TW318932B - - Google Patents
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Description
經濟部中央標準局負工消費合作社印製 318932 A7 _B7__五、發明説明(1 ) <發明領域> 本發明係有關於動態型RAM (隨機存取記憶體)、 半導體記憶裝置及半導體積體電路裝置,特別是有關於利 用在對於動態型記憶體之記億體存取技術上非常有效之技 術者。 <先前之技術> 已知的有分別利用內藏之充電泵電路之電壓發生電路 ,形成供給基板之後背偏壓電壓及字線被昇壓之選擇'電壓 的動態型RAM。像這樣的動態型RAM之例,在日本特 開平3 — 2 1 4 6 9 9號公報上就有記述。另外在特開平 5 — 2 9 1 5 3 4號公報中,記載有基板電壓爲0V,資 料線之高位準爲2V,資料線之低位準爲IV,字線之選 擇位準爲3 V之動態型RAM。 <發明所欲解決之課題> 動態型記憶體單元,係由地址選擇用MOS F ET岌 賫訊記憶用電容器所構成,而以上述電容器中是否有電荷 存在,來進行資訊記憶動作者。爲了使這種電荷形態之資 訊保持時間維持較長,必需要對地址選擇用MO S F ET 所形成之基板閘(通道部份〉,供給負的後偏壓電壓,使 其實效之臨界値電壓變高。 在構成進行上述動態型記憶體單元之地址選擇動作之 周邊電路或感測放大器、主放大器這樣的放大電路之 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)_ 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 318932 A7 B7 ____ 五、發明説明(2 ) MOS FET中,當將負的後偏壓電壓供給至基板閘極時 ,臨界値電壓也會變大,在ON狀態之電感會變小,而使 動作速度變小。於是,就有人提出只對形成有動態型記憶 體單元之記憶體陣列部,供給像上述這樣的後偏壓電壓之 方式。但是,因爲必需要分離上述記憶體陣列部所形成之 阱領域及上述周邊電路所形成之阱領域,因此使得製造過 程變複雜。 對於上述動態型記億體單元之高位準的寫入動作,由 於係介由地址選用M O S F E T,而對資訊記億電容器進 行充電,所以充電位準會降低地址選用MOS F ΕΤ之臨 界値電壓大小之電壓,而使資訊電荷變少。爲了防止像這 樣的位準降低,上述地址選用MO S F ΕΤ之閘所連接之 字線之選擇位準,被作成對傳到位元線之高位準,上昇臨 界値電壓之電壓。如此,在習知之動態型RAM,字線選 擇動作之昇電壓成爲必需的,而要形成上述基板後偏壓電 壓,也要分別使用各充電泵電路,而造成佔有面稹之擴大 及消費電流之增加。 ~ 本發明之目的,係爲了提供製造過程簡單、並能實現 高積集化及高速動作化之動態型R AM。本發明之其它的 目的,係提供利用簡單之製造過程,實現含有動態型 RAM之高集積化及髙速動作化之半導體稹體電路裝S。 本發明之上述及其它的目的及新穎之特徴,係可以從本說 明之內容及圖面明了。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4规格(2丨0 X 297公釐)_ 5 ----------^------ΐτ------^ (請先閲讀背面之注意事項再4寫本貫) 經濟部中央標準局男工消費合作社印製 318932 A7 ___B7 五、發明説明(3 ) <解決問題之手段> 本案所掲示之發明之中的代表性者,簡單說明如下。 即,主要係對於電源電壓,形成具有與動態型記憶體單元 之地址選用MO S F E T之臨界値電壓大略相同之差的第 1內部電壓,將其作爲高位準側之動作電壓而供給至讀出 放大器。對於電路之接地電壓,形成具有一定的差之第2 內部電壓,作爲讀出放大器之低位準側之動作電壓而予以 供給。對應第1內部電壓之高位準及對應第2內部電壓之 低位準之寫入信號,於寫入放大器形成,傅送至動態型記 憶體單元所連接之互補資料線。對於動態型記億體單元所 連接之字線,以電源電壓的高位準作爲選擇位準,而以電 路之接地電位這樣的低位準作爲非選擇位準而予以供給。 本發明之其它的代表概要例,簡單說明如下主要係對 於電源電壓,形成具有與動態型記憶體單元之地址選用 Μ 0 S F E T之臨界値電壓大略相同之差的第1內部電壓 ,將其作爲高位準側之動作電壓而供給至讀出放大器。對 於電路之接地電壓,形成具有一定的差之第2內部電壓&, 作爲讀出放大器之低位準側之動作電壓而予以供給。對應 第1內部電壓之高位準及對應第2內部電壓之低位準之寫 入信號,於寫入放大器形成,傅送至動態型記憶體單元所 連接之互補資料線。對於動態型記憶體單元所連接之字線 ,以電源電壓的高位準作爲選擇位準,而以電路之接地« 位這樣的低位準作爲非選擇位準而予以供給:而構成之動 態型RAM,及像這樣的動態型RAM被形成之同樣的半 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨Ο X 297公釐) — ——— — — — — 束 1^—— I 訂 I I I II I 線 (請先閲讀背面之注意1f項再媒寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7五、發明説明(4 ) 導镫基板上至少包含有記憶體控制電路之其他電路。 <實施例> 圚1係表示說明本發明之動態型RAM之重要部位概 略電路圊。在該圖中表示有,一對互補位元線B L、 /B L,及字線WL,及形成上述字線WL之選擇信號之 字驅動器WD,及在上述一方之互補位元線B L與字線W L之交點所設之動態型記憶體單元MC,及上述互補位元 線(互補資料線對)BL、/BL所設之檢測放大器SA ,及形成相關之檢測放大器S A之動作電壓之第1電壓發 生電路VSGG,及第2電壓發生電路VDLG。 上述字驅動器WD,係將電源锾壓(第2電壓) VCC及電路之接地電位(第1電壓)VSS作爲動作電 壓,接受未圖示之解碼器输出,形成像電源電壓VCC這 樣的選擇位準或像電路之接地電位V S S這樣的非選擇位 準,傳送到上述字線。相對於此,讀出放大器S A之動作 電壓,並不是像上述這樣的電源電壓VCC及VSS 係使用對於電源電壓VCC,下降相當於構成上述動態型 記憶體單元之地址選擇用MO S F E TQm之臨界値電壓 之電壓V D L,及使用對於電路之接地電位,雖沒有特別 限制但是提高相當於上述MO S F E TQm之臨界値氰應 之電壓V S G。 第1電壓發生電路V S GG,接受從半導镫晶片的外 部所給予之接地電位(第1電壓)VSS及從半導髏晶片 -----------^------、玎------0 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4规格(210乂297公釐)_ 經濟部中央標準局貞工消費合作社印装 318932 A7 _B7_______ 五、發明説明(5 ) 的外部所給予的電源電壓(第2電壓)VCC,而形成內 部電壓(第3電壓)VSG,將上述內部竜壓(第 )VSG,输出到第1共通源線(第1電壓配線)CSN 上。 第2電壓發生電路VDLG,接受從半導體晶片的外 部所給予之接地電位(第1電壓)VSS及從半導體晶片 的外部給予之電源電壓(第2電壓)VCC,形成內部電 壓(第4電壓),VDL,將上述內部電壓(第4電位) VDL输出到第2共通源線(第2電壓配線)CSP° 圖2係表示說明本發明之動態型R AM之動作波形圇 。在該圇中,採取動作波形之形態,但是,實質上係表示 以字驅動器爲代表之周邊電路之動作電壓,及讀出放大器 S A之動作電壓之電位關係。雖然並沒有特別地限制,但 是,上述周邊電路之動作電壓VCC,被作成3 . 3V之 電壓。相對於此,讀出放大器SA之高位準側之動作電壓 VDL,係被作成比上述電源電壓VCC ( 3 . 3V)低 對應地址選擇用MOS F ETQm之臨界値電壓而設定之 0 . 65V之2 . 6 5V。電路之接地電位VSS爲0V ,上述讀出放大器S A之低位準側之動作鬣壓V S G,係 被作成比上述電路之接地電位VS S ( 0 V )只高 0.65V 之 0.65V。 藉由上述之電壓設定,對於字線WL之非選擇位準( = 0V〉及選擇位準(=3 _ 3V),由讀出放大器SA 之擴大動作所產生之給予互補位元線B L及/B L放大信 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ a _ 訂 線 (請先聞讀背面之注意事項再硪寫本页) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 __B7 五、發明説明(6 ) 號之高位準,係成對應上述電壓VDL之2 · 65V,給 予互補位元線B L及/B L之低位準,係成爲對應上述電 壓VSG之0 . 6 5V。所以,在互補位元線Bl及 /B L之間,藉由讀出放大器SA之擴大動作,而成爲具 有2 V之電壓差。即,本發明之動態型RAM,即使是被 上述之3 . 3V的電源電壓(VCC)所動作,在互補位 元線B L及/B L間之竃壓,係如上述這樣,高位準及低 位準分別具有〇 . 6 5V之偏移(offset),被限制於上 述這樣的2V之信號振幅。 圇3係表示說明上述動態型記憶體單元之各電極的電 位關係之電路圚。地址選擇用MOS F ETQm之閘極, 係連接於字線WL °連接於該字線WL之閘極電壓,係成 爲對應於選擇位準之3.3V及對應非選擇位準之0V。 相對於此,在地址選擇用MO S F ETQm的一對的源極 夂漏極之中,連接於位元線B L之一方的源極、漏極之電 位,係成爲對應於電壓VSG之0 . 65V之低位準,及 對應電壓VDL之2 . 6 5V之高位準。上述之地址選釋 用MOSFETQm,係與周邊電路之N頻道型 MOSFET相同,使用如上述0 . 6 5V這樣的被低臨 界値電壓化者。藉此,可使控制構成記憶單元之地址選擇 用MOS FETQm及周邊電路N通道型MOS FET之 通道領域之不純物濃度之離子打入工程共通化。 上述地址選擇用MO S F ETQm之另一方的源極、 漏極,係連接於資訊記憶用電容器C s之蓄稹節點S N, 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) - fΐτ.^. (請先閲讀背面之注意事項再蜞寫本頁) 經濟部中央梯準局員工消費合作杜印製 A7 _ B7 五、發明説明(7 ) 該蓄稹節點S N之電位,是位元線B L所寫入之電壓 VSG所對應之0 . 6 5V之低位準,或電壓VDL所對 應之2.65V之高位準之中的1個。上述電容器Cs之 另一方的電極,係與其它的電容器C s被共通化,被施加 屛極電壓V P L。該屛極電壓VP L,雖然沒有特別限制 ,但是,係作成如後述之預充電電壓所對應之1 . 6 5 V 之中點電壓。 上述地址選用MOS FETQm之字線WL所連接之 閘極,及另一方之源極、漏極(蓄稹節點SN側)之電壓 VG S,以字線WL爲Ο V之非選擇位準,在蓄積節點 SN維持在低位準(0 . 6 5V)之狀態時,被施加 —0 . 6 5V之逆偏壓電壓。而上述地址選擇用 MOS FETQm之字線WL所連接之閘極,及一方之源 極、漏極(位元線BL側)之電壓VGS,也被施加相同 之逆偏壓電壓。因此,在地址選用MOS FETQm之基 板閘極(通道),可以成爲電路之接地電位VSS( =0 V ),而不是如習知這樣的成爲負的反偏壓。而且^ 字線的非選擇位準,係如上所述,對於地址選擇用 MOS FETQm之源極電位,沒有偏移,所以藉由選擇 字線間之容量耦合即使對於非選擇字線的浮起,也可以防 止連接於該非選擇字線之地址選用MO S F E TQm之漏 電流之增大,其結果,使資訊記億用電容器C s之資訊保 持時間變長。 像這樣將電路的接地電位VSS (GND)施加於地 本紙張尺度適用中國囷家標準(〇奶)八4規格(210父297公釐)· 1〇 . . 嚷 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再磺寫本頁) 318932 A7 B7 五、發明説明(8 ) 址選擇用MO S F ETQm之基板閘極時,可以省略習知 之動態型R A Μ所搭載之基板反偏壓電壓發生電路。一般 而言,基板反偏壓電壓發生電路,爲了使利用低消費電力 ,而在基板偏壓電壓於記憶體存取時及非存取時都不變動 ,所以係由使其具有適合非存取時之漏電流之電流供給能 力之基板電壓發生電路,及使其具有在記憶髖存取時會發 生比較大的基板電流所對應之比較大的電流供給能力之基 板反偏壓電壓發生電路所構成。本發明之動態型RAM, 由於可以省略這樣的基板電壓發生電路。所以,可以提高 該分電路之簡單化,而且,可以減低消費電流。 上述地址選擇用MOSFETQm之臨界値電壓爲 0 . 6 5 V 〇 上述地址選擇用MOS F ETQm之字線WL所連接 之閘極,在作爲選擇位準被供給3.3V,作爲非選位準 被供給0 V。 位元線BL,作爲高位準時被供給2 . 6 5V,低位 準時,被供給0 . 6 5V。所以,字線WL爲3 . 3VM 選擇位準),位元線(資料線)BL,被供給2 . 6 5V (高位準)時,蓄積節點(地址選擇用MOSFETQm 及記憶電容器C s之一部份之電極之中的一方之連接點) SN之髦位爲2 . 6 5V。 又,字線WL爲3 · 3V (選擇位準),位元線BL 被供給0 . 6 5V (低位準)時,蓄稹節點SN之電位爲 〇. 65V。也就是說,蓄積節點SN之電位,係位元線 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS > A4規格(2丨0X297公釐}.. _ π - --------:--1------、玎------i (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 經濟部中央標準局員工消费合作社印裝 A7 ____B7_____ 五、發明説明(9 ) BL之電位原封不動地被供給。更者.,,即當2 . 6 5V ( 高位準)被供給副位元線時,蓄積節點S N之甯位,由於 M〇 S F ETQm之臨界値電壓,會比位元線之電位小, 如上述這樣,驅動字線WL之字驅動器之動作電壓,係可 使用電源電壓VCC。因此,習知之字驅動器之動作電壓 ,也用不到利用充電泵電路之昇壓電路。