JPH11237729A - マスクのペリクル構造、そのペリクルｉｄ識別装置及びそのペリクルｉｄ識別方法 - Google Patents
マスクのペリクル構造、そのペリクルｉｄ識別装置及びそのペリクルｉｄ識別方法Info
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- JPH11237729A JPH11237729A JP4190198A JP4190198A JPH11237729A JP H11237729 A JPH11237729 A JP H11237729A JP 4190198 A JP4190198 A JP 4190198A JP 4190198 A JP4190198 A JP 4190198A JP H11237729 A JPH11237729 A JP H11237729A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ペリクル自身の電気的導通部と不導通部から
構成されるペリクルＩＤをペリクルフレーム自身に固定
し、電気的に読み取ることができるマスクのペリクル構
造、そのペリクルＩＤ識別装置及びそのペリクルＩＤ識
別方法を提供する。 【解決手段】 ペリクル１は、パターン部２、導電性部
３、粘着剤層部４から構成されるＩＤラベル５が粘着剤
部６によりペリクルフレーム７に固定されており、ペリ
クルＩＤを電気的に読み取り可能なペリクルＩＤ読み取
り部と、前記ペリクルＩＤ及び読み取り部と電気的接触
を可能とするマスク上の導電性Ｃｒ薄膜金属からなる信
号引き出し用パターンとを具備する。
構成されるペリクルＩＤをペリクルフレーム自身に固定
し、電気的に読み取ることができるマスクのペリクル構
造、そのペリクルＩＤ識別装置及びそのペリクルＩＤ識
別方法を提供する。 【解決手段】 ペリクル１は、パターン部２、導電性部
３、粘着剤層部４から構成されるＩＤラベル５が粘着剤
部６によりペリクルフレーム７に固定されており、ペリ
クルＩＤを電気的に読み取り可能なペリクルＩＤ読み取
り部と、前記ペリクルＩＤ及び読み取り部と電気的接触
を可能とするマスク上の導電性Ｃｒ薄膜金属からなる信
号引き出し用パターンとを具備する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
製造工程の一部であるホトリソ工程で使用されるマスク
に貼り付けるペリクル構造、そのペリクルＩＤ識別装置
及びそのペリクルＩＤ識別方法に関するものである。
製造工程の一部であるホトリソ工程で使用されるマスク
に貼り付けるペリクル構造、そのペリクルＩＤ識別装置
及びそのペリクルＩＤ識別方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、マスクは、半導体パターンをウ
エハ基板上に転写する場合に用いる半導体回路パターン
原板である。このようなマスクは、石英等の基板上にＣ
ｒ等の薄膜金属で半導体回路パターンを形成したもので
あり、塵埃等の異物からマスク表面を保護するためペリ
クルを装着する場合がある。
エハ基板上に転写する場合に用いる半導体回路パターン
原板である。このようなマスクは、石英等の基板上にＣ
ｒ等の薄膜金属で半導体回路パターンを形成したもので
あり、塵埃等の異物からマスク表面を保護するためペリ
クルを装着する場合がある。
【０００３】マスクを管理する上で、マスク表面には半
導体回路パターン以外に、そのマスクで製造される半導
体の名称（または図番）、所有者の名称、カレンダ等の
情報が設置されている。近年、マスク上の図番について
はバーコードで表示される場合があり、この場合、露光
機にマスクをセットした場合、自動的に装置がバーコー
ドによる図番を読み取り、作業者の負担を低減するとと
もに、作業者による図番読み取り間違いを防止してい
る。
導体回路パターン以外に、そのマスクで製造される半導
体の名称（または図番）、所有者の名称、カレンダ等の
情報が設置されている。近年、マスク上の図番について
はバーコードで表示される場合があり、この場合、露光
機にマスクをセットした場合、自動的に装置がバーコー
ドによる図番を読み取り、作業者の負担を低減するとと
もに、作業者による図番読み取り間違いを防止してい
る。
【０００４】また、マスク上に貼り付けられるペリクル
に関しては、ペリクルフレームの側面にペリクル図番が
刻印されている。作業者は、この図番によって、ペリク
