TW202143372A - 光罩容器系統及提供該光罩容器系統觀察光罩之方法 - Google Patents
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Abstract
本發明光罩容器系統包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收具有第一識別特徵的一光罩,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,其被一外圍區域圍繞,所述光罩容置區限定一相應地佈置成允許觀察所述第一識別特徵的第一觀察區;及一內蓋,配置來與內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部。所述外盒配置來接收內基座,並包括:一外基座,其上限定一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內盒時,第二觀察區域可觀察地與第一觀察區域對準,可以通過光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵;及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒。
Description
本申請要求於2018年10月29日提交的美國臨時專利申請號62/751736的優先權,其通過引用併入本文,並且成為說明書的一部分。
本公開涉及用於存儲,輸送,運輸和處理諸如光罩和晶片的易碎物體的容器,尤其涉及用於存儲,輸送,運輸和觀察光罩的容器系統與方法。
在半導體工業中,基於光罩固持器的載荷精確度的要求的提高,光罩固持器也隨著發展以強化對潛在的環境危害的保護。
例如,新一代的光罩固持器有時具有雙盒結構,其包括用於容納光罩的內盒,和用於容納內盒的外盒。在輸送過程中,光罩可能會收容在內盒中。為了執行光刻工藝,可以打開外盒以允許從中取出內盒。然後,在抵達曝光設備內部的指定位置時,可以打開內盒以使用光罩來進行後續曝光過程。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心,而所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,且所述外部光學組件的平面輪廓包括一個或多個圓弧狀部分。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心,所述內部光學組件的設置最小化重疊於所述外部光學組件的平面面積。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心,而所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離小於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的30%。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離大於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的10%。
本公開提供一種光罩容器系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒;其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件且所述第二觀察區配置一外部光學組件,可以通過所述外部光學組件與所述內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵。
本公開提供一種提供一光罩容器系統觀察一光罩之方法,該光罩容器系統包括一容置所述光罩之內盒與一容置所述內盒之外盒,其中,所述內盒包括一接收所述光罩之內基座,所述外盒包括一接收所述內基座之外基座,包括:配置至少一內部光學組件在所述內基座,並使所述內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述內基座的幾何中心,以允許通過所述內部光學組件觀察所述光罩之一第一識別特徵;以及,配置一外部光學組件在所述外基座,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內基座的幾何中心,且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,以允許通過所述外部光學組件與所述內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵。
以下描述將參考附圖以更全面地描述本公開內容。 附圖中所示為本公開的示例性實施例。 然而,本公開可以以許多不同的形式來實施,並且不應所述被解釋為限於在此闡述的示例性實施例。 提供這些示例性實施例是為了使本公開透徹和完整,並且將本公開的範圍充分地傳達給本領域技術人員。 類似的附圖標記表示相同或類似的元件。
本文使用的術語僅用於描述特定示例性實施例的目的,而不意圖限制本公開。 如本文所使用的,除非上下文另外清楚地指出,否則單數形式“一”,“一個”和“所述”旨在也包括複數形式。 此外,當在本文中使用時,“包括”和/或“包含”或“包括”和/或“包括”或“具有”和/或“具有”,整數,步驟,操作,元件和/或組件,但不排除存在或添加一個或多個其它特徵,區域,整數,步驟,操作,元件,組件和/或其群組。