所以,本發明之 動態型RAM,可以省略這樣的提昇電路,因此,可以提 高該分電路之簡單化,而且可以減低消費電流。 圖4係表示說本發明之動態型R AM之元件構造剖面 圖。在該實施例中,以上述這樣的記憶體陣列部及周邊部 之元件構造爲代表,例示說明。記憶體單元之記憶電容器 ,係將第2層之多晶矽層SG作爲存儲節點(蓄稹節點) SN來使用,而與地址選擇用MOS FET之一方的源極 、漏極連接。雖然沒有特別的限制,但是上述第2層多晶 矽厝係爲葉片構造,隔著薄的閘極絕緣膜,第3層之多晶 矽層TG所構成之屛極電極所構成。地址選擇用 MOSFET之閘極,係由第1層多晶矽層FG所構成、 地址選擇用MO S F ET之另一方之源極 '漏極,係介於 上述第1層.多晶矽層FG、第2層之多晶矽層S &及第3 層多晶矽層TG,連接於第1層之鋁等之金屬配線層Μ 1 。利用該金屬配線厝Ml ,構成位元線(或資料線或數位 線)0 在周邊部形成2個的N通道型MOS F ET。第1層 之配線ifMl ,係利用接點LCNT,連接於 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ ^ - ------------.裝------ΐτ------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) S18982 A7 B7 五、發明説明(10 ) MOSFET之源極、漏極。上述第1層之配線層Ml及 第2層之配線層M2,係介由第1通孔而被連接,第2層 之配線層M2及第3層之配線層M3 ,係介由第1通孔而 被連接。利用第2層之配線層M2,將輸入信號供給至上 述M〇S FET之閘極電極時,如以上這樣,介由第1通 孔TH1,落在作爲僞的第1層之配線層Ml,介由該第 1層之配線層Ml及接點LCNT,連接於作爲閘極電極 之第1層多晶矽層FG。 供給输入信號之第3層之配線層M3,係介由第2通 孔TH2而連接於第2層之配線層M2。例如,當將输出 信號供給下一段之電路時,第1層之配線層Ml,係介由 第1通孔TH1 ,連接於作爲僞的第2層之配線層M2, 使該配線層M2介於其間,而經由第2通孔TH2,被導 引到第3層之配線層。 在本實施例這樣的元件構造中,P型基板P SUB ( 或N型基板上所形成之p型阱領域(PWELL))被供 給之偏壓電壓VBB,並不是負的反偏壓電壓,而是電跆 之接地電位0 V原封不動地被供給。但是,如上述這樣, 資訊記憶電容器之存儲節點S N所被給予之電壓的高位準 及低位準,被作成像VSG — VDL這樣的中間電位,而 地址選用MOS FET之閘極(FG )被連接之字線WL 之高位準及低位準,係與周邊電路之信號Si gna丨之高位準 及低位準相同地,被作成像VSS (=0V)—VCC道 樣的位準。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)_ j 3 _ ----------裝------1T------i (請先W讀背面之注意事項Η;填寫本頁) 經濟部中央橾準局負工消費合作社印製 經濟部中央揉準局員工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(11 ) 雖未圖示,但是,供給到位元線之高位準及低位準, 也與上述相同地,被作成像v S G — VD L這樣的中間電 位,而傳達這樣的中間電壓之中之高位準信號VD L之地 址選擇用MOS FET,係當在ON狀態時,利用上述字 線WL之選擇位準之VCC,被供給只高出相當於臨界値 電壓大小之電壓,所以可以從位元線,對存儲節點S N, 能毫無位準損失地寫入。又,當字線WL爲VS S這樣的 非選擇位準時,上述位元線或存儲節點之電位爲低位準 V S G時,在上述閘極與源極之間以負偏壓之方式設偏移 ,而可以使偏移特性良好。 而,可以將上述這樣的動態型記憶體單元及構成該周 邊電路之MOS FET,形成於相同之半導體基板 P S U B或P型阱領域。這時,構成周邊電路之N頻道 MOS FET,由於並不是對該基板閘極供給電路之負的 反偏壓電壓,而是供給接地電位,所以,如上述電源電壓 V C C這樣的高位準,被施加於閘極,而如此可以使ON 狀態時之電導變大。即,由於成爲ON狀態時,藉由更爹 之動作電流,可以將容量性負載高速地放電,所以使動作 之高速化成爲可能。 圖5及圖6係表示應用本發明之動態型RAM之一實 施例之陣列設計圖。本實施例之動態型RAM,雖然沒有 特別限制,但是,係被作成具有約6 4 Μ位元之記憶容量 。圚5及圖6 ,係表示横長之晶片的左右各半之設計圖, 爲了使兩者的關係容易瞭解,上述橫長之晶片的中央部分 I 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)_ 14 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 318932 Μ Β7___五、發明説明(12 ) 所設之Y救濟電路,於兩圖重複。 以2個記憶體面層爲中心,設有讀出放大器及输出入 線(SA&I/0)。地址分配,係上側U及下側L分配 有X地址之最上位位元/X 1 2及X 1 2。以上述這樣之 Y解碼器爲中心,被分爲各8個之2群之記憶體面層,係 分配有地址信號/X 1 1及X 1 1。在同圖中,X 1 1所 指定之下半部被省略。上述分爲2群之8個記憶體面層, 被分爲/XI 0及XI 0 ,各4個。在同圚中,下側的4 個記憶體面層所分配之地址10只表示大小。而在同一圖 中,雖然省略了,但是可知,以讀出放大器爲中心而分開 之各2個記憶體面層,分配有/X 9及X 9 ,以讀出放大 器爲中心所分開的記憶體面層,分配有/X 8及X 8。此 處,/(斜線)係對應表示低位準爲活動位準之邏輯記號 的上線。 晶片的縱方向(上下)所設之低解碼器XDEC及陣 列控制電路ARYCTRL及面層外輸出入線I/O,係 由上述圖1之字驅動器WD、解碼器X D及面層控制竜 MATCTR L及面層外之輸出入線所構成。在晶片的長 方向的中央部,設有地址側及I /0側之輸入緩衝器或輸 出緩衝器等之輸出入介面電路。 記憶髏面層上之箭頭,係表示地址的方向。即,更新 的順序,係在同圖中由上向下依序進行。同圖的前頭之方 向依序進行更新時,會有8 1 9 2循環,由於記億體存取 被限制,所以,例如同時選擇被地址XI 2、1 1及1 〇 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐ς _ " 裝 I —訂I I I I __線 (請先閲讀背面之注意事項声填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 五、發明説明(13 ) 所指定之記憶體面層,同時對8記憶體面層進行更新,則 以1 0 2 4循環,即可將全部的更新完成。 欄方向之地址分配,係夾著Y救濟電路,將左側及右 側分配爲Y地址之最上位位元/Y1 2及Y1 2。以上述 之X解碼器X D E C等爲中心分爲左右之記憶體面層,分 配成地址信號/Y11及Y11。而,1個記憶體面層內 ,分配有/XI 0及XI 0。由於在記憶體面層內,4對 的位元線同時被選擇,所以最終地選擇其中的1個時,使 用Y 9及Y 8或最下位之2位元Y0及Y 1。藉此,即使 在Y方向,全體地對應X方向,約8 K之地址分配被進行 〇 圖7及圖8,係表示應用本發明的動態型RAM之一 實施例的概略方塊圖。圖7係表示記憶體陣列及其周邊選 擇電路:圖8係表示地址緩衝器或输出入緩衝器這樣的输 出入介面部及時序(timing)控制電路。 在圖7中,設有被2個記憶體面層MMAT 0及 MMAT1所夾著的讀出放大器SAO 1。即,讀出放矢 器SAO1,係被作成對於2個記億體面厝MMATO及 MMAT1,被選擇性地使用之共用讀出放大器。讀出放 大器S A 0 1之輸出入部,雖未圖示但是係設有選擇開關 ,而與記憶體面層MMAT 0或MMAT 1之互補位元線 (或稱爲互補賫料線或互補數位線)連接。 其他的記憶體面層MMAT 2、MMAT 3或 MMAT4、MMAT5 及MMAT6、MMAT7 也分 I 装 訂I 線 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 31S9S2 A 7 ___ B7 五、發明説明(14) 別爲〜對,分別共通地設有讀出放大器SA2 3, SA4 5及SA6 7。由上述這樣的合計8個的記憶體面 層MMATO〜MMAT7及4個的讀出放大器SAO1 〜S A 6 7,構成1個記憶體陣列。對於該記憶體陣列, 設有Y解碼器YD。夾著Y解碼器YD,對稱地設有記憶 體陣列。該記憶體陣列在該圖中係被省略,但是係具有與 上述記憶體陣列相同之構成。 在各記憶體面層MMAT 0〜MMAT 7中,設有解 碼器XD0〜XD7。這些解碼器XDO〜XD7,係將 圖8之預解碼器電路XPD之輸出信號AX i解讀,形成 4根的字線選擇信號。設有藉由該解碼器XD 0〜XD 7 及下面要說明之面層控制電路MATCO1N〜 MATC 6 7 N之輸出信號而形成字線之選擇信號之字驅 動器MWD 0〜MWD 7。在這些字驅動器MWD 0〜 MWD 7,包含有對應字線之缺陷救濟之預備字線的字驅 動器。 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項異寫本頁) 對應上述一對之記憶體面層MMAT 0、MMAT ,設有面層控制電路MATC Ο 1 N。對於其它的對之記 憶體面層MAT2、MAT3 〜MAT6、MAT7,也 設有同樣的面層控制電路MATC 2 3 N, MATC4 5N,MATC6 7N。面層控制電路 MATCO 1N〜MATC6 7N,接收面層選擇信號 MS i及讀出動作時序信號0SA及未圖示之下位2位元 之地址信號的解調信號ΦΧ,對於被選擇之記億體面厝之 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS )八4規格(210X297公釐)_ 17 · 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(15 ) 1個的面層控制電路中,輸出選擇4相的字線中的i根之 選擇信號。 其他,面層控制電路MATC 0 1 N〜 MATC 6 7 N,對應上述被選擇之記憶體面層,使對應 左右任何1個的記憶體面層之位元線選擇開關成爲ON狀 態,輸出使對應非選擇之記億髏面層之位元線選擇開關成 爲Ο F F狀態之選擇信號,或使讀出放大器的放大動作開 始之時序信號。以上述字驅動器MWD 0〜MWD 7爲基 準所看到時之字線的遠端側,也設有面層控制電路 MATCO 1N〜MATC6 7N。該遠端側之面層控制 電路MATCO 1N〜MATC6 7N,雖然沒有特別限 制,但是利用字線之重置電路而使下降高速,當字線到達 某一位準時,檢測該狀態,從字線的遠端側也驅動,而使 上昇或下降高速進行之機能予以設置。 在圖8中,時序控制電路TG,接受從外部端子所供 給之低地址選通脈衝信號/RAS、欄地址選通脈衝信號 /CAS、寫入可'能信號/ WE及輸出可能信號/ 0E4、 及3 . 3V之電源電壓VCC及0V之接地電位VSS, 判定動作模式,對應該結果,形成內部電路之動作所需之 各種時序信號,及上述內部電壓VD L及V S G。像這樣 的電壓VDL及VSG,係藉由電壓發生電路VG形成。 該電壓發生電路VG,係包含有上述VDLG及VSGG 。在同圖中,只將上述各電路之中之代表者予以表示。即 ,第1«壓發生電路VSGG,係結合於第1外部端子 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > A4規格(210X297公釐)_ 18 ----------f------ΐτ------.^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 3^S932 A7 ____B7_ 五 '發明説明(16 ) VCC及第2外部端子VSS,接收電源電壓VCC及接 地電位VSS,形成第3毽壓VSG。又,第2®壓發生 電路VDLG,係結合於第1外部端子VCC及第2外部 端子VCC,接受電源電壓VCC及接地電位VSS,形 成第4電壓VDL。 時序信號4 X L,係取入以時間序列被输入之低系地 址,而予以保持之信號,而被供給至低地址緩衝器RAB 。艮P,低地址緩衝器RAB,係藉由上述時序信號0XL ,取入由地址端子A 0〜A i所輸入之地址,而被保持於 閂鎖電路。時序信號4 Y L,係取入以時間序列所輸入之 欄系地址,而予以保持之信號,係被供給至欄地址緩衝器 CAB。即,欄地址緩衝器RAB,係藉由上述時序信號 0YL,取入從地址端子A0〜Ai所輸入之地址,而保 持於閂鎖電路。 信號Φ RE F,係在更新時所發生之信號,被供給至 低地址緩衝器之输入部所設之多路轉換器AMX,在更新 模式時切換成更新地址計數器電路R F C所形成之更新_ 地址信號而控制者。更新地址計數器電路R F C,係計算 時序控制電路TG所形成之更新用之步進脈衝0RC,生 成更新地址信號。在此實施例中,係使其具有自動更新及 被動更新。 序信號4X,係字線選擇時序信號,被供給至解碼 器,依據下位2位元之地址信號所解讀之信號,形成4種 字線選擇時序信號。時序信號4Y,係欄選擇時序信號, 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨ΟX 297公釐)_ j _ ' 装 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(17 ) 被供給至欄系預解碼器YPD,而選擇信號AY i X、 AYix、AYkx 被輸出。 時序信號4W,係指示寫入動作之控制信號,時序信 號0 R,係指示讀出動作之控制信號。這些時序信號0W 及0R,係被供給至輸出入電路I/O,在寫入動作時, 使輸出入電路I / 0所含之輸入緩衝器活潑化,使輸出緩 衝器成爲當輸出阻抗狀態。相對於此,在讀出動作時,使 上述輸出緩衝器活潑化,而使輸入緩衝器成爲輸出高.阻抗 狀態。 時序信號4MS,係指示面層選擇動作之信號,被供 給至低地址緩衝器RAB,與該時序同步,面層選擇信號 MS ί被輸出。時序信號4SA,係指示讀出放大器之動 作的信號。