JPS63178974A - レチクル保護ケ−ス - Google Patents
レチクル保護ケ−スInfo
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- JPS63178974A JPS63178974A JP62002217A JP221787A JPS63178974A JP S63178974 A JPS63178974 A JP S63178974A JP 62002217 A JP62002217 A JP 62002217A JP 221787 A JP221787 A JP 221787A JP S63178974 A JPS63178974 A JP S63178974A
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- Japan
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- reticle
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
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- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
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- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 4
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置の製造における縮少投影露光工程で
、回路パターンを半導体基板上へ縮少投影転写する時に
用いるレチクルの保護ケースに関する。
、回路パターンを半導体基板上へ縮少投影転写する時に
用いるレチクルの保護ケースに関する。
従来、半導体装置の製造時の縮少投影露光工程では、必
要な回路パターンをウェーハ上に転写する為に用いるレ
チクルに微少ゴミが付着するのを防止する為に、レチク
ルの保管、運搬時には、清浄、堅牢な保護ケースに収容
し、使用時に、清浄雰囲気の下でレチクルを取り出し縮
少投影機にセットする。このようなレチクル保護ケース
は、収容するレチクルが丁度入るような平たい箱であっ
て、普通不透明な材料から作られ、内部が見えないよう
になっている。
要な回路パターンをウェーハ上に転写する為に用いるレ
チクルに微少ゴミが付着するのを防止する為に、レチク
ルの保管、運搬時には、清浄、堅牢な保護ケースに収容
し、使用時に、清浄雰囲気の下でレチクルを取り出し縮
少投影機にセットする。このようなレチクル保護ケース
は、収容するレチクルが丁度入るような平たい箱であっ
て、普通不透明な材料から作られ、内部が見えないよう
になっている。
一般に半導体装置製造における縮少投影露光工程では、
定められた順番に従って数種類から数十種類のレチクル
を用いて回路パターンの露光・焼付を行なう。この為に
、保護ケースに収容したレチクルの工程番号の確認が必
要になるが、上述した従来の保護ケースでは内部が見え
ない為、確認の為に使用前にレチクルを保護ケースより
取り出す必要があった。この縮少投影露光工程ではレチ
クルにゴミ、微小粒子が付着するとそのままウェーハ上
に転写さｎ全て不良となってしまう為、高度に清浄化さ
れた雰囲気中で行うことが要求される。具体的には、１
０儂角の面積に０．５μｍ以上のゴミ、微小粒子が全く
存在しないことが要求されるが、上述した従来のレチク
ル保護ケースでは、レチクルを取り出し、順番番号を確
認する毎に、微小粒子がレチクルに付着して不良パター
ンをウェーハ上に転写したシ、レチクルを再洗浄する作
業がしばしば必要になるという欠点を有していた。
定められた順番に従って数種類から数十種類のレチクル
を用いて回路パターンの露光・焼付を行なう。この為に
、保護ケースに収容したレチクルの工程番号の確認が必
要になるが、上述した従来の保護ケースでは内部が見え
ない為、確認の為に使用前にレチクルを保護ケースより
