JP2001330943A

JP2001330943A - ペリクル

Info

Publication number: JP2001330943A
Application number: JP2001060611A
Authority: JP
Inventors: Ikuo Matsukura; 郁生松倉; Naoko Shirota; 直子代田; Jun Irisawa; 潤入澤
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2000-03-15
Filing date: 2001-03-05
Publication date: 2001-11-30

Abstract

(57)【要約】【課題】波長２００ｎｍ以下の短波長光に対して高透過
率で耐久性の高い含フッ素ポリマーを膜材料または接着
剤材料とするペリクルの提供。【解決手段】主鎖の炭素原子として水素原子が結合した
炭素原子と水素原子が結合せずかつフッ素原子または含
フッ素有機基が結合した炭素原子とを含む含フッ素ポリ
マー（Ａ）をペリクル膜またはペリクル膜と枠体との接
着剤として用いた、波長２００ｎｍ以下の光による露光
処理用のペリクル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、波長２００ｎｍ以
下の光を用いるフォトリソグラフィ用のペリクルに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ペリクルとは、半導体装置または液晶表
示板を製造する際の一工程であるフォトリソグラフィに
おいて、フォトマスクやレチクル（以下これらをマスク
という）上に異物が乗り、露光時にパターン欠陥となる
ことを防ぐためにマスクのパターン上に装着される保護
膜をいう。通常は接着剤を介して枠体（フレーム）に取
り付けられた透明薄膜が、マスク上にある距離マスク面
から離して設置される構造を有している。

【０００３】これらが使用される半導体装置や液晶表示
板の製造分野では、配線や配線間隔の微細化進展にとも
ない、フォトリソグラフィにおいても、用いられる光源
の波長が急速に短波長化している。最小パターン寸法
０．３μｍ以上の従来の露光技術では、ｉ線光源（３６
５ｎｍ）を用いたプロセスが主流であり、ペリクルの透
明薄膜（以下ペリクル膜という）の材料としてはニトロ
セルロース系材料が使用されてきた。

【０００４】近年、最小パターン寸法０．３μｍ以下の
配線加工のために、ＫｒＦエキシマレーザーが導入され
つつあるが、その発振波長は２４８ｎｍであり、ニトロ
セルロース系の膜材料では耐久性が不充分である。さら
に、エキシマレーザーなどの短波長の光を用いる場合に
は非結晶性のペルフルオロポリマーが膜材料として有用
であることが見い出されている（特許第２９５１３３７
号公報や特許第２９５２９６２号公報参照）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】一方、近年開発中の最
小パターン寸法０．２μｍ以下の配線加工のためには、
２００ｎｍ以下の短波長のレーザーとして、波長１９３
ｎｍのフッ化アルゴンエキシマレーザー（以下ＡｒＦエ
キシマレーザーという）、波長１５７ｎｍのフッ素ガス
エキシマレーザー（以下Ｆ₂エキシマレーザーという）
などの使用が提案されている。

【０００６】しかし、これらのレーザーからのレーザー
光は非常に高いエネルギーを有するため、前記特許第２
９５１３３７号公報記載の非結晶性のペルフルオロポリ
マーでも充分な耐久性がない。例えば、そこに使用され
ているペルフルオロポリマーである「ＣＹＴＯＰ」（商
品名）は１７０ｎｍより短い波長では光透過性や耐久性
が急激に低下する。このペルフルオロポリマーは波長１
５７ｎｍのＦ₂エキシマレーザー光に対する透過性は著
しく低い。そのため、Ｆ₂エキシマレーザー光に対応で
きるペリクル膜の開発が望まれてきた。

【０００７】また、ペリクル膜とフレームを固定する接
着剤においても、レーザー光の迷光や反射光による同様
な劣化問題があるため、耐久性の高い接着剤の開発が望
まれてきた。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、２００ｎ
ｍ以下（特に１８０ｎｍ以下）のレーザー光［以下、短
波長レーザー光という］に対して高い透過性と高い耐久
性とを有する含フッ素ポリマーを見い出した。本発明は
この含フッ素ポリマーをペリクル膜または接着剤として
用いたペリクルに関する下記発明である。

【０００９】波長２００ｎｍ以下の光による露光処理用
のペリクルであって、該ペリクルの膜または該ペリクル
の膜と枠体との接着剤が下記含フッ素ポリマー（Ａ）か
らなることを特徴とするペリクル。含フッ素ポリマー（Ａ）：炭素原子の連鎖を主鎖とする
実質的に線状の含フッ素ポリマーであって、主鎖の炭素
原子として１個または２個の水素原子が結合した炭素原
子と水素原子が結合せずかつフッ素原子または含フッ素
有機基が結合した炭素原子とを含む含フッ素ポリマー。

【００１０】本発明のペリクルは、特にＡｒＦエキシマ
レーザー光よりもさらに短波長である波長１８０ｎｍ以
下の光による露光処理用のペリクルとして適している。
具体的には、波長１５７ｎｍのＦ₂エキシマレーザー光
による露光処理用のペリクルとして適している。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明における含フッ素ポリマー
（Ａ）は、炭素原子の連鎖を主鎖とする実質的に線状の
含フッ素ポリマーである。このポリマーの主鎖の炭素原
子連鎖は原則としてモノマーの重合性不飽和結合を構成
する２個の炭素原子が連結した連鎖からなる。したがっ
て、含フッ素ポリマー（Ａ）において「主鎖の炭素原子
として１個または２個の水素原子が結合した炭素原子と
水素原子が結合せずかつフッ素原子またはフッ素含有置
換基が結合した炭素原子とを含む」とは、重合性不飽和
基を１個有するモノマーの重合により得られるホモポリ
マーの場合、モノマーの重合性不飽和結合を構成する２
個の炭素原子の一方の炭素原子には水素原子が結合し他
方の炭素原子には水素原子が結合していないモノマー
（以下モノマー（ａ）という）のポリマーであることを
意味する。

【００１２】コポリマーの場合には、重合性不飽和結合
を構成する２個の炭素原子の少なくともいずれかに水素
原子が結合しているモノマー［以下モノマー（ｂ）とい
う］と重合性不飽和結合を構成する２個の炭素原子のい
ずれにも水素原子が結合していないモノマー［以下モノ
マー（ｃ）という］とのコポリマーであってもよい。