除非另外定義,否則本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本公開所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。 此外,除非文中明確定義,諸如在通用字典中定義的那些術語應所述被解釋為具有與其在相關技術和本公開內容中的含義一致的含義,並且將不被解釋為理想化 或過於正式的含義。
將結合圖1至圖6中的附圖對示例性實施例進行描述。具體實施方式將參考附圖來詳細描述本公開,其中,所描繪的元件不必按比例示出,並且通過若干視圖,相同或相似的附圖標記由相同或相似的附圖標記表示相同或相似的元件。
圖1示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的示意性截面圖。為了說明簡單和清楚起見,示例性系統的一些細節/子組件未在本圖中明確標記/示出。
參照圖1,示例性光罩固持系統100包括一外盒1和一內盒2。內盒2配置來由外盒1接收。內盒2配置來接收光罩。在所示的實施例中,內盒2包括一內基座22,內基座22限定了一光罩容置區22a。光罩容置區22a被一外圍區域22b圍繞。內盒2還包括一內蓋21,該內蓋21配置來與內基座22的外圍區域22b建立接合,從而在封閉時協作地形成一內部空間以容納光罩R1
。為了對敏感和易碎內容物提供徹底的保護,在一些實施例中,內蓋21和內基座22具有電磁干擾(electromagnetic interference (EMI))屏蔽特性。用於提供EMI屏蔽能力的合適材料可以包括諸如金屬的導電材料。在一些實施例中,可以在內盒2的表面上提供金屬塗層(例如銅或金)。在一些實施例中,內蓋21和內基座22均由金屬材料製成,例如鋁。
參照圖1,示例性外盒1被配置為容納內盒2。在所示的實施例中,外盒1包括一配置來接收內基座22的外基座12和一外蓋11。該外蓋配置來與外基座12接合(並覆蓋內盒2)。外基座12可以具有靜電荷耗散特性。在一些實施例中,外盒1可以包含與導電纖維混合的聚合物材料。例如,在一些實施例中,外蓋11和外基座12其中一者或兩者由嵌入有碳纖維的樹脂材料製成。
在一些實施例中,內蓋21配置來與內基座22的外圍區域22b建立密封地(sealingly)接合。在一些實施例中,內蓋21配置來與內基座22建立壓迫接合(pressing engagement)。所述壓迫接合通過在外基座12和外蓋11閉合時來自外蓋11的壓力而產生。在一些實施例中,內蓋21和內基座22之間的壓迫接合可通過基本平面的金屬之間的界面形成。通常,壓迫接合建立了密封地閉合,該密封地閉合防止灰塵和濕氣通過內盒2的上下構件之間的接觸界面進入內部空間。在一些實施例中,內蓋21和內基座22其中一者或兩者可以在相應的接合界面區域處設置附加的密封元件(例如,密封墊圈或O形環)以進一步增強阻擋環境污染的能力。
參照圖1,示例性系統具有限定在內基底22的光罩容置區22a中的第一觀察區Zl1
,以允許觀察光罩R1
。在圖示的實施方式中,內基座22包括設置在第一觀察區Zl1
中的一內部光學組件221。在一些實施例中,內部光學組件221可以由允許紅外光、可見光或紫外線的信號穿透的材料製成。內部光學組件221的合適材料可以包括玻璃(例如,石英玻璃),丙烯酸,透明塑料或類似材料。在所示的實施例中,內部光學組件221可以包括一塊石英玻璃,該石英玻璃嵌入地佈置在內基座22中(在光罩容置區22a中)。
在本實施例中,第一觀察區Zl1
被相應地設計為在接收到光罩R1
(在示意圖中未明確示出)時,允許觀察第一識別特徵(例如,一維或二維條形碼)。在一些實施例中,光罩R1
的第一識別特徵形成在面向第一觀察區Z11
中的視窗的表面上。
外基座12上具有第二觀察區Z12
。第二觀察區Z12
被佈置成與內盒1的第一觀察區Zl1
可觀察地對準。這樣,可以通過穿過第二觀察區Z12
和第一觀察區Zl1
的光學掃描來確認固持在光罩固持系統100中的光罩R1
(諸如光罩R1
的狀態和第一標識)。因此,在半導體製造過程中可以降低盒的打開頻率,並最小化將敏感的精密工件暴露於潛在危險的環境因素的可能性。
在所示的實施例中,外基座12具有嵌入在第二觀察區Z12
中的外部光學組件121。 外部光學組件121可由允許紅外光、可見光或紫外線的信號穿透的材料製成。外部光學組件121的合適材料可包括玻璃(例如石英玻璃),丙烯酸,透明塑料或類似材料。在一些實施例中,對於所述的一個或多個光譜範圍的光學信號,外部光學組件121的透射率值大於80%。在一些實施例中,根據特殊的應用需求,光學組件(例如,外部光學組件和/或內部光學組件)可以包括凹/凸表面。
在一些實施例中,在600nm至950nm之間的波長範圍,內部光學組件221具有比外部光學組件121更低的反射率值。光學組件所對應的波長范圍可以在大約630nm至930nm的範圍內。在一些實施例中,外部光學組件121相對於上述波長範圍的反射率值可以小於15%。在一些實施例中,內部光學組件221相對於上述波長範圍的反射率值可以小於0.5%。在一些實施例中,內部光學組件221可以進一步具有抗反射層。在一些實施例中,內部光學組件221可以進一步設置有具有EMI屏蔽特性的層。
在一些實施方式中,內部光學組件221可以密封地安裝在第一觀察區Zl1
