JPH1164613A - 直下型バックライト用反射体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】高分子フィルム６０上に粒子からなる凹凸
層５０を形成し、更に金属薄膜層４０として銀またはア
ルミニウムの層を形成した。 【効果】本発明の反射体を直下型のバックライトに用い
ることにより、輝度ばらつきを抑えて高い輝度を得るこ
とが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は直下型バックライト
用反射体に関する。本発明の直下型バックライト用反射
体は液晶表示装置に用いられる。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置に用いられるバックライト
には、蛍光管を液晶の直下に配置する直下型と呼ばれる
タイプと、蛍光管を導光板側面に配置するエッジライト
型と呼ばれるタイプがある。直下型バックライトには、
構造が単純である、光のロスが少なく高い輝度が得られ
る等の長所があるが、一方で輝度ムラが発生しやすい、
バックライトユニットの幅が厚くなる等の欠点がある。
そのために現在主流となっているノートブック型の液晶
表示装置では薄型化が進められており、エッジライト型
が主流となっている。しかしながら今後普及が期待され
ているデスクトップ用、ワークステーション用の２０イ
ンチ以上の大型液晶表示装置においては、エッジライト
型では十分な面輝度が得られないこと、導光板の重量が
大きくなることなどから、近年直下型バックライトが見
直されてきている。

【０００３】直下型バックライトに用いられる反射体に
は、従来、アルミ板や、白色の樹脂シートが用いられて
きた。アルミ板は反射率が８５％程度であり、反射光中
の正反射光の占める割合が大きい、金属光沢を持つ反射
体である。しかるに、反射率が白色反射シートに劣るも
のの成形加工が容易である、筐体として用いることが可
能である、耐熱性に優れる等の理由から、該反射体が直
下型バックライト用反射体に用いられてきた。一方白色
の樹脂シートは反射率が９４％程度であり、反射光中の
拡散反射光が占める割合が大きい、紙によく似た反射体
である。安価であることと反射率が高いことから同様に
直下型バックライト用反射体に用いられている。

【０００４】直下型バックライトの断面図の一例を図２
に示す。直下型バックライトでは、その面輝度と輝度ば
らつきは性能上重要なポイントである。面輝度を増すに
は反射率の高い反射体を用いることが考えられる。反射
率の高い反射体３０であっても得られたバックライトの
輝度ばらつきが大きい場合、輝度ばらつきをなくすため
に拡散性の高い拡散板１０、つまりは透過率の低い拡散
板１０を用いなければならず、結果として高い面輝度が
得られない。これらより直下型バックライト用反射板と
しては、その反射率が高いことはもちろん輝度ばらつき
が少ない反射体であることが重要である。

【０００５】直下型バックライトの反射体としてアルミ
板及び白色の樹脂シートを用いた場合、アルミ板では白
色樹脂シートを用いた際に比べ輝度ばらつきが少ないこ
とが分かった。これは拡散板１０を通して直接観察され
る蛍光管２０以外にもアルミ板で反射した蛍光管２０の
像が見えるために、実際よりも多数の蛍光管が光ってい
る様に見え、面内の均一性が高まったからであると考え
られる。しかしながら輝度ばらつきは小さいものの、鏡
と同様に正反射光成分が多いために蛍光管２０の写り込
みがあるという問題が生じた。一方白色の樹脂シートで
は高い面輝度が得られるものの輝度ばらつきが大きいた
めに拡散板を拡散効果の大きな、つまり透過率の低いも
のに変更する必要が生じた。そのため、当初高かった面
輝度も低下してしまうという問題が生じた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、直下
型バックライトにおいて重要な課題である、輝度ばらつ
きを減らし、且つ蛍光管の写り込みを抑えることにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らはかかる課題
を解決するために、金属薄膜として９５％の高反射率が
得られる銀及び反射率が８５％ではあるが耐食性に優れ
たアルミニウムを用いた、高分子フィルムと金属薄膜層
からなる反射体に注目し鋭意研究を行った。該反射体の
高分子フィルムと金属薄膜層の間に、視野角マイナス１
５°からプラス１５°における輝度の最小値の最大値に
対する割合が１０％以上及び、視野角マイナス１５°か
らプラス１５°における輝度の最大値が黒色ガラスのそ
れの４０％以上である金属薄膜層を形成しうる、粒子か
らなる凹凸層を形成せしめることで上記課題を解決でき
ることを見いだした。本発明はかかる知見によりなされ
るに至ったものである。