取り出す必要があった。この縮少投影露光工程ではレチ
クルにゴミ、微小粒子が付着するとそのままウェーハ上
に転写さｎ全て不良となってしまう為、高度に清浄化さ
れた雰囲気中で行うことが要求される。具体的には、１
０儂角の面積に０．５μｍ以上のゴミ、微小粒子が全く
存在しないことが要求されるが、上述した従来のレチク
ル保護ケースでは、レチクルを取り出し、順番番号を確
認する毎に、微小粒子がレチクルに付着して不良パター
ンをウェーハ上に転写したシ、レチクルを再洗浄する作
業がしばしば必要になるという欠点を有していた。
また、微小粒子がレチクルに付着するのを防止する技術
として、第６図の断面図に示す様にペリクル１４をレチ
クル７の両面に貼りつける技術もあるが、最も重要な要
素である回路パターンの解像力がペリクルを使用すると
低下する為に、１ミクロンメートル以下の非常に微細な
パターンの焼きつけにおいては用いられないという欠点
がある。
として、第６図の断面図に示す様にペリクル１４をレチ
クル７の両面に貼りつける技術もあるが、最も重要な要
素である回路パターンの解像力がペリクルを使用すると
低下する為に、１ミクロンメートル以下の非常に微細な
パターンの焼きつけにおいては用いられないという欠点
がある。
また、保護ケース全体を塩化ビニール等の透明合成樹脂
で形成すると硬度が不足し、必要な精度を保てない欠点
や、帯電性が大きい為微小粒子を吸着し、レチクル保護
ケースの用をなさないという欠点があった。
で形成すると硬度が不足し、必要な精度を保てない欠点
や、帯電性が大きい為微小粒子を吸着し、レチクル保護
ケースの用をなさないという欠点があった。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点に対し本発明のレチクル保護ケースは、収容
するレチクルの大きさに合せて作られた平たい箱形の容
器であって、その上部板、下部板の一部分に収容レチク
ルの工程認識用番号パターン形成領域の位置に合せて、
内部確認用の透明窓が設けられている。
するレチクルの大きさに合せて作られた平たい箱形の容
器であって、その上部板、下部板の一部分に収容レチク
ルの工程認識用番号パターン形成領域の位置に合せて、
内部確認用の透明窓が設けられている。
つぎに本発明を実施例により説明する。
第１図は本発明の一実施例（内部にレチクルを収容して
いる）の斜視図、第２図は第１図のＡ −Ａ部分拡大断
面図、第３図は、ケース内部に収容するレチクルの平面
図である。これらの図において、保護ケース１は、収容
するレチクルの大きさに合せて作られて平たい箱形をな
すもので、充分な機械的強度を得るために金属板から作
られている。そして、一つの側面は開口となっておシ、
ここからレチクル７が出し入ｎされ、レチクル７を収容
後、合成樹脂の蓋６を嵌めて内部にゴミなどが入らない
ようにする。さらに、ケースの上部板２と下部板３には
、第３図に示す石英ガラス製のレチクル７の中央部の回
路パターン転写領域８を除いた周辺の、レチクル工程認
識番号記入領域９の位置に合せて、透明合成樹脂板の窓
板でふさいだ透明窓４と５が設けられている。
いる）の斜視図、第２図は第１図のＡ −Ａ部分拡大断
面図、第３図は、ケース内部に収容するレチクルの平面
図である。これらの図において、保護ケース１は、収容
するレチクルの大きさに合せて作られて平たい箱形をな
すもので、充分な機械的強度を得るために金属板から作
られている。そして、一つの側面は開口となっておシ、
ここからレチクル７が出し入ｎされ、レチクル７を収容
後、合成樹脂の蓋６を嵌めて内部にゴミなどが入らない
ようにする。さらに、ケースの上部板２と下部板３には
、第３図に示す石英ガラス製のレチクル７の中央部の回
路パターン転写領域８を除いた周辺の、レチクル工程認
識番号記入領域９の位置に合せて、透明合成樹脂板の窓
板でふさいだ透明窓４と５が設けられている。
このような本発明のレチクル保護ケースにレチクルを収
容しておくことにより、ふたをあけることなく、窓を通
してレチクル７の工程番号記入領域９に記入されている
数字１文字、あるいはバーコード、記号などを読取るこ
とができる。
