TW518429B - Optical reflective plate, process for manufacturing the same and reflective liquid crystal display device - Google Patents

Optical reflective plate, process for manufacturing the same and reflective liquid crystal display device Download PDF

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518429 五、發明說明(1 ) 【技術領域】 本發明係有關一種適合反射型液晶顯示裝置的光反射板 、其製法、及利用該光反射板之反射型液晶顯示裝置。 【先前技術】 液晶顯示裝置由於輕量•薄型•低消費電力,故可作爲 TV、PC顯示器、筆記攜帶型PC、筆輸入型PC、移動攜帶 型PC、攜帶型遊戲機、數據型照相機、攜帶型電話等之顯 示器等極多方面。其中,有關重視攜帶型之用途時,爲延 長電池壽命時利用外光、即急速增加反射型。此等反射型 液晶顯示裝置係在液晶背面上配置光反射板、且使來自顯 示裝置表側之外光藉由光反射板反射。對視覺者而言作爲 畫像出射。此係分爲在內側面上具有顯示電極的1對對向 透明基體間夾住由液晶層所成的液晶晶胞外側上設置反射 板型、與液晶晶胞內一方顯示電極側具有光反射層型。 在液晶晶胞外側上設有反射板之前者的典型構成如第1〇 圖所示。液晶晶胞具有在一面設置偏光板且另一面經由濾 色器設置透明電極之玻璃板、與在一面設置偏光板且在另 一面上設置透明電極之玻璃板,在兩者之透明電極間夾住 液晶以形成液晶層配置的構成。反射板爲在後者之玻璃板 上所設置者。 有關該顯示裝置藉由舉例說明液晶之配向方向上下扭轉 9〇°之TN液晶時,爲沒有施加電壓時外光A i通過偏光板 、液晶、偏光板、以反射板反射、再通過偏光板、液晶、 518429 五、發明說明(2) 偏光板、以A r射出至顯示裝置外。另外,對液晶施加電 壓時,外光B 1通過相同的光路、惟由於下側的偏光板大 爲吸收、部分反射且光以上側偏光板吸收,幾乎完全沒有 射出光B r,因此可以自顯示裝置之反射光作爲畫像。 該反射型液晶顯示裝置所必須的反射板通常使用鋁等之 金屬板、或在合成樹脂薄膜上施有金屬蒸熔者。然而,反 射板之金屬面爲平滑時,由於正反射強、視野角狹窄、且 質地有金屬光澤,故有畫像視認性不佳的問題。因此,使 鋁箔表面藉由回轉刷機械性擦拭,使表面上有法線、且在 襯墊處理的合成樹脂薄膜上蒸熔金屬、以減低金屬光澤, 惟效果不充分。而且,日本特開昭57 - 1 5823 7號公報爲混 有極微小粒子物質的樹脂膜上形成金屬蒸熔膜例,特開昭 5 3 - 7 9 4 9 7號公報爲在載體中埋入的或黏合的玻璃珠之凹凸 面上蒸熔鋁例,以及特開昭57 - 1 5 1 989號公報爲使熱塑性 樹脂層以加熱輥加熱、軟化的狀態使玻璃珠附著、藉由再 加熱確定固熔後,在其表面上形成金屬反射膜例。然而, 此等公報中沒有各構成材料之記載、或反射膜之光擴散性 能不充分、其作用效果不明確,任一種皆無法確知可得具 有一定反射特性之反射膜的再現性佳者。另外,特開平 4 - 25890 1號公報中揭示在由球狀微粒子與黏合劑所成的被 覆層上設置金屬層,專利第3092035號公報中揭示於表面 上均勻分散有球狀微細珠子之樹脂薄膜片中、在相鄰的珠 子間塡充透明樹脂黏合劑後,於其面上形成高反射率之金 518429 五、發明說明(3) 屬薄膜。然而,此等中任一種皆無法充分控制形成決定反 射層之光擴散特性之凹凸的球狀微粒子或珠子間之間隔, 故對於製得再現性佳的反射膜係極爲困難之事。 另外,在液晶晶胞內一方之顯示電極側設置光反射層型, 可減少一張偏光板使畫像明亮化、且藉由視差解除重疊影 像,故最近進行硏究開發。第11圖爲典型的構成。該顯 示裝置具有順序積層偏光板、位相差板、玻璃板、濾色器 、透明電極、液晶層、反射電極、玻璃板之構成,此處之 反射電極係爲具備顯示電極機能與光反射層板能者。 該型之反射型液晶顯示裝置中反射電極爲鏡面時,在偏 光板表面、或偏光板與位相差板間或玻璃板與、位相差板間 設置光擴散層或光擴散薄膜,於特開昭56 - 57084號、特 開平7 - 1 04272號、特開平10-161110號公報等揭示。此 等不僅因由設有光擴散層或光擴散薄膜而使成本提高、且 會降低反射電極之金屬光澤,故會有降低畫像亮度或對比 降低的問題。另外,在反射層形成後進行加熱處理或打孔 、蝕刻處理的方法、特開平4 - 2 1 293 1號公報中揭示的於 打孔處理後形成反射層之例、特開平4 - 3 1 5 1 29號公報中 揭示的以電子束蒸熔或CVD、電漿CVD形成凹凸後、設置 反射膜之例係爲已知。然而,此等會有其處理複雜、不易 控制凹凸程度之再現性佳的問題。另外,特開平4 -267220號公報及特開平4 - 3088 1 6號公報中揭示,塗覆添 加有微粒子之有機絕緣膜、在所形成的凹凸上設置金屬薄 518429 ______ ____ 五、發明說明(4) 膜之例,僅塗覆含微粒子之塗料如該公報中記載的典型圖 所示,微粒子無法以高密度均勻並列、且不易製得均一、 再現性高的反射特性。
如上所述,在液晶晶胞之外部配置反射板時,液晶晶胞 內部中設有反射電極時不僅不具完全的金屬光澤、且無法 實現白紙白度,不易以高再現性製作具有製造安定性、即 均勻、一定反射特性的反射板或反射電極。另外,反射型 液晶顯示裝置視液晶顯示器之種類或用途而定、較佳的反 射光之角度相關性不同,惟以習知技術無法藉由單一技術 製作該多種反射特性者。 【發明之揭示】