依據該時序信號4SA,除了形成讀出放大器 之活潑化脈衝之外,也被用在互補位元線之預充電終了動 作,或形成切離非選擇之記憶體面層之位元線之動作的控 制信號。 在此實施例中,低系之冗長電路XRDE,係包含有 記憶不良地址之記憶電路及地址比較電路。將被記憶之不 良地址與低地址緩衝器RAB所輸出之內部地址信號 BX i作比較,當不一致時,使信號XR成爲高位準,然 後使標準電路之預解碼器X D P之動作成爲有效。如果上 述被输入之內部地址信號BX i與被記憶之不良地址一致 時,禁止標準電路之不良字線之選擇動作,同時,输出選 擇1個預備字線之選擇信號。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ I , 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印製 五 、發明説明( 18 ) 1 I 與 上 述低 系 之 電 路 相 同 之 電 路 9 在棚 系 也 設 置 〇 欄 系 1 1 I 之 冗 長 電 路Y R D E > 也 同 樣 地 包 含 有記 憶 不 良 地 址 之 記 1 1 憶 電 路 9 及地 址 比 較 電 路 〇 將 被 記 億 之不 良 地 址 與 低 地 址 族 1 1 緩 衝 ,器 C A B 所 輸 出 之 內 部 地 址 信 號 BY i 作 比 較 9 當 不 先 閲 I | 讀 1 1 '—~- 致 時 9 使信 號 Y R 成 爲 高 位 準 > 然 後使檩準 電 路 動 作 有 背 面 1 1 效 : 如 果 一致 時 > 禁 止 標 準 m 路 的 不 良位 元 線 之 選 擇 動 作 注 意 重 1 | 9 同 時 輸出 選 擇 預 備 的 位 元 線 之 選 擇信 號 〇 ψ 項 再 丨 1 圖 9 係表 示 說 明 本 發 明 之 動 態 型 R A Μ 的 其 它 的 實 施 寫 本 裝 1 例 之 重 要 部位 概 略 圖 0 在 該 圖 中 代 表地 表 示 有 — 對 的 互 頁 1 1 I 補 位 元 線 B L N / B L 及 字 線 W L 9 及形 成 上 述 字 線 W L 1 1 之 選 擇 信 號之 字 驅 動 器 J 及 設 於 上 述 -方 之 互 補 位 元 線 1 1 B L 與 字 線W L 之 交 點 的 動 態 型 記 憶 體面 層 9 及 上 述 互 補 訂 1 位 元 線 B L、 / B L 所 設 之 讀 出 放 大 器S A 9 及 形 成 該 讀 1 I 出 放 大 器 S A 之 動 作 電 壓 之 電 壓 發 生 電路 V D L G 及 1 1 V S G G 〇 1 1 線 如 本 實施 例 這 樣 9 同 時 地 利 用 半 導體 稹 體 m 路 上 所 形 1 成 之 第 1 電壓 發 生 電 路 U S G G 及 第 2電 壓 電 路 V D L 1 1 9 形 成 讀 出放 大 器 S A 之 動 作 電 壓 時 ,與 以 外 部 所 供 給 之 1 電 源 電 壓 V C C 及 電 路 之 接 地 壤 位 V S S 作 動 者 相 比 9 由 1 | 於 電 流 供 給能 力 之 限 制 , 讀 出 放 大 器 S A 之 擴 大 動 作 會 變 1 | 遲 0 即 > 爲了 使 讀 出 放 大 器 S A 之 擴 大動 作 9 成 爲 與 習 知 1 1 | 這 樣 的 外 部電 源 來 的 € 流 供 給 相 同 者 ,必 須 將 構 成 上 述 電 1 1 I 壓 發 生 髦 路V D L 及 V S G G 之 Μ 0 S F E T 之 尺 寸 形 成 1 1 很 大 > 使 實效 之 電 路 規 模 變 的 很 大 這是 不 實 際 的 0 1 1 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS) A4規格(210X297公釐)· 21 _ 經濟部中央橾準局員工消費合作社印策 318932 A7 B7 五、發明説明(l9 ) 在此實施例中,讀出放大器s A,從擴大開始時起, 在該擴大位準到達上述第3電壓V S G及第4電壓V D L 之前的期間,係與習知之讀出放大器S A同樣地,介由p 通道型M0SFETQ3,將電源電壓(第2電壓) VCC供給至讀出放大器SA之第2公用源線CSP,介 由N通道型MOS FETQ 4,將電路之接地罨位(第1 電壓)VSS供給讀出放大器SA之第1共用源線CSN 。即,如圖10之動作波形圖所示,係使讀出放大器SA 之動作電壓成爲對於該擴大输出進行如V C C及V S S這 樣的過驅動之電壓。藉由這樣的過驅動,使記憶體單元之 電容器C s之蓄積電荷及位元線B L之預充電電荷之電荷 分散所形成之微小讀出電壓,以另一方之位元線/B L之 預充電電壓爲參照電壓而予以讀出時之擴大信號之上昇成 爲高速。 供給至上述MOS F ETQ 3及Q 4之閘極的時序信 號,係藉由過驅動脈衝發生電路ODPG所形成。該過驅 動脈衝發生電路ODPG,係接受讀出放大器之動作時谇 信號SALT,而與該上昇同步上昇,形成使其延遲之延 遲信號,取與它的邏輯,而發生被作成只在延遲時間的期 間成爲高位準之脈衝。該脈、衝,係被原封不動地供給至N 通道型MOS FETQ 4之閘極,介由反相電路I V 2被 反轉,然後供給至上述P通道型MOS FETQ 3之閘極 。上述時序信號SALT,係供給至N通道型 M0SFETQ2之閘極,通過這樣的M0SFETQ2 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 22 - 1.1 I I I I I I 裝 I I I I I II 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 A7 _____B7_' 五、發明説明(2〇) ,上述內部電壓VSG被傳到上述第1共同源線CSN。 上述時序信號SALT,係被反相電路I V 1反轉,然後 供給至P通道型MO S F E TQ 1之閘極,通過這樣的 M0SFETQ1 ,使上述內部電壓(第4電壓)VDL 被傳到上述第2共通源線C P S。 圖11係表示上述過驅動脈衝發生電路之一實施例的 電路圖。在此實施例中,與使讀出放大器活潑化之時序信 號S A L T之上昇同步上昇,利用其延遲信號控制其下降 ,而發生過驅動脈衝OD P。因此,延遲電路雖然被使用 ,但是,該延遲電路,只要對上述時序信號SALT之上 昇,形成延遲信號即可。此處,多段的延遲電路之中,介 由與非(NAND )閘電路G 1而被反轉之輸入信號被供 給之單位電路,對於從高位準下降至低位準而形成延遲信 號時,雖然沒有特別限制,但是,係使其形成4個P通道 型MO S F ET串聯連接而被限制之電流。相對於此,.應 答從低位準上昇至高位準而形成低位準之输出信號之N通 道型MOS FET,由於不需要延遲動作,所以係由1捆 N通道型MOS FET所構成。 像這樣,以上述初段電路作開始,在奇數段之單位電 路,複數的P通道型MOS FET被作成串聯形態,在偶 數段之單位電路,複數的N通道型MOS FET被作成串 聯形態。又,雖然沒有特別限制,但是,爲了使其負載容 量變大,作爲容置元件而作用之MOSFET,係分別連 接於次段單位電路之轉入部。藉由這種情況,利用少數之 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)-23 - I. 1 裝 i 線 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(2i) 電路元件,而可以獲得所希望之延遲信號。在此實施例中 ,使上述之單位電路成爲縱列形態,形成第1延遲電路 DL1、第2延遲電路及第3延遲電路。 上述第1延遲電路DL1,係被用作爲過程分佈偏差 之調整用。即,由金靥層M2所構成之保險絲(FUSE )在沒有被切換之狀態下,通過反相電路I V 1及I V 2 ,對上述與非閘電路G 1,供給高位準之控制信號,而這 種與非閘電路G 1 ,係作爲反相器電路而發揮其功能,使 上述時序信號S A L T反轉,然後供給至上述單位延遲電 路。這時,藉由反相器電路I V 1之輸出信號的低位準, 與非閘電路G2 ,係與上述時序信號SALT無關地,使 輸出信號成爲高位準。所以,在這種狀態時,上述時序信 號SALT,通過上述延遲電路DL1、DL2及DL3 而被輸出。 在由金靥層M2所構成之保險絲(FUS E )被切斷 之狀態下,藉由未圚示之高電阻之電阻等,使反相電路 I V 1之輸入位準成爲低位準。所以,上述反相電路 > I V 1之输出信號成爲高位準,使與非閘霄路G 2作爲反 相電路而作動。藉此,將時序信號S A LT,通過上述第 1延遲電路DL 1 ,而供給到第2延遲電路。這時,藉由 反相器電路I V 2之输出信號之低位準,與非閘電路G 1 ,係與上述時序信號SALT無關係地,使输出信號成爲 高位準。所以,在這種狀態時,上述時序信號S A LT, 通過上述延遲電路DL 2及DL 3,而被输出。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格( 210X297公釐)_ _ — 一 装 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再¾寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 ______B7_五、發明説明(22 ) 即,藉由過程之分佈偏差,上述讀出放大器S A之输 出信號,係如上述這樣,即使到達VD L及V S G,上述 延遲電路DL 1、DL 2及DL 3所形成之延遲時間太長 ,而使位元線B L及/B L之電位,變大到所不期時,上 述保險絲F U S E被切斷,調整到對應上述延遲電路 DL 2及DL 3之短脈衝,而可以避免上述這樣的不方便 處0 上述與非閘電路G 4,係與時序信號S A LT之高位 準之上昇同步,而將反相電路I V 3之輸出信號變化成低 位準,所以,形成上昇到高位準之過驅動脈衝ODP。上 述時序信號S A LT之高位準上昇被延遲,當延遲電路 D L 3之輸出信號上昇到高位準時,非或(NOR )閘電 路G 4 ,係使上述脈衝ODP從高位準變化成低位準。像 這樣,而使只有在延遲電路之延遲時間被作成高位準之過 驅動脈衝ODP被形成。 爲了形成上述延遲信號而被串聯連接之P通道型 MOS FET及N通道型MOS FET,係分別具有最补 的通道長L g,藉由其多段重叠,而可以將上述過驅動脈 衝之脈衝寬度配合記憶體陣列之V C C依存性及過程依存 性。 雖然沒有特別限制,但是,構成延遲電路之單位電路 之中,電源《壓VCT及VST,在動態型RAM於準備 時將電源電壓V C C及電路之接地電位V S S分別供給之 電源MOS F ET成爲OF F狀態,而這種電源線,係被 I ^ 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再磺寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 經濟部中央棣準局員工消費合作社印製 318932 A7 __B7_ 五、發明説明(23 ) 作成浮動狀態。藉由這樣之狀態,而可以抑制延遲電路之 消費電流。像這樣的準備狀態,過驅動脈衝發生電路之動 作也被停止。即,即使是準備狀態,因爲更新動作,所以 讀出放大器周期地作動,但是這時,由於不需要像讀出動 作時這樣高速形成擴大信號,所以對於更新消費電流之削 減也有效。 圖12係表示本發明之動態型RAM之記憶體陣列部 的其他之實施例之重要部位之電路圖。在該圇中,表示出 作爲代表之1根的字線,及1對互補位元線B L、/ B L ,及與此相關連之讀出放大器及預充電電路,及讀出系電 路及寫入系電路等。 動態型記憶體單元(Memory Cell),係與上述相同 地由地址選擇用Μ 0 S F E T Q m及資訊記憶用電容器 C s所構成。地址選擇用MOS F ETQm之閘,係連接 於字線WI;,而該MOS FETQm之一方的源極、漏極 ,係連接於位元線BL。另一方之源極、漏極,係連接於 資訊記憶電容器C s之存儲節點。資訊記憶用電容C s之 另一方之電極,被共通化,而被供給至屛電壓。 上述位元線B L及/B L,係被平行配置成如該圖所 示,爲了取位元線之容置平衡等,配合需要,適當地使其 交差。像這樣的互補位元線BL及/BL,係藉由開關 MOS F ETQ 1及Q 2與讀出放大器之输出入節點連接 。讀出放大器,係由將閘極與漏極交差連接而作成閂鎖狀 態之N通道型M0SFETQ5、Q6及P通道型 本紙張尺度逍用中國國家標準(CNS )八4規格(210 X297公釐)_ % - 一 „ 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 318932 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 B7五、發明説明(24 ) M0SFETQ7、Q8所構成。N通道型 MOS F ETQ 5及Q 6的源極,係連接於共同源線 CSN。P通道型M0SFETQ7及Q8之源極,係連 接於共同源線CSP。共同源線CSP處,同圖中雖然省 略,但是係設有P通道型MO S F ET之動力開關 MOS FET,由電壓發生電路VDLG所形成之內部電 壓VDL被供給。對應N通道型MOSFETQ 5及Q 6 之共同源線C S N,也設有未圖示之N通道型 MOSFET,由電壓發生電路VSCG所形成之內部電 壓V G S被供給。 上述讀出放大器S A之输出節點,係設有使互補位元 線短路之M0SFETQ11,及將半預充電電壓VCC /2供給互補位元線之開關M0SFETQ9及Ql1所 構成之預充電電路。這些M0SFETQ9〜Ql1之閘 極,共通地被供給預充電信號。上述讀出放大器S A之共 同源線CSP及CSN,也沒有使這些共同源線CSP與 CSN短路之M0SFETQ2 7,及供給半預充電電迤 HVC (VCC/2 )之開關 M0SFETQ2 5 及 Q2 6所構成之預充電電路。這些M0SFETQ2 5〜 Q2 7之閘極,係共通地被供給預充電信號CSPC。 在此實施例中,爲了使讀出動作高速化,設有擴大電 路。