【００１３】さらに含フッ素ポリマー（Ａ）は、モノマ
ー（ａ）の２種以上のコポリマーであってもよく、モノ
マー（ａ）と他のモノマーとのコポリマーであってもよ
い。同様に、モノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）とそれら
以外のモノマーとのコポリマーであってもよい。

【００１４】含フッ素ポリマー（Ａ）は２個の重合性不
飽和結合を有するモノマーの環化重合により得られるポ
リマーであってもよい。通常このポリマーの場合には２
個の重合性不飽和結合の４個の炭素原子がポリマーの主
鎖を形成する。したがって、この含フッ素ポリマー
（Ａ）は、２個の重合性不飽和結合の４個の炭素原子の
内１個以上の炭素原子が水素原子を有しかつ１個以上の
炭素原子が水素原子を有しないモノマー［以下モノマー
（ｄ）という］の環化重合により得られるポリマーであ
る。

【００１５】コポリマーの場合には４個の炭素原子のい
ずれも水素原子を有しないモノマー［以下モノマー
（ｅ）という］と重合性不飽和結合の炭素原子に水素原
子を有するモノマー（このモノマーは重合性不飽和結合
を２個有する環化重合しうるモノマーであっても重合性
不飽和結合を１個有するモノマーであってもよい）［以
下モノマー（ｆ）という］とのコポリマーであってもよ
い。さらに、含フッ素ポリマー（Ａ）は、モノマー
（ｄ）と他のモノマーとのコポリマーであってもよく、
モノマー（ｅ）とモノマー（ｆ）とそれら以外のモノマ
ーとのコポリマーであってもよい。

【００１６】含フッ素ポリマー（Ａ）がフッ素を有する
ポリマーであることより、上記モノマー（ａ）、モノマ
ー（ｃ）、モノマー（ｄ）およびモノマー（ｅ）は重合
性不飽和結合の炭素原子にフッ素原子またはフッ素含有
有機基が結合していることが必要である。モノマー
（ｂ）、モノマー（ｆ）は重合性不飽和結合の炭素原子
にフッ素原子またはフッ素含有有機基が結合しているこ
とが必須ではないがそれらが結合していてもよい。

【００１７】含フッ素有機基としては１価の基と２価の
基が好ましい。２価の含フッ素有機基の２個の結合手
は、重合性不飽和結合の２個の炭素原子それぞれに結合
する（２個の炭素原子を含む環を形成する）場合と２個
の炭素原子の一方のみに結合する（その１個の炭素原子
を含む環を形成し他方の炭素原子が環外の炭素原子とな
る）場合とがある。

【００１８】モノマー（ａ）〜モノマー（ｆ）はその重
合性不飽和基の炭素原子に水素原子、フッ素原子、含フ
ッ素有機基以外の原子、有機基、その他の置換基を有し
ていてもよい。例えば塩素原子などのフッ素原子以外の
ハロゲン原子、アルキル基などの有機基を有していても
よい。しかし、アルキル基などの有機基を側鎖に多数有
するポリマーはその炭素原子に結合した水素原子が耐久
性低下の要因となりやすくそのような置換基は少ない方
が好ましい。

【００１９】１価の含フッ素有機基としては含フッ素ア
ルキル基と含フッ素アルコキシ基が好ましい。これらの
基の炭素数は１０以下、特に４以下が好ましい。これら
の基は水素原子を含まないことが好ましく、フッ素原子
のみを含む基（すなわち、ペルフルオロアルキル基、ペ
ルフルオロアルコキシ基）、またはフッ素原子とフッ素
原子の数に比較して少数の塩素原子を含むペルハロポリ
フルオロアルキル基とペルハロポリフルオロアルコキシ
基が好ましい。また、接着剤として使用される含フッ素
ポリマー（Ａ）の場合は接着性の向上に有効な官能基を
有する含フッ素有機基を有していてもよい。１価の含フ
ッ素有機基としては直鎖状のものに限られず、分岐を有
していてもよい。

【００２０】２価の含フッ素有機基としてはエーテル性
酸素原子を含んでもよい炭素数１０以下（特に６以下）
のポリフルオロアルキレン基が好ましい。このポリフル
オロアルキレン基としてはペルフルオロアルキレン基と
少数の塩素原子を含むペルハロポリフルオロアルキレン
基が好ましい。エーテル性酸素原子は、ポリフルオロア
ルキレン基の一方の末端に存在してもよく、両末端に存
在してもよく、炭素原子間に存在してもよい。２価の含
フッ素有機基としては直鎖状のものに限られず、分岐を
有していてもよい。

【００２１】１価の有機基としては、前記１価の含フッ
素有機基とフッ素を有しない１価の有機基がある。フッ
素を有しない１価の有機基としては炭素数１０以下、特
に４以下のアルキル基とアルコキシ基が好ましい。フッ
素を有しない１価の有機基としては特にメチル基が好ま
しい。

【００２２】結晶性を有するポリマーは光散乱による透
過率の低下やレチクル像のゆがみを引き起こすため、含
フッ素ポリマー（Ａ）の結晶化度は３０％以下が好まし
く、特に２０％以下の非結晶性であることが好ましい。
ポリマー分子中にバルキーな構造を導入することにより
ポリマーの結晶化度を下げることができる。したがっ
て、バルキーな構造である脂肪族環をポリマーの主鎖に
存在させてポリマーの結晶化を抑制し、非結晶性の透明
性の高いポリマーとすることが好ましい。よって、含フ
ッ素ポリマー（Ａ）としては特に主鎖に脂肪族環構造を
有する含フッ素ポリマーであることが好ましい。

【００２３】「主鎖に脂肪族環構造を有する」とは主鎖
の炭素原子の１個以上が脂肪族環を構成する炭素原子で
あることを意味する。この脂肪族環は、その脂肪族環を
構成する炭素原子の１個以上にフッ素原子または含フッ
素有機基が結合している含フッ素脂肪族環であることが
好ましい。また、この脂肪族環を構成する原子の一部は
炭素原子以外の酸素原子や窒素原子などの原子であって
もよい。好ましい脂肪族環は１〜２個の酸素原子を有す
る５〜８員環の含フッ素脂肪族環である。

