JP2001174795A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
- Publication number
- JP2001174795A JP2001174795A JP2000314843A JP2000314843A JP2001174795A JP 2001174795 A JP2001174795 A JP 2001174795A JP 2000314843 A JP2000314843 A JP 2000314843A JP 2000314843 A JP2000314843 A JP 2000314843A JP 2001174795 A JP2001174795 A JP 2001174795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal display
- substrate
- layer
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133553—Reflecting elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133357—Planarisation layers
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光利用の効率を落とさずに製造工程の単純化
による製造原価の低減をもたらす液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置は，第１基板３０
と，第１基板上に形成される第１電極３４と，第１基板
と平行するように配置される第２基板３２と，表面に微
細凹凸を形成して第２基板の一面に形成されるベース層
３６と，ベース層上に形成される反射層３８と，第２基
板上に形成される第２電極４２と，第１電極と反射層と
の間に配置される液晶層４８とを含み，ベース層が，樹
脂層，及び，樹脂層に分散されたビードを含むことを特
徴とする。拡散板を有さずに反射光を散乱及び拡散でき
るので，コントラストの低下及び輝度の減少などを防止
することができる。また，反射層部位の凹凸形成も簡単
な工程を通じてできるので，製造単価の節減にも効果を
有する
による製造原価の低減をもたらす液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】 本発明の液晶表示装置は，第１基板３０
と，第１基板上に形成される第１電極３４と，第１基板
と平行するように配置される第２基板３２と，表面に微
細凹凸を形成して第２基板の一面に形成されるベース層
３６と，ベース層上に形成される反射層３８と，第２基
板上に形成される第２電極４２と，第１電極と反射層と
の間に配置される液晶層４８とを含み，ベース層が，樹
脂層，及び，樹脂層に分散されたビードを含むことを特
徴とする。拡散板を有さずに反射光を散乱及び拡散でき
るので，コントラストの低下及び輝度の減少などを防止
することができる。また，反射層部位の凹凸形成も簡単
な工程を通じてできるので，製造単価の節減にも効果を
有する
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置にかか
り，特に，入射光を反射層で反射させて表示を行うよう
にする反射型液晶表示装置に関する。
り，特に，入射光を反射層で反射させて表示を行うよう
にする反射型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】平板ディスプレイ装置のひとつである液
晶ディスプレイ装置において，反射型液晶表示装置は透
過型液晶表示装置とは異なり，別途の光源を備えずに自
然光をはじめとする周辺光を用いて表示作用を行うの
で，消費電力を小さくすることができる。このように，
装置の薄形及び軽量化を図ることができるという長所を
もっていることから，業界でも注目されている。
晶ディスプレイ装置において，反射型液晶表示装置は透
過型液晶表示装置とは異なり，別途の光源を備えずに自
然光をはじめとする周辺光を用いて表示作用を行うの
で，消費電力を小さくすることができる。このように，
装置の薄形及び軽量化を図ることができるという長所を
もっていることから，業界でも注目されている。
【０００３】従来の反射型液晶表示装置の構造は，装置
の外部から入った入射光が反射されて進むことができる
ようにするために，平行に配置される２枚の基板のうち
のいずれか一側にアルミニウム等からなる反射層を配置
してなる。
の外部から入った入射光が反射されて進むことができる
ようにするために，平行に配置される２枚の基板のうち
のいずれか一側にアルミニウム等からなる反射層を配置
してなる。
【０００４】従来の反射型液晶表示装置の構成を，図７
を参照しながら説明する。反射型液晶表示装置は，図７
に示したように，２枚のガラス基板１，３を所定の間隔
をおいて配置し，その基板１，３の対向面にはそれぞれ
電極５，７と配向膜９，１１を塗布形成しており，配向
膜９，１１の間の空間部には液晶１３を注入してなる通
常の構成を有する。このような構成に反射型液晶表示装
置は，反射層１５を基板１，３のうちの一の基板（以
下，後面基板と称する）３に形成された電極７の下に配
置し，他の基板（以下，前面基板と称する）１の外部面
には偏光板１７を配置している。
を参照しながら説明する。反射型液晶表示装置は，図７
に示したように，２枚のガラス基板１，３を所定の間隔
をおいて配置し，その基板１，３の対向面にはそれぞれ
電極５，７と配向膜９，１１を塗布形成しており，配向
膜９，１１の間の空間部には液晶１３を注入してなる通
常の構成を有する。このような構成に反射型液晶表示装
置は，反射層１５を基板１，３のうちの一の基板（以
下，後面基板と称する）３に形成された電極７の下に配
置し，他の基板（以下，前面基板と称する）１の外部面
には偏光板１７を配置している。
【０００５】このような構成は反射型液晶表示装置の通
常の構成であって，その構成を有する反射型液晶表示装
置は，前面基板１の外部から入射した外部光を反射層１