中。例如,內部光學組件221的建置可以包括圍繞可透光組件的密封構件(例如,O形環)。通常,內部光學組件221的建置提供了一種密封閉合,該密封閉合能夠充分防止灰塵和濕氣通過光學組件與內基座之間的結構界面進入內部空間。在一些實施例中,光學構件221可以被建置為實現氣密等級的密封。
在一些對防塵的要求很嚴格的實施例中,外基座的第二觀察區Z12
中的外部光學組件121也可以具有相同的密封機構。然而,但在僅內部密封就足夠的應用中,也可以不使用密封機構來建置外部光學組件121,從而降低結構複雜性,減輕重量,降低成本。
圖2示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的俯視圖。為了說明簡單和清楚起見,示例性設備的一些細節/子組件未在本圖中明確標記/示出。例如,未示出內蓋和外蓋。
在所示的實施例中,在俯視圖中,光罩R1
、內基座22和外基座12具有基本矩形的平面輪廓(或稱俯視輪廓)。如圖所示,示例性內基座22的光罩容置區22a大致形成在其幾何中心。
圖3示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的分解圖。為了說明簡單和清楚起見,示例性系統的一些細節/子組件在本圖中未明確標記。
示例性光罩固持系統300包括一外盒31和一內盒32。內盒32配置來由外盒31接收。內盒32配置來接收一光罩。在所示的實施例中,內盒2包括內一內基座322及一內蓋321。內基座322限定了一光罩容置區322a。光罩容置區322a被一外圍區域322b圍繞。該內蓋321配置來與內基座322的外圍區域322b建立接合,從而在封閉時協作地形成一內部空間以容納光罩R3
。
示例性外盒31被配置來收容內盒32。在所示的實施例中,外盒31包括一配置來接收內基座322的外基座312和一外蓋311。該外蓋311配置來與外基座312接合並覆蓋內盒32。
在一些實施例中,內蓋321配置來與內基座322的外圍區域322b建立密封地(sealingly)接合。例如,內蓋321可以配置來在外基座312和外蓋311之間閉合時被外蓋311按壓。
在一些實施例中,內蓋321和內基座322具有電磁干擾(electromagnetic interference (EMI))屏蔽特性,從而減少了對光罩R3
的不利影響。在一些實施例中,內蓋321和內基座322的合適的材料和建置可以相似於前述的實施例。在所示的實施例中,內蓋321和內基座322均由鋁製成,例如使用計算機數控(CNC)加工技術。
如圖所示,在內基座322的光罩容置區322a中限定有第一觀察區Z31
,以能夠觀察光罩R3
。在所示的實施例中,內基座322包括嵌入在第一觀察區Z31
中的兩個內部光學組件3221, 3222。
在所示的實施例中,內基座322包括一在其底側的第三識別特徵I3
。在一些實施例中,第三識別特徵I3
可以包括諸如快速響應碼(quick response code (QR code))的二維條形碼。在一些實施例中,第三識別特徵I3
可以是用於指示內盒32相對於外盒31的方位的視覺圖形特徵。例如,第三識別特徵I3
可以包括不對稱的圖案。
外基座312具有一個定義其上的第二觀察區Z32
,當外基座312接收內盒31時,所述第二觀察區Z32
可觀察地對準所述內盒31的第一觀察區Z31
。這樣,可以簡單地通過穿過第二觀察區Z32
和第一觀察區Z31
的光學掃描來確認固持在光罩固持系統300中的光罩R3
的信息(例如光罩R3
的條件或狀態及其第一識別特徵I1
),從而減少了外盒32必須打開的次數。可以提供一掃描儀S(如圖4所示)以通過外部光學組件3121掃描內盒32的第三識別特徵I3
,以便識別內盒32的方位。可以進行後續調整以微調所述方位。
在示出的實施例中,外基座312具有外部光學組件3121,其嵌入在第二觀察區Z32
中。外部光學組件3121可以由允許紅外光、可見光或紫外線的信號穿透的材料製成。在一些實施例中,外部光學組件3121的透射率值大於80%。外部光學組件121的材料可以與之前實施例中所述的外部光學組件相當。
在一些實施例中,在600nm至950nm之間的波長範圍,內部光學組件3221具有比外部光學組件3121更低的反射率值。光學組件所對應的波長範圍可以在大約630nm至930nm的範圍內。在一些實施例中,外部光學組件3121相對於上述波長範圍的反射率值可以小於15%。在一些實施例中,內部光學組件3221相對於上述波長範圍的反射率值可以小於0.5%。在一些實施例中,內部光學組件3221可以進一步具有抗反射層。內部光學組件3221的低反射率值可以歸因於所述抗反射層。
在一些實施例中,兩個內部光學組件3221、3222可以密封地安裝在第一觀察區Z31
中。在一些實施例中,兩個內部光學組件3221、3222可以由允許紅外光、可見光或紫外線的信號穿透的材料製成。在一些實施例中,兩個內部光學組件3221、3222的合適材料可以與前述實施例中描述的材料相當。在一些實施例中,外部光學組件3121可以密封地安裝在第二觀察區Z32
中。
圖4和圖5分別示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的截面圖和區域截面圖。為了說明簡單和清楚起見,示例性系統的一些細節/子組件在圖中未明確標記。在一些實施例中,圖5可以是一個截取自圖4中所示的一虛線框D的區域截面圖。
圖4示出了光罩R4
被接收在內基座422上的光罩容置區422a中。在被示出的實施例中,內基座422的外圍區域422b與內蓋421壓迫接合。
在所示的實施例中,光罩R4