ルを使い分けている。
に関しては、ペリクルフレームの側面にペリクル図番が
刻印されている。作業者は、この図番によって、ペリク
ルを使い分けている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように、上記した
従来の方法では、マスク表面に貼り付けられるペリクル
は、使用する露光機の種類、露光機で使用している露光
波長から使用する図番が決められている。しかしなが
ら、マスク内に複数の露光機で対応可能なマーク等を予
め配置しておき、デバイス開発時及びデバイス量産時に
ペリクルを貼り変えて使用する場合がある。この場合、
同一のペリクルフレーム形状の場合であっても、そのペ
リクルフレームに貼られているペリクル膜は露光機で使
用している露光波長により、その材質は異なっている。
従来の方法では、マスク表面に貼り付けられるペリクル
は、使用する露光機の種類、露光機で使用している露光
波長から使用する図番が決められている。しかしなが
ら、マスク内に複数の露光機で対応可能なマーク等を予
め配置しておき、デバイス開発時及びデバイス量産時に
ペリクルを貼り変えて使用する場合がある。この場合、
同一のペリクルフレーム形状の場合であっても、そのペ
リクルフレームに貼られているペリクル膜は露光機で使
用している露光波長により、その材質は異なっている。
【０００６】多くの場合、Ｇ，Ｉ線波長用のペリクル膜
はニトロセルロースを原料としている。また、ＫｒＦエ
キシマ線波長用のペリクル膜はフッ素系ポリマーを材料
としている。ＫｒＦエキシマ線波長用のペリクル膜は、
Ｇ，Ｉ線波長に対し十分な透過率を有し、また耐性も持
っている。逆にＧ，Ｉ線波長用のペリクル膜はＫｒＦエ
キシマ線波長に対し、透過率は不十分であり、また耐性
も不十分である。間違えてＧ，Ｉ線波長用のペリクル膜
にＫｒＦエキシマ線波長を透過した場合、ペリクル膜を
損なう結果、マスク自身を損なう場合がある。
はニトロセルロースを原料としている。また、ＫｒＦエ
キシマ線波長用のペリクル膜はフッ素系ポリマーを材料
としている。ＫｒＦエキシマ線波長用のペリクル膜は、
Ｇ，Ｉ線波長に対し十分な透過率を有し、また耐性も持
っている。逆にＧ，Ｉ線波長用のペリクル膜はＫｒＦエ
キシマ線波長に対し、透過率は不十分であり、また耐性
も不十分である。間違えてＧ，Ｉ線波長用のペリクル膜
にＫｒＦエキシマ線波長を透過した場合、ペリクル膜を
損なう結果、マスク自身を損なう場合がある。
【０００７】従って、マスク上にペリクルを貼り付ける
前に、正しいペリクルを選択すること及び露光機で露光
する前にマスク上のペリクルを確認することが必要であ
る。特に、ペリクルの種類が貼り変えられた場合は、予
めマスク製造時にマスク上に作成されたバーコード等の
ＩＤでは対応が不可能である。本発明は、上記問題点を
解決するために、ペリクル自身の電気的導通部と不導通
部から構成されるペリクルＩＤを、ペリクルフレーム自
身に固定し電気的に読み取ることができるマスクのペリ
クル構造、そのペリクルＩＤ識別装置及びそのペリクル
ＩＤ識別方法を提供することができる。
前に、正しいペリクルを選択すること及び露光機で露光
する前にマスク上のペリクルを確認することが必要であ
る。特に、ペリクルの種類が貼り変えられた場合は、予
めマスク製造時にマスク上に作成されたバーコード等の
ＩＤでは対応が不可能である。本発明は、上記問題点を
解決するために、ペリクル自身の電気的導通部と不導通
部から構成されるペリクルＩＤを、ペリクルフレーム自
身に固定し電気的に読み取ることができるマスクのペリ
クル構造、そのペリクルＩＤ識別装置及びそのペリクル
ＩＤ識別方法を提供することができる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、 〔１〕マスクのペリクル構造において、パターン部、導
電性部、粘着剤層部から構成される薄膜状のＩＤラベル
をペリクルフレームのペリクルの粘着剤部と同一高さと
なるように固定するようにしたものである。
成するために、 〔１〕マスクのペリクル構造において、パターン部、導
電性部、粘着剤層部から構成される薄膜状のＩＤラベル
をペリクルフレームのペリクルの粘着剤部と同一高さと
なるように固定するようにしたものである。
【０００９】〔２〕マスクのペリクルＩＤ識別装置にお
いて、パターン部、導電性部、粘着剤層部から構成され
る薄膜状のＩＤラベルをペリクルフレームにペリクルの