５で反射させてこの反射光が前面基板１側に再透過する
ようにし，所定の画像や文字などを表示する。
常の構成であって，その構成を有する反射型液晶表示装
置は，前面基板１の外部から入射した外部光を反射層１
５で反射させてこの反射光が前面基板１側に再透過する
ようにし，所定の画像や文字などを表示する。
【０００６】このような反射型液晶表示装置が，カラー
表現をする場合には，基板１，３のいずれか一側にカラ
ーフィルタ層１９を配置し，また，液晶１３をＳＴＮ液
晶表示装置用として備える場合には補償板（ｒｅｔａｒ
ｄａｔｉｏｎ ｆｉｌｍ）２１を前面基板１側にさらに
配置する。
表現をする場合には，基板１，３のいずれか一側にカラ
ーフィルタ層１９を配置し，また，液晶１３をＳＴＮ液
晶表示装置用として備える場合には補償板（ｒｅｔａｒ
ｄａｔｉｏｎ ｆｉｌｍ）２１を前面基板１側にさらに
配置する。
【０００７】一方，反射型液晶表示装置では，その構造
の特性によって前面基板１側に拡散板２３をさらに配置
して構成される。この拡散板２３は，反射層１５が鏡面
反射の特性を有する金属膜からなる場合，前面基板１側
に入る入射光や反射層１５で反射されて前面基板１側に
出る反射光を散乱及び拡散することによって，反射層１
５において正反射方向にだけ反射率が高くなったり，観
察者の顔が表示面に照らされる等の問題点を解消するよ
うにする。
の特性によって前面基板１側に拡散板２３をさらに配置
して構成される。この拡散板２３は，反射層１５が鏡面
反射の特性を有する金属膜からなる場合，前面基板１側
に入る入射光や反射層１５で反射されて前面基板１側に
出る反射光を散乱及び拡散することによって，反射層１
５において正反射方向にだけ反射率が高くなったり，観
察者の顔が表示面に照らされる等の問題点を解消するよ
うにする。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし，このように反
射型液晶表示装置の構成に拡散板２３が含まれる場合に
は，前面基板１を通じて入る最初の入射光が拡散板２３
を通過する時，この拡散板２３によって一部が吸収され
て光量が低下するようになる。このような光量の低下は
反射型液晶表示装置で具現される表示画像の輝度に問題
を引き起こす。
射型液晶表示装置の構成に拡散板２３が含まれる場合に
は，前面基板１を通じて入る最初の入射光が拡散板２３
を通過する時，この拡散板２３によって一部が吸収され
て光量が低下するようになる。このような光量の低下は
反射型液晶表示装置で具現される表示画像の輝度に問題
を引き起こす。
【０００９】これだけでなく，反射型液晶表示装置で拡
散板２３は，装置のコントラストの低下にも一つの原因
になることもあるが，これは前面基板１側に入る入射光
が拡散板２３を通過する時，その拡散板２３を通過でき
ずにその表面で反射されて再び前面基板１側に戻るいわ
ゆる，後方散乱（ｂａｃｋ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）さ
れる光が発生しているためである。
散板２３は，装置のコントラストの低下にも一つの原因
になることもあるが，これは前面基板１側に入る入射光
が拡散板２３を通過する時，その拡散板２３を通過でき
ずにその表面で反射されて再び前面基板１側に戻るいわ
ゆる，後方散乱（ｂａｃｋ ｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ）さ
れる光が発生しているためである。
【００１０】従って，従来は上記のような問題点を抱い
ている拡散板２３を除去しながらもその拡散板２３が有
する機能を実現することができる技術が提案されてい
る。かかる技術としては米国特許第５，４０８，３４５
号に開示された反射型液晶表示装置がある。
ている拡散板２３を除去しながらもその拡散板２３が有
する機能を実現することができる技術が提案されてい
る。かかる技術としては米国特許第５，４０８，３４５
号に開示された反射型液晶表示装置がある。
【００１１】上記米国特許による反射型液晶表示装置
は，透明基板上に複数の隆起（ｂｕｍｐ）を有する絶縁
層を形成し，この絶縁層上には反射電極を形成して構成
される。このような反射型液晶表示装置は，複数の隆起
によって反射電極部位から散乱及び拡散する光の作用で
光の利用効率を向上させるようにしている。つまり，反
射型液晶表示装置は，拡散板を別途に保有せずに反射電
極自体で光が散乱及び拡散するようにして前述した従来
の問題点を解消するようにしている。
は，透明基板上に複数の隆起（ｂｕｍｐ）を有する絶縁
層を形成し，この絶縁層上には反射電極を形成して構成
される。このような反射型液晶表示装置は，複数の隆起
によって反射電極部位から散乱及び拡散する光の作用で
光の利用効率を向上させるようにしている。つまり，反
射型液晶表示装置は，拡散板を別途に保有せずに反射電
極自体で光が散乱及び拡散するようにして前述した従来
の問題点を解消するようにしている。
【００１２】このような技術的概念で，日本国特開平４
−２４３２２６号では，基板の一面に微細な凸部を有す
る感光性樹脂を配置し，この感光性樹脂の上に反射膜を
形成した反射型液晶表示装置を開示しており，また，日
本国特許公開平９−２５８２１９では光を反射する面に
凹凸が形成された反射層を基板の一面に配置し，反射層
における凹凸に対する接線の傾斜角が２゜未満である領
域の面積と基板の面積に対する比率が２０％以上６０％
以下になるようにした反射型液晶表示装置を開示してい
る。
−２４３２２６号では，基板の一面に微細な凸部を有す
る感光性樹脂を配置し，この感光性樹脂の上に反射膜を
形成した反射型液晶表示装置を開示しており，また，日
本国特許公開平９−２５８２１９では光を反射する面に
凹凸が形成された反射層を基板の一面に配置し，反射層
における凹凸に対する接線の傾斜角が２゜未満である領
域の面積と基板の面積に対する比率が２０％以上６０％
以下になるようにした反射型液晶表示装置を開示してい
る。
【００１３】しかし，上記文献に記載された反射型液晶
表示装置は，拡散板を有する反射型液晶表示装置に比べ
て光の利用効率面では長所を有する反面，実質的に隆起
（または凸部または凸凹）部位を形成することにおい