包括第一識別特徵I1
(例如,二維條形碼)、佈置在第一識別特徵I1
附近的護膜P、佈置在光罩R4
和護膜P之間的護膜框架PF。第二識別特徵I2
(如圖5所示)設置在護膜框架PF上。可以提供掃描儀S以通過一外部光學組件4121讀取第一識別特徵I1
。可以通過外部光學組件4121和內部光學組件4221觀察/檢查(例如,通過干涉儀)護膜P的一部分和護膜框架PF。
參照圖5,在示出的實施例中,第一觀察區Z51
的佈置被相應地設計成在接收光罩R5
的情況下允許觀察光罩R5
的第一識別特徵I1
、護膜框架PF的第二識別特徵I2
、護膜P的一部分、護膜框架PF的一部分。
內基座522的光罩容置區522a具有一厚度T522a
,其小於外圍區域522b的一厚度T522b
。光罩容置區522a在其橫截面中包括台階輪廓522s。在所示的附圖中,台階輪廓522s的角度大致呈直角;在實際應用中,台階輪廓可根據具體的設計需求調整。在所示的實施例中,光罩R5
的外圍被支撐在台階輪廓522s的上方,而護膜P和護膜框架PF被台階輪廓522s投影地包圍(例如,在俯視圖中,台階輪廓522s環設於護膜框架PF的周圍)。在一些實施例中,台階輪廓522s可以與外部光學組件5121投影地重疊。
在一些實施例中,可以用掃描儀S通過外部光學組件5121和多個內部光學組件(例如,從當前剖視圖中可見的部件5221)光罩R5
的狀態(例如,光罩R5
的存在,其序列號,其方位),而無需打開光罩固持系統。內盒522的第三識別特徵I3
可以被掃瞄來辨識其序列號和狀態。
圖6示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的俯視圖。為了說明簡單和清楚起見,示例性系統的一些細節/子組件未在本圖中明確標記/示出。例如,在圖6中未示出內蓋和外蓋。
在所示的實施例中,所述兩內部光學組件6221、6222其中一者具有大於所述兩內部光學組件6221、6222其中另一者的平面面積。例如,從示出的俯視圖來看,內部光學組件6221具有比內部光學組件6222更大的面積。
在所示的實施例中,內部光學組件6221設計成具有更大的平面面積,以允許同時光學通道連通至所述護膜P、所述護膜框架PF的第二識別特徵I2
、和所述護膜框架PF的一部分。另一方面,內部光學組件6222具有較小的平面面積,以允許觀察第一識別特徵I1
。同時,外部光學組件6121與兩個內部光學組件6221、6222可觀察地對準,從而能夠通過其觀察所述護膜P,所述護膜框架PF的第二識別特徵I2
、所述護膜框架PF的一部分、及所述第一識別特徵I1
。
在示出的實施例中,外部光學組件6121被配置為允許觀察第三識別特徵I3
。如此,可通過觀察外部光學組件6121來確認諸如光罩R6
、護膜P、護膜框架PF的狀態,以及識別特徵I1
,I2
,I3
的信息,從而減少了外盒被打開的次數。
在一些實施例中,外部光學組件可以與兩內部光學組件投影地重疊。在所示的實施例中,兩個內部光學組件6221、6222被佈置成由外部光學組件6121完全重疊(例如,投影地覆蓋)。在這樣的實施例中,外部光學組件的平面面積等於或大於內部光學組件6221、6222。例如,在所示的俯視圖中,外部光學組件6121的平面面積大於兩個內部光學組件的內部面積。在一些實施例中,兩個內部光學組件的某些部分可能不與外部光學組件重疊。在此類實施例中,外部光學組件的平面面積可能小於兩個內部光學組件的平面面積。
在所示的實施例中,內部光學組件6221、6222被佈置在第三識別特徵I3
附近。這樣的佈置減小了(與內部光學組件6221、6222)重疊的外部光學組件6121的平面面積,從而增強了外基座612的結構強度。在一些實施例中,內部光學組件6221、6222被佈置為遠離第三識別特徵I3
。在這些實施例中,外基座612可以具有一個或多個附加的外部光學組件(未示出),所述附加的外部光學組件分別與第三識別特徵I3
、及內部光學組件6221、6222的位置相對應。
在一些實施例中,外基座的整個底面可以設計來作為第二觀察區。例如,一外部光學組件可能佔據外基座的整個底部。
在所示的俯視圖中,外部光學組件6121具有基本矩形的平面輪廓。沿著所述外部光學組件6121的矩形輪廓的長度方向DL
,所述第三識別特徵I3
佈置在所述兩個內部光學組件6221、6222之間。在一些實施例中,內部光學組件6221、6222和外部光學組件6121的平面輪廓可以包括一個或多個圓弧狀部分。
光學組件(例如,光學組件6121)的放置位置,材料和平面輪廓可以考慮各種因素,例如重量分佈,結構完整性和裝置部件的整體重量極限。如本實施例所示,外部光學組件6121朝著外基座622的幾何中心佈置。例如,在x方向和y方向上,外部光學組件6121的幾何中心到外基座622的中心之間的距離通常小於外基座622的中心到外基座622外緣的距離的一半。這樣的佈局設置可以幫助在保持外基座622的結構完整性的同時保持更好的整體平衡。而且,這樣的佈局設置有助於為了諸如密封和閂鎖機構之類的其他功能部件保留基座構件(例如,外基座622)的外圍區域。
在所示的實施例中,從外部光學組件6121的幾何中心6121c到外基座612的對稱軸A1
的距離D小於外基座612的矩形輪廓的長度L的30%。在一些實施例中,距離D可以短於外基座612的矩形輪廓的寬度W的30%。在一些實施例中,距離D可以為76 mm左右;長度L可以為270mm左右;寬度W可以是大約260mm。
在一些實施例中,從幾何中心6121c到外基座612的對稱軸A2