【０００８】すなわち、本発明は、（１）高分子フィル
ムと金属薄膜層とからなる反射体において、高分子フィ
ルムと金属薄膜層の間に、視野角マイナス１５°からプ
ラス１５°における輝度の最小値の最大値に対する割合
が１０％以上及び、視野角マイナス１５°からプラス１
５°における輝度の最大値が黒色ガラスのそれの４０％
以上である金属薄膜層を形成しうる、粒子からなる凹凸
層を形成せしめたことを特徴とする直下型バックライト
用反射体、（２）粒子からなる凹凸層が、密に詰まっ
た、実質的に一層である粒子層からなることを特徴とす
る（１）に記載の直下型バックライト用反射体、（３）
粒子の平均粒径が１μｍ乃至１５μｍであることを特徴
とする（１）または（２）に記載の直下型バックライト
用反射体、（４）金属薄膜層が、銀またはアルミニウム
を主成分とする金属からなることを特徴とする（１）乃
至（３）のいずれかに記載の直下型バックライト用反射
体、（５）（１）乃至（４）のいずれかに記載の反射体
と金属板とを接着剤を介して貼り合わせたことを特徴と
する直下型バックライト用反射体に関するものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の反射体の断面図の一例を
図１に示す。高分子フィルム６０上に、粒子層からなる
凹凸層５０、さらにその上に金属薄膜層４０が形成され
ている。金属薄膜層側、高分子フィルム側どちらを反射
面として用いても構わない。高分子フィルム側を反射面
として用いる場合には透明な高分子フィルムが好ましく
用いられる。

【００１０】本発明における高分子フィルムには、ポリ
エチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチ
レン（ＰＳ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリイミド（ＰＩ）、三酢酸セルロース系樹脂、
ポリアリレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、フッ素系
樹脂等が使用できるが、必ずしもこれらに限定されるわ
けではなく、ある程度ガラス転移温度が高いものであれ
ば使用できる。高分子フィルムの厚みには限定的な値は
ないが、好ましくは１０〜４００μｍ程度が、より好ま
しくは１０〜２００μｍ程度が、更により好ましくは２
５〜１００μｍ程度である。

【００１１】本発明の反射体を得るには、視野角マイナ
ス１５°からプラス１５°における輝度の最小値の最大
値に対する割合が１０％以上及び、視野角マイナス１５
°からプラス１５°における輝度の最大値が黒色ガラス
のそれの４０％以上の金属薄膜層を形成しうる、粒子か
らなる凹凸層を形成せしめることが必要である。より好
ましくは、凹凸層として、密に詰まった、実質的に一層
である粒子層を用いること、また、更により好ましく
は、散乱光が少なくなるように、粒子と粒子の谷間の形
状を制御することが上げられる。散乱光とは、粒子と粒
子の谷間で一方の粒子で反射した光が、更にもう一方の
粒子で反射することにより生じるものである。散乱光を
少なくするには、粒子層を形成した後に更に樹脂を塗布
し、粒子と粒子の谷間を埋めてなだらかな凹凸面とす
る。

【００１２】密に詰まった、実質的に一層である粒子層
とは、高分子フィルム上に、重なることなく隙間なく並
んだ粒子からなる層を言う。更に詳細に説明すると、本
発明の密に詰まった、実質的に一層である粒子層の示す
範囲は、好ましくは充填率が３０％以上及び重複率が３
０％以下である粒子層であり、より好ましくは充填率が
５０％以上及び重複率が２０％以下である粒子層であ
り、更により好ましくは充填率が７０％以上及び重複率
が１０％以下である。これらの場合充填率の上限は９
９．９％であり、重複率の下限は０．１％である。粒子
の充填率とは、用いた粒子の平均粒径と等しい粒子が最
密充填したときの単位面積あたりの粒子数に対する、実
際の単位面積あたりの粒子数の割合で表す。また、重複
率とは１層目の粒子数に対する、２層目以上の粒子数の
割合で示す。