本發明係爲有鑑於習知技術之上述情形所成者。而且, 本發明之目的係提供一種可使白紙白度再現之反射型液晶 顯示裝置用反射板。另一目的係提供一種製作均勻、一定 反射特性之再現性佳的反射板製法。本發明之另一目的係 提供一種視液晶顯示器之種類而定,可控制反射特性之反 射板的製法。另一目的係提供一種可使白紙白度再現的反 射型液晶顯示裝置。 本發明之光反射板,其特徵爲在基板上設置使粉體粒子 成單粒子層狀態予以固定的粉體單層皮膜、在該粉體單層 皮膜上積層金屬薄膜所成。本發明之上述光反射板中,粉 體粒子以粒徑1〜20 // m之球狀微粒子較佳。而且,基體 以板狀或薄膜狀較佳。另外,基體及/或粉體粒子可以爲 518429 五、發明說明(5) 透光性。此外,該金屬薄膜以由1種選自於金、銀、鋁及 鎳之金屬所成較佳。 本發明上述反射板的製法,其特徵爲順序實施在基體上 設有具黏合性之黏合層的工程、在上述具有黏合性之黏合 層上使粉體粒子成單粒子層狀態的工程、在以上述工程形 成的粉體單層皮膜上積層金屬薄膜的工程。本發明之上述 製法中使設置具有黏合性之黏合層的基體,在容器中藉由 與振動的粉體粒子及介質接觸較佳。 本發明第1之反射型液晶顯示裝置,其係於在內面側至 少具有顯示電極之1對對向透明基體間夾住液晶層所成液 晶晶胞一方之顯示電極側具有使入射光反射之光反射板的 液晶顯示裝置中,其特徵爲該光反射板爲由在透明基體上 設置粉體粒子成單粒子層狀態固定的粉體單層皮膜、及在 該粉體單層皮膜上積層的金屬薄膜所成。而且,第2之反 射型液晶顯示裝置,其係於在內面側至少具有顯示電極之 1對對向透明基體間夾住液晶層所成的液晶晶胞一方之顯 示電極側具有使入射光反射之光反射板的液晶顯示裝置中, 其特徵爲該光反射扳爲由在透明基體上設置粉體粒子成單 粒子層狀態固定的粉體單層皮膜、及於其上積層的金屬薄 膜所成。 【發明之實施形態】 首先,詳記有關本發明之光反射板。第1圖係爲本發明 光反射板之典型截面圖,在基體1 1上經由具有黏合性之 518429 五、發明說明(6) 黏合層(圖中沒有顯示)、使粉體粒子以單粒子層狀態下固 定、形成粉體單層皮膜1 2,然後在其粉體單層皮膜上積 層金屬薄膜1 3。 本發明之光反射板中,如第1圖所示金屬薄膜層由於構 成粉體單層皮膜之粉體粒子上,受到粉體粒子的影響會有 凹凸情形,藉此使光散射、可防止鏡面反射。原理上先介 紹類似經襯墊處理的薄膜上蒸熔金屬者,惟本發明之光反 射板中金屬薄膜層之凹凸緻密,然後藉由改變形成粉體單 層皮膜的粉體粒子之粒徑、或粉體粒子自黏合層之突出程 度,可改變金屬薄膜層之凹凸大小或深度、且可容易將反 射特性調整爲良好的再現性。 本發明構成光反射板的基體可使用鐵、鋁、銅、不銹鋼 等之金屬、紙、合成樹脂、玻璃、陶瓷等之材質、以及此 等複合材料所成的板狀及薄膜狀各種材料。此等之中,金 屬板可期待增強顯示器之物理強度。另外,本發明之光反 射板亦可使用作爲反射電極,此時之基體以玻璃及下述合 成樹脂之板或薄膜較佳。另外,爲使顯示器輕量化或薄型 化時,以合成樹脂製板或薄膜較佳。合成樹脂之具體例如 聚對駄酸伸乙酯(PET )、聚萘酸伸乙酯、三乙醯基纖維素 、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醯亞胺、芳香族聚醯胺、聚 碾i、聚醚碾、玻璃紙、聚乙烯(PE )、聚丙烯、聚乙烯醇等, 此等之單獨或混合使用,亦可積層該薄膜使用。於本發明 中基體可使用透光性(透明性)者、亦可以爲不透明者,就 518429 五、發明說明(7) 考慮生產性或經濟性時,厚度以丨V m〜5mm較佳。於本發 明中上述基體可以爲施有表面處理、且設置有其他層之積 層狀態者。此外,液晶顯示裝置等所使用的反射板時,使 由光學透光性高的玻璃或合成樹脂所成的透明基體組合透 明性粉體粒子使用較佳。 形成單層粉體皮膜之粉體粒子可使用無機物及有機物等 、各種材料,無機物之具體例如鋁、鋅、銅、金、銀、鎳 、鉬、鐵、姉、鈦、青銅、錫等金屬及此等合金、上述金 屬之氧化物、氮化物及矽化物、碳黑、鑽石、石墨、二氧 化矽、玻璃、石英、蒙脫石鈉、锆砂、碳化矽、碳化硼、 氮化矽、高嶺土、滑石、絹雲母及碳酸鈣等。另外,由有 機物所成的粉體粒子係爲由各種合成樹脂所形成者,具體 而言例如有丙烯酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、苯乙烯-丙烯酸 共聚物樹脂、胺基甲酸酯樹脂、矽氧烷樹脂、苯酚樹脂、 環氧樹脂、聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚氟伸乙基樹脂、 聚氟化次乙基樹脂、尿素樹脂、蜜胺樹脂等。而且,透光 性材質由於玻璃、石英、丙烯酸樹脂、苯乙烯樹脂、丙烯 酸-苯乙烯共聚物樹脂、矽氧烷樹脂等之光學透明性高故 較佳。 本發明之粉體粒子以粒徑(體積平均粒徑)爲1〜20 μ m 較佳、更佳者爲3〜1 5 μ m。爲較此小粒徑之粉體粒子時, 由於其上積層的金屬薄膜之凹凸程度過小、光擴散性能不 充分時,反射光會帶有金屬光澤、且就製造技術而言使該 518429 五、發明說明(8 ) 微粒子成均勻的單粒子層狀態係極爲困難。另外,粉體粒 子之粒徑較上述範圍爲大時,反之由於光擴散過粗而產生 分散情形、無法得到白紙之白度。 於本發明之光反射板中,爲製得極細、均勻性高的反射 特性,必須使金屬薄膜下層之粉體單層薄膜的凹凸均一性 高,因此基本上成單粒子層狀態之粉體粒子爲球型,伴隨 該粒徑、以粒徑分布狹窄較佳。具體的粒徑分布以〇 . 8〜 1 . 0較佳、更佳者爲〇 . 9〜1 . 0。而且,球狀粉體粒子之真 圓度以80%以上較佳、更佳者90%以上。 而且,上述粉體粒子之粒徑分布以下述式(1 )定義。 粒徑分布=個數平均粒徑/體積平均粒徑 U ) (各述平均粒徑:測定任意抽取1 〇〇個粉體粒子之直徑 的平均値,體積平均粒徑:在粉體粒子不爲圓球下自任意 抽取的1 00個粉體粒子之直徑算出合計體積、且自小體積 之粉體粒子累積而成的累積體積爲合計體積50%之粉體粒 子之直徑) 另外,粉體粒子之真圓度以下述式(2 )定義,具體而言 使粉體粒子亦光學顯微鏡或透過型電子顯微鏡攝影、可得 投影像,使其藉由畫像解析可算出所得粉體粒子之投影面 積及周長。 