的距離短於外基座612的矩形輪廓的長度L和/或寬度W的30%。
此外,光學組件(例如,光學組件6121)的佈局設置可以有助於保留基座構件(例如,外基座622)的中心區域以供用於其他功能部件,例如支撐機構。如本實施例中所示,外部光學組件6121的幾何中心投影地偏移外基座622的幾何中心且投影地偏移所述兩個內部光學組件6221、6222的幾何中心。
在所示的實施例中,從外部光學組件6121的幾何中心6121c到外基座612的對稱軸A1
的距離D大於外基座612的矩形輪廓的長度L的10%和/或寬度W的10%。在一些實施例中,從幾何中心6121c到對稱軸線A2
的距離大於長度L的10%和/或寬度W的10%。在一些實施例中,幾何中心6121c可以佈置在外基座612的中心區域處。
在所示的實施例中,內基座622還包括佈置在第一觀察區Z31
外部的附加的內部光學組件(例如,光學端口62a)。同樣地,外基座可以進一步設置有與內盒的附加光學端口62a相對應地佈置的附加的外部光學組件。附加的外部光學組件可以相應地與附加的內部光學組件62a以可觀察的方式對齊佈置。在一些實施例中,外部光學組件的數量(例如,光學端口6121)少於內部光學組件(例如,端口6121、6122、62a)的數量。
因此,本公開的一方面提供了一種光罩固持系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收具有一第一識別特徵的一光罩。所述內盒包括:一內基座,具有一大致位於其幾何中心的光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞;及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部。其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,所述第一觀察區相應地佈置成允許觀察所述第一識別特徵。所述外盒配置來接收所述內基座,所述外盒包括:一外基座,其上限定一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內盒時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準;及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒。
在一些實施態樣中,所述內盒還被配置來接收具有護膜(pellicle)的光罩,所述護膜佈置在所述第一識別特徵附近;所述內基座的所述第一觀察區域被相應地佈置以允許觀察所述第一識別特徵和所述護膜的一部分。
在一些實施態樣中,所述內基座包括兩個內部光學組件,所述兩個內部光學組件密封地嵌入在所述第一觀察區中,以分別觀察所述第一識別特徵和所述護膜的一部分;其中,所述外基座包括一外部光學組件,所述外部光學組件嵌入在所述第二觀察區中並與所述兩個內部光學組件可觀察地對準。
在一些實施態樣中,所述兩內部光學組件其中一者具有大於所述兩內部光學組件其中另一者的平面面積。
在一些實施態樣中,所述內盒還配置來接收具有護膜的光罩且所述光罩和所述護膜之間設置有一護膜框架,所述護膜鄰近所述第一識別特徵;所述具有較大平面面積的內部光學組件配置來允許觀察所述護膜框架的一部份。
在一些實施態樣中,一第二識別特徵設置在所述護膜框架上;所述具有較大平面面積的內部光學組件組配來允許觀察所述第二識別特徵。
在一些實施態樣中,所述內基座包括一第三識別特徵;所述外部光學組件配置來允許觀察所述第三識別特徵。
在一些實施態樣中,所述外部光學組件具有矩形的平面輪廓;沿著所述外部光學組件的矩形輪廓的長度方向,所述第三識別特徵佈置在所述兩個內部光學組件之間。
在一些實施態樣中,所述外部光學組件投影地重疊於所述兩個內部光學組件。
在一些實施態樣中,所述外部光學組件的平面面積大於所述兩個內部光學組件的平面面積。
在一些實施態樣中,所述內基座進一步包括佈置在所述第一觀察區之外的附加的內部光學組件;所述外部基座進一步包括佈置在所述第二觀察區之外的附加的外部光學組件;所述外部光學組件的數量少於所述內部光學組件的數量。
在一些實施態樣中,所述內基座的所述光罩容置區的一厚度小於所述外圍區域的一厚度,且所述光罩容置區在其橫截面中包括一台階輪廓(step profile)。
在一些實施例中,所述內基座包括電磁干擾(EMI)屏蔽特性。
在一些實施態樣中,所述外基座具有基本為矩形的平面輪廓;所述外部光學組件具有基本為矩形的平面輪廓;從所述外部光學組件的幾何中心到所述外基座的對稱軸的一距離短於所述外基座的矩形輪廓的長度的30% 。
在一些實施例中,在600nm至950nm之間的波長範圍,所述內部光學組件具有比所述外部光學組件低的反射率值(reflectance value)。
在一些實施例中,所述外部光學組件的反射率值小於15%;所述內部光學組件的反射率值小於0.5%。
在一些實施例中,所述外部光學組件的透射率值(transmittance value)大於80%。