て，感光性樹脂を所定のパターンで露光，現像，熱処理
する多数の工程を経ることによって複雑な製造工程によ
る製造原価の上昇及び製造不良率を高める負担を招くと
いう問題点があった。
表示装置は，拡散板を有する反射型液晶表示装置に比べ
て光の利用効率面では長所を有する反面，実質的に隆起
（または凸部または凸凹）部位を形成することにおい
て，感光性樹脂を所定のパターンで露光，現像，熱処理
する多数の工程を経ることによって複雑な製造工程によ
る製造原価の上昇及び製造不良率を高める負担を招くと
いう問題点があった。
【００１４】本発明は，従来の液晶表示装置が有する上
記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的
は，光利用の効率を落とさずに製造工程の単純化による
製造原価の低減をもたらすことの可能な，新規かつ改良
された液晶表示装置を提供することである。
記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的
は，光利用の効率を落とさずに製造工程の単純化による
製造原価の低減をもたらすことの可能な，新規かつ改良
された液晶表示装置を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め，本発明の第１の観点によれば，第１基板と，前記第
１基板上に形成される第１電極と，前記第１基板と平行
するように配置される第２基板と，表面に微細凹凸を形
成して前記第２基板の一面に形成されるベース層と，前
記ベース層上に形成される反射層と，前記第２基板上に
形成される第２電極と，前記第１電極と反射層との間に
配置される液晶層と，を含み，前記ベース層が，樹脂
層，及び，前記樹脂層に分散されたビードを含むことを
特徴とする，液晶表示装置が提供される。
め，本発明の第１の観点によれば，第１基板と，前記第
１基板上に形成される第１電極と，前記第１基板と平行
するように配置される第２基板と，表面に微細凹凸を形
成して前記第２基板の一面に形成されるベース層と，前
記ベース層上に形成される反射層と，前記第２基板上に
形成される第２電極と，前記第１電極と反射層との間に
配置される液晶層と，を含み，前記ベース層が，樹脂
層，及び，前記樹脂層に分散されたビードを含むことを
特徴とする，液晶表示装置が提供される。
【００１６】前記樹脂層は，シリカ質マトリックス溶
液，及び，熱硬化架橋型アクリレート系ポリマー溶液を
含む組成物からなるようにしてもよい。また，前記ビー
ドは，シリカからなるようにしてもよい。また，前記第
１，第２基板のいずれか一側にカラーフィルタ層が配置
されるようにしてもよい。また，前記第１，第２電極は
透明であるようにしてもよい。また，前記反射層上に平
坦化層が配置形成されるようにしてもよい。また，前記
第１基板の上に位相差フィルムが配置形成されるように
してもよい。また，前記第２基板上にスイッチング素子
として作用する薄膜トランジスタが提供されるようにし
てもよい。
液，及び，熱硬化架橋型アクリレート系ポリマー溶液を
含む組成物からなるようにしてもよい。また，前記ビー
ドは，シリカからなるようにしてもよい。また，前記第
１，第２基板のいずれか一側にカラーフィルタ層が配置
されるようにしてもよい。また，前記第１，第２電極は
透明であるようにしてもよい。また，前記反射層上に平
坦化層が配置形成されるようにしてもよい。また，前記
第１基板の上に位相差フィルムが配置形成されるように
してもよい。また，前記第２基板上にスイッチング素子
として作用する薄膜トランジスタが提供されるようにし
てもよい。
【００１７】また，上記課題を解決するため，本発明の
第２の観点によれば，樹脂に表面凹凸を形成するための
ビード形成物質を混合してベース層組成物を形成する段
階と，前記ベース層組成物を液晶表示装置用基板の上に
塗布してベース層を形成する段階と，前記ベース層を熱
処理する段階と，前記ベース層上に反射層を形成する段
階と，を含むことを特徴とする，液晶表示装置の製造方
法が提供される。
第２の観点によれば，樹脂に表面凹凸を形成するための
ビード形成物質を混合してベース層組成物を形成する段
階と，前記ベース層組成物を液晶表示装置用基板の上に
塗布してベース層を形成する段階と，前記ベース層を熱
処理する段階と，前記ベース層上に反射層を形成する段
階と，を含むことを特徴とする，液晶表示装置の製造方
法が提供される。
【００１８】前記ベース層組成物は，シリカ分散液と，
シリカ質マトリックス溶液と，熱硬化架橋型アクリレー
ト系ポリマー溶液と，を含むようにしてもよい。また，
前記ベース層組成物の塗布をスピンコーティング法で行
うようにしてもよい。
シリカ質マトリックス溶液と，熱硬化架橋型アクリレー
ト系ポリマー溶液と，を含むようにしてもよい。また，
前記ベース層組成物の塗布をスピンコーティング法で行
うようにしてもよい。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら，
本発明にかかる液晶表示装置の好適な実施の形態につい
て詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，
実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，
同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
本発明にかかる液晶表示装置の好適な実施の形態につい
て詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，
実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，
同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２０】図１は，本実施の形態にかかる液晶表示装
置を示した断面図である。図１に示された液晶表示装置
はバックライトのような別途の光源を有さずに自然光な
どの外部光を用いて画像表示をする反射型液晶表示装置
で構成されている。