【００１３】密に詰まった、実質的に一層である粒子層
からなる凹凸層は、例えば、高分子フィルム上に粒子と
バインダーからなる液（粒子分散液）を塗布することに
より形成することができる。また、スクリーン印刷や、
スプレーコーティング等によっても形成できる。しかし
ながら必ずしもこれらの方法に限定されるわけではな
く、密に詰まった、実質的に一層である粒子層を形成で
きる方法であれば形成方法は問わない。また該粒子層を
形成した後に更に樹脂を塗布することで、先に塗布した
粒子層の粒子と粒子の谷間を埋めて凹凸面をなだらかに
し、凹凸層の表面形状を更に制御することは、本発明の
効果を得る上で好ましい。

【００１４】本発明の効果を得るには、従来の粒子を含
む樹脂を塗布することによる凹凸化方法とは異なり、粒
子からなる凹凸層の表面形状をこれまで以上に高精度で
制御すること、すなわち、視野角マイナス１５°からプ
ラス１５°における輝度の最小値の最大値に対する割合
が１０％以上及び、視野角マイナス１５°からプラス１
５°における輝度の最大値が黒色ガラスのそれの４０％
以上の金属薄膜層を形成しうる、粒子からなる凹凸層を
形成せしめることが必要である。

【００１５】粒子としては、ポリスチレン、ポリメタク
リル酸メチル、スチレンメタクリレート、スチレンアク
リレート、スチレンブタジエン等の高分子（有機物）か
らなる粒子が、また、アルミナ、チタニア（チタン
白）、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カル
シウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウ
ム、珪酸ソーダ等のいわゆる白色顔料系の粒子や、酸化
珪素等の無機系の粒子が用いられる。粒子の材質につい
ては特に限定されないが、粒子とバインダーからなる液
（粒子分散液）の分散安定性を考慮した際には、比重の
小さい高分子（有機物）からなる粒子が好ましく用いら
れる。

【００１６】高分子粒子の調整方法としては、乳化重合
法、懸濁重合法、分散重合法が挙げられる。乳化重合法
が最も一般的であるが、近年、分散重合も盛んに行われ
ている。どの重合法においても生成する高分子は分散媒
に難溶であり、分散媒と高分子間の表面張力により粒子
が形成される。高分子粒子は、粒子表面に結合または吸
着している保護層によって安定化され、さらに粒子内架
橋によっても安定化される。これら３方法の中でも特に
分散重合法を用いた粒子作成は、サブミクロンから数十
ミクロンまでの広い範囲の粒子が得られることに特徴が
ある。

【００１７】分散重合法では、分散媒として非水溶媒が
用いられ、分散剤としては両親媒性高分子が用いられ
る。モノマーが分散媒中に溶けることが必要であり、モ
ノマーが溶解した分散媒中に開始剤を加えることにより
に重合が開始する。重合は溶液中で進行し、粒子析出後
は粒子内でも進行する。スチレンの分散重合においては
溶媒として用いるアルコールの炭素数により生成する粒
子の直径がかなり広い範囲で変化することが知られてい
る（A.J.Paine, J.Polym.Sci.,Polym.Chem.Ed.,38,2485
(1990)）。また、この方法は得られる粒子直径のばらつ
きも非常に小さいことから有用な重合方法である。

【００１８】粒子の直径（粒径）の平均値は１μｍ以
上、１５μｍ以下であることが好ましい。より好ましく
は２μｍ以上、１２μｍ以下であり、更に好ましくは３
μｍ以上、１０μｍ以下である。粒径があまりに小さい
と、実質的に一層からなる粒子層を形成するのが難し
い。また、粒径があまりに大きいと、塗布厚みが厚くな
り工業上好ましくないばかりでなく、きめの粗い反射体
となる。

【００１９】用いる粒子の粒径分布は小さい方が好まし
い。粒径の標準偏差の平均粒径に対する割合は、好まし
くは５０％以下、より好ましくは３０％以下、更により
好ましくは２０％以下である。この割合の下限は０．１
％である。あまりに粒径分布が大きいと、密に詰まっ
た、実質的に一層である粒子層を得ることが難しくな
り、制御された凹凸層が得られず、よって本発明の反射
体の性能が得られないことがある。

【００２０】粒径分布は、少量の粒子を分散させた溶液
の動的光散乱法により測定することができる。またＳＥ
Ｍ写真より、無作意に選んだ１００個の粒子の直径より
求めることができる。粒子の直径はＳＥＭ写真以外に光
学顕微鏡写真より読みとることができる。また、得られ
た写真または像を画像処理することで粒径分布を求める
ことができる。