因此,本公開的一方面提供了一種光罩固持系統,包括一內盒及一外盒。所述內盒配置來接收鄰近於一護膜(pellicle)並且具有一第一識別特徵的一光罩。所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區大致位於幾何中心且被一外圍區域圍繞;及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域密封地接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部。所述內基座包括兩個內部光學組件,所述兩個內部光學組件密封地嵌入在所述光罩容置區,以分別允許觀察所述第一識別特徵和所述護膜的一部分。所述外盒配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,包括一外部光學組件,當所述外基座接收所述內盒時,所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件可觀察地對準,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準;及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒。
在一些實施態樣中,所述內盒還配置來接收具有護膜的光罩,所述護膜鄰近所述第一識別特徵,所述光罩和所述護膜之間設置有一護膜框架;所述兩個內部光學組件其中具有較大平面面積者配置來允許觀察所述護膜框架的一部份。
在一些實施態樣中,一第二識別特徵設置在所述護膜框架上;所述具有較大平面面積的內部光學組件組配來允許觀察所述第二識別特徵。
在一些實施態樣中,所述內基座包括一第三識別特徵;所述外部光學組件配置來允許觀察所述第三識別特徵;所述外部光學組件具有矩形的平面輪廓;沿著所述外部光學組件的矩形輪廓的長度方向,所述第三識別特徵佈置在所述兩個內部光學組件之間。
惟以上所述者,僅為本發明之實施例而已,當不能以此限定本發明實施之範圍,凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
100:光罩固持系統
1:外盒
11:外蓋
12:外基座
121:外部光學組件
Z12
:第二觀察區
2:內盒
21:內蓋
22:內基座
22a:光罩容置區
22b:外圍區域
221:內部光學組件
R1
:光罩
Zl1
:第一觀察區
300:光罩固持系統
31:外盒
311:外蓋
312:外基座
3121:外部光學組件
Z32
:第二觀察區
32:內盒
321:內蓋
322:內基座
322a:光罩容置區
322b:外圍區域
3221:內部光學組件
3222:內部光學組件
R3
:光罩
Z31
:第一觀察區
I1
:第一識別特徵
I2
:第二識別特徵
I3
:第三識別特徵
S:掃描儀
421:內蓋
422:內基座
R4
:光罩
422a:光罩容置區
422b:外圍區域
P:護膜
PF:護膜框架
R5
:光罩
5121:外部光學組件
Z52
:第二觀察區
52:內盒
522:內基座
522a:光罩容置區
522s:台階輪廓
T522a
:厚度
T522b
:厚度
522b:外圍區域
5221:內部光學組件
R5
:光罩
Z51
:第一觀察區
612:外基座
6121:外部光學組件
Z32
:第二觀察區
622:內基座
6221:內部光學組件
6222:內部光學組件
R6
:光罩
D:距離
L:長度
W:寬度
DL
:長度方向
x:方向
y:方向
A1
:對稱軸
A2
:對稱軸
6121c:幾何中心
62a:光學端口
為可仔細理解本案以上記載之特徵,參照實施態樣可提供簡述如上之本案的更特定描述,一些實施態樣係說明於隨附圖式中。然而,要注意的是,隨附圖式僅說明本案的典型實施態樣並且因此不被視為限制本案的範圍,因為本案可承認其他等效實施態樣。
圖1示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的示意性剖視圖;
圖2示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的示意性俯視圖;
圖3示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的分解圖;
圖4示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的剖視圖;
圖5示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的區域截面圖;及
圖6示出了根據本公開的一些實施例的光罩固持系統的俯視圖。
然而,應注意的是,附圖僅示出了本公開的示例性實施例,並且因此不應被認為是對其範圍的限制,因為本公開可以允許其他等效的實施例。
應該注意的是,這些附圖意在說明在某些示例實施例中使用的方法,結構和/或材料的一般特性,並補充下面提供的書面描述。然而,這些附圖不是按比例繪製的,並且可能不能精確地反映任何給定實施例的精確的結構或性能特徵,並且不應被解釋為定義或限制示例實施例所涵蓋的值或特性的範圍。例如,為了清楚起見,可以減小或放大層,區域和/或結構元件的相對厚度和位置。在各個附圖中使用相似或相同的附圖標記旨在指示相似或相同的元件或特徵的存在。
100:光罩固持系統
1:外盒
11:外蓋
12:外基座
121:外部光學組件
Z12:第二觀察區
2:內盒
21:內蓋
22:內基座
22a:光罩容置區
22b:外圍區域
221:內部光學組件
R1:光罩
Z11:第一觀察區
Claims (25)
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心,而所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,且所述外部光學組件的平面輪廓包括一個或多個圓弧狀部分。