真圓度(%) = (4 7Γ A/B2) X 100 (2) (A :粉體粒子之投影面積、B :粉體粒子之周長) 第1圖所示構成之本發明光反射板可使用其金屬薄膜側 -10- 518429 五、發明說明(9) 作爲反射面,基體與粉體粒子爲透光性時,可使其逆向、 通過基體、使光入射•反射使用。 本發明係由於在基體上使粉體粒子成單粒子層狀態固定 以在基體上預先設置具有黏合性之黏合層較佳。此處,黏 合性係指在常溫下使上述粉體粒子附著而具有可黏合性之 意,若爲與基體及粉體粒子兩者之黏合力優異者,任何材 料皆可使用。基體上所設具有黏合性之黏合層的構成材料 具體例如聚酯系、環氧系、聚胺基甲酸酯系、矽氧院系、 橡膠系、丙烯酸系樹脂等之樹脂製黏合劑。此等可單獨使 用或2種以上混合使用。特別是丙烯酸系黏合劑之耐水性 、耐熱性、耐光性等優異、黏合力、透明性佳、以及使用 於光學用途等時容易使折射率調整於適合範圍,故爲所企 求。丙烯酸系黏合劑例如有丙烯酸及其酯、甲基丙烯酸及 其酯、丙烯酸醯胺、丙烯腈等丙烯酸單聚物之單聚物或此 等單聚物之共聚物、以及至少一種上述丙烯酸單聚物、與 醋酸乙烯酯、馬來酸酐、苯乙烯等芳香族乙烯單聚物之共 聚物。特別是具有黏合性之丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙 烯酸2 -乙基己酯等之主要單聚物、凝聚力成分之醋酸乙烯 酯、丙烯腈、丙烯酸醯胺、苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯等之 單聚物、以及爲提高黏合力、或賦予交聯起點之使用甲基 丙烯酸、丙烯酸、衣康酸、羥基乙基甲基丙烯酸酯、羥基 丙基甲基丙烯酸酯、二甲基胺基乙基甲基丙烯酸酯、二甲 基胺基甲基甲基丙烯酸酯、丙烯酸醯胺、羥甲基丙烯酸醯 -11- 518429 五、發明說明(1〇) 胺、環氧丙基甲基丙烯酸酯' 馬來酸酐等含官能基之單聚 物的共聚物,以Tg (玻璃轉移點)爲-5 5〜-1 5 °C較佳。此 等之丙烯酸系黏合劑以重量平均分子量爲25萬以上者較 佳。 於本發明中黏合劑之Tg低於-55°C時、或構成黏合劑之 樹脂的重量平均分子量小於25萬時,由於黏合層過於柔 軟,一旦附著的粉體粒子因下述介質的衝擊力而剝落,容 易產生粉體脫落的缺點。另外,一旦剝落的粉體粒子上附 著有黏合劑,該粉體粒子會再附著於粉體單層被膜上。此 外,過於柔軟的黏合層因介質之衝擊力,使粉體粒子再黏 合層表面回轉、附著有黏合劑之粉體粒子部位會呈現於粉 體單層被膜表面上,且黏合劑因介質之衝擊力或毛細管現 象、自粉體粒子之間隙滲出,所以其他分體粒子附著而容 易形成複層,故不爲企求。此外,Tg高於-1 5 t之黏合劑 時,黏合性或粉體粒子之埋入性不充分,即使有介質之衝 擊力仍無法固定附著、容易因除去多餘粉體粒子之工程等 而產生粉體粒子脫離,故不爲企求。黏合層之黏合力(J I S Z 0237: 1 980 )以100g/25mm以上較佳,藉此黏合力低時 粉體粒子容易產生脫離,故不爲企求。 而且,黏合劑中視其所需可使用硬化劑例如金屬螯合物 系、環氧系等之交聯劑、視其所需可1種或2種以上混合 使用。另外,黏合劑中使用加入有光聚合性單聚物、寡聚 物、聚合物及光聚合起始劑之光硬化性黏合劑。另外,黏 -12 - 518429 五、發明說明(11) 合劑中視其所需可加入偶合劑、表面張力調整劑、著色顏 料、染料、石蠟、增黏劑、抗氧化劑、防銹劑、抗菌劑、 紫外線吸收劑等各種添加劑。 另外,具有黏合性之黏合層除上述黏合劑外,可使用於 附著粉體粒子時具有黏合性、粉體粒子附著後硬化、在常 溫下不具黏合性之材料形成。其具體例如uv硬化型樹脂 及熱硬化型樹脂等。UV硬化型樹脂係由光聚合性化合物與 光起始劑構成、藉由紫外線及可視光線照射而聚合、硬化 的材料,由光聚合之反應形式分爲游離基聚合系與陽離子 聚合系。 游離基聚合系所使用的游離基聚合性化合物,主要爲在 分子中含有1個以上不飽和雙鍵者,具體例如丙烯酸環氧 酯、聚胺基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸 酯、聚丁二烯丙烯酸酯、矽氧烷丙烯酸酯等之丙烯酸寡聚 物、及丙烯酸2 -乙基己酯、丙烯酸異戊酯、丙烯酸丁基乙 酯、丙烯酸乙氧基二乙二醇酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯 酸四氫呋喃酯、丙烯酸異冰片酯、丙烯酸2 -羥基乙酯、丙 烯酸2 -羥基丙酯、2 -丙烯醯氧基酞酸、二環戊醯基丙烯酸 酯、三乙二醇二丙烯酸酯、新戊醇二丙烯酸酯、丨,6 -己二 醇二丙烯酸酯、雙酚A脂環氧乙烷(E0 )加成物二丙烯酸酯 、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、E0改性三羥甲基丙烷三丙烯 酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二三 羥甲基丙烷四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等之丙烯 -13- 518429 五、發明說明(12) 酸酯單聚物。而且,與上述各丙烯酸酯相同地可使用各甲 基丙烯酸酯,一般而言丙烯酸酯比甲基丙烯酸酯之光聚合 速度快,故較佳。 陽離子聚合系所使用的陽離子聚合性化合物,可使用在 分子中具有1個以上環氧基、乙烯醚基或氧雜環丁烷基之 化合物。具有環氧基之化合物例如有2 -乙基己二醇環氧丙 醚、聯苯之環氧丙醚、雙酚A、加氫雙酚A、雙酚F、雙酚 AD、雙酚S、四甲基雙酚A、四甲基雙酚F、四氯雙酚A、 四溴雙酚A等之雙酚A類之二環氧丙醚類;苯酚酚醛淸漆 樹脂、甲酚酚醛淸漆樹脂、溴化苯酚酚醛淸漆樹脂、原甲 酚酚醛淸漆樹脂等之酚醛淸漆樹脂的聚環氧丙醚類;乙二 醇、聚乙二醇、聚丙二醇、丁二醇、1 , 6 -己二醇、新戊醇 三羥甲基丙.