【００２１】バインダーとしては、ポリアミド系、ポリ
エステル系、ポリウレタン系、アクリル系等の熱可塑性
樹脂、及び尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂が用いられる。これらは、高分子フィル
ム、粒子、樹脂及び金属薄膜層との密着性を考慮して選
択される。

【００２２】粒子分散液の固形分中の粒子の重量％は３
０％以上、９０％以下であることが好ましい。より好ま
しくは４０％以上、８０％以下であり、更により好まし
くは５０％以上、７０％以下である。粒子の重量％があ
まりに小さいと粒子を密に一層塗布することが難しい。
また、粒子の重量％があまりに大きいとバインダーに対
して粒子が多すぎるために粒子の密着性が悪く、よって
粒子の脱落、剥がれ等が起こる。粒子分散液中の全固形
分の量は特に限定されないが、粒子の分散性の観点から
は、固形分が多く粘度が大きい方が好ましい。

【００２３】粒子分散液を高分子フィルムに塗布する方
法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビ
アコート法、マイクログラビアコート法、グラビヤリバ
ースコート法、スプレーコーティング法等がある。制御
された凹凸層を得るためにはリバースコート法、マイク
ログラビヤコート法、グラビヤリバースコート法が好ま
しく用いられる。

【００２４】樹脂としては、ポリアミド系、ポリエステ
ル系、ポリウレタン系、アクリル系等の熱可塑性樹脂、
及び尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化
性樹脂が用いられる。これらは、粒子層及び金属薄膜層
との密着性を考慮して選択される。

【００２５】金属薄膜層として用いられる金属は特に限
定されないが、可視光領域において高い反射率を持つ金
属である。好ましくは、銀、アルミニウム及びこれらの
合金が用いられる。

【００２６】金属薄膜層の形成法には、湿式法および乾
式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液か
ら金属を析出させ膜を形成させる方法である。具体例を
挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式法と
は、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれ
ば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真
空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には
連続的に成膜するロール・ツ・ロール方式が可能な真空
成膜法が好ましく用いられる。

【００２７】真空蒸着法では金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇さ
せ、好ましくは０．１ｍＴｏｒｒ（１３．３ｍＰａ）以
下で基材表面に蒸着させる。この際に、アルゴン等のガ
スを０．１ｍＴｏｒｒ（１３．３ｍＰａ）以上導入さ
せ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしてもよ
い。

【００２８】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料として金属の板状の
ターゲットを用いればよく、スパッタガスとしてヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用
し得るが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純
度は、９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．
５％以上である。

【００２９】金属薄膜層の厚さは、反射体を形成した際
に十分な反射効率が得られるように、例えば光線透過率
が１％以下になるように考慮して決められる。一例を上
げると金属として銀を用いた場合には、７０ｎｍ〜４０
０ｎｍが好ましく、より好ましくは１００ｎｍ〜３００
ｎｍである。また、金属としてアルミニウムを用いた場
合には、２５ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、より好まし
くは４０ｎｍ〜１５０ｎｍである。薄すぎる場合は、光
が透過し反射率が低下する。一方、厚すぎる場合は、反
射率は上昇せず飽和傾向を示す上に、資源を有効に利用
するという観点からも好ましくない。

【００３０】反射体の反射率は７０％以上が好ましい。
より好ましくは８０％以上であり、更により好ましくは
８５％以上である。上限は９９．９％である。反射率が
低い場合は、バックライトに組み込んだ際に面輝度が低
くなる。

【００３１】前記金属薄膜層の膜厚の測定方法として
は、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバラン
ス、水晶振動子法等を用いる方法があり、特に水晶振動
子法では成膜中に膜厚が測定可能なので所望の膜厚を得
るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めて
おき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係
を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。金属薄膜層の酸化及び硫化等の腐食防止のために、
金属薄膜上に保護層を設けることは、本発明の反射シー
トの信頼性を向上させる意味から好ましい。

【００３２】保護層としては、ポリエステル系樹脂、ア
クリル系樹脂及びウレタン系樹脂等の透明樹脂が、ま
た、酸化珪素、フッ化マグネシウム、窒化珪素等の透明
無機薄膜が用いられる。反射体を他の部材に固定するま
たは他の部材と貼り合わせる目的から、反射体に粘着剤
加工、接着剤加工することは当業者が行う常套手段であ
る。用いられる接着剤、粘着剤としては、アクリル系、
ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリアミド系の熱可
塑性樹脂が、また、尿素系、メラミン系、エポキシ系の
熱硬化性樹脂が用いられる。