- 如請求項1所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分,所述第二觀察區配置所述外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內部光學組件各別的幾何中心,而所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件。
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心,所述內部光學組件的設置最小化重疊於所述外部光學組件的平面面積。
- 如請求項3所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分,所述第二觀察區配置所述外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內部光學組件各別的幾何中心,所述兩個內部光學組件的設置最小化重疊於所述外部光學組件的平面面積。
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心以及所述內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心,而所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件。
- 如請求項5所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分,所述第二觀察區配置所述外部光學組件,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內部光學組件各別的幾何中心,而所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件。
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離小於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的30%。
- 如請求項7所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分,且所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件。
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件以允許觀察所述第一識別特徵,所述第二觀察區配置一外部光學組件且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離大於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的10%。
- 如請求項9所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分,且所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件。
- 一種光罩容器系統,包括: 一內盒,配置來接收一光罩,所述光罩具有一第一識別特徵,所述內盒包括:一內基座,具有一光罩容置區,所述光罩容置區被一外圍區域圍繞,其中,所述內基座具有限定在所述光罩容置區中的第一觀察區,及一內蓋,配置來與所述內基座的外圍區域接合,從而限定一用於容置所述光罩的內部;以及 一外盒,配置來接收所述內盒,所述外盒包括:一外基座,具有一第二觀察區域,其中,當所述外基座接收所述內基座時,所述第二觀察區域可觀察地與所述內盒的所述第一觀察區域對準,及一外蓋,配置來與所述外基座接合並覆蓋所述內盒; 其中,所述第一觀察區配置至少一內部光學組件且所述第二觀察區配置一外部光學組件,可以通過所述外部光學組件與所述內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵。
- 如請求項11所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一護膜,所述第一觀察區配置兩個內部光學組件且所述第二觀察區配置一外部光學組件,可以通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵與所述護膜的一部分。
- 如請求項1或3或5或7或9所載光罩容器系統,其中,所述第二觀察區域可觀察地與所述第一觀察區域對準,可以通過所述外部光學組件與所述內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵。
- 如請求項1或3或5或7或9或11所載光罩容器系統,其中,所述內基座的底側設置一第三識別特徵,且允許通過所述外部光學組件的光學掃描來確認所述內基座的所述第三識別特徵。
- 如請求項2或4或6或8或10所載光罩容器系統,其中,所述第二觀察區域可觀察地與所述第一觀察區域對準,可以通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵與所述護膜的一部分。
