CN111943519B - 防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供玻璃基体，所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成AF膜层；对所述第二表面进行等离子清洗处理后，喷涂保护油墨，以在所述第二表面形成保护油墨层，然后清理在所述AF膜层上残留的所述保护油墨；采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理，以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面；经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体，所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。该制作方法可以解决现有防眩光玻璃制作过程中存在的周期长、良品率低，外观表现差的问题。本申请还提供了防炫光玻璃壳体和电子设备。

Description

防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备

技术领域

本申请涉及电子设备技术领域，具体涉及一种防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备。

背景技术

随着手机等电子设备的普及和发展，消费者对电子产品的外观设计要求越来越高。其中，采用防眩光玻璃(Anti-glare glass，AG玻璃)壳体的电子设备表面具有防眩光、减反射效果，外观绚丽，给消费者带来更佳舒适的视觉享受，壳体表面还具有磨砂质感，具有出众的握持感。然而，现有的防眩光玻璃的制作周期长，且制得的防眩光玻璃经常存在含亮点和亮线等不良品，磨砂效果不好，严重影响外观。

发明内容

本申请提供一种防炫光玻璃壳体的制作方法、防炫光玻璃壳体和电子设备；该制作方法可以解决现有防眩光玻璃制作过程中存在的周期长、良品率低，外观表现差的问题。所述技术方案如下：

第一方面，本申请提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法，包括以下步骤：

提供玻璃基体，所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成AF(Anti Finger Print，防指纹)膜层；

对所述第二表面进行等离子清洗处理后，喷涂保护油墨，以在所述第二表面形成保护油墨层，然后清理在所述AF膜层上残留的保护油墨；

采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理，以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面；经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体，所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。

第二方面，本申请提供了一种防炫光玻璃壳体，所述防炫光玻璃壳体根据本申请第一方面所述的制作方法制得。

第三方面，本申请提供了一种电子设备，包括：

防炫光玻璃壳体，所述防炫光玻璃壳体为本申请第二方面所述的防炫光玻璃壳体；

显示组件，所述显示组件与所述防炫光玻璃壳体相连

本申请所述防炫光玻璃壳体的制作方法工艺简单，在制作过程中在第一表面上先形成AF膜层，以便能高效去除在喷涂保护油墨过程中第一表面残留的保护油墨，减少保护油墨对第一表面形成磨砂表面造成干扰，大大提高防炫光玻璃壳体的制作效率和良品率；制得的防炫光玻璃壳体表面具有防眩光、减反射效果，外观绚丽。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体的制作方法的工艺流程图；

图2是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体100的结构示意图；

图3是本申请实施例提供的一种防炫光玻璃壳体100的沿A-A方向的剖面图；

图4是本申请实施例提供的一种包括3D形态玻璃基体的防炫光玻璃壳体100的结构示意图；

图5是本申请实施例提供一种电子设备200的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请所列举的实施例之间可以适当的相互结合。

如图1所示，本申请一实施例提供了一种防炫光玻璃壳体的制作方法，包括以下步骤：

S101、提供玻璃基体，所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成AF膜层；

S102、对所述第二表面进行等离子清洗处理后，喷涂保护油墨，以在所述第二表面形成保护油墨层，然后清理在所述AF膜层上残留的保护油墨；

S103、采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理，以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面；经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体，所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。

其中，所述制作方法的S101-S103中每个步骤并不代表只在一个工序中完成得到，某个步骤可以包括多个工序。

可选地，所述S101过程中，所述玻璃基体可以但不限于按预设尺寸进行裁切处理，以满足相应不同尺寸的壳体需求，减少制作过程中对原料的浪费。可选理解，所述玻璃基体的具体种类可以为适用于电子设备壳体的任何玻璃，例如可以为硅酸盐玻璃(具体如石英玻璃、高硅氧玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃等)、硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃等等。而所述玻璃基体的厚度的具体厚度可以基于实际壳体需求进行调整。一实施方式中，所述玻璃基体的厚度为0.5-5mm。例如，所述玻璃基体的具体厚度为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1mm、2mm、3mm、4mm或5mm。可选地，所述玻璃基体的具体结构形态可以但不限于为平板玻璃形态或2.5D玻璃形态。