粘着剤部と同一高さとなるように固定してなるマスクの
ペリクルと、ペリクルＩＤを電気的に読み取り可能なペ
リクルＩＤ読み取り部と、前記ペリクルＩＤ及びペリク
ルＩＤ読み取り部と電気的接触を可能とするマスク上の
導電性Ｃｒ薄膜金属からなる信号引き出し用パターンと
を具備するようにしたものである。
いて、パターン部、導電性部、粘着剤層部から構成され
る薄膜状のＩＤラベルをペリクルフレームにペリクルの
粘着剤部と同一高さとなるように固定してなるマスクの
ペリクルと、ペリクルＩＤを電気的に読み取り可能なペ
リクルＩＤ読み取り部と、前記ペリクルＩＤ及びペリク
ルＩＤ読み取り部と電気的接触を可能とするマスク上の
導電性Ｃｒ薄膜金属からなる信号引き出し用パターンと
を具備するようにしたものである。
【００１０】〔３〕マスクのペリクルＩＤ識別方法にお
いて、ペリクルフレームに固定されたペリクルＩＤにペ
リクルＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリク
ルＩＤを読み取るようにしたものである。 〔４〕マスクのペリクルＩＤ識別方法において、マスク
上に固定されたペリクルフレームに固定されたペリクル
ＩＤをマスク上の半導体回路パターンを形成しているＣ
ｒ薄膜金属からなる信号引き出し用パターンにペリクル
ＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリクルＩＤ
を読み取るようにしたものである。
いて、ペリクルフレームに固定されたペリクルＩＤにペ
リクルＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリク
ルＩＤを読み取るようにしたものである。 〔４〕マスクのペリクルＩＤ識別方法において、マスク
上に固定されたペリクルフレームに固定されたペリクル
ＩＤをマスク上の半導体回路パターンを形成しているＣ
ｒ薄膜金属からなる信号引き出し用パターンにペリクル
ＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリクルＩＤ
を読み取るようにしたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。図１は本発明の実施例を示すＩＤラ
ベル付きペリクルの構成を示す模式図であり、図１
（ａ）はそのＩＤラベル付きペリクルの全体構成図、図
１（ｂ）はそのＩＤラベル付きペリクルの部分正面図、
図２は本発明の実施例を示すペリクルにＩＤラベルを固
定した状態を示す図であり、図２（ａ）はその上面図、
図２（ｂ）はその側面図、図２（ｃ）はその正面図であ
る。
て詳細に説明する。図１は本発明の実施例を示すＩＤラ
ベル付きペリクルの構成を示す模式図であり、図１
（ａ）はそのＩＤラベル付きペリクルの全体構成図、図
１（ｂ）はそのＩＤラベル付きペリクルの部分正面図、
図２は本発明の実施例を示すペリクルにＩＤラベルを固
定した状態を示す図であり、図２（ａ）はその上面図、
図２（ｂ）はその側面図、図２（ｃ）はその正面図であ
る。
【００１２】図１に示すように、１はペリクル、２はＩ
Ｄラベルのパターン部、３は導電性部、４は粘着剤層
部、５はＩＤラベル、６は粘着剤部、７はペリクルフレ
ーム、８はペリクル膜、９はライナーである。このよう
に、ペリクルフレーム７の上部には接着剤によりペリク
ル膜８が貼られており、そのペリクルフレーム７の一部
に下方より、パターン部２、導電性部３、粘着剤層部４
から構成されるＩＤラベル部が設けられる。ペリクルフ
レーム７の底面には、ライナー９が貼り付けられてお
り、ペリクル１をマスク（図示なし）にセットする場合
には、そのライナー９を剥がして、ペリクル１の底面を
マスクに粘着剤部６により固定するようになっている。
Ｄラベルのパターン部、３は導電性部、４は粘着剤層
部、５はＩＤラベル、６は粘着剤部、７はペリクルフレ
ーム、８はペリクル膜、９はライナーである。このよう
に、ペリクルフレーム７の上部には接着剤によりペリク
ル膜８が貼られており、そのペリクルフレーム７の一部
に下方より、パターン部２、導電性部３、粘着剤層部４
から構成されるＩＤラベル部が設けられる。ペリクルフ
レーム７の底面には、ライナー９が貼り付けられてお
り、ペリクル１をマスク（図示なし）にセットする場合
には、そのライナー９を剥がして、ペリクル１の底面を
マスクに粘着剤部６により固定するようになっている。
【００１３】そのＩＤラベル部分が、図２に詳細に示さ