置を示した断面図である。図１に示された液晶表示装置
はバックライトのような別途の光源を有さずに自然光な
どの外部光を用いて画像表示をする反射型液晶表示装置
で構成されている。
【００２１】その構成を説明すると，まず液晶表示装置
にはガラスなどの材質を使用した一対の基板３０，３２
が提供されるが，これらの基板は所定の間隔をおいて平
行するように配置される第１基板３０，第２基板３２に
区分される。
にはガラスなどの材質を使用した一対の基板３０，３２
が提供されるが，これらの基板は所定の間隔をおいて平
行するように配置される第１基板３０，第２基板３２に
区分される。
【００２２】外部光が入射される第１基板３０の一面に
はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）のような
透明な材質の第１電極３４が所定のパターンで形成さ
れ，この第１基板３０と対向する第２基板３２の一面に
は入射光を散乱及び拡散して反射するようにする反射手
段が提供される。
はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）のような
透明な材質の第１電極３４が所定のパターンで形成さ
れ，この第１基板３０と対向する第２基板３２の一面に
は入射光を散乱及び拡散して反射するようにする反射手
段が提供される。
【００２３】ここで反射手段は，表面の凹凸で第２基板
３２の一面に形成されるベース層３６とこのベース層３
６の上に形成される反射層３８を含んでなる。以下に，
かかる構成を具体的に説明する。
３２の一面に形成されるベース層３６とこのベース層３
６の上に形成される反射層３８を含んでなる。以下に，
かかる構成を具体的に説明する。
【００２４】反射層３８の上には平坦化層４０が形成さ
れ，この平坦化層４０の上には所定のパターンを維持す
る，たとえば，第１電極３４と直交状態で配置される第
２電極４２が形成される。本実施の形態の場合，第２電
極４２もＩＴＯのような透明な電極で形成される。
れ，この平坦化層４０の上には所定のパターンを維持す
る，たとえば，第１電極３４と直交状態で配置される第
２電極４２が形成される。本実施の形態の場合，第２電
極４２もＩＴＯのような透明な電極で形成される。
【００２５】同時に，電極３４，４２の上には配向膜４
４，４６が形成され，これら配向膜４４，４６の間には
液晶層４８が配置される。ここでこの液晶層４８はＴＮ
モードをはじめとしてＳＴＮモードなどある一つの種類
に限定されずに液晶表示装置の仕様によって多様に形成
することができる。図面の液晶表示装置は液晶層４８が
ＳＴＮモードで形成される場合であって，この時には，
第１基板３０の外面に形成される偏光板５０と第１基板
３０の間に位相差フィルム５２が配置される。
４，４６が形成され，これら配向膜４４，４６の間には
液晶層４８が配置される。ここでこの液晶層４８はＴＮ
モードをはじめとしてＳＴＮモードなどある一つの種類
に限定されずに液晶表示装置の仕様によって多様に形成
することができる。図面の液晶表示装置は液晶層４８が
ＳＴＮモードで形成される場合であって，この時には，
第１基板３０の外面に形成される偏光板５０と第１基板
３０の間に位相差フィルム５２が配置される。
【００２６】一方，ベース層３６と反射層３８は，液晶
表示装置が反射型からなる構造の特徴を補完するため
に，従来のように拡散板を別途に備えるのでなく，反射
層３８自体で光を散乱及び拡散することができるように
するために形成される。
表示装置が反射型からなる構造の特徴を補完するため
に，従来のように拡散板を別途に備えるのでなく，反射
層３８自体で光を散乱及び拡散することができるように
するために形成される。
【００２７】ここで反射層３８の機能は，ベース層３６
の表面に凹凸部位が形成され，この凹凸が形成されたベ
ース層３６の表面に沿って反射層３８が塗布形成される
ことによって可能になる。
の表面に凹凸部位が形成され，この凹凸が形成されたベ
ース層３６の表面に沿って反射層３８が塗布形成される
ことによって可能になる。
【００２８】つまり，第１基板３０から入射されて液晶
層４８を過ぎて第２基板３２側に投射される外部光は，
反射層３８で反射されて再び第１基板３０に戻る時，凹
凸部位に対応する反射層３８部位にぶつかって散乱及び
拡散するようになる。このような反射層３８からの光散
乱及び拡散作用は，別途の拡散板を使わずに従来の反射
型液晶表示装置で発生した問題点（正反射方向にだけ反
射率が高くなることなど）を解消するのに効果を発揮す
るようになる。
層４８を過ぎて第２基板３２側に投射される外部光は，
反射層３８で反射されて再び第１基板３０に戻る時，凹
凸部位に対応する反射層３８部位にぶつかって散乱及び
拡散するようになる。このような反射層３８からの光散
乱及び拡散作用は，別途の拡散板を使わずに従来の反射
型液晶表示装置で発生した問題点（正反射方向にだけ反
射率が高くなることなど）を解消するのに効果を発揮す
るようになる。
【００２９】本実施の形態でベース層３６に表面凹凸を
形成するには，このベース層３８を構成する時，その組
成物にビード（ｂｅａｄ）を形成する物質を添加するこ
とによる。つまり，ベース層３６は樹脂層３６ａをなす
樹脂物にビード３６ｂを形成する物質が添加されて形成
された組成物からなる。
形成するには，このベース層３８を構成する時，その組
成物にビード（ｂｅａｄ）を形成する物質を添加するこ
とによる。つまり，ベース層３６は樹脂層３６ａをなす
樹脂物にビード３６ｂを形成する物質が添加されて形成
された組成物からなる。
【００３０】これを具体的に本実施の形態では，樹脂層
３６ａをなすシリカ質マトリックス溶液と熱硬化架橋型
アクリレート系ポリマー溶液にビード３６ｂを形成する
シリカ分散液を分散させて形成するが，この時，各組成
比はシリカ分散液５０〜７０重量％，シリカ質マトリッ
クス溶液１５〜３０重量％，熱硬化架橋型アクリレート
系ポリマー溶液１５〜３０重量％からなるようにするの
が好ましい。
３６ａをなすシリカ質マトリックス溶液と熱硬化架橋型
アクリレート系ポリマー溶液にビード３６ｂを形成する
シリカ分散液を分散させて形成するが，この時，各組成