【００２４】脂肪族環に重合性不飽和基を有するモノマ
ーを用いることによって主鎖に脂肪族環構造を有するポ
リマーが得られる。モノマー（ｄ）やモノマー（ｅ）は
環化重合により主鎖に脂肪族環構造を有するポリマーを
形成する。「脂肪族環に重合性不飽和基を有する」と
は、脂肪族環を構成する炭素原子間に重合性不飽和基を
有するか、または、環を構成する炭素原子と環外の炭素
原子との間に重合性不飽和基を有することを意味する。
この脂肪族環としては含フッ素脂肪族環であることが好
ましく、前記のように環を構成する原子として酸素原子
を有していてもよい。

【００２５】以下、含フッ素脂肪族環に重合性不飽和基
を有するモノマーを含フッ素脂肪族不飽和環状モノマー
という。含フッ素脂肪族不飽和環状モノマーの環を構成
する原子としては炭素原子以外に１〜２個の酸素原子を
有していてもよい。モノマー（ｃ）は含フッ素脂肪族不
飽和環状モノマーであることが好ましい。モノマー
（ａ）、モノマー（ｂ）およびモノマー（ｆ）は含フッ
素脂肪族不飽和環状モノマーであってもよい。

【００２６】モノマー（ａ）としてはフッ化ビニリデン
やトリフルオロエチレンが好ましい。しかしこれらのモ
ノマーのホモポリマーは結晶性となることが多く透明性
が低い傾向にある。

【００２７】モノマー（ｂ）としては、ＣＨＲ¹＝ＣＲ²
Ｒ³［Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に水素原子、フッ素
原子または１価の有機基を表す］で表されるモノマーが
好ましい。Ｒ¹、Ｒ²は水素原子またはフッ素原子が好ま
しく、Ｒ³は水素原子、フッ素原子または炭素数４以下
のアルキル基（特にメチル基）が好ましい。具体的に
は、エチレン、プロピレンなどのオレフィン、フッ化ビ
ニル、１，２−ジフルオロエチレン、フッ化ビニリデ
ン、トリフルオロエチレンなどの重合性不飽和基の炭素
原子に水素原子が結合したフルオロオレフィンがある。
モノマー（ｂ）としては、炭素数２〜３のオレフィンと
炭素数２〜３のフルオロオレフィンが好ましい。特に好
ましいモノマー（ｂ）は、エチレンおよびプロピレンか
ら選ばれたオレフィンおよびフッ化ビニル、１，２−ジ
フルオロエチレンおよびフッ化ビニリデンから選ばれた
フルオロオレフィンである。

【００２８】モノマー（ｃ）としては、ＣＦＲ⁴＝ＣＲ⁵
Ｒ⁶［Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立にフッ素原子または
１価の含フッ素有機基を表すか、Ｒ⁴とＲ⁵は共同して２
価の含フッ素有機基を表しかつＲ⁶はフッ素原子もしく
は１価の含フッ素有機基を表すか、または、Ｒ⁵とＲ⁶は
共同して２価の含フッ素有機基を表しかつＲ⁴はフッ素
原子もしくは１価の含フッ素有機基を表す］で表される
モノマーが好ましい。この内、Ｒ⁴とＲ⁵が共同して２価
の含フッ素有機基を表しかつＲ⁶がフッ素原子もしくは
１価の含フッ素有機基を表す場合、および、Ｒ⁵とＲ⁶が
共同して２価の含フッ素有機基を表しかつＲ⁴がフッ素
原子もしくは１価の含フッ素有機基を表す場合、そのモ
ノマー（ｃ）は含フッ素脂肪族不飽和環状モノマーの１
種であり、以下このモノマーを含フッ素脂肪族不飽和環
状モノマー（ｃ）という。

【００２９】モノマー（ｃ）としては、具体的には、テ
トラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、
ヘキサフルオロプロピレンなどの水素原子を有しないポ
リフルオロオレフィン、ペルフルオロ（アルキルビニル
エーテル）、並びに、下記式１、式２および式３で表さ
れる含フッ素脂肪族不飽和環状モノマー（ｃ）などがあ
る。特に好ましいモノマー（ｃ）はペルフルオロ（２，
２−ジメチル−１，３−ジオキソール）［すなわち、Ｒ
¹¹、Ｒ¹²がいずれもトリフルオロメチル基である式１で
表される化合物］である。

【００３０】

【化１】

【００３１】上記式１〜式３においてＲ¹¹〜Ｒ¹⁶はそれ
ぞれ独立にフッ素原子または含フッ素有機基を表し、含
フッ素有機基としてはペルフルオロアルキル基、特に炭
素数１または２のペルフルオロアルキル基が好ましい。

【００３２】モノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）のコポリ
マーからなる含フッ素ポリマー（Ａ）としては、エチレ
ン／テトラフルオロエチレンコポリマー、プロピレン／
テトラフルオロエチレンコポリマー、プロピレン／フッ
化ビニリデン／テトラフルオロエチレンコポリマー、フ
ッ化ビニリデン／ヘキサフルオロプロピレンコポリマー
などの主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有しないポリマー
であってもよいが、これらは透明性が充分とはいえな
い。しかし、膜と枠体を接着するための接着剤としては
有用である。好ましい含フッ素ポリマー（Ａ）はモノマ
ー（ｂ）と上記式１〜式３で表される含フッ素脂肪族不
飽和環状モノマー（ｃ）とのコポリマーである。この場
合のモノマー（ｂ）としては、エチレンなどのオレフィ
ンおよび不飽和基の炭素原子に水素原子を有するフルオ
ロオレフィンから選ばれた少なくとの１種のモノマーが
好ましい。

【００３３】モノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）のコポリ
マーにおけるモノマー（ｂ）の重合により形成されたモ
ノマー単位（以下モノマー単位（ｂ）という。他のモノ
マー単位についても同様とする）とモノマー単位（ｃ）
との合計に対するモノマー単位（ｂ）の割合は１０〜７
０モル％が好ましい。モノマー（ｂ）がエチレンなどの
２個以上の水素原子（重合性不飽和結合の炭素原子に結
合した水素原子）を有するモノマーの場合は１０〜５０
モル％が好ましい。特に好ましいモノマー単位（ｂ）の
割合は２０〜４０モル％である。接着剤用の含フッ素ポ
リマー（Ａ）においてはさらにモノマー単位（ｂ）とモ
ノマー単位（ｃ）との合計に対するモノマー単位（ｂ）
の割合が４０〜８５モル％であるポリマーも好ましい。