れている。図３は本発明の実施例を示すペリクルをマス
ク面上に貼り付けた上面図である。図３において、マス
ク上には信号引き出し用Ｃｒパターン１０が形成されて
おり、そのマスクにＩＤラベル５が付されたペリクル１
が貼り付けられている。
れている。図３は本発明の実施例を示すペリクルをマス
ク面上に貼り付けた上面図である。図３において、マス
ク上には信号引き出し用Ｃｒパターン１０が形成されて
おり、そのマスクにＩＤラベル５が付されたペリクル１
が貼り付けられている。
【００１４】すなわち、マスク面上に作製された信号引
き出し用Ｃｒパターン１０上に、ＩＤラベル５のパター
ン部２が重なるように配置されており、ペリクル１を所
定の位置に貼り付けるだけでよい。ＩＤラベル５はペリ
クル１の高さを損なわないよう高さは同一である。従
来、ペリクル図番は作業者による目視により、ペリクル
を収納したケース外部のラベル上の図番又はペリクルフ
レーム側面のＩＤ刻印が読み取られていた。
き出し用Ｃｒパターン１０上に、ＩＤラベル５のパター
ン部２が重なるように配置されており、ペリクル１を所
定の位置に貼り付けるだけでよい。ＩＤラベル５はペリ
クル１の高さを損なわないよう高さは同一である。従
来、ペリクル図番は作業者による目視により、ペリクル
を収納したケース外部のラベル上の図番又はペリクルフ
レーム側面のＩＤ刻印が読み取られていた。
【００１５】本発明は、例えば、ペリクル自動貼付機等
でペリクル１をマスク上に貼り付ける前に、直接ペリク
ルフレーム７に固定されたペリクルＩＤを電気的にペリ
クルＩＤ読み取り部１１で読み取ることができる。図４
は本発明の実施例を示すＩＤラベル構造を示す図であ
り、図４（ａ）はＩＤラベル構造の粘着部の構成図〔ａ
−１はその上面図、ａ−２はその側面図、ａ−３はその
正面図〕、図４（ｂ）はＩＤラベル構造の上層部（導電
性部）の構成図〔ｂ−１はその上面図、ｂ−２はその側
面図、ｂ−３はその正面図〕、図４（ｃ）はＩＤラベル
構造の下層部（ラベル部）の構成図〔ｃ−１はその上面
図、ｃ−２はその側面図、ｃ−３はその正面図〕、図４
（ｄ）はＩＤラベル構造の構成図〔ｄ−１はその上面
図、ｄ−２はその側面図、ｄ−３はその正面図〕であ
る。
でペリクル１をマスク上に貼り付ける前に、直接ペリク
ルフレーム７に固定されたペリクルＩＤを電気的にペリ
クルＩＤ読み取り部１１で読み取ることができる。図４
は本発明の実施例を示すＩＤラベル構造を示す図であ
り、図４（ａ）はＩＤラベル構造の粘着部の構成図〔ａ
−１はその上面図、ａ−２はその側面図、ａ−３はその
正面図〕、図４（ｂ）はＩＤラベル構造の上層部（導電
性部）の構成図〔ｂ−１はその上面図、ｂ−２はその側
面図、ｂ−３はその正面図〕、図４（ｃ）はＩＤラベル
構造の下層部（ラベル部）の構成図〔ｃ−１はその上面
図、ｃ−２はその側面図、ｃ−３はその正面図〕、図４
（ｄ）はＩＤラベル構造の構成図〔ｄ−１はその上面
図、ｄ−２はその側面図、ｄ−３はその正面図〕であ
る。
【００１６】これらの図に示すように、ＩＤラベル５は
粘着剤層部４、導電性部（上層部）３、パターン部（下
層部）２の３部から構成される。パターン部２はマスク
面上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０と接触する部分
であり、接触部の有無で信号を識別する。また、少なく
とも１つの窓は電源用の窓である。ＩＤラベル５は電気
的導通部と不導通部から構成される薄膜状のラベルであ
り、ペリクルフレーム７の粘着剤面に固定されている
〔図１（ａ）参照〕。
粘着剤層部４、導電性部（上層部）３、パターン部（下
層部）２の３部から構成される。パターン部２はマスク
面上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０と接触する部分
であり、接触部の有無で信号を識別する。また、少なく
とも１つの窓は電源用の窓である。ＩＤラベル５は電気
的導通部と不導通部から構成される薄膜状のラベルであ
り、ペリクルフレーム７の粘着剤面に固定されている
〔図１（ａ）参照〕。
【００１７】図５は本発明の実施例を示すＩＤラベルの
信号を読み取る方法の説明図であり、図５（ａ）はその
ＩＤラベルの信号の第１の読み取り例を示す図〔（ａ−
１）はその上面図、（ａ−２）はその側面図、（ａ−
３）はその正面図〕、図５（ｂ）はそのＩＤラベルの第
２の信号の読み取り例を示す図〔（ｂ−１）はその上面