擴大鼇路,係由接受上述讀出放大器S A之输出入節 點之電位的差動放大M0SFETQ1 2與Q1 3,及設 於這些的共通源極而形成動作電流之M0SFETQ14 I ^ 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 A7 _B7 _ 五、發明説明(25) 所構成。該M0SFETQ1 4,係在源極及閘極,接受 時序信號RS及欄選擇信號YS,而使上述差動擴大 M0SFETQ1 2及Q1 3之動作成爲有效。這些擴大 M0SFETQ1 2及Q1 3之漏極,係連接於讀出用之 輸出入線R I 0。在該讀出用之輸出線R I 〇,設有由 M0SFETQ1 9〜Q2 1所構成之預充電電路,電源 電壓V C C被預充電,藉由上述差動擴大MO S F ET之 擴大動作,一方被拉至低位準,像這樣的擴大信號被傳到 主放大器(Main Amp)。 藉由這樣的擴大竃路之插入,在讀出放大器S A之擴 大信號成爲上述這樣的高位準(VDL)及低位準( V S G )之前,使Y系之選擇動作先進行,而使上述擴大 電路活潑化,而可以將讀出信號傳到主擴大器,所以可達 成讀出時間之高速化。 對應於像上述這樣地讀出用之输出入線RI0被設置 ,而設有寫入用之输出入線W I 0。爲了使該輸出入線 W I 0所俥來之寫入信號的高位準與低位準,配合上述> VDL及VSG,所以共用上述電壓發生電路VDLG及 VSGG。即,在寫入用之輸出入線WI 0,也設有由 M0SFETQ2 2〜Q2 4所構成之與上述相同之預充 電電路,通過寫入緩衝器(write buffer),使像上述 V D L及V S G這樣的寫入信號被俥送。 寫入信號WEBO爲高位準,而WEB 1爲低位準, 則M0SFETQ2 8及Q3 0成爲ON狀態,而對應於 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格( 210X297公釐28 - ! I I ^ 裝 I 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ^18932 A7 B7 經濟部中央棣準局貝工消費合作衽印製 五、發明説明(,邡) 此’將寫入信號傳送至输出入線w I 0。寫入信號 WEB 0爲低位準,而WEB 1爲高位準,則 M0SFETQ2 9及Q3 1成爲ON狀態,而對應於此 ,將與上述相反之寫入信號傳送至輸出入線w I 0。 M0SFETQ1 5及Q1 6,係欄選擇開關,被上述選 擇信號進行開關控制。與以成串聯狀態而設之 M0SFETQ1 7及Q1 8,係被寫入脈衝WP進行開 關控制,在這期間,將傳至上述寫入用之輸出入線w I 0 之VD L及V S G這樣的寫入信號,傳送到上述讀出放大 器S A之输出入節點。 MOSFETQ1與Q2及Q3與Q4 ,係共用開關 MOS FET,對於像這樣的讀出放大器SA及輸出入電 路,選擇左右所設之記憶體面層中的一個。當左側之記憶 體面層被選擇時,藉由信號SHL,使M0SFETQ1 及Q 2維持在ON狀態,信號SHR被作成低位準,進行 右側之記億體面曆的位元線之切離。當右側之記憶體面層 被選擇時,藉由信號SHR,維持M0SFETQ3及a Q 4在ON狀態,而信號S HL被作成低位準,而左側之 記億髏面層之位元線之切離被進行。在記憶體存取終了之 預充電期間,上述信號SHL及SHR都成爲高位準,進 行兩方之位元線之預充電。上述信號S H L及S HR之高 位準,並不是習知之動態型RAM這樣的被昇壓之高位準 ,係可以與上述字線WL同樣地使用像上述電源電壓 V C C這樣的高位準。 ----------裝— (請先閲讀背面之注意事項再矽為本頁) 訂 本紙張尺度適用中國國家標隼(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 318932 A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明(27) 圖1 3 (A)及(B),係表示說明上述圖1 2之實 施例電路的動作之波形圖。圖1 3 ( A )係說明對應上述 寫入用之输出入線WI 0之寫入動作之波形圇:圖1 3 ( B),係說明對應上述讀出用之输出入線R10之寫入動 作之波形圖。 在圚B中,以與低地址選通脈衝信號RAS之下昇同 步,進行地址信號address之取入。低系之選擇動作被進 行,字線係從電路之接地電位V S S這樣的低位準起,上 昇到電源電壓V C C這樣的高位準。藉由設字線之上昇, 在位元線BL與/BL之一方中(同圇係BL),使作對 應被選擇之記憶體單元之資訊電荷之微小變化。對應上述 過驅動脈衝,進行讀出放大器之動作,而擴大位元線B L 及/B L之電位差。雖然沒有特別限制,與上述過驅動脈 衝之下降大略同步,使欄選擇信號Y S被作成選擇位準, 在讀出用之輸出入線R I 0出現讀出信號。該信·號主放大 器所擴大,在位元線B L及/B L之電位到達上述VD L 及V S G之大略同時期,主放大器之輸出信號MA0UC 確定而被输出。 ffll4 (A)及圖14 (B),係表示上述電壓發生 電路VSGG之一實施例之電路圇。圖14 (A)係表示 機能的電路圖,圚14 (B)係表示具體的電路圖◊如圚 1 4 (A)所示,上述電壓發生電路VSG,係規定低位 準側之位準者,所以,可以利用電壓比較甯路〇 P A控制 而簡單地形成。即,藉由電壓比較電路0ΡΑ,比較输出 ! ^ 裝— I I I II I I 線 (請先閲讀背面之注意事項再楨寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS)A4规格(2丨〇><297公釐L 30 - 經濟部中央標準局員Η消費合作杜印製 A7 B7五、發明説明(28 ) 電壓VSG與基準電壓Vr e f ,當VSG>Vr e f時 ,使MOS FETQ 1成爲ON狀態,接通電流,當 VSGSVr e f 時,使M0SFETQ1 成爲 OFF 狀 態。在上述讀出放大器之動作中,要形成低位準,係使上 述位元線之預充電電壓,放電到上述v S G之動作,所以 只要進行作爲上述電源電路之放電用MO S F E T之控制 即可。 圖14 (B)係表示上述電壓比較電路OPA之具體 電路。該電路係對差動狀態之P通道型MOS FETQ 3 及Q2之閘極,供給上述電壓Vr e f及電壓VSG,在 這些差動MOS FETQ 2及Q 3之漏極側,設置作爲負 載電路之電流鏡形態之N通道型MO S F ETQ 4及Q 5 ,形成擴大信號,而進行上述MOS FETQ 1之控制者 0 形成對應電源電壓側之電壓VDL之電路,也可以利 用上述之類似電路構成。即,將上述N通道型 MOSFET,置換成P通道型MOSFET,而只要供 給與其對應之基準電壓V r e f即可。即,對應上述低位 準側之內部電Μ發生竄路VSGG之基準電壓Vr e f , 被作成0 . 6 5V,而對應高位準側之內部電壓發生電路 VDLG之基準電壓Vr e f ,只要作成2 · 6 5V即可 。這時的2 .65V,並不是以VSS爲基準形成者,而 是將電源電壓VCC只作0 . 6 5V之位準移位而形成時 ,隨著電源電壓VCC之變化而變化,可以使動作空間變 --------—--------.IT------0 (請先閲讀背面之注意事項再磺寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)_ 318932 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 五、發明説明(29 )大0 圖15係表示本發明之半導體積體電路裝置之一實施 例之元件構造剖面圖°在此實施例中’半導體基板被作成 P型基板P SUB,構成記憶體陣列及其周邊電路之N通 道型M〇S FET,並不是在上述P型基板上直接形成者 ,而是在P型基板上所形成之P型阱領域PWE L L上形 成。P通道型MO S F ET,係在上述P型基板上所形成 之N型阱領域NWE L L上形成。在周邊電路所產生之少 數載體,到達記憶體陣列被形成之半導體領域,然後到達 記憶體單元之存儲節點,而不會失去資訊電荷之方式,設 有吸收該少數載體之保護環。 在構成記憶體陣列之N通道型MO S F E T被形成之 第1 P阱領域PWELL,被供給接地電位VSS。 雖然沒有特別限制,構成周邊電路之N通道 MOSFET被形成之第2P阱領域PWELL,例如被 供給上述接地電位VSS。 在此實施例中,如上述這樣,係被供給與構成動態型 R AM或R 0M或邏輯電路之半導體積體電路相同之電路 的接地電位VS S。因此,本發明之動態型RAM,與微 處理器這樣的控制電路之整合性會變好。 圇16 (A)、圖16 (B)及圖16 (C),係說 明本發明之半導體稹體電路之一實施例之製造工程之重要 部位剖面圓。在圖1 6 (A)至圖1 6 (C)中,有關於 P通道型阱領域之記憶被省略。圚1 6 (A)〜圖1 6 ( 装 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再梦寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 32 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 __ B7_ 五、發明説明(3〇) C ),係代表性地例示記憶髖陣列(Memory Array)部之 N通道型MOS FET,及周邊電路(Peripheral)部之 N通道型MOSFET。在圖16 (A),除了元件形成 領域,形成有場絕緣膜,以此爲軍覆,進行設定通道領域 之不純物濃度之離子注入。在該實施例之半導體稹體電路 ,將記憶體陣列部與周邊電路部,以同一工程實施。這些 N通道型M〇S FET,係藉由上述離子注入,被作成如 上述這樣具有0 . 6 5V左右之低臨界値髦壓。 圖16 (B)係進行第1層之多晶矽層FG、FG蓋 、邊阱(sideiall)之形成。圖16 (C),係實施爲
了要高耐壓化等而形成低濃度η —之源極、漏極之離子注 入(ΝΜ ·注入)。在該實施例中,由於像上述這樣的記 憶體陣列部及周邊電路部及動態型R AM之同一半導體稹 體電路上所形成之其它的電路塊之N通道型MOS FET ,也可以用同樣之工程形成,所以製造過程之簡化爲可能 0 圖 17 (A)、圖 17 (B)、圇 17 (C)、圇4 17 (D)及圖17 (E),係說明本發明之半導體稹體 電路之其它的一實施例之製造工程的重要部位剖面圖。在 圖17 (A)至圚17 (E)中,省略了P通道型阱領域 之記載。在圖17 (A)至圖17 (E)中,與上述同樣 地代表性地例示記憶體陣列(Memory Array)部之N通道 型MOSFET及周邊電路(Peripheral)部之N通道型 MOSFET。圖17 (A)之工程至圖17 (C)之工 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS)A4规格(210X297公釐)_ 33 _ 嚷 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再>寫本頁) 318932 A? B7 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印氧 五、發明説明(31 ) 程,除了一部份之外,都係與上述同樣者。即,圖17 ( A )除了元件形成領域之外,係形成有場絕緣膜,以此爲 罩覆,進行設定通道領域之不純物澳度之離子注入。在此 實施例之半導體稹體電路中,係以同一工程,實施記憶體 陣列部及周邊電路部。這些N通道型MOSFET,係藉 由上述離子注入,被作成如上述這樣具有0 . 6 5V左右 之低臨界値電壓。 圇1 7 (B)係進行第1層之多晶矽層FG、FG蓋 之形成。圖17 (C)係爲了高耐壓化等,實設形成低濃 度η—之源極、漏極之離子注入(NM·注入)。圖17 (D )係在問電極部形成邊牆(side-wall)。圖1 7 ( E),在上述閘極側,實施以上述邊牆爲罩褢,形成爲了 形成漏極領域之高濃度之η +的源極、漏極之離子注入( Ν Η ·注入)。在該實施例,如上述這樣,記憶體陣列部 及周邊電路部及動態型R AM及同一半導體積體電路上所 形成之其他的電路方塊所構成之N通道型MO S F E 丁, 也可以用與上述相同之工程形成,所以,可與上述同樣地 將製造過程簡化。 圇1 8係表示應用本發明之微電腦MC (數位處理裝 置)之一實施例之方塊構成圖。該實施例之微電腦MC, 係以存儲程序方式之中央處理裝置C PU作爲其基本構成 。中央處理裝置C PU,係結合有時鐘發生電路C PG及 中斷控制器I NTC,同時,被結合有內部匯流排 I BUS及周邊匯流排PBUS。其中,在時鐘發生Μ路 ----------1-------.訂------^ (請先W讀背面之注意事項再J#寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ μ 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(32 ) CPG,介由1對之外部端子,結合具有一定之固定振動 數之水晶振盪子XTAL,內部匯流排I BUS結合有 ROM、RAM、DMA控制器DMAC及匯流排狀態控 制器BSC。又,在周邊匯流排PBUS,結合有上述 DMA控制器DMAC及匯流排狀態控制器BSC,同時 ,類比•數位變換電路A/D、計時器電路T I Μ及串列 連絡介面S C I。 本實施例之微電腦MC,係具備有輸出入埠I ΟΡ。 該输出入埠I 0Ρ,係裝設於汽車上時,在其中一方上, 連結著DMA控制器DMA.C、匯流排狀態控制器B S C 、類比•數位變換電路A/D、計時器電路T I Μ及串列 連絡介面SCI;而另一方,結合著檢測用輸入端子、制 動器用輸出端子、串列埠用輸出入端子及外部匯流排用輸 出入端子。當微電腦MC係處於RAM寫入監視狀態時, 在檢測用输入端子,如後面所述,結合著例如測量引擎水 溫或空氣流置等之各種察覺器。又,制動器用输出端子, 係結合著調整燃料噴射量之控制裝置,在串列埠用输出认 端子處,結合一定之監視工具。 時鐘發生電路CPG,係生成配合水晶振盪子 XTAL之固有振動數之頻率的時鐘信號,供給至以中央 處理裝置C PU爲中心之微電腦MC之各部。