性能。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合，为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (12)

1.一种在金属基材上形成双色双质感PVD膜层的方法，其特征在于，该方法包括：
(1)将金属基材进行一次PVD镀膜处理，以在金属基材上形成两种不同颜色的底层膜层和顶层膜层；
(2)在步骤(1)得到的顶层膜层上设计所需要的图案，并在图案区和任选的非图案区涂覆遮蔽油墨，固化，然后除去任选的非图案区的遮蔽油墨；
(3)将步骤(2)得到的基材进行喷砂处理；
(4)除去非图案区裸露的顶层膜层，以露出非图案区的底层膜层；
(5)除去图案区固化的遮蔽油墨，以露出图案区的顶层膜层。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，步骤(1)中，所述一次PVD镀膜处理的方法包括：在金属基材上依次镀打底层、底层膜层、中间膜层和顶层膜层；
优选地，镀打底层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为2-20min；
镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5.5-15kW，镀膜时间为5-50min；
镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为6-12kW，镀膜时间为1-10min；
镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为70-110℃，真空度为1×10-3-10×10-3Pa，镀膜功率为5-12kW，镀膜时间为5-40min。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，步骤(1)中，镀打底层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为5-10min；
镀底层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为6-10kW，镀膜时间为20-40min；
镀中间膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为2-5min；
镀顶层膜层的条件包括：镀膜温度为80-100℃，真空度为1×10-3-5×10-3Pa，镀膜功率为8-10kW，镀膜时间为20-30min。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其中，所述打底层、所述底层膜层、所述中间膜层和所述顶层膜层的总厚度为0.1-1μm；
优选地，所述底层膜层和所述顶层膜层各自独立地为TiN、CrC、TiCN或CrN，所述打底层与所述底层膜层的金属种类相同，所述中间膜层与所述顶层膜层的金属种类相同，且所述底层膜层为含钛层、所述顶层膜层为含铬层，或者所述底层膜层为含铬层、所述顶层膜层为含钛层。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述金属基材为不锈钢基材或铝合金基材；
优选地，在进行所述一次PVD镀膜处理前，将所述金属基材进行预处理。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的方法，其中，所述步骤(2)的实施方式包括：在步骤(1)得到的顶层膜层上设计所需要的图案，仅在图案区涂覆遮蔽油墨，固化；或者
在步骤(1)得到的顶层膜层上涂覆遮蔽油墨，设计所需要的图案并制作菲林或掩膜板，将菲林或掩膜板遮盖在遮蔽油墨上，曝光，然后用显影液清洗以除去未曝光的遮蔽油墨；
优选地，所述遮蔽油墨为感光材料，进一步优选为光刻胶或高解析度的光固化油墨，更进一步优选为UV油墨；
优选地，所述涂覆遮蔽油墨的方式为旋涂、浸涂、喷涂、辊涂、刮涂或丝网印刷；
优选地，所述遮蔽油墨的涂覆厚度为10-20μm。
7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述曝光的条件包括：在激光、可见光、红外光或紫外光下曝光，曝光时间为0.1-10min；和/或
除去未曝光的遮蔽油墨的条件包括：显影液的浓度为10-50重量％，温度为60-90℃，清洗时间为0.1-30min；优选地，所述显影液为Na2CO3溶液、NaHCO3溶液、NaOH溶液、KOH溶液、Ba(OH)2溶液、K2CO3溶液、KHCO3溶液和氨水溶液中的至少一种。
8.根据权利要求1-7中任意一项所述的方法，其中，步骤(3)中，喷砂处理的条件包括：喷砂压强为0.23-0.25MPa，往复2-4次，走速为12-22Hz。
9.根据权利要求1-8中任意一项所述的方法，其中，步骤(4)中，除去非图案区裸露的顶层膜层的方法包括：根据顶层膜层配制退膜液，使用所述退膜液清洗步骤(3)得到的基材，所述退膜液的浓度为10-40重量％，清洗温度为30-60℃，清洗时间为5-30min；
优选地，顶层膜层为含钛层时所用的退膜液含有NaOH、双氧水、十二烷基磺酸钠、葡萄糖酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，NaOH的含量为1-10重量％，双氧水的含量为1-30重量％，十二烷基磺酸钠的含量为0.05-0.5重量％，葡萄糖酸钠的含量为0.5-10重量％；
优选地，顶层膜层为含铬层时所用的退膜液含有KMnO4、NaOH、葡萄糖酸钠、十二烷基硫酸钠和蒸馏水，以所述退膜液的重量为基准，KMnO4的含量为5-40重量％，NaOH的含量为1-20重量％，葡萄糖酸钠的含量为1-10重量％，十二烷基硫酸钠的含量为0.1-2重量％。
10.根据权利要求1-9中任意一项所述的方法，其中，步骤(5)中，除去图案区固化的遮蔽油墨的方法包括：用脱漆剂清洗步骤(4)得到的基材，所述清洗温度为30-90℃，清洗时间为0.1-10min；
优选地，所述脱漆剂为乙醇、异丙醇、丁醇、乙酸、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲苯、丙酮、丁酮、乙醚、汽油和丁基卡必醇中的至少一种。
11.根据权利要求1-10中任意一项所述的方法，其中，所述方法还包括：将步骤(5)得到的基材进行清洗、烘干，然后在基材上进行镀膜以形成防指纹膜；
优选地，形成防指纹膜的方式为物理蒸发镀膜，所述物理蒸发镀膜的方法包括：在基材上依次镀氧化膜和防指纹膜，
镀氧化膜的条件包括：温度为10-60℃，膜层为SiO2膜层和/或Al2O3膜层，镀膜时间为1-30min，镀膜功率为1-9kW，
镀防指纹膜的条件包括：温度为10-60℃，药丸蒸镀时间为5-20min。
12.一种金属基材，所述金属基材上形成有双色双质感PVD膜层，其特征在于，所述金属基材由权利要求1-11中任意一项所述的方法制备得到。
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