【００３３】また、厚みが０．１〜１ｍｍのアルミニウ
ム、真鍮、鋼板等の金属板と貼り合わせることは、切
断、折り曲げ等の加工性の面から好ましい。この際、金
属板と反射体の接着力は、好ましくは２００ｇ／ｃｍ以
上であり、より好ましくは３００ｇ／ｃｍ以上であり、
更により好ましくは４００ｇ／ｃｍ以上である。上限は
２０００ｇ／ｃｍである。

【００３４】反射体の反射特性としては、視野角マイナ
ス１５°からプラス１５°における輝度の最小値の最大
値に対する割合が１０％以上及び、視野角マイナス１５
°からプラス１５°における輝度の最大値が黒色ガラス
のそれの４０％以上であることが好ましい。より好まし
くは、視野角マイナス１５°からプラス１５°における
輝度の最小値の最大値に対する割合が２０％以上及び、
視野角マイナス１５°からプラス１５°における輝度の
最大値が黒色ガラスのそれの４５％以上である。

【００３５】

【実施例】以下実施例を用いて本発明について説明す
る。輝度測定方法 ：反射体の輝度はスガ試験機（株）デジタ
ル変角光沢度計（型式ＵＧＶ−４Ｄ）を用いて測定し
た。光源の入射角を試料面の法線に対して４５°で固定
し、入射光と同一平面内で受光角を変化させた。このと
き光源と受光器は法線を挟んで対峙する。また比較用の
黒色ガラスには一次標準面として用いられている黒色ガ
ラスを用いた。光源側には１０ｍｍ×１５ｍｍのスリッ
トを、受光側には３ｍｍ×６ｍｍのスリットを用いた。
視野角０°における輝度とは、法線に対して受光角４５
°における輝度を、また視野角マイナス１５°における
輝度とは受光角３０°における輝度を、視野角プラス１
５゜における輝度とは受光角６０゜における輝度をそれ
ぞれ示す。

【００３６】実施例１ 粒子とバインダー及び蒸留水を用いて表１のＡに示す粒
子分散液を調製した。粒子として粒径の平均値が３μ
ｍ、粒径分布の標準偏差が０．３μｍ（１０％）のポリ
スチレン（ＰＳ）粒子を、またバインダーとしてメチル
メタクリレートを主成分とするアクリル系エマルジョン
（ガラス転移温度２５℃、三井東圧化学株式会社製 ア
ルマテックスＥ−１５６）を用いた。マイクログラビヤ
法にて、粒子分散液を、厚み１００μｍのポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に塗布し乾燥し
た。乾燥後の塗布厚みは３μｍであった。このようにし
て形成した凹凸層上に金属薄膜層としてＤＣマグネトロ
ンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットと
し、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、
銀の薄膜を膜厚が２００ｎｍになるように形成した。得
られた反射体の性能を表２及び表３に示す。

【００３７】実施例２ 粒子とバインダー及び蒸留水を用いて表１のＢに示す粒
子分散液を調製した。粒子として粒径の平均値が６．５
μｍ、粒径分布の標準偏差が３．０μｍ（４６％）のア
クリル粒子（根上工業株式会社製、アートパールＦ−７
Ｐ）を、またバインダーにはメチルメタクリレートを主
成分とするアクリル系エマルジョン（ガラス転移温度１
１℃、三井東圧化学株式会社製 アルマテックスＥ−２
６９）を用いた。マイクログラビヤ法にて、粒子分散液
を、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）フィルム上に塗布し乾燥した。乾燥後の塗布面を
光学顕微鏡により観察し塗布条件を調整することで、密
に詰まった実質的に一層である粒子層を得た。更にこの
粒子層上に固形分が３０％のアクリル系エマルジョン
（ガラス転移温度１１℃、三井東圧化学株式会社製 ア
ルマテックスＥ−２６９）を塗布し乾燥した。アクリル
系エマルジョンの塗布厚みは乾燥後の膜厚が約２μｍと
なるように行った。このようにして形成した凹凸層上に
金属薄膜層としてＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度
９９．９％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のア
ルゴンをスパッタガスとして、銀の薄膜を膜厚が１８０
ｎｍになるように形成した。得られた反射体の性能を表
２及び表３に示す。