院、1,4-環己烷二甲醇、雙酚A之E0加成物 、雙酚A之環氧丙烷加成物等烷二醇類之二環氧丙醚類; 六氫酞酸之環氧丙酯及二聚酸的二環氧丙酯等之環氧丙酯 類。 此外,可使用3,4-環氧基環己基甲基- 3’,4’-環氧基環 己烷羧酸酯、2 - ( 3 , 4 -環氧基環己基-5,5 -螺旋-3 , 4 -環氧 基)環己烷-甲基-二噁烷、二(3,4 -環氧基環己基甲基)己 二酸酯、二(3,4 -環氧基-6 -甲基環己基甲基)己二酸酯、 3,4-環氧基-6-甲基環己基-3’,4’-環氧基- 6’ -甲基環己烷 羧酸酯、伸甲基雙(3,4 -環氧基環己烷)、二環戊二烯二環 氧化物、乙二醇之二(3 , 4 -環氧基環己基甲基)醚、伸乙基 -14- 518429 五、發明說明(13) 雙(3,4 -環氧基環己烷羧酸酯)、內酯改性3,4 -環氧基環己 基甲基_3’,4’-環氧基環己烷羧酸酯、四(3,4-環氧基環己 基甲基)丁烷四羧酸酯、二(3 , 4 -環氧基環己基甲基)-4,5 -環氧基四氫酞酸酯等脂環式環氧化合物,爲不受此等所限 制。 具有乙烯醚基之化合物例如二乙二醇乙烯醚、三乙二醇 二乙烯醚、丁二醇二乙烯醚、己二醇二乙烯醚、環己烷二 甲醇二乙烯醚、羥基丁基乙烯醚、乙基乙烯醚、十二烷基 乙烯醚、三羥甲基丙烷三乙烯醚、丙烯醚伸丙基碳酸酯等, 惟不受此等所限制。而且,乙烯醚化合物一般爲陽離子聚 合性,藉由與丙烯酸酯組合時,可予以游離聚合。 另外,具有氧雜環丁烷基之化合物可使用1,4 -雙[(3 -乙基-3-氧雑ί哀丁院基甲氧基)甲基]苯、3 -乙基- 3- (翔基 甲基)氧雜環丁烷等。 而且,上述陽離子聚合性化合物可各單獨使用、或數種 混合使用。 與游離基聚合性化合物同時使用的光起始劑例如有二苯 甲酮、苯甲基、米西勒酮、2 -氯化噻噸酮、2 , 4 -二乙基噻 噸酮、苯因乙醚、苯因異丙醚、苯因異丁醚、2,2 -二乙氧 基乙醯基苯酮、苯甲基二甲基縮酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷=1 -酮、2 -羥基-2 -甲基-1 -苯基丙烷-1 -酮、1 -羥基環己基苯酮、2 -甲基-1 - [ 4 -(甲基硫化)苯基]-2 -嗎啉 基丙酮- l,l-[4-(2 -羥基乙氧基)苯基]-2 -羥基-2-甲基-1- -1 5 - 518429 五、發明說明(14) 丙烷-1 -酮、雙(7? 5 - 2,4 -環戊二烯-1 -基)-雙[2,6 -二氟-3 - ( 1 Η -吡咯-1 -基)苯基]鈦、2 -苯曱基-2 -二甲基胺基-1 -(4 -嗎啉基苯基)丁酮-1,2 , 4,6 -三甲基苯醯基二苯基膦氧 化物等。而且,此等之化合物可各單獨使用、或數種以上 混合使用。 另外,與陽離子聚合性化合物同時使用的光起始劑係爲 藉由光照射產生酸、藉由該產生的酸可使上述陽離子聚合 性化合物聚合的化合物,一般而言可使用鐵鹽、芳環烯金 屬衍生物複合物。鏺言可使用二偶氮鏺烷、毓鹽、碘鐵鹽 、鱗鹽、硒鏺鹽等,此等之對離子係使用BF/、PF6_、 AsF〆、SbF6•等之陽離子。具體例如4-氯化苯二偶氮鏺六 氟磷酸鹽、三苯基毓六氟銻酸鹽、三苯基毓六氟磷酸鹽、 (4 -苯基硫化苯基)二苯基毓六氟銻酸鹽、(4 -苯基硫化苯 基)二苯基毓六氟磷酸鹽、雙[4 -(二苯基磺醯基)苯基]硫 醚-雙-六氟磷酸鹽、(4 -甲氧基苯基)二苯基毓六氟銻酸鹽 、(4 -甲氧基苯基)苯基碘鏺六氟銻酸鹽雙(4 -第3 -丁基苯 基)碘鏺六氟磷酸鹽、苯甲基三苯基鱗六氟銻酸鹽、三苯 基硒鏺六氟磷酸鹽、(7/ 5 -異丙基苯)(7/ 5 -環戊二烯基)鐵 (I I )六氟磷酸鹽等,惟不受此等所限制。此外,此等化合 物可各單獨使用、或數種混合使用。 於本發明中上述光起始劑對1 00重量份光聚合性化合物 而言爲0.01〜10重量份、較佳者爲0.1〜7重量份、更佳 者爲0 . 1〜5重量份。光起始劑之配合量小於0 . Ο 1重量份 -16- 518429 五、發明說明(15) 時光硬化性降低,而若大於1 〇重量份時僅表面硬化、內 部之硬化性降低等缺點出現。此等光起始劑通常系使粉末 狀態者直接溶解於光聚合性化合物中,惟溶解性不佳時亦 可預先使光起始劑以高濃度溶解於極少量溶劑中者。該溶 劑以具光聚合性者較佳,具體例如碳酸伸丙酯、r -丁內 酯等。而且,爲提高光聚合性時可添加習知的各種染料或 增感劑。另外,可使藉由使光聚合性化合物加熱予以硬化 的熱硬化起始劑與光起始劑倂用。此時,光硬化後藉由加 熱可更爲促進光聚合性化合物完全聚合硬化。 如上述說明的uv硬化型樹脂,於uv硬化前之性質爲使 粉體粒子附著,故視其所需可添加與上述黏合劑或UV樹 脂之相溶性佳的高分子。具體例如丙嫌酸樹脂、聚胺基甲 酸酯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、纖維素系樹脂、醋酸乙 烯酯系樹脂、氯化乙烯基-醋酸乙烯基共聚物、聚乙烯基 丁縮醛樹脂等。 黏合層之厚度以爲固定的粉體粒子粒徑之0 . 0 1〜2倍較 佳。黏合層之厚度比球狀粉體粒子粒徑之0 . 0 1倍爲薄時 使粉體粒子附著於具有黏合性之黏合層時、粉體粒子容胃 產生脫落,而若大於2倍時過於埋入、無法得到表面突m 的狀態、且黏合劑會滲出粉體單層皮膜之表面、且藉由# 他粉末粒子附著而無法得到粉體單層皮膜之可能性很高> 故不爲企求。 於本發明中粉體粒子之固定亦可以例如使用合成樹脂才才 518429 五、發明說明(16) 料作爲基板、在其表面上埋入粉體粒子。例如使由合成樹 脂所成的薄膜薄膜基材之表面在藉由加熱或溶劑溶融或軟 化的狀態下使粉體粒子附著、然後藉由冷卻或溶劑揮發硬 化予以固定。 