本申请实施方式中，所述玻璃基体还可以通过热弯成型工艺，形成3D形态的玻璃基体，以使所述玻璃基体的具体结构形态更加丰富，满足不同实际壳体形状的要求。一实施方式中，在所述第一表面上形成AF膜层之前，还包括：

对所述玻璃基体进行热弯成型，以使所述玻璃基体形成3D形态，其中，所述第一表面为凸面，所述第二表面为凹面。

本申请实施方式中，在所述第一表面上形成AF膜层之前还包括：通过CNC(Computer numerical control，计算机数字控制机床)加工对所述玻璃基体进行磨边或倒孔处理。通过在所述玻璃基体上进行磨边或倒孔处理，可以在玻璃基体在进行蚀刻处理前形成通孔结构等；并且直接对玻璃基体进行CNC加工可以进一步节约加工成本，提高加工效率。这里所述的通孔结构可用于形成所述的防炫光玻璃壳体的功能孔；所述功能孔包括电源按键孔、音量按键孔、扩音孔、摄像头孔和充电孔中的一种或多种。可选地，所述通孔结构的孔径尺寸可以根据实际需求进行调节。

本申请实施方式中，所述AF膜层为防指纹膜层，防污渍效果突出，易被清洁。本申请所述AF膜层可采用真空蒸发镀膜法，在所述玻璃基体的第一表面形成。可选地，所述AF膜层的厚度大于20nm。例如，所述AF膜层的厚度为25-200nm，或30-100nm，或30-80nm。其中，所述AF膜层的成分包括硅氧化合物和含氟聚合物中的一种或多种。可选地，所述硅氧化合物包括二氧化硅，所述含氟聚合物包括全氟聚醚类和聚四氟乙烯中的一种或多种。一实施方式中，所述AF膜层的成分为全氟聚醚硅氧烷。另一实施方式中，所述AF膜层的成分为二氧化硅和全氟聚醚改性物。本申请所述厚度范围的AF膜层能够实现在其表面残留的保护油墨的快速清理；如果AF膜层太薄则不能很好实现对玻璃基体第一表面的防护。

可选地，所述S102过程中，所述等离子清洗处理是指：通过化学或物理作用对工件表面进行处理，实现分子水平的污染物去除，从而提高工件表面活性。一实施方式中，采用含氩气(Ar)的等离子体进行清洗。本申请实施方式中，由于在第一表面上形成AF膜层的工艺中，会不可避免地部分残留在第二表面，通过对玻璃基体的第二表面进行等离子清洗处理，一方面可以去除其表面残留的AF膜层成分，另一方面通过对第二表面进行深度清理，有利于保护油墨层在所述玻璃基体上的稳定附着，提高保护油墨层在后续蚀刻处理中对玻璃基体第二表面的保护。

本申请实施方式中，所述等离子清洗处理后，用达因笔测试所述第二表面的表面达因值。可选地，所述第二表面经所述等离子清洗处理后的表面达因值介于32至40之间。一实施方式中，所述第二表面经所述等离子清洗处理后的表面达因值介于35至48之间。例如，所述第二表面经所述等离子清洗处理后的表面达因值具体为32、33、34、35、36、37、38、39或40。所述表面达因值范围的第二表面更加适用于喷涂保护油墨，且该第二表面与保护油墨层之间结合紧密。

本申请实施方式中，所述保护油墨包括光固化油墨和热固化油墨中的至少一种。喷涂在所述玻璃基体第二表面的保护油墨经光照或加热后，在所述第二表面上固化形成保护油墨层，所述保护油墨层能够保护第二表面，抵御所述S103过程中的蚀刻处理过程。其中，当所述保护油墨为光固化油墨时，所述光固化油墨喷涂工艺包括：在经对等离子清洗处理后的第二表面喷涂光固化油墨，然后经油墨曝光、显影、固化后，擦拭在第一表面AF膜层上残留的光固化油墨。当所述保护油墨为热固化油墨时，所述热固化油墨喷涂工艺包括：在经对等离子清洗处理后的第二表面喷涂热固化油墨，然后经油墨表干、固化后，擦拭在第一表面AF膜层上残留的热固化油墨。