図、（ｂ−２）はその側面図、（ｂ−３）はその正面
図〕、図５（ｃ）はそれらの第１、第２の信号の読み取
り例を示す図である。ここでは、ＩＤラベル５のパター
ン部２に４つの接触部が有り、電源が５Ｖの場合につい
て説明する。
信号を読み取る方法の説明図であり、図５（ａ）はその
ＩＤラベルの信号の第１の読み取り例を示す図〔（ａ−
１）はその上面図、（ａ−２）はその側面図、（ａ−
３）はその正面図〕、図５（ｂ）はそのＩＤラベルの第
２の信号の読み取り例を示す図〔（ｂ−１）はその上面
図、（ｂ−２）はその側面図、（ｂ−３）はその正面
図〕、図５（ｃ）はそれらの第１、第２の信号の読み取
り例を示す図である。ここでは、ＩＤラベル５のパター
ン部２に４つの接触部が有り、電源が５Ｖの場合につい
て説明する。
【００１８】接点１は共通の電源用窓であり、マスク上
の信号引き出し用Ｃｒパターンと電気的に接触してい
る。第１の読み取り例は、窓２（接点２）〜窓４（接点
４）まで全て接触しており、マスク上の信号引き出し用
Ｃｒパターン１０と電気的に接触する。従って、接点１
から窓２（接点２）〜窓４（接点４）へと導通され、マ
スク上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０から外部に配
置されるペリクルＩＤ読み取り部１１（図３参照）にお
いて、接点２〜接点４に対応する５Ｖの信号として入力
されて読み取ることができる。
の信号引き出し用Ｃｒパターンと電気的に接触してい
る。第１の読み取り例は、窓２（接点２）〜窓４（接点
４）まで全て接触しており、マスク上の信号引き出し用
Ｃｒパターン１０と電気的に接触する。従って、接点１
から窓２（接点２）〜窓４（接点４）へと導通され、マ
スク上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０から外部に配
置されるペリクルＩＤ読み取り部１１（図３参照）にお
いて、接点２〜接点４に対応する５Ｖの信号として入力
されて読み取ることができる。
【００１９】第２の読み取り例は、窓２（接点２）及び
窓４（接点４）は接触しており、窓３（接点３）は接触
していない。窓２（接点２）及び窓４（接点４）のみ、
マスク上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０と電気的に
接触している。この結果、窓２（接点２）及び窓４（接
点４）の信号は５Ｖの信号が取り出せる。このようにし
て窓の数を増やし、その接触部の有無により識別の組み
合わせが増加する。
窓４（接点４）は接触しており、窓３（接点３）は接触
していない。窓２（接点２）及び窓４（接点４）のみ、
マスク上の信号引き出し用Ｃｒパターン１０と電気的に
接触している。この結果、窓２（接点２）及び窓４（接
点４）の信号は５Ｖの信号が取り出せる。このようにし
て窓の数を増やし、その接触部の有無により識別の組み
合わせが増加する。
【００２０】以下、その動作について説明する。例え
ば、ペリクル自動貼付機の場合、ペリクル１はペリクル
フレーム７からペリクルマウント部へロボットハンドに
より搬送される。搬送後ペリクル１はマウンタ部にペリ
クルフレーム７側面の穴を利用して固定される。この状
態でペリクルＩＤに電気的に読み取る接点部を接触させ
ペリクルＩＤを読み取る。ペリクルＩＤ読み取り後、ペ
リクル図番が正しい場合、貼付作業を実行する。
ば、ペリクル自動貼付機の場合、ペリクル１はペリクル
フレーム７からペリクルマウント部へロボットハンドに
より搬送される。搬送後ペリクル１はマウンタ部にペリ
クルフレーム７側面の穴を利用して固定される。この状
態でペリクルＩＤに電気的に読み取る接点部を接触させ
ペリクルＩＤを読み取る。ペリクルＩＤ読み取り後、ペ
リクル図番が正しい場合、貼付作業を実行する。
【００２１】このように、この実施例によれば、ペリク
ル自身の電気的導通部と不導通部から構成されるペリク
ルＩＤをペリクルフレーム７自身に固定し電気的に読み
取るようにしたので、例えば、ペリクルフレーム７上の
ラベルに誤った図番が表示されていた場合も、その影響
がない。また、ペリクルを途中で変更した場合も、対応
が可能である。
ル自身の電気的導通部と不導通部から構成されるペリク
ルＩＤをペリクルフレーム７自身に固定し電気的に読み
取るようにしたので、例えば、ペリクルフレーム７上の
ラベルに誤った図番が表示されていた場合も、その影響