然後,說明有關粉體單層皮膜上積層的金屬薄膜時,金 屬薄膜材料係使用選自於金、銀、鋁、鎳及鉻之金屬。而 且,金屬薄膜之厚度以500〜1 500埃較佳。 其次,詳記本發明光反射板的製法。首先,第1工程爲 在上述基體上設置具有黏合性之黏合層,該黏合層藉由圖 附上述黏合劑予以形成,惟爲製得適當膜厚之黏合層時, 黏合劑視其所需可以有機溶劑稀釋。具體而言可使用甲醇 、乙醇、丙醇、丁醇等之醇類、甲基乙酮、甲基異丁酮、 環己酮等之酮類、醋酸乙酯、醋酸丙酯、醋酸丁酯等之酯 類、甲苯、二甲苯等之烴類、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、 丁基溶纖劑、四氫呋喃等之醚類。 爲在上述基體上設置具有黏合層時可使用各種塗覆劑或 印刷法等。塗覆法例如有氣刀塗覆法、分布塗覆法、刀塗 覆法、可逆塗覆法、照相凹版塗覆法、微照相凹版塗覆法 、接觸塗覆法、噴霧塗覆法、欄式塗覆法、浸漬塗覆法、 塑模塗覆法等。另外,印刷法可使用曲面印刷等之凸版印 刷、直接照相凹版印刷法、膠版照相凹版印刷法、膠版 印刷法等之平版印刷法、篩網印刷法等之孔版印刷。此 等之塗覆法及印刷法通常使薄膜狀基體以一定速度移動 -18- 518429 五、發明說明(17) 且進行,惟藉由塗覆·印刷之方式可間接進行基體之送出 〇 在薄膜狀基體上塗覆黏合劑時,以輥•對•輥方式塗覆 •乾燥,在所形成的黏合層上使脫模薄膜積層、捲取較佳 。因此,在該黏合層上爲使粉體粒子成單粒子層狀態時, 形成具有黏合性之黏合層之薄膜狀基體捲取成輥狀態後, 捲回、使脫模薄膜剝離、露出的黏合層表面上以下述方法 始粉體粒子附著。而且,預先在脫模薄膜上塗覆、使設置 具有黏合性之黏合層貼合於基體上,然後使脫模薄膜藉由 剝離、在基體上複印、設置黏合層。 然後,在下述工程中在所形成的具有黏合性之黏合層上 使粉體粒子成單粒子層之狀態予以固定。該具體的方法例 如使上述黏合劑在裝有粉體粒子之容器中與粉體上面接觸 、或潛入粉體中、或在黏合層上使粉體粒子振動等方法。 另外,採用在容器中使粉體粒子藉由振動或流動氣體予以 流動、在該流動的粉體中潛入基體的方法,惟粉體粒子之 粒徑小時,藉由使用流動氣體的方法較爲有效。另外,採 用藉由氣體噴霧法使粉體粒子吹覆黏合層上的方法,由於 容易使其與空氣混合、以使粉體粒子均勻地附著於黏合層 上爲宜。此外,使預先附著於複印輥表面上或磁氣刷上之 粉體粒子接觸•複印於黏合層上。 僅以上述方法不易製得在黏合層上使粉體粒子成單粒子 層之狀態予以固定的粉體單層皮膜時,在容器中使黏合層 -19- 518429 五、發明說明(18) 振動的粉體粒子與介質接觸極爲有效。此處,介質藉由使 其振動、以衝擊力打擊粉體粒子、且使該粉體粒子埋入黏 合層中、特別是在預先附著於黏合層之粉體粒子與粉體粒 子之間押入其他粉體粒子,使粉體單層皮膜之粉體粒子的 塡充密度較高、爲均勻者。介質係使用直徑爲〇 .丨〜3 . 〇mm 之球狀物。爲以該塡充率且均勻深度使粉體粒子埋入黏合 層中日9·,不爲上述粉體粒t、以粒徑分布與真圓度高者較 佳。直徑小於0 . 1 mm之介質,會與粉體粒子一起附著於黏 合層上、且使粉體粒子埋入黏合層中之能力不充分、並由 於過小時會有處理性的問題。另外,爲大於3 . 0 m m以上之 介質時,雖衝擊力充分、惟不易使粉體粒子以高塡充率及 均勻的深度埋入黏合層中,故不爲企求。 介質之具體例如鐵、碳鋼、合金鋼、銅及銅合金、錦及 鋁合金、由其他各種金屬、合金所成者、鋁、二氧化矽、 氧化鈦、氧化锆、碳矽等之陶瓷所成者、以及玻璃、石英 、硬質塑膠、硬質橡膠等所成者。有關硬質塑膠及硬質橡 膠等可使用上述中各種金屬或合金、陶瓷、玻璃等之含微 粒子者。 藉由使粉體粒子與介質在容器中振動,使兩者充分混合 、在介質表面上使粉體粒子附著的狀態。於其中藉由使具 有黏合性之黏合層、或以上述方法置於預先附著有粉體粒 子之黏合層,藉由介質之運作、使粉體粒子埋入黏合層中 、製得粉體粒子之塡充密度高且均勻的粉體單層皮膜。而 -20- 518429 五、發明說明(19) 且,使粉體粒子與介質混合時’其配合比例係視可製得所 止求粉體單層皮I吴之介質粒徑或材質、粉體粒子之粒徑等 而定適當選擇。 在加入有粉體與y丨貝之谷器,只要是兩者之重量與可耐 振動者、無關其材質或大小者。惟其形狀必須使基體上所 δ又置的具有黏合性之黏合層藉由與振動的粉體粒子與介質 接觸方式。特別是使容器本身振動、將該力傳送給粉體粒 子及介質、使粉體粒子埋入黏合層表面時,爲供應給黏合 層均勻的衝擊力、以粉體粒子與介質夾住下、與振動容器 壁面與黏合層之距離一定較佳。而且,不是使容器振動, 係在容器中設置其他的振動板等振動體、藉此可使粉體粒 子與介質振動,惟此時在上述基體之黏合層表面上具有均 勻力下,考慮其取出位置或自黏合層之距離。另外,粉體 粒子與介質振動時,在容器側必須施予不會使此等自容器 飛散的工夫。 使加入有粉體粒子與介質之容器、或在容器中設置的振 動板等之振動體振動,可使用振動引擎、振動器、電磁加 振裝置、使用凸輪之機械振動裝置等習知的振動裝置。此 等之振動裝置係爲塡充器、箱子、傳送帶、篩網、部分塡 充器、部分整列機、振動桌、桶式硏磨等、使在廣泛範圍 內所使用者,本發明考慮基體大小或介質、谷益大小•重 量、含此等之裝置構造等,由其中選擇適當者使用。另外, 任一裝置中爲使粉體粒子以高塡充率且均勻的深度埋入黏 -21 - 518429 五、發明說明(2〇) 合層中,必須調整振動裝置自容器取出的位置、選定通過 彈簧等、振動型式、加振力、振幅。振動數以200〜 4000 rpm較佳、更佳者爲1 000〜3000 rpm。若振動數小於 20 0 r pm時,在介質之黏合層中埋入粉體粒子之力弱、且 需長時間處理、故不爲企求。而若大於4000 r pm時,衝擊 力過大、粉體粒子容易自黏合層脫離,反之,來自容器或 振動體之振動會被介質吸收、不易到達黏合層,故必須使 粉體粒子與介質不會在容器內分散、且在容器中不會分離 、偏離。