可选地，所述光固化油墨包括第一树脂、第一助剂、第一溶剂和光引发剂；所述热固化油墨包括第二树脂、第二助剂、第二溶剂和固化剂。所述第一树脂与所述第二树脂可以相同也可以不同；所述第一助剂与所述第二助剂可以相同也可以不同；所述第一溶剂和所述第二溶剂可以相同也可以不同。

本申请实施方式中，一定厚度范围的所述保护油墨层能够保护所述第二表面不被刻蚀液刻蚀，且可以提高最后制得的防炫光玻璃壳体的良品率。可选地，所述保护油墨层的厚度大于100nm。一实施方式中，所述保护油墨层的厚度为100nm-1000nm。另一实施方式中，所述保护油墨层的厚度为100nm-500nm。

由于玻璃基体在第二表面喷涂保护油墨时，现有喷涂工艺和治具均无法保证第一表面边缘或玻璃基体孔边缘不发生溢墨，造成第一表面存在保护油墨残留。所述第一表面被残留的溢墨覆盖的区域会被保护，不会被蚀刻，造成第一表面形成不良缺陷，例如形成不良亮点和亮线等。同时，保护油墨经固化后，其附着力大于4B，传统玻璃基体在清理残留的溢墨时十分困难，清理耗时长，造成生产周期长；且油墨擦拭过程还易导致玻璃基体第二表面边缘保护油墨被擦掉，造成玻璃基体第二表面也被蚀刻，最终造成产品报废，产品良品率低。本申请所述玻璃基体的第一表面由于含有AF膜层，可以一定程度地防止保护油墨的粘附；而残留在第一表面AF膜层上的溢墨能被很轻松地清除，该清除过程也不会损坏第二表面边缘的保护油墨。

可选地，实施S103过程中，所述蚀刻液为含有氢氟酸组分化学溶液。一实施方式中，所述蚀刻液为氢氟酸溶液。所述第一表面上的AF膜层在蚀刻处理过程中也会被去除，大大提高生产效率。

本申请实施方式中，经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体，所述防炫光玻璃壳体的表面形成为具有防眩光效果的磨砂表面，且具备耐刮、耐磨、耐油污、防冲击、防指纹等优点。可选地，所述清洗过程中，可以使用碱性溶液清除所述玻璃基体上的保护油墨。其中，这里所述的玻璃基体上的保护油墨，主要是指所述第二表面上的保护油墨层。当所述玻璃基体的除第一表面、第二表面外的其他侧面还覆盖有所述保护油墨时，这里所述的玻璃基体上的保护油墨是指第二表面的保护油墨层和其他侧面上的保护油墨。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.05-1μm，雾度为20-50％。一实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.1-0.5μm，雾度为20-40％。另一实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.1-0.3μm，雾度为30-40％。所述防炫光玻璃壳体的具体表面粗糙度和雾度可以通过调节蚀刻处理工艺进行调节，例如调节一定溶度和配方的蚀刻液进行蚀刻处理。

本申请实施方式中，在防炫光玻璃壳体远离磨砂表面的一侧表面上，还可以增设装饰层，所述装饰层包括镀膜层、光油层、色彩层、纹理层、标识层和盖底油墨层中的一种或多种。

其中，所述镀膜层可以用金属氧化物介质膜和不导电金属膜两种。所述镀膜层可以一定层度地提升所述防炫光玻璃壳体的金属光泽。所述光油层具有高的流平性，有利于纹理层的制作，进而使该壳体的外表面具有镜面效果。所述色彩层可以采用喷墨打印或3D打印工艺形成在所述防炫光玻璃壳体的内侧表面，所述防炫光玻璃壳体的外侧表面为磨砂表面。所述色彩层的色彩图案清晰、可靠性较高，色彩颜色不会出现异色现象，所述色彩层可设计为图案多样化外观。所述纹理层可以通过UV胶转印形成。所述标识层可以但不限于为包含文字、字符或LOGO图案的层结构。具体地，所述标识层可以通过网版印制、固烤方式制得。所述盖底油墨层可以通过丝印方式形成。本申请所述防炫光玻璃壳体中装饰层，能使其外观更加绚丽多彩，具有流动变化的光影效果，外观表现力强。