又,中央處 理裝置CPU,係依據時鐘發生電路CPU所供給之時鐘 信號,作同步動作,依據R 0M所存儲之控制程式,進行 步驟動作,實行一定之邏輯演算處理,同時,控制、統括 本紙浪尺度適用中國國家梯準(CNS)A4規格( 210X297公釐)_ & _ I 一 裝 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再楨寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 3ί893δ Α7 _Β7_五、發明説明(33 ) 微電腦MC之各部之動作。更者,ROM係由軍覆ROM 或快閃記憶體等所構成,存儲中央處理裝置C P U的動作 所需之控制程式或固定資料等。又,RAM係由包含動態 型RAM之高速可改寫之記憶體所構成,暫時存儲中央處 理裝置C P U之演算結果或外部察覺器所输入之察覺器資 料等。中斷控制器INTC,係接收從微電腦MC的各部 所輸出之中斷要求,依照事先所設定之優先順序予以處理 ,然後傅達至中央處理裝置。 DMA控制器DMA C,係不經由中央處理裝置 C PU而支援例如內藏RAM與微電腦MC的外部所結合 之記憶體之間的資料授受,匯流排狀態控制器B S C,係 支援外部匯流排所結合之記憶體等之存取。又,類比數位 變換電路A/D,係將從外部的各種察覺器所输入之類比 信號,變換成一定位元之數位信號,串列連絡介面S C I ,係支援對外部所結合之調步同步式或時鐘同步式之串列 輸出入裝置之資料授受。更者,計時器電路T I Μ,係依 據時鐘信號進行時間計時,例如將驅動外部之制動器所兜 之控制脈衝,以一定之時序條件選擇性地生成。 本發明之動態型RAM,係與除此以外之上述這樣的 各電路方塊相同地,不需要基板反偏壓,對基板供給電路 之接地電位V S S。因此,與構成上述這樣的中央處理裝 置C PU等之其他的電路之整合性良好,可以很簡單地搭 載於這些電路,由於與上述基板反偏壓之關係,在同半導 體稹髏電路上形成是不利的道樣的限制沒有了,所以可以 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 36 — I ^ 装 線 (請先閲讀背面之注意事項再*/寫本頁) 318932 A7 B7 五、發明説明(34 ) 使動態型RAM之用途擴大。 <發明之效果> (1 )對於m源電壓,形成具有與動態型記憶髄單元 之地址選用MO S F E T之臨界値電壓大略相同之差的第 1內部電壓,將其作爲高位準側之動作電壓而供給至讀出 放大器。對於m路之接地電壓,形成具有一定的差之第2 內部髦壓,作爲讀出放大器之低位準側之動作電壓而予以 供給。對應第1內部電壓之高位準及對應第2內部電壓之 低位準之寫入信號,於寫入放大器形成,傳送至動態型記 憶體單元所連接之互補資料線。對於動態型記憶體單元所 連接之字線,以電源電壓的高位準作爲選擇位準,而以電 路之接地電位這樣的低位準作爲非選擇位準而予以供給。 此構成可省略形成基板反偏壓電壓發生電路或字線之選擇 位準之昇壓電路,而可以使電路簡單化及低消費電力化。 (2)依據上述(1),由於基板反偏壓電壓不被給 予,所以使周邊電路之高速化成爲可能,同時,爲了得''到 同等之性能,不需要使阱成爲3重構造,所以,也可以獲 得使製造過程簡單化之效果。 (3 )上述第2內部電壓與上述電路之接地電位之電 壓差,係設定成與上述電源《壓和上述第1內部電壓之電 壓差相等者,上述位元線之預充電壓,係藉由設定在上述 第1電Μ與第2電壓之中點電壓,使被擴大之互補位元線 短路。藉此,可以在沒有實效地電流消費下,形成上述預 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) Α4規格(210X297公釐)_ 37 . I.---------S------1Τ------# (請先閲讀背面之注意事項再矽寫本頁) 經濟部中央標準局另工消費合作社印製 ^18932 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 五、發明説明(35 ) 充電電壓。 (4 )上述寫入放大器,高位準側之動作電壓,係從 上述第1內部降Μ電路所供給,低位準側之動作電壓,係 從上述第2內部降壓電路供給,藉此,可獲得電路之簡單 化及寫入位準之整合。 (5 )對於上述讀出放大器,從其動作開始起,上述 互補位元線之擴大信號在到達上述第1內部電壓及第2內 部電壓之前的一定期間成爲ON狀態之Ρ通道型及Ν通道 型之開關MOS FET,藉由電源電壓及電路之接地電位 分別被給予,而使其過驅動,而可以得到進行高速擴大動 作之效果。 (6 )將進行上述過驅動之開關MOSFET作成 ON狀態之脈衝,係由接收上述讀出放大器之動作時序信 號及其反轉延遲信號之邏輯稹閘電路所形成,形成上述反 轉延遲信號之延遲電路,係藉由CMOS反相電路而形成 ,使形成CMO S反相器電路之中應延遲之信號所用之電 流之MO S F ET,被以串聯形態將複數個連接,如此、 可利用所需要之最少的元件數,而得到所希望之過謳動脈 衝之效果。 (7)對於以上述讀出放大器爲中心而在左右所設的 2組互補位元線,係共通地被設置,將像這樣的讀出放大 器及各個的互補位元線之間,利用對應上述亀源電壓之高 位準及對應電路之接地電位之低位準之選擇信號所切換控 制之MOS FET,予以選擇性地連接,將上述讀出放大 本紙張尺度適用中國國家榇準(CNS ) A4*i格(210X297公釐)no 〇〇 I----------^------ΐτ------^ (請先閲讀背面之注意事項再頊寫本頁) 318932 A7 £7___ 五、發明説明(36 ) 器之輸出入部,介由讀出用之擴大電路,傳送到讀出專用 線,將上述寫入放大器之输出信號,介由寫入專用線,連 接於上述输出入節點,藉此,可獲得提高電路之簡單化及 動作之高速之效果。 (8 )上述動態型記憶體單元之地址選用 MOSFET,及除此之外之N通道型MOSFET,分 別在被分離之P型阱領域形成,藉此,在周邊電路所產生 之基板的少數載體,到達上述動態型記憶體單元之蓄稹節 點,而可以防止使資訊保持時間變短之效果。 (9 )對於電源電壓,形成具有與動態型記億體單元 之地址選用MO S F E T之臨界値電壓大略相同之差的第 1內部電Μ,將其作爲高位準側之動作電壓而供給至讀出 放大器。對於電路之接地電壓,形成具有一定的差之第2 內部電壓,作爲讀出放大器之低位準側之動作電壓而予以 供給。對應第1內部電壓之高位準及對應第2內部電壓之 低位準之寫入信號,於寫入放大器形成,傳送至動態型記 憶體單元所連接之互補資料線。對於動態型記憶體單元新 連接之字線,以電源電壓的高位準作爲選擇位準,而以電 路之接地髦位這樣的低位準作爲非選擇位準而予以供給而 構成之動態型RAM,及至少將上記動態型RAM,進行 記憶體存取之記憶體控制電路,將其搭載於1個半導體稹 體電路,藉此,可獲得具有新穎之機能的半導體稂體髦路 裝置之效果。 以上將本案之發明者之發明,依據實施例作了具體之 -----------^------IT-------0 (請先閲讀背面之注意事項再瑣寫本頁) 經濟部中央標準局®c工消费合作社印裝 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 39 - A7 B7 經濟部中央搮準局貝工消费合作社印製 五 、發明説明 ( 37 ) 1 | 說 明 9 但 是 9 本 案 發 明 並 不 只 限 於 上 述 實 施 例 9 只 要 是 不 1 1 脫 離 其 要 旨 之 範 圍 內 9 都 可 作 各 種 變 更 0 例 如 9 輸 出 入 線 1 1 9 可 以 使 寫 入 用 及 讀 出 用 成 爲 共 通 化 〇 在 這 種 情 況 時 9 將 1 I 請 1 | 寫 入 放 大 器 之 動 作 電 壓 > 與 上 述 圖 1 2 之 實 施 例 同 樣 地 > 先 閲 I I 讀 1 I 與 形 成 讀 出 放 大 器 S A 之 動 作 電 壓 之 內 部 電 壓 發 生 電 路 背 面 1 I V D L G 及 V S G G 共 用 也 可 〇 或 者 , 從 寫 入 放 大 器 係 比 注 意 金 1 I 上 述 互 補位 元 線 之 高 位 準 及 低位 準 小 9 供 給 使 讀 出 放 大 反 等 項 再 1 I 轉 這 榇的 寫 入 信 號 9 之 後 9 藉 由 讀 出 放 大 器 之 擴 大 動 作 項 % 本 1 裝 1 形 成 上 述 V D L 及 V S G 9 然後 寫 入 記 憶 體 單 元 這 樣 作 也 頁 1 1 1 可 〇 也 可 採 用 構 成 動 態 型 R A Μ 之 其 他 的 構 成 之 實 施 樣 態 1 1 1 形 成 上 述 內 部 電 壓 V D L 或 V S G 之 電 壓 發 生 電 路 1 訂 1 除 了 使 用 上 述 這 樣 的 基 準 電 壓 及 演 算 擴 大 電 路 及 输 出 1 | Μ 〇 S F E T 之 外 例 如 單 純 地 利 用 成 爲 動 態 形 態 之 1 I Μ 〇 S F E T 之 臨 界 値 電 壓 藉 由 採 用 將 電 源 電 壓 V C C 1 1 線 作 位 準 移 位 形 成 V D L 或使 V S S 作 位 準 移 位 形 成 V S G 1 I 等 種 種 實 施 形 態 0 又 9 V C C 與 V D L 之 電 壓 差 及 % 1 V S G 與 V S S 之 電 壓 差 * 並 不 — 定 要 使 其 相 等 〇 上 述 1 1 V C C 與 V D L 之 電 壓 差 9 爲 了 要 進 行 對 記 憶 體 單 元 之 全 1 1 寫 , 必 m 要 作 成 上 述 地 址 選 用 Μ 0 S F Ε T Q m 臨 界 値 電 1 I 壓 以 上 9 上 述 V S S 與 V S G 之 電 壓 差 9 只 要 是 滿 足 低 位 1 I 準 保 持 時 之 地 址 選 擇 用 Μ 0 S F Ε Τ Q m 之 0 F F 特 性 者 1 1 I 即 可 0 1 1 1 本 發 明 之 動 態 型 R A Μ 9 係 同 步 型 者 9 規 定 型 控 制 型 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇><297公釐)_ 40 318932 Μ Β7 _ 五、發明説明(38 ) 者,使介面具有與靜態型RAM相容之類似靜態型RAM 、如具備有串列输出入埠及隨機输出入埠之2埠記憶體這 樣,至少記憶體單位係由動態型記億髏單元所構成考即可 〇 本發明之半導體積體電路裝置,除了上述實施例這樣 的單晶片之微電腦之外,只要是包含上述這樣的各種之動 態型R AM及對其進行記憶體存取之記憶體控制電路之各 種電路機能之半導體積體電路裝置即可。 本發明所開示之發明之中,對於具代表性者所獲得之 效果,簡單說明如下。即主要係對於電源遒壓,形成具有 與動態型記憶體單元之地址選用MO S F E T之臨界値電 壓大略相同之差的第1內部電壓,將其作爲高位準側之動 作電壓而供給至讀出放大器。對於電路之接地電壓,形成 具有一定的差之第2內部電壓,作爲讀出放大器之低位準 側之動作電壓而予以供給。對應第1內部電壓之高位準及 對應第2內部電壓之低位準之寫入信號,於寫入放大器形 成,傳送至動態型記憶體單元所連接之互補資料線。對必 動態型記憶體單元所連接之字線,以電源電壓的高位準作 爲選擇位準,而以電路之接地電位這樣的低位準作爲非選 擇位準而予以供給。在此構成中,可省略形成基板反偏壓 電壓發生電路或字線之選擇位準之昇壓電路,而可以提高 電路之簡單化及低消費電力化。 藉由上述,由於基板反偏壓m壓不被供給,可以使周 邊電路之高速化成爲可能,同時,爲了獲得同等之性能, 本紙張尺度遄用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X25»7公釐)_ _ 装 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再蟥寫本頁) 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(39 ) 不需要3重構造,所以可提高製造過程之簡單化。 將上述第2內部電壓與上述電路之接地電位之電壓差 ,設定成與上述電壓與上述第1內部電壓之電壓差相等, 上述位元線之預充電電壓,係設定在上述第1電壓與第2 電壓之中點髦壓,藉此,使被放大之互補位元線短路,而 能在沒有實效之電流消费之下,形成預充電電壓。 上述寫入放大器,係藉由髙位準側之動作電壓從第1 內部降壓電路被供給,低位準側之動作電壓從上述第2內 部降壓電路被供給,而可以得到電路之簡單化與寫入位準 之整合。 對於上述讀出放大器,從其動作開始起,上述互補位 元線之擴大信號在到達上述第1內部電壓及第2內部電壓 之前的一定期間成爲ON狀態之P通道型及N通道型之開 關MOS FET,藉由電源電壓及電路之接地電位分別被 給予,而使其過驅動,而可以得到進行高速擴大動作之效 果0 將進行上述過驅動之開關MOS F ET作成ON狀镅 之脈衝,係由接收上述讀出放大器之動作時序信號及其反 轉延遲信號之邏輯積閘電路所形成,形成上述反轉延遲信 號之延遲電路,.係藉由CMOS反相電路而形成,使形成 CMO S反相器電路之中應延遲之信號所用之電流之 MOS FET,被以串聯形態將複數個連接,如此,可利 用所需要之最少的元件數,而得到所希望之過駆動脈衝之 效果。 本紙浪尺度逋用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 装 訂 線 (請先閲讀背面之注意事項再磺寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 S189S2 Μ Β7 五、發明説明(40 ) 對於以上述讀出放大器爲中心而在左右所設的2組互 補位元線,係共通地被設置,將像這樣的讀出放大器及各 個的互補位元線之間,利用對應上述電源電壓之高位準及 對應電路之接地電位之低位準之選擇信號所切換控制之Μ 0 S F ΕΤ,予以選擇性地連接,將上述讀出放大器之输 出入部,介由讀出用之擴大電路,傅送到讀出專用線,將 上述寫入放大器之输出信號,介由寫入專用線,連接於上 述輸出入節點,藉此,可獏得提高電路之簡單化及動作之 高速之效果。 上述動態型記憶體單元之地址選用MOSFET,及 除此之外之Ν通道型MOS FET,分別在被分離之Ρ型 阱領域形成,藉此,在周邊電路所產生之基板的少數載體 ,到達上述動態型記憶體單元之蓄稹節點,而可以防止使 資訊保持時間變短之效果。 對於電源電壓,形成具有與動態型記憶體單元之地址 選用MOS FET之臨界値電壓大略相同之差的第1內部 電壓,將其作爲高位準側之動作電壓而供給至讀出放大灘 。對於電路之接地電壓,形成具有一定的差之第2內部電 壓,作爲讀出放大器之低位準側之動作電壓而予以供給。 對應第1內部電壓之高位準及對應第2內部電壓之低位準 之寫入信號,於寫入放大器形成,俥送至動態型記億體單 元所連接之互補資料線。對於動態型記憶體單元所連接之 字線,以電源電壓的高位準作爲選擇位準,而以電路之接 地電位道樣的低位準作爲非選擇位準而予以供給而構成之 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS ) Α4规格(2丨0X297公釐)_ _ 一 — .1 ―― I I I I I I 裝 I I I I I 訂— I I I I I 線 (請先閲讀背面之注意事項再 > 寫本頁) A7 _B7__五、發明説明(41 ) 動態型RAM,及至少將上記動態型RAM,進行記憶體 存取之記憶體控制電路,將其搭載於1個半導體稹體電路 之 置 裝 路 9〇r 體 稹 體 導 半 的 能 機 之 穎 新 有 具 得 獲 可 , 此 。 藉果 ,效