比はシリカ分散液５０〜７０重量％，シリカ質マトリッ
クス溶液１５〜３０重量％，熱硬化架橋型アクリレート
系ポリマー溶液１５〜３０重量％からなるようにするの
が好ましい。
【００３１】シリカ質マトリックス溶液は，シロキサン
系ポリマーバインダー溶液及び溶媒を含んでなり，熱硬
化架橋型アクリレート系ポリマー溶液はアクリレート系
ポリマー，熱硬化剤，架橋剤，溶媒を含んでなるのが好
ましい。
系ポリマーバインダー溶液及び溶媒を含んでなり，熱硬
化架橋型アクリレート系ポリマー溶液はアクリレート系
ポリマー，熱硬化剤，架橋剤，溶媒を含んでなるのが好
ましい。
【００３２】また，シリカ分散液は，微細シリカ，シリ
カ分散剤及び溶媒が混合されてなるのが好ましい。
カ分散剤及び溶媒が混合されてなるのが好ましい。
【００３３】これに上述のようにしてなるベース層組成
物は，液晶表示装置の製造工程の時，図２に示すよう
に，第２基板３２の一面に塗布され，以後，熱処理工程
を経てベース層３６を形成するようになる。
物は，液晶表示装置の製造工程の時，図２に示すよう
に，第２基板３２の一面に塗布され，以後，熱処理工程
を経てベース層３６を形成するようになる。
【００３４】ベース層組成物の塗布方法は，膜形成の正
確度が優れているスピンコーティングが好ましく，熱処
理工程は，８０℃〜１２０℃の温度で１〜５分間加熱
し，以後２００℃〜２５０℃の温度で３０分〜１時間加
熱する２段階の工程を経てなる。
確度が優れているスピンコーティングが好ましく，熱処
理工程は，８０℃〜１２０℃の温度で１〜５分間加熱
し，以後２００℃〜２５０℃の温度で３０分〜１時間加
熱する２段階の工程を経てなる。
【００３５】このような段階を経てベース層３６が第２
基板の３２上に形成されれば，このベース層３６は樹脂
層３６ａにシリカからなるビード３６ｂが存在する結果
としてその表面に微細隆起を多数形成することができ
る。つまり，ベース層３６の表面にはビード３６ｂによ
る凹凸を形成するようになる。
基板の３２上に形成されれば，このベース層３６は樹脂
層３６ａにシリカからなるビード３６ｂが存在する結果
としてその表面に微細隆起を多数形成することができ
る。つまり，ベース層３６の表面にはビード３６ｂによ
る凹凸を形成するようになる。
【００３６】図３に示したように，このようなベース層
３６の上に反射層３８はスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）の
ような方法を通じてベース層３６の表面形状に沿って所
定の厚みを有して形成される。
３６の上に反射層３８はスパッタ（ｓｐｕｔｔｅｒ）の
ような方法を通じてベース層３６の表面形状に沿って所
定の厚みを有して形成される。
【００３７】これに上述のように形成される液晶表示装
置は，その作用時に第１基板３０の外部から周辺外部光
が入射され，第１，第２電極３４，４２で所定の電圧が
印加されれば，外部光が液晶層４８の作用によって選択
的に第２基板３２側に入射して反射層３８に反射された
後，第１基板３４に戻って所定の画像や文字などを表示
するようになる。
置は，その作用時に第１基板３０の外部から周辺外部光
が入射され，第１，第２電極３４，４２で所定の電圧が
印加されれば，外部光が液晶層４８の作用によって選択
的に第２基板３２側に入射して反射層３８に反射された
後，第１基板３４に戻って所定の画像や文字などを表示
するようになる。
【００３８】このような液晶表示装置の作用時，外部光
が反射層３８で反射されて反射光に転換される時，この
反射光はビード３６ｂに対応する反射層３８部位，言い
換えると，隆起した部位にぶつかり反射するようにな
る。
が反射層３８で反射されて反射光に転換される時，この
反射光はビード３６ｂに対応する反射層３８部位，言い
換えると，隆起した部位にぶつかり反射するようにな
る。
【００３９】従って，反射層３８で反射された光は散乱
及び拡散しながら第１基板３０側に進むことができる
が，このような光は第１基板３０側で表示画像を観察す
る使用者がより幅広い方向で表示画像を観察することが
できるようにするのに効果を発揮する。
及び拡散しながら第１基板３０側に進むことができる
が，このような光は第１基板３０側で表示画像を観察す
る使用者がより幅広い方向で表示画像を観察することが
できるようにするのに効果を発揮する。
【００４０】このように本発明による液晶表示装置は，
反射型の構造で画像表示をすることができるように構成
されて反射光が散乱及び拡散するようにする部位を反射
層部位に適用して従来のように拡散板を適用して反射光
を散乱及び拡散するようにすることにともなう問題点を
解消する。
反射型の構造で画像表示をすることができるように構成
されて反射光が散乱及び拡散するようにする部位を反射
層部位に適用して従来のように拡散板を適用して反射光
を散乱及び拡散するようにすることにともなう問題点を
解消する。
【００４１】また，反射層部位に凹凸を形成して反射光
を散乱及び拡散する構造も，従来のように感光性樹脂を
パターニングしないので，ビード形成物質と樹脂物で構
成されたベース層組成物を塗布してなすことによって簡
単な工程で液晶表示装置を製造することができるように
する。
を散乱及び拡散する構造も，従来のように感光性樹脂を
パターニングしないので，ビード形成物質と樹脂物で構
成されたベース層組成物を塗布してなすことによって簡
単な工程で液晶表示装置を製造することができるように
する。
【００４２】次に，本発明の他の実施の形態について説
明する。上記実施の形態は液晶表示装置の構成がモノタ
イプからなる場合を説明したが，本発明はカラータイプ
でも構成できる。
明する。上記実施の形態は液晶表示装置の構成がモノタ
イプからなる場合を説明したが，本発明はカラータイプ
でも構成できる。
【００４３】つまり，液晶表示装置は，図４及び図５に
示すように，カラーフィルタ層５４を第１，第２基板３
０，３２のいずれか一側に配置して具現画像がカラーフ
ィルタ層５４によってカラー化するようにする。図４は
カラーフィルタ層５４が第１基板３０側に第１基板３０
と第１電極３４の間に配置される場合を，図５はカラー
フィルタ層５４が第２基板３２側に反射層３８と第２電