本申请所述防炫光玻璃壳体的制作方法工艺简单，在制作过程中在第一表面上先形成AF膜层，以便能高效去除在喷涂保护油墨过程中第一表面残留的保护油墨，减少保护油墨对第一表面形成磨砂表面造成干扰，大大提高防炫光玻璃壳体的制作效率，所述制备方法制作周期短、产率高和良品率高；制得的防炫光玻璃壳体表面具有防眩光、减反射效果，外观绚丽。

如图2和图3所示，本申请一实施例提供了一种防炫光玻璃壳体100，所述防炫光玻璃壳体100包括玻璃基体10，所述玻璃基体10的一侧表面11为磨砂表面。所述防炫光玻璃壳体100可以为2D、2.5D或3D形态。参见图4，为包括3D形态的防炫光玻璃壳体100。当所述防炫光玻璃壳体100为2.5D或3D形态时，所述壳体基板的外侧表面为凸出曲面或含凸出曲面的一侧表面，所述外侧表面为所述磨砂表面。

本申请实施方式中，所述玻璃基体的具体种类可以为适用于电子设备壳体的任何玻璃，例如可以为硅酸盐玻璃(具体如石英玻璃、高硅氧玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃等)、硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃等等。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体100上远离所述磨砂表面的一侧表面12还设有装饰层20，所述装饰层20包括镀膜层、光油层、色彩层、纹理层、标识层和盖底油墨层中的一种或多种。

一实施方式中，所述装饰层包括依次层叠在防炫光玻璃壳体内侧表面的标识层、色彩层、光油层、纹理层、镀膜层和盖底油墨层。另一实施方式中，所述装饰层包括依次层叠在防炫光玻璃壳体内侧表面的标识层、纹理层、镀膜层和盖底油墨层。所述镀膜层、光油层、色彩层、纹理层、标识层和盖底油墨层可以根据壳体的实际需求进行调节设置；通过调节装饰层的搭配，可以进一步地丰富所述防炫光玻璃壳体外观表现效果。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.05-1μm，雾度为20-50％。一实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.1-0.5μm，雾度为20-40％。另一实施方式中，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.1-0.3μm，雾度为30-40％。所述防炫光玻璃壳体的具体表面粗糙度和雾度可以通过调节蚀刻处理工艺进行调节，例如调节一定溶度和配方的蚀刻液进行蚀刻处理。所述磨砂表面的防眩光玻璃壳体具备耐刮、耐磨、耐油污、防冲击、防指纹等优点。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体上还设有功能孔，所述功能孔包括电源按键孔、音量按键孔、扩音孔、摄像头孔和充电孔中的一种或多种。其中，所述功能孔的具体种类、形状或尺寸均可以基于实际需求进行调整，本申请实施方法中不做具体限定。本申请实施方式中，制得防炫光玻璃壳体后，还可以进一步对所述防炫光玻璃壳体进行CNC加工。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体可以为用于涉及电子和通信的装置的壳体。其中，所述防炫光玻璃壳体可以但不限于为所述壳体的一个嵌体。或者，所述防炫光玻璃壳体构成所述壳体的全部。所述防炫光玻璃壳体的具体尺寸和形成可以基于实际需求进行调整或加工，本实施方式中不做赘述。

本申请实施方式中，所述防炫光玻璃壳体可以由前面所述制作方法制得，所述防炫光玻璃壳体的具体限定与前面所述制作方法中对防炫光玻璃壳体的限定一致，本实施方式中不做赘述。