之 位 部 要 重 之Μ A R 型 態 動 之 明 發 本 明 說 示 > 表 明係 說 1 式圖 圚 V 圚 形 波 作 ipm 之Μ A R 型 態 動 fl9 之 明 發 本 明 說 示 表 係 〇 2 圖圖 略 概 各 圖 之 面 元 剖 單 造 體 構 憶 件 記 元 型 之 態 Μ 動 A 之 R 1 型 圖 態 之。動 案圖之 本路明 明電發 說之本 示係明 表關說 係位係 3 電 4 圖之圇 極 電 圖憶圖 記 之 5 體 6 例 它 施 例 實 施 一 實 之 -Μ 之 Α Μ R A 型 R 態 型 動。態 之圖動 用計之 適設明 所之發 明份本 發部用 本一應 示之示 表列表 係陣係 (請先閲讀背面之注意事項再磺寫本頁) •裝· 經濟部中央橾準局另工消費合作社印裝 記 之 例 施 實 之Μ A R ο 。 型圖 圖態塊 計動方 設之之 之明路 份發電 部本擇 1 用選 餘應邊 剩示周 之表其 列係及 £. Tr 陣 7 歹 體圖陣 憶 體 記 憶 之 例 施 實 - 之 Μ 。 Α 圖 R塊 型方 態之 動圖 之路 明 m 發制 本控 用序 應時 示及 表部 係面 8 介 圖入 出 输 例 施 * 另 之Μ A R 型 態 肋 之 明 發 本 用 〇 應圖 明略 說概 係位 9 部 圖要 重 之 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210父297公釐)_ 44 - 經濟部中央標準局β:工消费合作社印製 A7 ____Β7_五、發明説明(42 ) 圖1 0係說明圖9之讀出放大器之動作的動作波形圖 0 圖1 1係表示圖9之過驅動脈衝發生電路之一實施例 之電路圖。 圖1 2係應用本發明之動態型RAM之記憶體陣列部 之其他實施例之重要部位髦路圖。 圖13 (A)及圖14 (B)係說明圖12之實施電 路的動作之波形圖。 圖14 (A)及圖14 (B)係表示本發明之電壓發 生電路V S GG之一實施例之髦路圖。 圖1 5係表示本發明之半導體稹體電路裝置之一實施 例之元件構造剖面圖。 圖16 (A)、圖16 (B)及圖16 (C)係說明 本發明半導體積镫電路之一實施例之製造工程之重要部位 斷面圖。 圖 17 (A)、圖 17 (B)、圖 17 (C)、圖 17 (D)及圖17 (E)係說明本發明之半導體稹體饈 路之其它實施例之製造工程之剖面圖。 圖1 8係表示應用本發明之微電腦之一實施之方塊圇 I -展 訂 線 (請先閱讀背面之注意事項再蟥寫本頁) 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS)A4規格(210Χ 297公釐)_ 45 -
Claims (1)
- A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 第85 1 04075號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國86年2月修正 1·一種動態型RAM,係具備有: 動態型記憶體單元,係閘極連接於字線,一方之源極 、漏極係連接於與上述字線交差之互補位元線之一方,而 另一方之源極、漏極係與資訊記憶用電容器之蓄積節點連 接而成者;及 字線選擇電路,係對上述字線,供給對應電源電壓之 選擇位準及對應電路之接地電位之非選擇位準者;及 讀出放大器,係上述一方之位元線預充電電荷及動態 型記憶體單元之記憶電荷之電荷分散所形成之上述一方的 位元線所讀出之信號電壓,及另一方之位元線的預充電電 壓之電位差予以接受,然後將其放大,使上述動態型記憶 體單元回到元來之記憶電荷之狀態;及 第1內部降壓電路,係對上述電源電壓,以與上述地 址選用MO S F E T之臨界值電壓大略相同之大小的差之 方式而形成之第1內部電壓,然後,作爲髙位準側之動作 電壓而供給至上述讀出放大器者;及 第2內部降電壓電路,係對於上述電路之接地電位, 形成以具有一定之差之第2內部電壓,作爲上述讀出放大 器之低位準側之動作電壓而予以供給:及 寫"入放大器,係將對應上述第1內部電壓之高位準及 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210X297公釐)_ 1 _ --------^— (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 對應上述第2內部電壓之低位準之寫入信號,傳達到上述 互補位元線。 2 .如申請專利範圍第1項之動態型ram,其中上 述第2內部電壓與上述電路之接地電位之電位差,係被設 €成與上述電源電壓及上述第1內部電壓之電壓差相等者 ’上述位元線之預充電電壓,葆被設定成在上述第1電壓 與第2電壓之中點電壓。 3·如申請專利範圍第1項之動態型ram,其中上 述寫入放大器,係高位準側之動作電壓從上述第1內部降 壓電路被供給,低位準側之動作電壓從上述第2內部降壓 電路被供給。 4 .如申請專利範圍第1、2或3項之動態型RAM ’其中上述讀出放大器,係藉由從讀出放大器之動作開始 起到上述互補位元線之一定期間之放大信號到達上述第1 內部電壓及第2內部電壓之前爲止之一定期間才成爲〇 N 狀態之P通道型及N通道型之開關MO S F E T,使電源 電壓及電路之接地電位分別被給予。 5.如申請專利範圍第4項之動態型RAM,其中使 上述開關MO S F E T成爲ON狀態之脈衝,係藉由接受 上述讀出放大器之動作時序信號及該反轉延遲信號之邏輯 積閘電路而形成者,形成上述反轉延遲信號之,延遲電路, 係利用CMO S反相電路而形成,爲了形成像這樣的 CMO S反相電路之中應該延遲的信號之電流予以流通之 MOS"FET,係有複數個成串聯狀態被連接。 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS)A4規格(210X297公釐)—2 _ ----------1------tr------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 318932 七、申請專利範圍 6 .如申請專利範圍第4項之動態型RAM,其中上 述讀出放大器係 對於以其爲中心而於左右所設之2組的 互捕位元線共通予以設置’而將像這樣的讀出放大器與各 互補位元線連接之開關MO S F E T ’係藉由對應上述電 源電壓之高位準及對應電路之接地電位之低位準之選擇信 號,而被切換控制,上述讀出放大器之輸出入節點,係結 合於讀出用之放大電路之輸入•而像這樣的放大電路之輸 出信號,係被傳到讀出專用線,上述寫入放大器之輸出信 號,被傳到寫入專用線’而像這樣的寫入專用線’係介由 寫入系選擇電路而與上述讀出放大器之输出入節點連接。 7 .如申請專利範圍第1項之動態型RAM,其中上 述動態型記憶體單元之地址選擇用MO S F E T,及除此 之外之N通道型MOSFET,係在P型阱領域形成者, 像這樣的P型阱領域,電路之接地電位作爲偏壓電壓而被 供給。 8 .如申請專利範圍第7項之動態型RAM,其中上 述地址選擇用MO S F E T,係與其它之N通道型 MO S F E T有區別,形成於專用之P型阱領域。 9 .如申請專利範圍第1項之動態型RAM,其中上 述動態型記憶體單元之地址選擇用MO S F E T,及除此 之外之N通道型MO S F E T,係在P型基板.上形成者, 在這樣的P型基板上,電路之接地電位作爲偏壓電壓而被 供給。 Γ0 . —種半導體積體電路裝置,係具備有: 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS)A4規格(210Χ297公釐)-3 - 裝------訂------旅 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局βς工消費合作社印製 ABCD 318932 六、申請專利範圍 動態型記憶體單元,係閘極連接於字線,一方之源極 、漏極係連接於與上述字線交差之互補位元線之一方,而 另一方之源極、漏極係與資訊記億用電容器之蓄積節點連 接而成者;及 字線選擇電路,係對上述字線,供給對應電源電壓之 選擇位準及對應電路之接地電位之非選擇位準者,·及 讀出放大器,係上述一方之位元線預充電電荷及動態 型記憶體單元之記憶電荷之電荷分散所形成之上述一方的 位元線所讀出之信號電壓,及另一方之位元線的預充電電 壓之電位差予以接受,然後將其放大,使上述動態型記億 體單元回到元來之記憶電荷之狀態:及 第1內部降壓電路,係對上述電源電壓,以與上述地 址選用MO S F E T之臨界值電壓大略相同之大小的差之 方式而形成之第1內部電壓,然後,作爲高位準側之動作 電壓而供給至上述讀出放大器者;及 第2內部降電壓電路,係對於上述電路之接地電位, 形成以具有一定之差之第2內部電壓,作爲上述讀出放大 器之低位準側之動作電壓而予以供給;及 寫入放大器,係將對應上述第1內部電壓之高位準及 對應上述第2內部電壓之低位準之寫入信號,傳達到上述 互補位元線。 11.如申請專利範圍第1〇項之半導體積體電路裝 置,其中構成上述動態型RAM以外之其它的電路之N通 道型]VTO S F E T,係在以與上述動態型RAM之地址選 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS)A4現格( 210X297公釐)-4 - ^-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 318932 A8 B8 C8 D8 經 濟 部 中 央 標 準 局 Ά 工 合 作 社 印 製 六、 申請專利範圍 1 I 用 Μ 0 S F E T 所 形 成 之 P 型 阱 領 域 相 同 之 製 造 工 程 所 形 I 1 成 之 P 型 阱 領 域 上 形 成 〇 1 | 1 2 - 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 0 項 之 半 導 體 積 體 電 路 裝 1 I 置 9 其 中 構 成 上 述 動 態 型 R A Μ 及 其 它 的 電 路 之 N 通 道 型 請 先 1 1 閱 | Μ 0 S F E T , 係 在 Ρ 型 基 板 上 形 成 0 讀 背 1 1 3 • 一 種 半 導 體 ruz. 記 憶 裝 置 係 在 具 有 以 下 之 物 之 半 之 注 杳 1 1 導 體 基 板 上 形 成 者 1 項 1 I 再 1 1 ( 1 ) 包 含 有 字 線 及 互 補 資 料 線 、 及 對 應 於 上 述 字 % 寫 本 裝 線 與 上 述 互 補 資 料 線 對 之 交 點 所 設 之 記 億 體 單 位 及 頁 1 I ( 2 ) 結 合 於 上 述 互 補 資 料 線 對 及 第 1 電 壓 配 線 及 第 1 1 I 2 電 壓 配 線 之 讀 出 放 大 器 及 I 1 1 ( 3 ) 結 合 於 上 述 字 線 之 字 線 驅 動 器 及 1 訂 ( 4 ) 第 1 電 壓 端 子 及 1 1 ( 5 ) 第 2 電 壓 端 子 及 1 1 ( 6 ) 第 1 電 壓 發 生 電 路 及 1 1 ( 7 ) 第 2 電 壓 發 生 電 路 線 | 其 特 徵 爲 上 述 記 憶 體 單 元 係 包 含 有 結 合 於 上 述 1 1 I 字 線 之 閘 極 及 其 源 極 經 路 之 一 方 結 合 於 上 述 互 補 資 料 線 1 1 對 之 中 的 一 方 之 Μ 0 S F E T 及 具 有 — 對 電 極 之 電 容 器 1 1 1 t 上 述 電 容 器 之 上 述 — 對 電 極 之 中 的 —- 方 係 與 上 述 1 1 I Μ 0 S F E T 之 源 極 一 漏 極 經 路 之 他 方 結 合 t 1 1 I 上 述 第 1 電 壓 端 子 » 係 從 上 述 半 導 體 裝 置 之 外 部 被 供 1 1 給 第 Γ 電 壓 t 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家梯準(CNS)A4規格( 210X297公釐)一 5 - 318932 D8 六、 申請專利範圍 1 I 上 述 第 2 電 壓 端 子 係 從 上 述 半 導 體 裝 置 之 外 部 被 供 1 1 給 第 2 電 壓 1 I 上 述 第 1 電 壓 發 生 電 路 係 接 受 上 述 第 1 電 壓 及 上 述 1 I 第 2 電 壓 > 將 比 上 述 第 1 電 壓 大 而 且 比 上 述 第 2 電 壓 小 之 請 先 1 1 I 第 3 電 壓 輸 出 到 上 述 第 1 電 壓 配 線 背 1 1 上 述 第 2 電 壓 發 生 電 路 係 接 受 上 述 第 1 電 壓 及 上 述 之 注 1 1 意 1 I 第 2 電 壓 將 比 上 述 第 3 電 壓 大 而 且 比 第 2 電 壓 小 之 第 4 事 項 1 I 再 1 1 電 壓 輸 出 至 上 述 第 2 電 壓 配 線 寫 本 1 裝 1 上 述 字 線 驅 動 器 係 將 上 述 第 1 電 壓 或 上 述 第 2 電 壓 頁 1 I » 給 予 上 述 字 線 〇 1 I 1 4 如 申 請 專 利 範 圍 第 1 3 項 之 半 導 體 記 憶 裝 置 » 1 1 I 其 中 上 述 第 2 電 壓 係 被 作 成 比 上 述 第 4 電 壓 及 上 述 1 訂 Μ 0 S F Ε Τ 之 臨 界 值 電 壓 之 和 大 之 值 〇 1 1 1 5 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 4 項 之 半 導 體 U2Z. 