極４２の間に配置される場合を図示している。
示すように，カラーフィルタ層５４を第１，第２基板３
０，３２のいずれか一側に配置して具現画像がカラーフ
ィルタ層５４によってカラー化するようにする。図４は
カラーフィルタ層５４が第１基板３０側に第１基板３０
と第１電極３４の間に配置される場合を，図５はカラー
フィルタ層５４が第２基板３２側に反射層３８と第２電
極４２の間に配置される場合を図示している。
【００４４】また，本発明は液晶表示装置の構成におい
て，上述したように，ＴＮ，ＳＴＮモードだけでなく，
図６に示したように，スイッチング素子として第２基板
３２側に提供される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）５６を
使用したＴＦＴモード液晶表示装置も可能である。さら
に，本発明は図面には図示していないが，ＭＩＭ（Ｍｅ
ｔａｌ Ｉ−ｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）モード液
晶表示装置としても適用できる。
て，上述したように，ＴＮ，ＳＴＮモードだけでなく，
図６に示したように，スイッチング素子として第２基板
３２側に提供される薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）５６を
使用したＴＦＴモード液晶表示装置も可能である。さら
に，本発明は図面には図示していないが，ＭＩＭ（Ｍｅ
ｔａｌ Ｉ−ｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）モード液
晶表示装置としても適用できる。
【００４５】同時に，本発明は反射層３８を構成するこ
とにおいて，その厚みを調節したり一定の部分を除去し
てその特性が反透過性を有するようにすることによっ
て，液晶表示装置の全体的な構成が反透過型からなるよ
うにすることもできる。そして，ベース層３６の樹脂層
３６ａは上述の例の他にＰＩ（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）系
樹脂でもよく，ビード３６ｂはプラスチック樹脂及び感
光性，非感光性樹脂でもよい。
とにおいて，その厚みを調節したり一定の部分を除去し
てその特性が反透過性を有するようにすることによっ
て，液晶表示装置の全体的な構成が反透過型からなるよ
うにすることもできる。そして，ベース層３６の樹脂層
３６ａは上述の例の他にＰＩ（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）系
樹脂でもよく，ビード３６ｂはプラスチック樹脂及び感
光性，非感光性樹脂でもよい。
【００４６】以上，添付図面を参照しながら本発明にか
かる液晶表示装置の好適な実施形態について説明した
が，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
かる液晶表示装置の好適な実施形態について説明した
が，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれ
ば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内に
おいて各種の変更例または修正例に想到し得ることは明
らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範
囲に属するものと了解される。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように，本発明の液晶表示
装置によれば，反射型液晶表示装置に拡散板を有さずに
反射光を散乱及び拡散できるので，液晶表示装置に拡散
板が具備される場合に起こっていたコントラストの低下
及び輝度の減少などを防止して製品の品位向上に効果を
有する。
装置によれば，反射型液晶表示装置に拡散板を有さずに
反射光を散乱及び拡散できるので，液晶表示装置に拡散
板が具備される場合に起こっていたコントラストの低下
及び輝度の減少などを防止して製品の品位向上に効果を
有する。
【００４８】また，機能を遂行することができるように
する反射層部位の凹凸形成も簡単な工程を通じてできる
ので，感光性樹脂を利用した従来のパターンの形成方法
に比べて工程数が少なくなり，製造単価の節減にも効果
を有する。
する反射層部位の凹凸形成も簡単な工程を通じてできる
ので，感光性樹脂を利用した従来のパターンの形成方法
に比べて工程数が少なくなり，製造単価の節減にも効果
を有する。
【図１】本発明の一実施形態にかかる液晶表示装置の断
面図である。
面図である。
【図２】ベース層と反射層の製造段階を説明するために
示した断面図である。
示した断面図である。
【図３】ベース層と反射層の製造段階を説明するために
示した断面図である。
示した断面図である。
【図４】本発明がカラーモードで形成される場合を示し
た断面図である。
た断面図である。
【図５】本発明がカラーモードで形成される場合を示し
た断面図である。
た断面図である。
【図６】本発明が薄膜トランジスタモードで形成される
場合を示した断面図である。
場合を示した断面図である。
【図７】従来の反射型液晶表示装置の一例を示した断面
図である。
図である。
３０ 第１基板 ３２ 第２基板 ３４ 第１電極 ３６ ベース層 ３６ａ 樹脂層 ３６ｂ ビード ３８ 反射層 ４０ 平坦化層 ４２ 第２電極 ４４，４６ 配向膜 ４８ 液晶層 ５４ カラーフィルタ層 ５６ 薄膜トランジスタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｄ
Claims (11)
- 【請求項１】 第１基板と，前記第１基板上に形成され
る第１電極と，前記第１基板と平行するように配置され
る第２基板と，表面に微細凹凸を形成して前記第２基板
の一面に形成されるベース層と，前記ベース層上に形成
される反射層と，前記第２基板上に形成される第２電極
と，前記第１電極と反射層との間に配置される液晶層
と，を含み，前記ベース層が，樹脂層，及び，前記樹脂
層に分散されたビードを含むことを特徴とする，液晶表