另外,粉體粒子或介質在加入於鄰接黏合層的部 分下慢慢地振動較佳。 設有具黏合性之黏合層的基體爲缺乏彎曲性的船狀時, 在使上述粉體粒子與介質振動之容器中各置入一張基體、 保持一定時間後、使其進行取出片葉處理,惟爲具彎曲性 之薄膜狀基體時,在使粉體與介質振動的容器中使薄膜狀 基體之連續體以一定速度通過的輥•對•輥方式之生產性 高,故爲所企求。 使在容器中振動的粉體與介質接觸的工程可藉由下述圖 面具體地說明。第4圖係爲在設有具黏合性之黏合層的薄 膜基材上爲使粉體粒子附著的裝置例之簡略構成圖,使設 有黏合層之薄膜基材1在黏合層與輥2相反面下與輥2接 觸,再於容器3中粉體粒子與介質之混合物4中以浸漬至 輥2之直徑的1 / 3程度深度予以移動的狀態。輥2係爲與 沒有直接傳送振動的容器3不相同的容器所設置。容器下 -22- 518429 五、發明說明(21) 設有振動引擎5並予以一體化,而且此等經由彈簧6固定 於床7。黏合層由於對輥2而言爲相反面,故藉由使薄膜 基材1通過振動的粉體粒子及介質之混合物4中,使粉體 粒子埋入黏合層中。而且,此處使輥埋入粉體粒子及介質 之混合物中,係直至輥直徑之1 / 3程度深度爲止,可防止 與薄膜之黏合層相反面上附著粉體粒子。 第5圖係爲在設有具黏合性之黏合層的薄膜基材上爲使 粉體粒子附著之裝置的另一例簡略說明圖。該裝置在比第 4圖大的容器中、與振動容器不同的容器中至少配置有2 個輥2,2 ’,經由此等輥、通過設有黏合層之薄膜基材1者 。該方法於原理上與第4圖時相同,惟浸漬於容器之粉體 粒子與介質的混合物4中薄膜基材的距離較第4圖爲長、 由於增大粉體粒子之埋入機會、可提高薄膜之傳送速度。 而且,其他符號亦具有與第4圖時相同之意。 第6圖係爲在設有具黏合性之黏合層的溥I吴基材上爲使 粉體粒子附著之裝置的另一例簡略說明圖。爲該圖時,容 器3被固定、藉由容器底部所設置的電磁式加振裝置8以 使振動板9上下振動的構造。設有黏合層之薄膜基材1通 過在容器左右開設的裂口丨〇,丨〇、通過谷益及其中所加入 的粉體粒子及介質之混合物4中。此處,在不會使介質自 裂口溢出至容器外下,裂口間隔必須比介質直徑狹窄。該 方式與第5圖之說明相同地可提高處理速度,且不僅具有 可兩面處理的優點、並且由於不需在容器中配置輥、故具 -23- 518429 五、發明說明(22) 有可使構造簡單化的優點。而且,爲該圖時,爲使其振動 使用電磁式加振裝置與振動板,惟其不爲必須、可採用如 第4圖及第5圖之使容器振動的方式。 另外,於上述任一圖中薄膜基材丨爲沉入粉體粒子及介 質之混合物中的形態,惟此時視沉入深度而定、對黏合層 施加的壓力有所不同,故必須事前必須調整適當的深度。 視介質之密度而定,一般而言使薄膜基材放置相當深時, 對置於筒壓力下之_膜基材的黏合層施予來自介質之振動, 引起粉體粒子之脫離可能性相當高,故不爲企求。而且, 僅使黏合層側輕輕地接觸於振動的粉體粒子及介質之混合 物表面,達到粉體粒子充分埋入黏合層的效果時,亦可採 用該方法。 而且,如第4圖〜第6圖之上述說明,以設有黏合層之 薄膜基材爲連續材,於製作液晶晶胞之內部反射層時,由 於使用玻璃板作爲基材、故無法以上述方法處理。此時, 使設有黏合層之玻璃板直接放置於振動容器中、或以沒有 與振動谷器接觸的適當工具保持玻璃板之狀態下,施予一 定時間振動後可進行提昇之片葉處理。 在具有黏合性之黏合層上使粉體粒子成單粒子層狀態後, 由於基體上藉由靜電或范德瓦耳斯力等之粒子間力使殘餘 的粉體粒子附著,故必須除去此等。該方法例如有以刮刀 刮取的方法、以刷子或刷毛刷除的方法、以布等擦拭的方 法、以氣體流動吹散的方法、以超音波除去殘餘的粉體粒 -24- 518429 五、發明說明(23) 子以吸引此等的方法、以弱黏合輥附著的方法等。而且, 爲兀全除去殘餘粉體粒子時,藉由水或添加有洗淨助劑的 水丨谷液進行濕式洗淨較佳。在濕式洗淨中使水自噴嘴平順 吹出的水噴射極爲有效,對粉體粒子之粒徑爲1 5 A m以下 微粒子而言,由於僅藉由流體壓除去時恐會不充分,故在 添加有界面活性劑等洗淨助劑之離子交換水中進行超音波 洗淨等後,以脫離子等充分進行較佳。而且,進行該濕式 洗淨後,最後必須除去水分。此係通過橡膠輥間絞出水分 、且以吸水性輥或襯墊等吸收•擦拭水分、以氣體流動吹 散水分的方式。視基板與粉體粒子的種類而定,無法僅以 該方法完全除去水分時,另外必須以充分的時間施予冷風 或熱風、且以紅外線加熱器加熱、乾燥。 而且使用黏合劑作爲黏結劑時,以上述工程雖爲充分、 惟可連續進行2個以上之上述說明的黏合層之塗覆工程、 (使用介質的)粉體附著工程、殘餘的粉體除去工程。惟設 置上述具黏合性之黏合層後,由於無法直接捲取、於貼合 脫模薄膜予以捲取後、直接使粉體附著、與在容器中振動 的粉體與介質接觸、必須與任一工程連續。此外,爲具黏 合性之黏合層與脫模薄膜貼合的捲取物時,剝離脫模薄膜 、所剝得具黏合性之黏合層,亦必須連續進行繼後之使粉 體附著、或與在容器中振動之粉體與介質接觸的任一工程 。另外,在具黏合性之黏合層上進行粉體粒子附著之工程 時,以連續進行繼後的與粉體粒子與介質接觸的工程,就 -25- 518429 五、發明說明(24) 效率而言較佳。 在黏合層上使粉體粒子附著、且與粉體粒子與介質接觸 以使粉體粒子埋入黏合層中者,由於已經不具黏合性故可 直接捲取、不需連續進行繼後的工程,惟該狀態下由於使 粉體粒子以單粒子層以上之狀態附著於黏合層上、且裏面 附著有粉體粒子,故直接捲取時在基體及黏合層上會產生 壓痕情形。而且,以於此等工程後直接連續實施除去殘餘 粉體粒子之工程較佳。此外,連續進行除去殘餘粉體粒子 之工程時,於其間夾住柔軟材質之紙或合成樹脂薄膜予以 捲取、或在兩邊夾住帶狀紙或薄膜予以捲取等,皆必須使 黏合層上沒有會產生上述壓痕的壓力功夫。 然後,在上述所製作的粉體單層皮膜上積層爲具有光反 射性之金屬薄膜◦金屬薄膜之積層方法可使用電鍍或蒸熔 、濺射等一般的方法。