記 憶 裝 置 » 1 1 其 中 上 述 第 3 電 壓 係 作 成 比 上 述 第 1 電 壓 及 上 述 1 1 Μ 0 S F Ε Τ 之 臨 界 值 之 和 大 之 值 〇 康 I 1 6 如 串 請 專利 範 圍 第 1 3 項 之 半 導 體 nsz. 記 憶 裝 置 9 1 I 其 中 在 上 述 Μ 0 S F Ε Τ 之 通 道 所 形 成 之 領 域 供 給 上 述 1 1 | 第 1 電 壓 0 1 1 1 7 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 3 項 之 半 導 體 記 憶 裝 置 » 1 1 其 中 上 述 Μ 0 S F Ε Τ 係 在 Ρ 通 道 型 阱 領 域形 成 在 上 1 1 述 Ρ 通 道 型 阱 領 域 上 述 第 1 電 壓 被 供 給 〇 1 | 1 8 如 串 請 專 利 範 圍 第 1 3 項 之 半 導 體 記 憶 裝 置 « 1 I 其 中 上述 第 1 電 壓 係 接 地 電 位 上 述 第 2 電 壓 係 電 源 電 壓 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇Χ297公釐)-6 - A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 上述第1 道 Μ 0 S F Ε 方所結合; 上述第2 道 Μ 0 S F Ε 一方結合; 上述第1 Μ 0 S F Ε Τ 之上述閘極結 上述第2 道 Μ 0 S F Ε Μ 0 S F Ε Τ 2 Ο .如 其中在上述Μ 518932 申請專利範圍 19.如申請專利範圍第13項之半導體記憶裝置, 其中上述讀出放大器,係包含:具有結合於上述第1電壓 配線之源極之第1通道MO S F E T,及具有結合於上述 第1電壓配線之源極之第2通道MO S F E T,及具有結 合於上述第2電壓配線之源極之第1 N通道MO S F E 丁 ,及具有結合於上述第2電壓配線之第2通道 Μ 0 S F E T ; Ρ通道MO S F Ε Τ之閘極及上述第1 Ν通 T之閘極,係與上述互補資料線對之中的一 P通道MO S F Ε T之閘極及上述第2 N通 T之閘極,係與上述互補資料線對之中的另 P通道MO S F Ε T之漏極及上述第1通道 之漏極,係與上述第2 P通道MO S F Ε T 合; P通道MO S F Ε T之漏極及上述第2 N通 T之漏極,係與上述第1 P通道 之上述閘極結合》 申請專利範圍第19項之半導體記憶裝置, Ο S F Ε T之通道所形成之領域,被供給上 述第1電壓。 2' 1 .如申請專利範圍第1 9項之半導體記億裝置 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)-7 - ---------1------,ΤΓ------^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 318932 A8 B8 C8 D8 經濟部中央標準局貝工消費合作社印裝 六、申請專利範圍 其中上述MO S F E T係在P通道型阱領域所形成,上述 P通道型阱領域係被供給上述第1電壓。 2 2 —種半導體記億裝置,係在具有以下之物之半 導體基板上形成者: (1 )包含有字線、及複數之互補資料線、及對應於 上述複數之字線與上述複數之互捕資料線對之交點所設之 複數動態型記億體單位之記億體陣列,·及 (2 )結合於上述複數互補資料線對及上述第1共通 源線及第2共通源線之複數之讀出放大器:及 (3 )結合於上述複數字線之字線驅動器;及 (4) 第1電壓端子;及 (5) 第2電壓端子;及 (6) 第1電壓發生電路;及 (7) 第2電壓發生電路; 其特徵爲;上述複數動態型記憶體單元,係包含有: 地址選擇MO S F E T,及具有一對電極之資訊記憶電容 器; 上述第1電壓端子,係從上述半導體裝置之外部被供 給第1電壓; 上述第2電壓端子,係從上述半導體裝置之外部被供 給第2電壓; 上述第1電壓發生電路,係接受上述第1電壓及上述 第2電壓,將比上述第1電壓大而且比上述第2電壓小之 第3電壓輸出到上述第1共通源線, 本紙張尺度逋用中國國家橾準(CNS〉A4说格( 210X297公釐)-8 - ---------------tr------φ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 A8 B8 C8 ______ D8 六、申請專利範園 上述第2電壓發生電路,係接受上述第1電壓及上述 第2電壓,將比上述第3電壓大而且比第2電壓小之第4 電壓輸出至上述第2共通源線, 上述字線驅動器,係將上述第2電壓供給至上述複數 之字線之中所選擇之字線,將上述第1電壓供給至上述複 數之字線之中所沒有選擇之線。 2 3 .如申請專利範圍第2 2項之半導體記憶裝置, 其中上述第2電壓,係被作成比上述第4電壓及上述 MO S F E T之臨界值電壓之和大之值。 2 4 .如申請專利範圍第2 3項之半導體記憶裝置, 其中上述第3電壓,係作成比上述第1電壓及上述地址選 擇MO S F E T之臨界值之和大之值。 2 5 .如申請專利範圍第2 2項之半導體記憶裝置, 其中在上述地址選擇MO S F E T之通道所形成之領域, 供給上述第1電壓。 2 6 .如申請專利範圍第2 2項之半導體記憶裝置, 其中上述地址選擇MO S F E T,係在P通道型阱領域形 成;在上述P通道型阱領域,上述第1電壓被供給。 2 7 .如申請專利範圍第2 2項之半導體記憶裝置, 其中上述第1電壓係接地電位,上述第2電壓係電源電壓 9 2 8 .如申請專利範圍第2 2項之半導體記憶裝置, 其中上述複數之讀出放大器,係包含:具有結合於上述第 1共通源線之源極之第1 P通道MO S F E T,及具有結 本紙張尺度逋用中國國家梯準(CNS)A4規格( 210X297公釐)-9 - -----------^------tr------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A8 B8 C8 -------D8 六、申請專利範圍 合於上述第1共通源線之源極之第2 P通道MO S F E Τ ’及具有結合於上述第2共通源線之源極之第1 N通道 MO S F E T,及具有結合於上述第2共通源線之第2 N 通道MOSFET ; 上述第1 P通道MO S F E T之閘極及上述第2 N通 道M〇 S F E T之閘極,係與上述互補資料線對之中的一 方所結合: 上述第2 P通道MO S F E T之閘極及上述第2 N通 道MO S F E T之閘極,係與上述互補資料線對之中的另 —方結合; 上述第1 P通道MO S F E T之漏極及上述第1通道 MO S F E T之漏極,係與上述第2 P通道MO S F E T 之上述閘極結合: 上述第2 P通道MO S F E T之漏極及上述第2 N通 道MO S F E T之漏極,係與上述第1 P通道 MO S F E T之上述閘極結合》 2 9 ·如申請專利範圍第2 8項之半導體記憶裝置, 其中在上述地址選擇MO S F Ε Τ之通道所形成之領域, 被供給上述第1電壓。 3 0 .如申請專利範圍第2 8項之半導體記憶裝置, 其中上述地址選擇MO S F Ε Τ係在Ρ通道型阱領域所形 成,上述Ρ通道型阱領域係被供給上述第1電壓。 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS > A4規格(210X297公釐)-10 - -----.----¾.------、訂------/ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
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US7064376B2 (en) * | 1996-05-24 | 2006-06-20 | Jeng-Jye Shau | High performance embedded semiconductor memory devices with multiple dimension first-level bit-lines |
US5748547A (en) * | 1996-05-24 | 1998-05-05 | Shau; Jeng-Jye | High performance semiconductor memory devices having multiple dimension bit lines |
US20050036363A1 (en) * | 1996-05-24 | 2005-02-17 | Jeng-Jye Shau | High performance embedded semiconductor memory devices with multiple dimension first-level bit-lines |
US5910880A (en) | 1997-08-20 | 1999-06-08 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor circuit components and capacitors |
US6370057B1 (en) * | 1999-02-24 | 2002-04-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device having plate lines and precharge circuits |
US6191443B1 (en) | 1998-02-28 | 2001-02-20 | Micron Technology, Inc. | Capacitors, methods of forming capacitors, and DRAM memory cells |
US6730559B2 (en) * | 1998-04-10 | 2004-05-04 | Micron Technology, Inc. | Capacitors and methods of forming capacitors |
JP2000022160A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路及びその製造方法 |
JP2000243085A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US6535415B2 (en) | 1999-02-22 | 2003-03-18 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
JP2001057075A (ja) | 1999-08-17 | 2001-02-27 | Nec Corp | 半導体記憶装置 |
JP3750494B2 (ja) * | 1999-08-31 | 2006-03-01 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置 |
JP2001084768A (ja) | 1999-09-10 | 2001-03-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置 |
US6643787B1 (en) * | 1999-10-19 | 2003-11-04 | Rambus Inc. | Bus system optimization |
US6452858B1 (en) * | 1999-11-05 | 2002-09-17 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
US6687175B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-02-03 | Renesas Technology Corporation | Semiconductor device |
US7005695B1 (en) * | 2000-02-23 | 2006-02-28 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuitry including a capacitor with an amorphous and a crystalline high K capacitor dielectric region |
JP3874234B2 (ja) * | 2000-04-06 | 2007-01-31 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
JP4492897B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2010-06-30 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2002015595A (ja) * | 2000-06-29 | 2002-01-18 | Sanyo Electric Co Ltd | 冗長メモリ回路 |
JP4326127B2 (ja) * | 2000-07-07 | 2009-09-02 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