がない。また、ペリクルを途中で変更した場合も、対応
が可能である。
【００２２】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００２３】
【発明の効果】以上、詳細に示したように、本発明によ
れば、次のような効果を奏することができる。 （１）請求項１記載の発明によれば、マスク面上にＣｒ
パターンで作製された電気信号引き出し用の引き出し線
の上に、ＩＤラベルが重なるように配置されており、ペ
リクルを所定の位置に貼り付けるだけでよい。ＩＤラベ
ルはペリクルの高さを損なわないよう高さは同一にする
ことができる。
れば、次のような効果を奏することができる。 （１）請求項１記載の発明によれば、マスク面上にＣｒ
パターンで作製された電気信号引き出し用の引き出し線
の上に、ＩＤラベルが重なるように配置されており、ペ
リクルを所定の位置に貼り付けるだけでよい。ＩＤラベ
ルはペリクルの高さを損なわないよう高さは同一にする
ことができる。
【００２４】（２）請求項２記載の発明によれば、ＩＤ
ラベルは、粘着剤層部、導電性部、パターン部の３部か
ら構成される。パターン部は、マスク面上の信号引き出
し用Ｃｒパターンと接触する部分であり、接触部の有無
で信号を識別する。また、少なくとも１つの窓は電源用
の窓である。ＩＤラベルは電気的導通部と不導通部から
構成される薄膜状のラベルであり、ペリクルフレームの
粘着剤面に固定されている。
ラベルは、粘着剤層部、導電性部、パターン部の３部か
ら構成される。パターン部は、マスク面上の信号引き出
し用Ｃｒパターンと接触する部分であり、接触部の有無
で信号を識別する。また、少なくとも１つの窓は電源用
の窓である。ＩＤラベルは電気的導通部と不導通部から
構成される薄膜状のラベルであり、ペリクルフレームの
粘着剤面に固定されている。
【００２５】（３）請求項３又は４記載の発明によれ
ば、ペリクル自身の電気的導通部と不導通部から構成さ
れるペリクルＩＤをペリクルフレーム自身に固定し電気
的に読み取るようにしたので、例えばペリクルケース上
のラベルに誤った図番が表示されていた場合も、その影
響がない。また、ペリクルを途中で変更した場合も、対
応が可能である。
ば、ペリクル自身の電気的導通部と不導通部から構成さ
れるペリクルＩＤをペリクルフレーム自身に固定し電気
的に読み取るようにしたので、例えばペリクルケース上
のラベルに誤った図番が表示されていた場合も、その影
響がない。また、ペリクルを途中で変更した場合も、対
応が可能である。
【図１】本発明の実施例を示すＩＤラベル付きペリクル
の構成を示す模式図である。
の構成を示す模式図である。
【図２】本発明の実施例を示すペリクルにＩＤラベルを
固定した状態を示す図である。
固定した状態を示す図である。
【図３】本発明の実施例を示すペリクルをマスク面上に
貼り付けた上面図である。
貼り付けた上面図である。
【図４】本発明の実施例を示すＩＤラベルの構造を示す
図である。
図である。
【図５】本発明の実施例を示すＩＤラベルの信号を読み
取る方法の説明図である。
取る方法の説明図である。
１ ペリクル ２ パターン部（下層部） ３ 導電性部（上層部） ４ 接着剤層部 ５ ＩＤラベル ６ 粘着剤部 ７ ペリクルフレーム ８ ペリクル膜 ９ ライナー １０ 信号引き出し用Ｃｒパターン １１ ペリクルＩＤ読み取り部
Claims (4)
- 【請求項１】 マスクのペリクル構造において、 パターン部、導電性部、粘着剤層部から構成される薄膜
状のＩＤラベルをペリクルフレームのペリクルの粘着剤
部と同一高さとなるように固定してなることを特徴とす
るマスクのペリクル構造。 - 【請求項２】 マスクのペリクルＩＤ識別装置におい
て、（ａ）パターン部、導電性部、粘着剤層部から構成
される薄膜状のＩＤラベルをペリクルフレームにペリク
ルの粘着剤部と同一高さとなるように固定してなるマス
クのペリクルと、（ｂ）ペリクルＩＤを電気的に読み取
り可能なペリクルＩＤ読み取り部と、（ｃ）前記ペリク
ルＩＤ及びペリクルＩＤ読み取り部と電気的接触を可能
とするマスク上の導電性Ｃｒ薄膜金属からなる信号引き
出し用パターンとを具備することを特徴とするマスクの
ペリクルＩＤ識別装置。 - 【請求項３】 マスクのペリクルＩＤ識別方法におい
て、 ペリクルフレームに固定されたペリクルＩＤにペリクル
ＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリクルＩＤ
