TWI580743B

TWI580743B - 反射膜及該反射膜的製作方法

Info

Publication number: TWI580743B
Application number: TW102148682A
Authority: TW
Inventors: 胡朝景; 戴豐源; 吳昆展; 王佳銘
Original assignee: 鴻海精密工業股份有限公司
Priority date: 2013-12-27
Filing date: 2013-12-27
Publication date: 2017-05-01
Also published as: TW201525083A; US20150185373A1; US9279922B2

Description

反射膜及該反射膜的製作方法

本發明涉及一種光反射元件，尤其涉及一種反射膜及該反射膜的製作方法。

在照明產業及背光模組產業中，通常通過光反射膜來反射光源發出的光線，從而用來提高光線的利用率。光反射膜通常設置在一金屬基底的一光滑的反射表面。然而，由於金屬基底的反射表面光滑，易於導致反射片滑動或偏擺而不能按預定的要求固定在金屬基底的相應的位置上。

有鑒於此，有必要提供一種能夠按照預定要求準確定位安裝的反射膜以及該反射膜的製作方法。

一種反射膜，可用於塗抹在金屬基板的光滑的反射面上，所述反射膜為固化劑與反光粉末的組合物，其中所述固化劑包括壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑。

一種反射膜的製作方法，包括如下步驟：

S1：將固化劑與反光粉末混合形成組合物，所述固化劑為壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑混合形成組合物；

S2：提供一金屬基板，並將由固化劑和反光粉末混合形成的組合物均勻塗抹至金屬基板的表面；

S3：採用紫外光源照射該塗抹至金屬基板表面的組合物以使之硬化形成附著在金屬基板表面的反射膜。

本發明的反射膜由反光粉末與含有壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑的組合物混合形成，其以塗抹的方式可按照預定的要求形成在金屬基板的表面預定的位置上。

圖1為本發明的金屬基板與反射膜的剖面示意圖。

請參見圖1，本發明的反射膜20可以塗抹的方式形成在金屬基板10的反射面上。

所述金屬基板10為一平整的金屬板體，其可由銅、鋁等反射性好的金屬材料製成。所述金屬基板10包括一平整且光滑的上表面101以及與該上表面101平行且間隔設置的平整的一下表面102。本實施例中，所述上表面101為所述金屬基板10的反射面。

所述反射膜20設置在所述金屬基板10的上表面101上，且覆蓋所述金屬基板10的整個上表面101。優選地，所述反射膜20的厚度為0.2mm。

所述反射膜20為固化劑和反光粉末的組合物。所述固化膠與反光粉末之間的質量比例可為：80%：20%，72%：28%，70%：30%或者為65%：35%。

所述固化劑為包含壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑的組合物。優選地，所述壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑之間的質量配比為：50%：30%：15%：5%。

本實施例中，所述壓克力系列單體為異冰片烯甲基丙醯酸酯（Isobornyl Methacrylate），所述聚氨酯壓克力低聚物為脂肪族胺酯丙醯酸酯（Aliphatic urethane Acrylate），所述聚酯壓克力修飾聚酯低聚物為羧基化聚酯丙醯酸酯（Carboxylated polyester acrylate），所述光起始劑為羥基環已基-苯基-酮（Hydroxycyclohexyl-phenyl-ketone）。

所述反光粉末為白色反光粉末。本實施例中，所述白色反光粉末為硫酸鋇或者鈦白粉。優選地，所述白色粉末採用光反射效率更高的鈦白粉。

本發明還涉及所述反射膜20的製作方法，其包括如下步驟：

S1：將固化劑與反光粉末混合形成組合物，所述固化劑為壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑混合形成組合物；優選地，所述壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑之間的質量比例為：50%：30%：15%：5%。所述反光粉末為白色反光粉末。優選地，所述白色反光粉末為硫酸鋇或者鈦白粉。

S2：提供一金屬基板10，並將由固化劑和反光粉末混合形成的組合物均勻塗抹至金屬基板10的表面；

S3：採用紫外光源照射該塗抹至金屬基板10表面的組合物以使之硬化形成附著在金屬基板10表面的反射膜20。本實施例中，所述紫外光源的波長為320nm~400nm，照射強度為3660.834mW/cm^2，照射時間為1.35秒。

爲了說明本發明固化劑與反光粉末形成的反射膜20在金屬基板10表面的黏著效果，對該反射膜20在金屬基板10表面的黏著性進行除了測試。

所述黏著性測試採用業界常用的百格測試的方法進行測試，並將測試等級分為ISO 0級-ISO5級，等級越低表明反射膜20與金屬基板10的黏著性越好。

經測試發現，當所述固化劑與反光粉末的質量比例分別為80%：20%、72%：28%、70%：30%、65%：35%時，反射膜20黏著在金屬基板10表面的黏著性均能達到ISO 0級。

綜上，本發明的反射膜20採用包含壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑的固化劑及反光粉末混合後以塗抹的方式附著在金屬基板10的表面，使得該反射膜20相較於傳統的固定方式更加易於按照預定要求設置在金屬基板10表面的預定位置。

可以理解的係，對於本領域的普通技術人員來說，可以根據本發明的技術構思做出其他各種相應的改變與變形，而所有該等改變與變形都應屬於本發明請求項的保護範圍。

10‧‧‧金屬基板

20‧‧‧反射膜

101‧‧‧上表面

102‧‧‧下表面

無

10‧‧‧金屬基板

20‧‧‧反射膜

101‧‧‧上表面

102‧‧‧下表面

Claims

一種反射膜，可用於塗抹在金屬基板的光滑的反射面上，其改良在於：所述反射膜為固化劑與反光粉末的組合物，其中所述固化劑包括壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑。
如請求項第1項所述的反射膜，其中：所述固化劑中壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑之間的質量配比為50%：30%：15%：5%。
如請求項第1項所述的反射膜，其中：所述固化劑與反光粉末的質量配比為：80%：20%、72%：28%、70%：30%、65%：35%中的任何一種。
如請求項第1項所述的反射膜，其中：所述反射膜的厚度為0.2mm。
如請求項第1項所述的反射膜，其中：所述反光粉末為硫酸鋇或者鈦白粉。
一種反射膜的製作方法，包括如下步驟：
S1：將固化劑與反光粉末混合形成組合物，所述固化劑為壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑混合形成組合物；
S2：提供一金屬基板，並將由固化劑和反光粉末混合形成的組合物均勻塗抹至金屬基板的表面；
S3：採用紫外光源照射該塗抹至金屬基板表面的組合物以使之硬化形成附著在金屬基板表面的反射膜。
如請求項第6項所述的反射膜的製作方法，其中：所述壓克力系列單體、聚氨酯壓克力低聚物、聚酯壓克力修飾聚酯低聚物以及光起始劑之間的質量比例為：50%：30%：15%：5%。
如請求項第6項所述的反射膜的製作方法，其中：所述固化劑與反光粉末的質量配比為：80%：20%、72%：28%、70%：30%、65%：35%中的任何一種。
如請求項第6項所述的反射膜的製作方法，其中：所述反光粉末為硫酸鋇或者鈦白粉。
如請求項第6項所述的反射膜的製作方法，其中：所述紫外光源的波長為320nm~400nm，照射強度為3660.834mW/cm^2，照射時間為1.35秒。