示装置。 - 【請求項２】 前記樹脂層は，シリカ質マトリックス溶
液，及び，熱硬化架橋型アクリレート系ポリマー溶液を
含む組成物からなることを特徴とする，請求項１に記載
の液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記ビードは，シリカからなることを特
徴とする，請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記第１，第２基板のいずれか一側にカ
ラーフィルタ層が配置されることを特徴とする，請求項
１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 前記第１，第２電極は透明であることを
特徴とする，請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記反射層上に平坦化層が配置形成され
ることを特徴とする，請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】 前記第１基板の上に位相差フィルムが配
置形成されることを特徴とする，請求項１に記載の液晶
表示装置。 - 【請求項８】 前記第２基板上にスイッチング素子とし
て作用する薄膜トランジスタが提供されることを特徴と
する，請求項１に記載の液晶表示装置。 - 【請求項９】 樹脂に表面凹凸を形成するためのビード
形成物質を混合してベース層組成物を形成する段階と，
前記ベース層組成物を液晶表示装置用基板の上に塗布し
てベース層を形成する段階と，前記ベース層を熱処理す
る段階と，前記ベース層上に反射層を形成する段階と，
を含むことを特徴とする，液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１０】 前記ベース層組成物は，シリカ分散液
と，シリカ質マトリックス溶液と，熱硬化架橋型アクリ
レート系ポリマー溶液と，を含むことを特徴とする，請
求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 【請求項１１】 前記ベース層組成物の塗布をスピンコ
ーティング法で行うことを特徴とする，請求項９に記載
の液晶表示装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1999P52241 | 1999-11-23 | ||
| KR1019990052241A KR100312697B1 (ko) | 1999-11-23 | 1999-11-23 | 액정 표시 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001174795A true JP2001174795A (ja) | 2001-06-29 |
Family
ID=19621449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000314843A Pending JP2001174795A (ja) | 1999-11-23 | 2000-10-16 | 液晶表示装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001174795A (ja) |
| KR (1) | KR100312697B1 (ja) |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04308816A (ja) * | 1991-04-05 | 1992-10-30 | Sharp Corp | 反射型液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPH063813A (ja) * | 1992-06-17 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | パターン形成用導電性組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
| JPH0653650A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Toray Ind Inc | 多層配線構成体 |
| JPH08271884A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-18 | Hitachi Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JPH1164613A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-05 | Mitsui Chem Inc | 直下型バックライト用反射体 |
| JPH11142630A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Nitto Denko Corp | プリズム式反射板 |
| JPH11288008A (ja) * | 1998-04-01 | 1999-10-19 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3092035B2 (ja) * | 1993-10-13 | 2000-09-25 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子およびその反射板の製造法 |
| KR100268006B1 (ko) * | 1997-05-22 | 2000-10-16 | 구본준 | 액정표시소자용반사판의제조방법 |
| JPH1195204A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
| JP3740805B2 (ja) * | 1997-10-14 | 2006-02-01 | ソニー株式会社 | 反射型液晶表示素子 |
-
1999