金屬薄膜材料可使用上述者,惟就 其筒光反射能而㈣以選自於金、銀、錦或鎳較佳。 而且,爲提高金屬薄膜與粉體單層皮膜之黏合力時,於 積層金屬薄膜層前在粉體單層皮膜上另可設置其他的樹脂 層作爲表層漆。該材料以使用習知之電鍍、蒸熔、濺射之 固定層較佳。惟以塗覆或印刷等方法設置該層時,留意選 擇於單層皮膜中不會使粉體粒子之配列產生散亂、破壞、 受傷。使用在有機溶劑中溶解•稀釋有塗料或油墨爲樹脂 材料時,此等溶劑必須不會或很少會使埋有粉體之黏合層 脹•溶解。黏合層之材料使用丙烯酸系黏合劑時,無法 -26- 518429 五、發明說明(25) 使用對酮、酯、芳香族烴系溶劑等之丙烯酸系樹脂而言溶 解性高的溶劑。此時,以使用水或醇、脂族烴系溶劑較佳 〇 然後,說明有關本發明之反射型液晶顯示裝置。第1之 反射型液晶顯示裝置係具有在內面側至少具有顯示電極之 一對對向的透明基體間夾住液晶層所成的液晶晶胞、與在 其透明基體另一外側上設置上述本發明光反射板之構造。 第2圖(a )及(b )係各爲本發明反射型液晶顯示裝置例之典 型截面圖,圖中,2 0係爲液晶晶胞、2 9係爲上述本發明 之光反射板。液晶晶胞係爲第2圖(a )中具有在一面上設 有由透明電極所成的顯示電極2 1之玻璃板2 2、與一面上 設有由透明電極所成的顯不電極2 3之玻璃板2 4間夾住液 晶層25之構造。於第2圖(b)中具有一面上經由濾色器26 設有由透明電極所成的顯示電極2 1、另一面上設有偏光板 27之玻璃板22、與一面上設有由透明電極所成的顯示電 極23、另一面上設有偏光板28之玻璃板24之間夾住液晶 層2 5之構造。此等液晶晶胞一方之玻璃板外側上藉由例 如黏合劑20a貼合本發明之光反射板29。於圖中光反射板 之基板貼合於外面時,外面光反射板之金屬薄膜亦可貼於 外面。 本發明之反射型液晶顯示裝置中光反射板所貼合的液晶 晶胞,於上述中沒有特別的限制,習知中任一種皆可使用 -27- 518429 五、發明說明(26) 而且,第2之反射型液晶顯示裝置係爲在內面側至少具 有顯示電極之1對對向透明基體間夾住液晶層所成的液晶 晶胞一方之顯示電極側具有使入射光反射之光反射板者, 其光反射板爲由在透明基體上所形成的粉體粒子以單粒子 層狀態固定的粉體單層皮膜、及於其上所積層的金屬薄膜 構成。第3圖(a)及(b)係各表示該例之典型截面圖。 第3圖(a )爲具有藉由透明電極所成的顯示電極.3 1之玻 璃板32、與設有顯示電極33之玻璃板34、夾住液晶層35 之構造,第3圖(b)爲具有藉由一面設有偏光板36及爲相 差板3 7、另一面上經由濾色器3 8、設有由透明電極所成 的顯示電極3 1之玻璃板3 2、與設有由光反射板所成的顯 示電極3 3之玻璃板34、夾住液晶相3 5之構造。此等第3 圖(a )及(b )中,顯示電極3 3係爲藉由上述方法所形成的 粉體單層皮膜39上積層的金屬薄膜所成者,爲光反射板 之構成要素,爲具有顯示電極與光反射板兩種機能者。 上述反射型液晶顯示裝置例如顯示電極爲具有作爲光反 射板之機能者,惟光反射層之構成爲下述3種。換言之, (1 )在形成粉體單層皮膜上設置兼具顯示電極與反射膜之 金屬皮膜、(2 )以一般方法製作顯示電極後、在該顯示電 極上積層由粉體單層皮膜與金屬薄膜所成的光反射板、以 及(3 )積層粉體單層薄膜與金屬薄膜所成的光反射板後、 於其上設置絕緣層與顯示電極等3種層構成。有關此等就 製造優點、或顯示特性之優異性而言,由於所使用的液晶 -28- 518429 五、發明說明(27) 及運作型式之種類、顯示電極之構造極爲複雜,無法一槪 而言,惟就製造工程少而言以(1 )最佳。 於上述中爲形成光反射板之黏合層構成材料,使用聚酿 亞fee、聚釀亞I女釀fee、聚砂氧院系樹脂之耐熱性高的樹脂 材料取代上述丙烯酸系黏合劑。此等樹脂材料爲聚醯亞胺 時其前驅體以醯酸狀態、或含高沸點溶劑之樹脂溶液狀態 塗覆、形成具有黏合性狀態之黏合層。於其上附著•固定 粉體粒子、然後除去殘留的粉體粒子後,加熱至高溫予以 聚醯亞胺化、或使溶劑完全揮發、可形成光反射板。而且, 基體爲玻璃時,塗覆方法爲旋轉塗覆、輕塗覆、CAP塗覆 法等一般製作液晶晶胞時所使用的塗覆方法較佳。 【實施例】 於下述中藉由實施例更詳細說明本發明,惟本發明不受 此等所限制。 在厚度75#m之透明易黏合PET薄膜(梅里尼克斯75、 ICI日本製)上,塗覆•乾燥丙烯酸系黏合劑(商品名: H6F或TM206、綜硏化學製),且設置如表1所示厚度之黏 合層。然後,以體積平均粒徑爲4 · 5 # m、使用粒徑分布 爲0.94之球狀甲基矽微粒子(德斯帕魯(譯音)145、GE東 芝矽製)、在加入有該球狀微粒子的流動槽中使具有黏合 層之PET薄膜流通、且使球狀微粒子附著於黏合層表面上 。另外,使作爲介質之粒徑0 . 5mm的真球狀锆珠、與上述 甲基矽微粒子以1 〇〇份對3份之比例加入振動槽中,使其
-29- 518429 五、發明說明(28) 於振動槽中、使附著有球狀微粒子之PET薄膜通過、使球 狀微粒子均勻地埋入黏合層中。另外,藉由水洗除去多餘 的球狀微粒子,製作4種在PET薄膜上設有粉體單層皮膜 之試料。而且,其中之一種在其粉體單層皮膜上塗覆UV 硬化型丙烯酸酯(UV- 3 300、東亞合成公司製)、設置乾燥 硬化後塗覆量爲1.0g/m2之表層塗覆層。 如上述製作的試料(S’ - 1〜S’ -4)如表1所示。另外,使 用日本電色工業公司製NDH2000測定此等試料之全光線透 過率Tt(%)及霧度値Hz(%),且在各試料上自透明基體側 入射光時與自單層皮膜側入射光時之測定結果如表=1所示 表1 試料名 — 黏合劑 黏合層 之厚度 (β m) 表塗層 光學特性 自粉體單層皮膜 側之入射光. 