JP3553027B2 (ja) | 2001-04-13 | 2004-08-11 | 松下電器産業株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP3548553B2 (ja) * | 2001-10-10 | 2004-07-28 | Necマイクロシステム株式会社 | 半導体装置およびその内部電源端子間の電源配線方法 |
US7055069B2 (en) * | 2002-08-23 | 2006-05-30 | Infineon Technologies Ag | Spare input/output buffer |
KR100481819B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2005-04-11 | (주)실리콘세븐 | 디램 셀을 사용하며, 칩 디스에이블 구간 중에 발생하는신호에 의하여 리프레쉬가 수행되도록 제어되는 동기식에스램 호한 메모리 |
US6711093B1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-23 | Micron Technology, Inc. | Reducing digit equilibrate current during self-refresh mode |
KR100550632B1 (ko) * | 2003-04-30 | 2006-02-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 외부 전원전압의 변화에 무관하게 균일한 센싱마진시간을갖는비트라인 센싱 방법 및 그를 위한 메모리 장치 |
US7218137B2 (en) * | 2004-04-30 | 2007-05-15 | Xilinx, Inc. | Reconfiguration port for dynamic reconfiguration |
US7233532B2 (en) * | 2004-04-30 | 2007-06-19 | Xilinx, Inc. | Reconfiguration port for dynamic reconfiguration-system monitor interface |
US7126372B2 (en) * | 2004-04-30 | 2006-10-24 | Xilinx, Inc. | Reconfiguration port for dynamic reconfiguration—sub-frame access for reconfiguration |
US7109750B2 (en) * | 2004-04-30 | 2006-09-19 | Xilinx, Inc. | Reconfiguration port for dynamic reconfiguration-controller |
KR100597639B1 (ko) * | 2004-06-16 | 2006-07-05 | 삼성전자주식회사 | 저전력 소모를 위한 반도체 메모리 장치 |
KR100761407B1 (ko) * | 2004-10-30 | 2007-09-27 | 주식회사 하이닉스반도체 | 저 전압용 반도체 메모리 장치 |
JP2006186445A (ja) * | 2004-12-27 | 2006-07-13 | Sanyo Electric Co Ltd | フリップフロップ回路 |
JP4255082B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2009-04-15 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 電圧供給回路および半導体メモリ |
DE102005040882B4 (de) * | 2005-08-29 | 2007-04-26 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Erfassen eines Leckstroms in einer Bitleitung eines Halbleiterspeichers |
JP2007207404A (ja) | 2006-02-06 | 2007-08-16 | Elpida Memory Inc | オーバードライブ書き込み方法、ライトアンプ電源生成回路及びこれらを備えた半導体記憶装置 |
US7440354B2 (en) * | 2006-05-15 | 2008-10-21 | Freescale Semiconductor, Inc. | Memory with level shifting word line driver and method thereof |
US7292495B1 (en) * | 2006-06-29 | 2007-11-06 | Freescale Semiconductor, Inc. | Integrated circuit having a memory with low voltage read/write operation |
JP2008047702A (ja) * | 2006-08-16 | 2008-02-28 | Nec Electronics Corp | 半導体記憶装置 |
US7609559B2 (en) * | 2007-01-12 | 2009-10-27 | Micron Technology, Inc. | Word line drivers having a low pass filter circuit in non-volatile memory device |
US7859301B2 (en) * | 2007-04-30 | 2010-12-28 | Altera Corporation | Power regulator circuitry for programmable logic device memory elements |
KR100895512B1 (ko) * | 2007-06-01 | 2009-04-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리 장치 |
US8948080B2 (en) * | 2007-07-17 | 2015-02-03 | Overhorizon (Cyprus) Plc | Methods comprising satellites having a regenerative payload, onboard computer, payload interface and interference elimination system |
US7684273B2 (en) * | 2007-11-14 | 2010-03-23 | Qimonda North America Corp. | Sense amplifier biasing method and apparatus |
JP2010218671A (ja) * | 2009-03-19 | 2010-09-30 | Renesas Electronics Corp | 半導体記憶装置 |
KR20110105153A (ko) * | 2010-03-18 | 2011-09-26 | 삼성전자주식회사 | 플립플롭 회로 및 스캔 플립 플롭 회로 |
US9312260B2 (en) | 2010-05-26 | 2016-04-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Integrated circuits and manufacturing methods thereof |
US8473888B2 (en) * | 2011-03-14 | 2013-06-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Systems and methods of designing integrated circuits |
US8885399B2 (en) * | 2011-03-29 | 2014-11-11 | Nxp B.V. | Phase change memory (PCM) architecture and a method for writing into PCM architecture |
US8605489B2 (en) * | 2011-11-30 | 2013-12-10 | International Business Machines Corporation | Enhanced data retention mode for dynamic memories |
US9111634B2 (en) | 2012-07-13 | 2015-08-18 | Freescale Semiconductor, Inc. | Methods and structures for multiport memory devices |
US9070425B2 (en) * | 2013-10-31 | 2015-06-30 | Micron Technology, Inc. | Data line control for sense amplifiers |
US9905277B2 (en) | 2015-06-30 | 2018-02-27 | Industrial Technology Research Institute | Memory controlling method and memory system |
TWI564893B (zh) * | 2015-06-30 | 2017-01-01 | 財團法人工業技術研究院 | 記憶體控制方法及其系統 |
US9935143B2 (en) * | 2015-09-30 | 2018-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
TWI726869B (zh) * | 2016-02-24 | 2021-05-11 | 聯華電子股份有限公司 | 靜態隨機存取記憶體的佈局結構及其製作方法 |
US10998030B2 (en) * | 2016-07-25 | 2021-05-04 | Celis Semiconductor Corporation | Integrated memory device and method of operating same |
US10892236B2 (en) * | 2019-04-30 | 2021-01-12 | Qualcomm Incorporated | Integrated circuit having a periphery of input/output cells |
CN111445938B (zh) * | 2020-03-26 | 2022-03-18 | 北京大学 | 编码型闪存结构及数据处理方法 |
CN116153360B (zh) * | 2023-03-16 | 2023-09-26 | 长鑫存储技术有限公司 | 感测放大电路结构及存储器 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2762292B2 (ja) | 1989-03-20 | 1998-06-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体記憶装置 |
JP2626160B2 (ja) * | 1990-04-27 | 1997-07-02 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ |
JP3373534B2 (ja) | 1991-07-02 | 2003-02-04 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JPH0562467A (ja) | 1991-09-05 | 1993-03-12 | Hitachi Ltd | センスアンプ駆動回路 |
JPH05109274A (ja) | 1991-10-18 | 1993-04-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体記憶装置 |
JP3192709B2 (ja) | 1991-11-05 | 2001-07-30 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JPH05291534A (ja) | 1992-04-14 | 1993-11-05 | Hitachi Ltd | 電荷蓄積素子を有する半導体装置 |
JPH0676574A (ja) | 1992-08-28 | 1994-03-18 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体メモリ |
JP3150503B2 (ja) | 1993-08-06 | 2001-03-26 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
JP3569310B2 (ja) * | 1993-10-14 | 2004-09-22 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
-
1996
- 1996-04-08 TW TW085104075A patent/TW318932B/zh not_active IP Right Cessation
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Also Published As
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US6411543B2 (en) | 2002-06-25 |
WO1997024729A1 (fr) | 1997-07-10 |
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