【００３８】実施例３ アクリル系エマルジョンの塗布厚みを乾燥後の膜厚が約
１μｍとなるように行ったこと以外は実施例２と同様に
行った。得られた反射体の性能を表２及び表３に示す。

【００３９】実施例４ アクリル系エマルジョンの塗布厚みを乾燥後の膜厚が約
０．５μｍとなるように行ったこと以外は実施例２と同
様に行った。得られた反射体の性能を表２及び表３に示
す。

【００４０】実施例５ 粒子とバインダー及び蒸留水を用いて表１のＣに示す粒
子分散液を調製した。粒子として粒径の平均値が６．５
μｍ、粒径分布の標準偏差が３．０μｍ（４６％）のア
クリル粒子（根上工業株式会社製、アートパールＦ−７
Ｐ）を、またバインダーにはメチルメタクリレートを主
成分とするアクリル系エマルジョン（ガラス転移温度１
１℃、三井東圧化学株式会社製 アルマテックスＥ−２
６９）を用いた。グラビヤリバース法にて、粒子分散液
を、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルム上に塗布し乾燥した。乾燥後の塗布面を光
学顕微鏡により観察し塗布条件を調整することで、密に
詰まった実質的に一層である粒子層を得た。更にこの粒
子層上に固形分が３０％のアクリル系エマルジョン（ガ
ラス転移温度１１℃、三井東圧化学株式会社製 アルマ
テックスＥ−２６９）を塗布し乾燥した。アクリル系エ
マルジョンの塗布厚みは乾燥後の膜厚が約１μｍとなる
ように行った。このようにして形成した凹凸層上に、金
属薄膜層として電子ビーム加熱の蒸着法で、純度９９．
９％の銀の薄膜を膜厚が１８０ｎｍになるように形成し
た。得られた反射体の性能を表２及び表３に示す。

【００４１】実施例６ 金属薄膜として、抵抗加熱蒸着法で、純度９９，９９％
のアルミニウムの薄膜を膜厚が１００ｎｍになるように
形成すること以外は実施例５と同様に行った。得られた
反射体の性能を表２及び表３に示す。

【００４２】比較例１ 白色樹脂シートである東レ（株）製Ｅ−６０の性能を表
２及び表３に示す。

【００４３】比較例２ 住友軽金属工業（株）アルミ板（材質ＪＩＳ Ａ１０８
５Ｓ、表面程度ＨＢＲａ０．０３〜０．１５μｍ）の性
能を表２及び表３に示す。尚、圧延痕によって反射特性
に異方性があるため、光源の試料への入射面に対して圧
延痕の向きが垂直及び平行のそれぞれについて示す。

【００４４】

【表１】

【００４５】

【表２】

【００４６】

【表３】

【００４７】

【発明の効果】本発明の反射体を直下型バックライトの
反射体に用いることにより、輝度ばらつきが少なく、面
輝度が高いバックライトが得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射体の断面図の一例である。

【図２】直下型バックライトの断面図の一例である。

【符号の説明】

１０ 拡散板 ２０ 蛍光管 ３０ 反射体 ４０ 金属薄膜層 ５０ 粒子からなる凹凸層 ６０ 高分子フィルム

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】高分子フィルムと金属薄膜層とからなる反
   射体において、高分子フィルムと金属薄膜層の間に、視
   野角マイナス１５°からプラス１５°における輝度の最
   小値の最大値に対する割合が１０％以上及び、視野角マ
   イナス１５°からプラス１５°における輝度の最大値が
   黒色ガラスのそれの４０％以上である金属薄膜層を形成
   しうる、粒子からなる凹凸層を形成せしめたことを特徴
   とする直下型バックライト用反射体。
2. 【請求項２】粒子からなる凹凸層が、密に詰まった、実
   質的に一層である粒子層からなることを特徴とする請求
   項１に記載の直下型バックライト用反射体。
3. 【請求項３】粒子の平均粒径が１μｍ乃至１５μｍであ
   ることを特徴とする請求項１または２に記載の直下型バ
   ックライト用反射体。
4. 【請求項４】金属薄膜層が、銀またはアルミニウムを主
   成分とする金属からなることを特徴とする請求項１乃至
   ３のいずれかに記載の直下型バックライト用反射体。
5. 【請求項５】請求項１乃至４のいずれかに記載の反射体
   と金属板とを接着剤を介して貼り合わせたことを特徴と
   する直下型バックライト用反射体。