自透明基體側之 入射光 Tt Hz Tt Hz s,-i H-6F 2.5 無 95.0 59.5 95.0 59.4 S,-2 〜-- TM206 3.0 無 98.4 90.0 63.7 88.8 H-6F 1.5 無 95.4 74.3 91.7 74.2 S’-4 TM206 3.0 有 90.0 60.4 88.8 60.0 —在此寺試料之粉體單層皮膜上藉由使鋁蒸熔以設置厚度 約爲700埃之鋁蒸熔膜,製作本發明之光反射板(s_i〜s_ _)。有關此等4種光反射板之試料,藉由多角度分光測色 口卜(t色技術系統公司製)測定其反射特性。該測定裝置係 -30- 518429 五、發明說明(29) 爲測定如圖7所示對試料表面成45°之角度照射鹵素燈光, 且自正反射之角度成15。 '25。 、45。 、75。 、110。之 角度方向反射光之光量與色差者。各試料之蒸熔層表面的 測定角度與反射率之關係如第8圖所示。而且,此處之反 射率係對標準白色板而言試料面的反射光量之比例以%表 示,測定波長爲5 50nm '同樣地透明PET側爲表面側之測 疋結果如第9圖所不。 由此等之測定結果可知,蒸熔層側之反射特性係凹凸程 度大的S - 2表示對全部較度而言均勻的反射,凹凸程度小 的S - 4表示正反射方向之反射成分大。此等之反射特性大 約對應於表1所示的霧度。S - 1與S - 4在霧度上爲大約相 同的値,惟由於S - 4進行表面塗覆,故實質的凹凸較S - 1 爲小,反射特性有差。另外,薄膜側之反射特性爲S - 2時, 7 5° 、1 1 〇 °方向之反射率變大,此係由於粉體單層皮膜 之微粒子突出程度大,視所具的再現反射性而定。 而且,藉由上述多角度分光測色計測定Lab顯示時,所 有試料幾乎都沒有彩色。此外,以目視觀察4種試料時, S - 2幾乎接近白色、s — 丨與S_3沒有金屬光澤、S_4具有金 屬光澤。 由上述結果可知,本發明中即使使用相同粒徑的微粒子, 藉由控制其埋入情形、即粉體單層皮膜之凹凸程度,可大 爲變化其上積層金屬薄膜所具有的反射特性。當然,可知 變化微粒子大小時,亦可變化反射特性。 -31 - 5Ί8429 五、發明說明(3〇) 【發明之效果】 本發明之光反射板,由於藉由上述說明之構成與方法製 作,故可製作具有比習知反射板較寬的反射特性者、可實 現白紙白度。而且,由於可控制粉體單層皮膜表面之凹凸 程度,可製作具有目的反射特性的反射板之再現性佳。而 且,藉由使用本發明之光反射板,可製作白紙白度反射型 液晶顯示裝置。 【圖面之簡單說明】 第1圖係表示本發明光反射板之典型截面圖。 第2圖係表示本發明第1反射型液晶顯示裝置之實施例 的典型截面圖。 第3圖係表示本發明第2反射型液晶顯示裝置之實施例 的典型截面圖。 第4圖係爲使粉體粒子附著之裝置例的簡略構成圖。 桌5圖係爲使粉體粒子附著之另一裝置例的簡略構成圖。 弟6圖係爲使粉體粒:子附著之另一裝置例的簡略構成圖。 第7圖係爲說明測定實施例試料之反射光之光量與色差。 第8圖係表不貫施例之試料蒸熔層側的反射特性圖。 第9圖係表示實施例之試料薄膜側的反射特性圖。 第1 0圖係表示習知反射型液晶顯示裝置之典型截面圖。 第11圖係表示習知其他反射型液晶顯示裝置之典型截 面圖。 -32- 518429 五、發明說明(31) 主要元件之對照表 1 薄膜基材 2,2, 輥 3 容器 4 粉體粒子及介質之混合物 5 震動起動器 9 震動板 11 基體 12 粉體單層皮膜 13 金屬薄膜 2〇 液晶晶胞 20 a 黏合劑 2 1 顯不電極 22 玻璃板 2 3 顯不電極 2 4 玻璃板 2 5 液晶層. 26 濾色器 27,28 偏光板 29 光反射板 3 1 顯示電極 32 玻璃板 33 顯示電極 -33- 518429 五、發明說明(32) 34 玻璃板 35 液晶層 36 偏光板 37 位相差板 38 濾色器 39 粉體單層皮膜 :34-

Claims (1)

  1. 518429 六、申請專利範圍 1 . 一種光反射板,其特徵爲:在基板上設置一粉體粒子之 單粒子層狀之舖設固定的粉體單層皮膜、在該粉體單層 皮膜上積層金屬薄膜所成。 2 .如申請專利範圍第1項之光反射板,其中粉體粒子爲粒 徑1〜20// m之球狀微粒子。 3 ·如申請專利範圍第1項之光反射板,其中基體爲板狀或 薄膜狀。 4 .如申請專利範圍第1項之光反射板,其中基體及/或粉 體粒子爲透光性。 5 .如申請專利範圍第1項之光反射板,其中金屬薄膜係由 1種選自於金、銀、鋁及鎳之金屬所成。 6 ·如申請專利範圍第1項之光反射板,其中粉體粒子係藉 由基體上所設置的黏合層而固定。 7 · —種如申請專利範圍第1項之光反射板的製法,其特徵 爲:順序實施在基體上設置具黏合性之黏合層的步驟、 在上述具有黏合性之黏合層上舖設粉體粒子使成單粒子 層狀態的固定步驟、在以上述步驟所形成的粉體單層皮 膜上積層金屬薄膜的步驟。 8 ·如申請專利範圍第7項之光反射板的製法,其係藉由使 設置有黏合性黏合層之基體,在容器中振動的粉體粒子 及介質接觸,而在具有上述黏合性之黏合層上的粉體固 定成單粒子層狀態。 9 ·〜種反射型液晶顯示裝置,該液晶顯示裝置係藉由在內 -35- 518429 六、申請專利範圍 面側上具有顯示電極之以1對對向透明基體間夾持之液 晶層所成的液晶晶胞、及該透明基體一面外側上所設置 的使入射光反射之光反射板所構成;其特徵爲:該光反 射層,係由在透明基體上所設置之將粉體粒子舖設成單 粒子層狀態而固定的粉體單層皮膜、及在該粉體單層皮 膜上積層的金屬薄膜所構成。 1 0 . —種反射型液晶顯示裝置,該液晶顯示裝置係由在內面 側上具有顯示電極之以1對對向透明基體間夾持之液晶 層所成的液晶晶胞,其一方之顯示電極側上係設置有使 入射光反射之光反射板所構成;其特徵爲:該光反射板 ’係由在透明基體上所設置之將粉體粒子舖設成單粒子 層狀態固定的粉體單層皮膜、及於其上積層的金屬薄膜 所構成。 -36-
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