【００３４】なお、このポリマーにおける全モノマー単
位に対するモノマー単位（ｂ）とモノマー単位（ｃ）の
合計の割合は５０〜１００モル％が好ましく、特に８０
〜１００モル％が好ましい。最も好ましいポリマーはモ
ノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）のみからなるコポリマー
（ただし各モノマーは２種以上であってもよい）であ
る。

【００３５】モノマー（ｄ）としては、ＣＨ₂＝ＣＲ⁷−
Ｑ−ＣＲ⁸＝ＣＦ₂［ただし、Ｒ⁷、Ｒ⁸はそれぞれ独立に
水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を表
し、Ｑは２価の含フッ素有機基を表す］で表されるモノ
マーが好ましい。Ｒ⁷としては水素原子とフッ素原子が
好ましく特に水素原子が好ましい。Ｒ⁸としてはフッ素
原子または炭素数２以下のペルフルオロアルキル基が好
ましく、特にフッ素原子が好ましい。

【００３６】Ｑとしては、炭素数１０以下のエーテル性
酸素原子を有していてもよいペルフルオロアルキレン基
が好ましい。エーテル性酸素原子はペルフルオロアルキ
レン基の一方の末端に存在していてもよく、両末端に存
在していてもよく、炭素原子間に存在していてもよい。
エーテル性酸素原子を有しないペルフルオロアルキレン
基の場合は炭素数２〜６、一方の末端にエーテル性酸素
原子を有するまたは炭素原子間にエーテル性酸素原子を
有するペルフルオロアルキレン基の場合は炭素数１〜
４、両末端にエーテル性酸素原子を有するペルフルオロ
アルキレン基の場合は炭素数１〜３であることがより好
ましい。分岐部の炭素原子を除いた炭素原子と酸素原子
の合計数は２〜４であることが最も好ましい。

【００３７】Ｑとしては、２，２−ジフルオロビニル基
側にエーテル性酸素原子を有する炭素数４以下のペルフ
ルオロアルキレン基、炭素原子間にエーテル性酸素原子
を有する炭素数４以下のペルフルオロアルキレン基およ
びエーテル性酸素原子を有しない炭素数４以下のペルフ
ルオロアルキレン基が好ましい。さらに好ましいＱは
２，２−ジフルオロビニル基側にエーテル性酸素原子を
有する炭素数４以下のペルフルオロアルキレン基であ
る。

【００３８】すなわち、最も好ましいモノマー（ｄ）
は、ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｒ^f−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ₂［ただし、Ｒ^f
は炭素数１〜４のペルフルオロアルキレン基を表す］で
表されるモノマーである。このモノマーは環化重合性が
高く、短波長光の透過性が高く機械的強度の高いポリマ
ーが得られる（特開昭６３−２３８１１１号公報、特開
昭６３−２３８１１３号公報等参照）。Ｒ^fとしては分
岐を除いて炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基が
好ましい。分岐が存在する場合は、分岐はトリフルオロ
メチル基が好ましく、分岐の数は１〜２が好ましい。

【００３９】なお、ＣＨ₂＝ＣＲ⁷−Ｑ−ＣＲ⁸＝ＣＦ₂の
環化重合により通常下記式４、式５、式６などで表され
るモノマー単位が形成される。ＣＨ₂＝ＣＲ⁷−Ｑ−ＣＲ
⁸＝ＣＦ₂で表されるモノマー（ｄ）としては、例えば以
下の化合物がある。

【００４０】

【化２】

【００４１】

【化３】

【００４２】含フッ素ポリマー（Ａ）は、モノマー
（ｄ）のホモポリマー（ただし、モノマー（ｄ）の２種
以上のコポリマーであってもよい）であってもよく、他
のモノマーとのコポリマーであってもよい。他のモノマ
ーとしては、モノマー（ａ）、モノマー（ｂ）、モノマ
ー（ｃ）、モノマー（ｅ）などがある。コポリマーとし
てはモノマー（ｄ）とモノマー（ｃ）のコポリマーおよ
びモノマー（ｄ）とモノマー（ｅ）のコポリマーが好ま
しく、モノマー（ｄ）とモノマー（ｃ）のコポリマーが
より好ましい。この場合のモノマー（ｃ）としては、前
記の含フッ素脂肪族不飽和環状モノマー（ｃ）が好まし
い。

【００４３】この含フッ素ポリマー（Ａ）における全モ
ノマー単位に対するモノマー単位（ｄ）の割合は３０〜
１００％が適当であり、５０〜１００％が好ましく、１
００％であることが最も好ましい。

【００４４】モノマー（ｅ）としては、モノマー（ｄ）
の重合性不飽和基の炭素原子に結合した水素原子がすべ
てフッ素原子またはペルフルオロアルキル基に置換され
たモノマーが好ましい。より好ましくは、ＣＦ₂＝ＣＲ⁹
−Ｑ−ＣＲ¹⁰＝ＣＦ₂［Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立にフッ
素原子または１価の含フッ素有機基を表し、Ｑは前記に
同じ］で表されるモノマーが好ましい。ただし、前記し
たＱにおけるエーテル性酸素原子の位置や数の制約はな
い。具体的には下記のようなモノマーがある。

【００４５】

【化４】

【００４６】モノマー（ｆ）としては前記モノマー
（ａ）やモノマー（ｂ）を使用しうる。特にモノマー
（ｂ）が好ましい。モノマー（ｅ）とモノマー（ｆ）の
共重合においてはモノマー（ｅ）は環化重合により含フ
ッ素脂肪族環構造を有するモノマー単位を形成し、この
モノマー単位（ｅ）とモノマー単位（ｆ）とを有するコ
ポリマーが生成する。モノマー単位（ｅ）とモノマー単
位（ｆ）とを有するコポリマーはさらに他のモノマー単
位を有していてもよく、例えば前記モノマー単位（ｃ）
を有していてもよい。

【００４７】モノマー（ｅ）とモノマー（ｆ）のコポリ
マーにおいて、モノマー単位（ｅ）とモノマー単位
（ｆ）との合計に対するモノマー単位（ｆ）の割合は１
０〜７０モル％が好ましい。エチレンなどの２個以上の
水素原子（重合性不飽和結合の炭素原子に結合した水素
原子）を有するモノマー（ｆ）の場合は１０〜６０モル
％が好ましい。特に好ましいモノマー（ｆ）の割合は２
０〜５０モル％である。なお、このポリマーにおける全
モノマー単位に対するモノマー単位（ｅ）とモノマー単
位（ｆ）の合計の割合は５０〜１００モル％が好まし
く、特に７０〜１００モル％が好ましい。