を読み取ることを特徴とするマスクのペリクルＩＤ識別
方法。 - 【請求項４】 マスクのペリクルＩＤ識別方法におい
て、 マスク上に固定されたペリクルフレームに固定されたペ
リクルＩＤをマスク上の半導体回路パターンを形成して
いるＣｒ薄膜金属からなる信号引き出し用パターンにペ
リクルＩＤ読み取り部を接触させ電気信号としてペリク
ルＩＤを読み取ることを特徴とするマスクのペリクルＩ
Ｄ識別方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4190198A JPH11237729A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスクのペリクル構造、そのペリクルｉｄ識別装置及びそのペリクルｉｄ識別方法 |
| US09/246,148 US6473520B2 (en) | 1998-02-24 | 1999-02-08 | Pellicle, identification system of the same, and method of identifying the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4190198A JPH11237729A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスクのペリクル構造、そのペリクルｉｄ識別装置及びそのペリクルｉｄ識別方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11237729A true JPH11237729A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12621199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4190198A Withdrawn JPH11237729A (ja) | 1998-02-24 | 1998-02-24 | マスクのペリクル構造、そのペリクルｉｄ識別装置及びそのペリクルｉｄ識別方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6473520B2 (ja) |
| JP (1) | JPH11237729A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10229988A1 (de) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Anordnung zur Handhabung von Retikeln |
| JP2021510209A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-04-15 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Ｇｕｄｅｎｇ Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | レチクル保持システム |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6894766B1 (en) * | 2001-03-27 | 2005-05-17 | Dupont Photomasks, Inc. | Method for constructing a photomask assembly using an encoded mark |
| DE10316821A1 (de) * | 2003-04-03 | 2004-10-21 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern eines optischen Systems sowie eine Verwendung der Vorrichtung |
| JP7186183B2 (ja) * | 2017-06-15 | 2022-12-08 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | ペリクル及びペリクルアセンブリ |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4737387A (en) * | 1986-07-07 | 1988-04-12 | Yen Yung Tsai | Removable pellicle and method |