本申请所述防炫光玻璃壳体外侧表面为磨砂表面，具有防眩光、减反射效果，外观绚丽；所述磨砂表面具备耐刮、耐磨、耐油污、防冲击、防指纹等优点，握持感极佳；且防炫光玻璃壳体中的装饰层也可以进一步丰富所述防炫光玻璃壳体的外观表现，使其外观更加绚丽多彩；所述防炫光玻璃壳体。

如图5所示，本申请一实施例提供了一种电子设备200，包括：

防炫光玻璃壳体201，显示组件202，所述显示组件202与所述防炫光玻璃壳体201相连，其中，所述防炫光玻璃壳体201的具体限定与前面所述的防炫光玻璃壳体100描述一致，也与前面所述防炫光玻璃壳体的制作方法中对防炫光玻璃壳体的限定描述一致，本实施例不再赘述。

可选地，所述电子设备200还包括其他电子元件，所述其他电子元件包括中央处理器、摄像头和传感器组件中的一种或多种。

可选地，本申请提供的电子设备200包括但不限于手机、平板电脑、笔记本电脑、掌上电脑、个人计算机、便携式媒体播放器、导航装置、可穿戴设备、智能手环、计步器等移动终端，以及诸如数字TV、台式计算机等固定终端。

本申请实施方式中，所述电子设备包括防炫光玻璃壳体，该电子设备壳体外表面为磨砂表面，具有防炫光、低漫反射的效果，外观绚丽多彩；且该电子设备由于具有所述防炫光玻璃壳体，其还具有出众的握持感，还具有一定的防滑的效果。

下面将通过具体实施例来说明根据本申请实施例的防炫光玻璃壳体的制作方法。本领域技术人员将会理解，下面的实施例仅用于说明本申请，而不应视为限定本申请的范围。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市面购获得的常规产品。

实施例1

一种防炫光玻璃壳体的制作方法，包括以下步骤：

取一玻璃板，用裁切机对其进行裁切，将裁剪后的玻璃板热弯成3D形态玻璃板；

对玻璃板静电除尘，从不同角度对玻璃板除尘。然后在玻璃板的凸面上在采用真空蒸发镀膜法制作约30nm的AF膜层；然后对玻璃板的第二表面进行Ar等离子清洗处理，清洗处理完成后用达因笔测试，其表面达因值需求在32以上后，喷涂光固化油墨，然后经油墨曝光、显影、固化后，擦拭在第一表面AF膜层上残留的光固化油墨，玻璃板的第二表面形成约150nm的保护油墨层。

使用氢氟酸蚀刻液对玻璃板进行蚀刻处理，并去除玻璃板第一表面的AF膜层；经蚀刻处理后，表里板第一表面形成磨砂表面；然后使用碱性溶液去除玻璃板上的保护油墨，进一步经抛光、清洗和干燥后得到防炫光玻璃壳体。

实施例2

一种防炫光玻璃壳体的制作方法，包括以下步骤：

取一玻璃板，用裁切机对其进行裁切，将裁剪后的玻璃板热弯成3D形态玻璃板；

对玻璃板静电除尘，从不同角度对玻璃板除尘。然后在玻璃板的凸面上在采用真空蒸发镀膜法制作约30nm的AF膜层；然后对玻璃板的第二表面进行Ar等离子清洗处理，清洗处理完成后用达因笔测试，其表面达因值需求在32以上后，喷涂热固化油墨，然后经油墨表干、固化后，擦拭在第一表面AF膜层上残留的热固化油墨，玻璃板的第二表面形成约150nm的保护油墨层。

使用氢氟酸蚀刻液对玻璃板进行蚀刻处理，并去除玻璃板第一表面的AF膜层；经蚀刻处理后，表里板第一表面形成磨砂表面；然后使用碱性溶液去除玻璃板上的保护油墨，进一步经抛光、清洗和干燥后得到防炫光玻璃壳体。