- 如請求項2或4或6或8或10或12所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一第二識別特徵,且觀察所述護膜的所述內部光學組件可觀察所述第二識別特徵,而所述第二觀察區域可觀察地與所述第一觀察區域對準,可以通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵與所述第二識別特徵。
- 如請求項2或4或6或8或10或12所載光罩容器系統,其中,所述光罩具有一第二識別特徵,且所述兩個內部光學組件之其中較大面積者可觀察所述護膜的一部分與所述第二識別特徵,而所述第二觀察區域可觀察地與所述第一觀察區域對準,可以通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件之其中較大面積者的光學掃描來確認所述光罩的所述護膜的一部分與所述第二識別特徵。
- 一種提供一光罩容器系統觀察一光罩之方法,該光罩容器系統包括一容置所述光罩之內盒與一容置所述內盒之外盒,其中,所述內盒包括一接收所述光罩之內基座,所述外盒包括一接收所述內基座之外基座,包括: 配置至少一內部光學組件在所述內基座,並使所述內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述內基座的幾何中心,以允許通過所述內部光學組件觀察所述光罩之一第一識別特徵;以及 配置一外部光學組件在所述外基座,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述內基座的幾何中心,且所述內部光學組件投影地重疊所述外部光學組件,以允許通過所述外部光學組件與所述內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:所述內部光學組件的設置最小化重疊於所述外部光學組件的平面面積,所述最小化重疊係指允許從所述外部光學組件通過所述內部光學組件觀察所述第一識別特徵。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述內基座的底側設置一第三識別特徵,允許通過所述外部光學組件的光學掃描來確認所述內基座的所述第三識別特徵。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,配置所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離小於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的30%。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述外基座具有矩形輪廓且具有一對稱軸,所述外部光學組件的幾何中心到所述對稱軸的距離大於所述矩形輪廓的長度和/或寬度的10%。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述光罩具有一護膜與一設置在一護膜框架上之第二識別特徵,配置另一內部光學組件在所述內基座,並使所述另一內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述內基座的幾何中心以允許觀察所述第二識別特徵;以及,配置所述外部光學組件在所述外基座,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內基座各別的幾何中心,且所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件,以允許通過所述外部光學組件與所述另一內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述護膜的一部分與所述第二識別特徵。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述光罩具有一護膜與一設置在一護膜框架上之第二識別特徵,配置兩個內部光學組件在所述內基座,並使所述兩個內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述內基座的幾何中心以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述第二識別特徵;以及,配置所述外部光學組件在所述外基座,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內基座各別的幾何中心,且所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件,以允許通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵與所述第二識別特徵。
- 如請求項18所載觀察一光罩之方法,包括:當所述光罩具有一護膜,配置兩個內部光學組件在所述內基座,並使所述兩個內部光學組件的幾何中心投影地偏移所述內基座的幾何中心以允許分別觀察所述第一識別特徵與所述護膜的一部分;以及,配置所述外部光學組件在所述外基座,並使所述外部光學組件的幾何中心投影地偏移所述外基座的幾何中心以及所述兩個內基座各別的幾何中心,且所述兩個內部光學組件皆投影地重疊所述外部光學組件,以允許通過所述外部光學組件與所述兩個內部光學組件的光學掃描來確認所述光罩的所述第一識別特徵與所述護膜的一部分。
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