【００４８】含フッ素ポリマー（Ａ）は前記のように含
フッ素脂肪族環構造を有するモノマー単位を含むポリマ
ーであることが好ましい。含フッ素ポリマー（Ａ）にお
ける全モノマー単位に対するこの含フッ素脂肪族環構造
を有するモノマー単位の割合は、２０モル％以上、特に
４０モル％以上であることが好ましい。特に好ましい含
フッ素ポリマー（Ａ）は、エチレンとペルフルオロ
（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）とのコポ
リマー、モノマー（ｄ）のホモポリマー、および、含フ
ッ素脂肪族不飽和環状モノマー（ｃ）とモノマー（ｄ）
とのコポリマーである。

【００４９】また、本発明者の検討によれば、含フッ素
ポリマー（Ａ）の主鎖の炭素原子においてフッ素原子が
結合した炭素原子（特にＣＦ₂基）のみが多数連続して
存在するとその部分の電子遷移エネルギーが低下するた
め、１７０ｎｍ以下の光をより吸収しやすくなり透過率
を低下させる原因となると考えられる。水素原子が結合
した炭素原子（特にＣＨ₂基）のみが多数連続して存在
する場合も同様と考えられる。したがって、ポリマー中
にモノマー単位（ｃ）やモノマー単位（ｅ）などのモノ
マー単位のみが多数連続したブロックが存在することは
好ましくない（モノマー単位（ｂ）やモノマー単位
（ｆ）などのモノマー単位についても同様）。

【００５０】ポリマー全体として平均して上記モノマー
単位のみの連鎖はモノマー単位数で１０個以下、特に８
個以下であることが好ましい。したがって、コポリマー
である含フッ素ポリマー（Ａ）は、前記のようなモノマ
ー単位の割合であることに加えて、ランダムコポリマー
であることが好ましい。

【００５１】ペリクル膜は通常含フッ素ポリマー（Ａ）
の溶液を用いて製膜することにより製造される。溶剤と
してはこのポリマーを溶解するものであれば特に限定さ
れないが、このポリマーに対する溶解性の高い含フッ素
溶剤が好ましい。例えば、以下の含フッ素溶剤を用いう
る。

【００５２】ペルフルオロベンゼン、ペンタフルオロベ
ンゼン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン
等のポリフルオロ芳香族化合物。ペルフルオロトリブチ
ルアミン、ペルフルオロトリプロピルアミン等のポリフ
ルオロトリアルキルアミン化合物。ペルフルオロデカリ
ン、ペルフルオロシクロヘキサン等のポリフルオロシク
ロアルカン化合物。ペルフルオロ（２−ブチルテトラヒ
ドロフラン）等のポリフルオロ環状エーテル化合物。

【００５３】ペルフルオロオクタン、ペルフルオロデカ
ン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフ
ルオロプロパン、２Ｈ，３Ｈ−ペルフルオロペンタン、
１Ｈ−ペルフルオロヘキサン等のポリフルオロアルカン
類。メチルペルフルオロイソプロピルエーテル、メチル
ペルフルオロブチルエーテル、メチル（ペルフルオロヘ
キシルメチル）エーテル、メチルペルフルオロオクチル
エーテル、エチルペルフルオロブチルエーテル等のポリ
フルオロエーテル類。

【００５４】ポリマー溶液からペリクル膜を製造する方
法としては、ロールコート法、キャスト法、ディップ
法、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、
ラングミュア・ブロジェット法などの溶液から膜を形成
させる方法により基材上にポリマーの薄膜を形成する方
法が使用できる。薄膜の厚さは通常０．０１〜５０μｍ
の範囲から選定される。ペリクル膜の場合は、非常に厳
密な膜厚形成が求められるため、スピンコート法がより
好ましい。基材としては、シリコンウエハ、石英ガラス
等で表面が平坦なものが好ましい。

【００５５】接着剤用の含フッ素ポリマー（Ａ）として
は、ペリクル膜として好ましい含フッ素ポリマー（Ａ）
と同種のポリマーが好ましい。例えば、含フッ素脂肪族
不飽和環状モノマー（ｃ）とモノマー（ｂ）とのコポリ
マー、モノマー（ｄ）のポリマー、モノマー（ｅ）とモ
ノマー（ｆ）とのコポリマーなどが好ましい。また、接
着剤用の含フッ素ポリマー（Ａ）は必ずしも高い透明性
は要求されないことより、主鎖に含フッ素脂肪族環構造
を有しないポリマーであってもよい。したがって、含フ
ッ素脂肪族不飽和環状モノマー（ｃ）以外のモノマー
（ｃ）とモノマー（ｂ）とのコポリマー（すなわち主鎖
に脂肪族環構造を有しない含フッ素ポリマー（Ａ））も
好ましい接着剤として使用できる。

【００５６】主鎖に脂肪族環構造を有しない含フッ素ポ
リマー（Ａ）としては、プロピレン／フッ化ビニリデン
／テトラフルオロエチレンコポリマー、フッ化ビニリデ
ン／ヘキサフルオロプロピレンコポリマーなどがある。
このようなポリマーにおけるモノマー単位（ｃ）とモノ
マー単位（ｂ）の合計に対するモノマー単位（ｂ）の割
合は、４０〜８５モル％が好ましく、特に５０〜８０モ
ル％が好ましい。

【００５７】また、含フッ素ポリマー（Ａ）を、ペリク
ル用フレームとペリクル膜との接着剤として用いる場
合、接着性向上に有効な官能基が導入された含フッ素ポ
リマー（Ａ）を用いることが好ましい。なお、ペリクル
膜用の含フッ素ポリマー（Ａ）は光透過性の面から官能
基を有しないことが好ましい。

【００５８】官能基含有含フッ素ポリマー（Ａ）の官能
基としては、枠体やペリクル膜に対して接着性を発現し
うるものであれば特に制約はなく、例えば、カルボン酸
基、スルホン酸基、エステル結合を有する基、アルケニ
ル基、加水分解性シリル基、水酸基、マレイミド基、ア
ミノ基、シアノ基、イソシアネート基などが挙げられ
る。この官能基としては、枠体材料であるアルミニウム
などの金属類に対する接着性が良好で、保存安定性に富
み、比較的低温でその効果が発現できる観点より、カル
ボン酸基が特に好適である。