实施例3

一种防炫光玻璃壳体的制作方法，包括以下步骤：

取一玻璃板，用裁切机对其进行裁切，将裁剪后的玻璃板热弯成3D形态玻璃板；

对玻璃板静电除尘，从不同角度对玻璃板除尘。然后在玻璃板的凸面上在采用真空蒸发镀膜法制作约30nm的AF膜层；然后对玻璃板的第二表面进行Ar等离子清洗处理，清洗处理完成后用达因笔测试，其表面达因值需求在32以上后，喷涂光固化油墨，然后经油墨曝光、显影、固化后，擦拭在第一表面AF膜层上残留的光固化油墨，玻璃板的第二表面形成约150nm的保护油墨层。

使用氢氟酸蚀刻液对玻璃板进行蚀刻处理，并去除玻璃板第一表面的AF膜层；经蚀刻处理后，表里板第一表面形成磨砂表面；然后使用碱性溶液去除玻璃板上的保护油墨，进一步经抛光、清洗和干燥后，得到防炫光玻璃壳体半成品。

在防炫光玻璃壳体半成品的凹面上喷涂渐变色色漆，烘烤后以形成色彩层，然后在色彩层上转印UV纹理层，在纹理层上使用电子枪蒸发镀，形成镀膜层。在镀膜层上，采用油墨丝网印刷多层油墨层，然后完全烘干，形成盖底油墨层，以得到防炫光玻璃壳体。

以上所述是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本申请的保护范围。

Claims (13)

1.一种防炫光玻璃壳体的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供玻璃基体，所述玻璃基体包括相对设置的第一表面和第二表面，在所述第一表面上形成AF膜层，所述AF膜层的厚度大于20nm，所述AF膜层的成分包括硅氧化合物和含氟聚合物中的一种或多种；所述硅氧化合物包括二氧化硅，所述含氟聚合物包括全氟聚醚类和聚四氟乙烯中的一种或多种；

对所述第二表面进行等离子清洗处理后，喷涂保护油墨，以在所述第二表面形成保护油墨层，然后清理在所述AF膜层上残留的所述保护油墨；

采用蚀刻液对所述玻璃基体的第一表面进行蚀刻处理，以去除所述AF膜层和在所述第一表面形成磨砂表面；经抛光、清洗和干燥后得到所述防炫光玻璃壳体，所述清洗过程包括清除所述玻璃基体上的所述保护油墨。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述保护油墨包括光固化油墨和热固化油墨中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述保护油墨层的厚度大于100nm。

4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述第一表面上形成AF膜层之前，还包括：

对所述玻璃基体进行热弯成型，以使所述玻璃基体形成3D形态，其中，所述第一表面为凸面，所述第二表面为凹面。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第二表面经所述等离子清洗处理后的表面达因值介于32至40之间。

6.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.05-1μm，雾度为10-50％。

7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述蚀刻液为含有氢氟酸组分化学溶液。

8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述第一表面上形成AF膜层之前还包括：通过CNC加工对所述玻璃基体进行磨边或倒孔处理。

9.一种防炫光玻璃壳体，其特征在于，所述防炫光玻璃壳体根据权利要求1-8任一项所述的制作方法制得。

10.根据权利要求9所述的防炫光玻璃壳体，其特征在于，所述防炫光玻璃壳体包括玻璃基体，所述玻璃基体的一侧表面为磨砂表面，所述防炫光玻璃壳体的表面粗糙度为0.05-1μm，雾度为20-50％。

11.根据权利要求9所述的防炫光玻璃壳体，其特征在于，所述防炫光玻璃壳体上远离所述磨砂表面的一侧表面还设有装饰层，所述装饰层包括镀膜层、光油层、色彩层、纹理层、标识层和盖底油墨层中的一种或多种。

12.一种电子设备，其特征在于，包括：

防炫光玻璃壳体，所述防炫光玻璃壳体为权利要求9-11中任一项所述的防炫光玻璃壳体；

显示组件，所述显示组件与所述防炫光玻璃壳体相连。

13.根据权利要求12所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备还包括其他电子元件，所述其他电子元件包括中央处理器、摄像头和传感器组件中的一种或多种。

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