- 1999-11-23 KR KR1019990052241A patent/KR100312697B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-10-16 JP JP2000314843A patent/JP2001174795A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04308816A (ja) * | 1991-04-05 | 1992-10-30 | Sharp Corp | 反射型液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPH0653650A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Toray Ind Inc | 多層配線構成体 |
| JPH063813A (ja) * | 1992-06-17 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | パターン形成用導電性組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
| JPH08271884A (ja) * | 1995-04-04 | 1996-10-18 | Hitachi Ltd | 反射型液晶表示装置 |
| JPH1164613A (ja) * | 1997-08-26 | 1999-03-05 | Mitsui Chem Inc | 直下型バックライト用反射体 |
| JPH11142630A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Nitto Denko Corp | プリズム式反射板 |
| JPH11288008A (ja) * | 1998-04-01 | 1999-10-19 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100312697B1 (ko) | 2001-11-05 |
| KR20010047853A (ko) | 2001-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5917567A (en) | Method of manufacturing a reflector comprising steps forming beads and polymer layer separately | |
| JP4223094B2 (ja) | 電気光学表示装置 | |
| TWI352853B (en) | Transflective liquid crystal display device | |
| JP2004085986A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2001272674A (ja) | 液晶表示装置 | |
| US6181397B1 (en) | Reflection-type liquid crystal display panel and method of fabricating the same | |
| JP3167716B2 (ja) | 電気光学装置 | |
| JPH11281972A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
| JPH04267220A (ja) | 電気光学装置及びその製造方法 | |
| JPH11295731A (ja) | 液晶表示装置 | |
| WO2019114249A1 (en) | Array substrate, method of driving array substrate, method of fabricating array substrate, and display panel | |
| JP3199677B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
| KR100312696B1 (ko) | 반사형 액정 표시 장치 | |
| JP2001174795A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2002090512A (ja) | 反射板及びその反射板を備えた反射型液晶表示素子 | |
| JP2001242445A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP3063764B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
| JP2002328211A (ja) | 反射板及びその製造方法、並びにそれを用いた表示装置 | |
| JP2000162583A (ja) | 液晶表示装置及び反射型液晶表示装置 | |
| JP4032569B2 (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
| JP3238384B2 (ja) | 電気光学装置およびその製造方法 | |
| JP2007041430A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP4865142B2 (ja) | 液晶表示素子及びその製造方法 | |
| JP3895059B2 (ja) | 反射型液晶表示装置、およびその製造方法 | |
| JP3141885B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070831 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20081209 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100713 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100720 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101214 |