【００５９】含フッ素ポリマー（Ａ）中の官能基の数は
ポリマー１ｇ当たり０．００１〜１ミリモルであること
が好ましい。官能基の数が１ミリモルを超える場合は、
官能基の有する吸収性が接着剤の耐久性を阻害するおそ
れがある。

【００６０】接着性官能基を導入した主鎖に含フッ素脂
肪族環構造を有するポリマー、およびその製造方法は公
知である（特開平４−１８９８８０号公報、特開平４−
２２６１７７号公報、特開平６−２２０２３２号公報参
照）。この主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する公知の
ポリマーは前記モノマー（ｃ）のコポリマーやモノマー
（ｅ）のポリマーである。

【００６１】官能基を有する含フッ素ポリマー（Ａ）も
また上記公知のポリマーと同じ方法で官能基を導入でき
る。例えば、重合で得られるポリマーの末端基を利用す
る方法、アルコキシカルボニル基を有するモノマーを共
重合させ、その後得られたポリマーを加水分解する方
法、ポリマーを高温処理してポリマーの側鎖または末端
を酸化分解せしめて官能基を形成する方法などがある。

【００６２】さらに、接着剤として使用する含フッ素ポ
リマー（Ａ）や官能基含有含フッ素ポリマー（Ａ）に、
接着性向上のために、シラン系、エポキシ系、チタン
系、アルミニウム系などのカップリング剤などの接着性
向上剤を配合してもよい。また、官能基含有含フッ素ポ
リマー（Ａ）を枠体上に薄くコートした上に官能基を有
しない含フッ素ポリマー（Ａ）で接着を行っても強固な
接着力が得られる。

【００６３】

【実施例】次に、本発明の実施例について具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されない。（例１）［含フッ素ポリマー（Ａ）の合成例］１，１，２，４，４，５，５−ヘプタフルオロ−３−オ
キサ−１，６−ヘプタジエン［ＣＨ₂＝ＣＨＣＦ₂ＣＦ₂
ＯＣＦ＝ＣＦ₂］２０ｇおよびトリクロロトリフルオロ
エタン４０ｇを内容積２００ｍｌの耐圧ガラス製オート
クレーブに入れた。重合開始剤としてビス（ヘプタフル
オロブチリル）ペルオキシド２０ｍｇを加え、系内を再
度窒素で置換した後、１８℃で１０時間重合を行った。
その結果、主鎖に含フッ素環構造を有する非結晶性ポリ
マー（以下、重合体Ａという）を１０ｇ得た。

【００６４】重合体Ａの固有粘度［η］は、１，３−ビ
ス（トリフルオロメチル）ベンゼン中３０℃で０．９６
であった。重合体Ａのガラス転移点は９０℃であり、室
温ではタフで透明なガラス状の重合体であり、屈折率は
１．３６と低かった。

【００６５】一方、上記と同じ方法で得た重合体Ａを空
気中３２０℃で３時間熱処理した後に水中に浸漬して変
性した。変性された重合体ＡのＩＲスペクトル測定によ
りカルボキシル基のピークが確認され、その量は０．０
０５ミリモル／ｇであった。この変性された重合体Ａを
以下接着剤Ａという。

【００６６】（例２）［含フッ素ポリマー（Ｂ）の合成
例］ペルフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソー
ル）［以下、ＰＤＤという］とエチレンをモル比７０：
３０で開始剤としてジイソプロピルペルオキシジカーボ
ネートを用いてラジカル重合を行い、ガラス転移点が８
０℃、１０％熱分解温度が３３０℃である、主鎖に含フ
ッ素環構造を有する非結晶性ポリマー（以下重合体Ｂと
いう）を得た。重合体Ｂは、室温では弾性率１．６ＧＰ
ａを有する、タフで透明な重合体であり、屈折率は１．
３５と低かった。

【００６７】（例３）[含フッ素ポリマー（Ｃ）の合成
例] １，１，２，４，５，５−ヘキサフルオロ−３−オキサ
−４−トリフルオロメチル−１，６−ヘプタジエン[CH₂
=CHCF(CF₃)CF₂OCF=CF₂]３０ｇおよび１Ｈ−ペルフルオ
ロヘキサン[CF₃CF₂CF₂CF₂CF₂CF₂H]７０ｇを窒素置換し
た内容積１００ｍｌの耐圧ガラス製オートクレーブに入
れた。

【００６８】重合開始剤としてビス（ヘプタフルオロブ
チリル）ペルオキシド１７ｍｇを加え、系内を再度窒素
で置換した後、２５℃で２０時間重合を行った。その結
果、主鎖に含フッ素環構造を有する非結晶性ポリマー
（以下重合体Ｃという）を２４ｇ得た。

【００６９】重合体Ｃの固有粘度[η]は、ペルフルオロ
（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で０．６０
であった。重合体Ｃのガラス転移温度は１０８℃であ
り、室温ではタフで透明ガラス状の重合体であり、屈折
率は１．３４と低かった。

【００７０】（例４）[含フッ素ポリマー（Ｄ）の合成
例] １，１，２，４，５，５−ヘキサフルオロ−３−オキサ
−４−トリフルオロメチル−１，６−ヘプタジエン２０
ｇ、ＰＤＤ７．５ｇおよび１Ｈ−ペルフルオロヘキサン
７０ｇを内容積１００ｍｌの耐圧ガラス製オートクレー
ブに入れた。

【００７１】重合開始剤としてビス（ヘプタフルオロブ
チリル）ペルオキシド２３ｍｇを加え、系内を再度窒素
で置換した後、２５℃で３０時間重合を行った。その結
果、主鎖に含フッ素環構造を有する非結晶性ポリマー
（以下重合体Ｄという）を１５ｇ得た。

【００７２】重合体Ｄの固有粘度[η]は、ペルフルオロ
（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で０．４５
であった。重合体Ｄは、室温ではタフで透明なガラス状
の重合体であった。