| JPH0320739A (ja) | 1989-06-16 | 1991-01-29 | Matsushita Electron Corp | フォトマスクと投影露光装置 |
| JPH0383321A (ja) * | 1989-08-28 | 1991-04-09 | Matsushita Electron Corp | 投影露光装置 |
| JPH0390977A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-16 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 情報識別方法 |
| US5483741A (en) * | 1993-09-03 | 1996-01-16 | Micron Technology, Inc. | Method for fabricating a self limiting silicon based interconnect for testing bare semiconductor dice |
| US5453816A (en) * | 1994-09-22 | 1995-09-26 | Micro Lithography, Inc. | Protective mask for pellicle |
| JPH09114085A (ja) | 1995-08-14 | 1997-05-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル |
| JP4021035B2 (ja) * | 1998-02-24 | 2007-12-12 | 沖電気工業株式会社 | マスク及びその管理装置 |
-
1998
- 1998-02-24 JP JP4190198A patent/JPH11237729A/ja not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-02-08 US US09/246,148 patent/US6473520B2/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10229988A1 (de) * | 2002-07-03 | 2004-02-05 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Anordnung zur Handhabung von Retikeln |
| JP2021510209A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-04-15 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Ｇｕｄｅｎｇ Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | レチクル保持システム |
| JP2021167966A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-10-21 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | レチクル保持システム |
| JP2022051846A (ja) * | 2018-10-29 | 2022-04-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | レチクル保持システム |
| US11508592B2 (en) | 2018-10-29 | 2022-11-22 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | Reticle retaining system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20020102015A1 (en) | 2002-08-01 |
| US6473520B2 (en) | 2002-10-29 |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050510 |