【００７３】（例５）［ペルフルオロポリマーの合成
例］ペルフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５ｇ、イオ
ン交換水１５０ｇ、分子量調節剤としてメタノール６ｇ
および重合開始剤としてジイソプロピルペルオキシジカ
ーボネート９０ｍｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス
製オートクレーブに入れた。系内を窒素で置換した後、
４０℃で２２時間懸濁重合を行って、開始剤に起因する
末端基（−ＣＯＦ基）を有し主鎖に含フッ素脂肪族環構
造を有する非結晶性ペルフルオロポリマーを３３ｇ得
た。

【００７４】この重合体の固有粘度［η］は、ペルフル
オロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で０．
３５であり、ガラス転移温度は１０８℃であった。この
ポリマーは室温ではタフで透明なガラス状の重合体であ
り、また１０％熱分解温度は４６５℃であった。

【００７５】この重合体をペルフルオロトリブチルアミ
ン中に６％になるように溶解し、ニッケル製１リットル
オートクレーブ中に入れ、２０％フッ素ガスを圧力で
０．７ＭＰａ・Ｇまで導入した後、１９５℃で１０時間
撹拌しながらフッ素化し、開始剤に起因する末端基のな
いポリマー（以下、重合体Ｅという。）を得た。得られ
た重合体の圧縮成形フィルムの赤外線吸収スペクトルを
測定したところ、−ＣＯＦ基に由来する１８８３ｃｍ^-1
の特性吸収は認められなかった。

【００７６】一方、上記と同じ方法で得た開始剤に起因
する末端基（−ＣＯＦ基）を有する非結晶性ペルフルオ
ロポリマーを空気中３２０℃で３時間熱処理した後に水
中に浸漬して変性した。変性された重合体のＩＲスペク
トル測定によりカルボキシル基のピークが確認され、そ
の量は０．０２ミリモル／ｇであった。この変性された
重合体を以下接着剤Ｅという。

【００７７】（例６）重合体Ａ７ｇと１，３−ビス（ト
リフルオロメチル）ベンゼン９３ｇガラス製フラスコ中
に入れて４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、
無色透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を研
磨したガラス板上にスピン速度５００ｒｐｍにて１０
秒、その後２０００ｒｐｍにて２０秒スピンコートを実
施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０℃にて１時
間加熱処理することにより、ガラス板上に均一で透明な
膜が得られた。

【００７８】一方、接着剤Ａ７ｇと１，３−ビス（トリ
フルオロメチル）ベンゼン９３ｇを上記と同様に処理し
て得た溶液をアルミニウムフレーム上に塗布し、室温で
２時間乾燥した。その後、１２０℃のホットプレート上
に接着面を上にしてアルミニウムフレームを載せて１０
分間加熱し、上記重合体Ａの膜が形成されたガラス板を
膜面をフレーム側にして圧着した。その状態で１２０℃
で１０分間保持して接着を完結させた。その後、膜をガ
ラス板から剥離して、アルミニウムフレームに重合体Ａ
からなる膜厚約１μｍの均一な自立膜がついたペリクル
を得た。

【００７９】重合体Ｂ７ｇと１，３−ビス（トリフルオ
ロメチル）ベンゼン９３ｇ、重合体Ｃ７ｇとペルフルオ
ロトリブチルアミン９３ｇおよび重合体Ｄ７ｇとペルフ
ルオロトリブチルアミン９３ｇを用いて、上記と同じ方
法によりアルミニウムフレームに各重合体からなる膜厚
約１μｍの均一な自立膜がついたペリクルを得た。これ
らの膜の１５７ｎｍの光の透過率はいずれも９５％以上
であった。

【００８０】重合体Ａ〜Ｄの膜を有する各ペリクルにつ
いてそれぞれフォトリソグラフィに用いられる１５７ｎ
ｍを発振するＦ₂エキシマレーザー光の照射試験を行っ
たところ、重合体Ａ〜Ｄの膜はそれぞれ極めて良好な耐
性を示した。また、膜の剥離はなく、接着剤Ａも良好な
耐久性を示した。

【００８１】（例７）接着剤としてプロピレン／フッ化
ビニリデン／テトラフルオロエチレンのコポリマー（プ
ロピレン単位／フッ化ビニリデン単位／テトラフルオロ
エチレン単位の含有量（モル％）が２５／３５／４０で
あり、テトラヒドロフラン中、３０℃における固有粘度
［η］が０．５８であるコポリマー）を使用し、この接
着剤の酢酸ブチル溶液と膜材料として重合体Ｃとを用い
て例６と同様に膜厚約１μｍの均一な重合体Ｃの膜がつ
いたペリクルを得た。

【００８２】得られたペリクルは、膜の伸びや弛みがな
く、エアブローに対して充分な接着力を有するものであ
った。このペリクルを用いフォトリソグラフィに用いら
れる１５７ｎｍを発振するＦ₂エキシマレーザー光の照
射試験を行ったところ、１０，０００パルス照射後でも
膜の剥離は認められず、接着剤も良好な耐久性を示し
た。

【００８３】（例８）接着剤としてフッ化ビニリデン／
ヘキサフルオロプロピレンのコポリマー（フッ化ビニリ
デン単位／ヘキサフルオロプロピレン単位の含有量（モ
ル％）が７８／２２であり、テトラヒドロフラン中、３
０℃における固有粘度［η］が０．６０であるコポリマ
ー）を使用し、この接着剤の酢酸エチル溶液と膜材料と
して重合体Ｃとを用いて例６と同様に膜厚約１μｍの均
一な重合体Ｃの膜がついたペリクルを得た。

【００８４】得られたペリクルは、膜の伸びや弛みがな
く、エアブローに対して充分な接着力を有するものであ
った。このペリクルを用いフォトリソグラフィに用いら
れる１５７ｎｍを発振するＦ₂エキシマレーザー光の照
射試験を行ったところ、１０，０００パルス照射後でも
膜の剥離は認められず、接着剤も良好な耐久性を示し
た。

【００８５】（例９）例５で得られた重合体Ｅの９ｇと
ペルフルオロトリブチルアミン９１ｇをガラス製フラス
コ中に入れ、５０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結
果、無色透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液
を用いて研磨したガラス板上にスピン速度５００ｒｐｍ
にて１０秒、その後４０００ｒｐｍにて２０秒スピンコ
ートを実施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０℃
にて１時間加熱処理することにより、ガラス板上に均一
で透明な膜が得られた。

【００８６】その後、接着剤Ｅのペルフルオロトリブチ
ルアミン溶液を用いて例６と同様にアルミニウムフレー
ムに重合体Ｅの膜上に張り付け、アルミニウムフレーム
に膜厚約１μｍの均一な重合体Ｅの自立膜がついたペリ
クルを得た。このペリクルを用いてＦ₂エキシマレーザ
ーの照射試験を行ったところ、重合体Ｅの膜は著しい膜
減りや膜の破れが発生し、使用に耐えないものであっ
た。また、膜の剥離も見られ、接着剤Ｅの耐久性も充分
ではなかった。

【００８７】（例１０）前記例６と例７で用いた重合体
Ａ〜Ｄおよび重合体Ｅそれぞれの溶液を前記と同様研磨
したガラス板上にスピンコートし、乾燥して厚さ１０μ
ｍの均一で透明な膜を得た。得られた膜それぞれについ
て波長に対する光透過率を測定した結果を図１に示す。
重合体Ａ〜Ｄの膜は１５７ｎｍの波長の光を高い透過率
で透過したが、重合体Ｅの膜は１５７ｎｍの波長の光を
ほとんど透過しないことがわかった。

【００８８】

【発明の効果】本発明の含フッ素ポリマー（Ａ）を用い
たペリクルは波長２００ｎｍ以下（特に１８０ｎｍ以
下）の短波長領域において透過率が高く、今後のより微
細な加工に使用される短波長レーザー光に対して高い耐
久性を示す。したがって、次世代のフォトリソグラフィ
に用いられるマスクの防塵膜として優れた効果を有し製
品の歩留まり向上に有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】重合体Ａ、重合体Ｂ、重合体Ｃ、重合体Ｄおよ
び重合体Ｅの膜における波長に対する光透過率を表すグ
ラフ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H095 BB08 BC32 BC33 BC39 4J040 DA011 DA091 DC091 GA01 GA07 GA13 GA20 GA22 GA25 GA31 LA02 LA07 MA02 MA10 NA20 NA21

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】波長２００ｎｍ以下の光による露光処理用
のペリクルであって、該ペリクルの膜または該ペリクル
の膜と枠体との接着剤が下記含フッ素ポリマー（Ａ）か
らなることを特徴とするペリクル。含フッ素ポリマー（Ａ）：炭素原子の連鎖を主鎖とする
実質的に線状の含フッ素ポリマーであって、主鎖の炭素
原子として１個または２個の水素原子が結合した炭素原
子と水素原子が結合せずかつフッ素原子または含フッ素
有機基が結合した炭素原子とを含む含フッ素ポリマー。
【請求項２】含フッ素ポリマー（Ａ）が、ＣＨＲ¹＝Ｃ
Ｒ²Ｒ³［Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はそれぞれ独立に水素原子、フ
ッ素原子または１価の有機基を表す］で表されるモノマ
ー（ｂ）の重合により形成されたモノマー単位と、ＣＦ
Ｒ⁴＝ＣＲ⁵Ｒ⁶［Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶はそれぞれ独立にフッ素
原子もしくは１価の含フッ素有機基を表すか、Ｒ⁴とＲ⁵
は共同して２価の含フッ素有機基を表しかつＲ⁶はフッ
素原子もしくは１価の含フッ素有機基を表すか、また
は、Ｒ⁵とＲ⁶は共同して２価の含フッ素有機基を表しか
つＲ⁴はフッ素原子もしくは１価の含フッ素有機基を表
す］で表されるモノマー（ｃ）の重合により形成された
モノマー単位とを有するポリマーである、請求項１に記
載のペリクル。
【請求項３】モノマー（ｂ）が、オレフィンおよび不飽
和基の炭素原子に水素原子を有するフルオロオレフィン
から選ばれた少なくとも１種のモノマーであり、モノマ
ー（ｃ）が含フッ素脂肪族不飽和環状モノマー（ただ
し、環を構成する原子として酸素原子を有していてもよ
い）である、請求項２に記載のペリクル。
【請求項４】含フッ素ポリマー（Ａ）が、ＣＨ₂＝ＣＲ⁷
−Ｑ−ＣＲ⁸＝ＣＦ₂［ただし、Ｒ⁷、Ｒ⁸はそれぞれ独立
に水素原子、フッ素原子または１価の含フッ素有機基を
表し、Ｑは２価の含フッ素有機基を表す］で表されるモ
ノマー（ｄ）の環化重合により形成されたモノマー単位
を有するポリマーである、請求項１に記載のペリクル。
【請求項５】含フッ素ポリマー（Ａ）が、ＣＦＲ⁴＝Ｃ
Ｒ⁵Ｒ⁶［Ｒ⁴とＲ⁵は共同して２価の含フッ素有機基を表
しかつＲ⁶はフッ素原子もしくは１価の含フッ素有機基
を表すか、または、Ｒ⁵とＲ⁶は共同して２価の含フッ素
有機基を表しかつＲ⁴はフッ素原子もしくは１価の含フ
ッ素有機基を表す］で表される含フッ素脂肪族不飽和環
状モノマー（ただし、環を構成する原子として酸素原子
を有していてもよい）の重合により形成されたモノマー
単位と、ＣＨ₂＝ＣＲ⁷−Ｑ−ＣＲ⁸＝ＣＦ₂［ただし、Ｒ
⁷、Ｒ⁸はそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子または１
価の含フッ素有機基を表し、Ｑは２価の含フッ素有機基
を表す］で表されるモノマー（ｄ）の環化重合により形
成されたモノマー単位と、を有するポリマーである、請
求項１または４に記載のペリクル。
【請求項６】ペリクルの膜が、主鎖に脂肪族環構造を有
する含フッ素ポリマー（Ａ）である、請求項１に記載の
ペリクル。
【請求項７】ペリクルの膜と枠体との接着剤が、官能基
を有する含フッ素ポリマー（Ａ）である請求項１に記載
のペリクル。
【請求項８】ペリクルの膜と枠体との接着剤が、主鎖に
脂肪族環構造を有しない含フッ素ポリマー（Ａ）であ
る、請求項１に記載のペリクル。
【請求項９】フォトリソグラフィにおける波長２００ｎ
ｍ以下の光を用いた露光処理方法において、請求項１〜
８のいずれか一項に記載のペリクルを用いることを特徴
とする露光処理方法。
【請求項１０】波長２００ｎｍ以下の光がフッ素ガスエ
キシマレーザー光である、請求項９に記載の露光処理方
法。