容しておくことにより、ふたをあけることなく、窓を通
してレチクル７の工程番号記入領域９に記入されている
数字１文字、あるいはバーコード、記号などを読取るこ
とができる。
また、第４図の断面図に示すように、保護ケース１の上
窓の部分に光源１１ｔ−セットし、光源１１からの光を
、上窓５．レチクル７および上窓４を透過させ、上窓４
の上のテレビカメラ１０によシレチクル７の工程番号を
自動読取りさせることもできる。
窓の部分に光源１１ｔ−セットし、光源１１からの光を
、上窓５．レチクル７および上窓４を透過させ、上窓４
の上のテレビカメラ１０によシレチクル７の工程番号を
自動読取りさせることもできる。
第５図は本発明の第２の実施例を示す斜視図である。図
において、１２は半透明合成樹脂製カバーであり、レチ
クルの上面及び左右１表裏面をおおう様に形成されてい
る。１５は底面を形成する金属製の底板でありケース全
体の精度を保つ機能をする。１３は、カバー１２および
底板１５の一部分に設けた透明樹脂製の窓であシ、両面
の相対向した位置に形成されている。
において、１２は半透明合成樹脂製カバーであり、レチ
クルの上面及び左右１表裏面をおおう様に形成されてい
る。１５は底面を形成する金属製の底板でありケース全
体の精度を保つ機能をする。１３は、カバー１２および
底板１５の一部分に設けた透明樹脂製の窓であシ、両面
の相対向した位置に形成されている。
第６図は第５図の八−Ａ矢視断面図であり、図において
、７はレチクルで、１４はレチクルの上下面に貼９つけ
たペリクルであるが、ペリクル１４が無く、レチクル７
だけの場合でも本発明の効果はかわらないのはいうまで
もない。窓１３および１４のペリクルを通して、レチク
ルの工程番号を読み取ることが出来る。
、７はレチクルで、１４はレチクルの上下面に貼９つけ
たペリクルであるが、ペリクル１４が無く、レチクル７
だけの場合でも本発明の効果はかわらないのはいうまで
もない。窓１３および１４のペリクルを通して、レチク
ルの工程番号を読み取ることが出来る。
以上説明したように本発明は、不透明なレチクル保護ケ
ースの一部にレチクルの工程認識パターンの位置にあわ
せて透明樹脂性の窓を設け、レチクルを外部の汚れた雰
囲気にさらすことなく、したがって、微小粒子全レチク
ルに付着させることなく内部に収容されたレチクルの工
程認識番号を判読することが出来るという効果を有する
。
ースの一部にレチクルの工程認識パターンの位置にあわ
せて透明樹脂性の窓を設け、レチクルを外部の汚れた雰
囲気にさらすことなく、したがって、微小粒子全レチク
ルに付着させることなく内部に収容されたレチクルの工
程認識番号を判読することが出来るという効果を有する
。
第７図は本発明の効果を示す一実験例を示すグラフであ
る。Ａは本発明のレチクル保護ケースに収容して２０時
間経過した後のレチクル面上の微小粒子数を示す。２０
時間経過後も微小粒子は０であり、レチクルは清浄であ
ることが示されている。Ｂは従来のレチクル保護ケース
にレチクルを収容し一時間毎にレチクルの出し入れをし
た場合の微小粒子の付着を示したものであり、多数の微
小粒子が付着するのが判る。このように、本発明のレチ
クル保護ケースでは、レチクルを清浄な状態で保膿、保
管することができるが、従来のレチクル保護ケースでは
その役が不充分なことが判る。
る。Ａは本発明のレチクル保護ケースに収容して２０時
間経過した後のレチクル面上の微小粒子数を示す。２０
時間経過後も微小粒子は０であり、レチクルは清浄であ
ることが示されている。Ｂは従来のレチクル保護ケース
にレチクルを収容し一時間毎にレチクルの出し入れをし
た場合の微小粒子の付着を示したものであり、多数の微
小粒子が付着するのが判る。このように、本発明のレチ
クル保護ケースでは、レチクルを清浄な状態で保膿、保
管することができるが、従来のレチクル保護ケースでは
その役が不充分なことが判る。
第１図は内部にレチクルを収容した本発明の一実施例の
斜視図、第２図は第１図の八−Ａ拡大部分断面図、第３
図はレチクルの平面図、第４図は保護ケースにレチクル
を収容したまま工程認識番号の読取りを説明するための
断面図、第５図は本発明の第２の実施例（レチクルを含
む）の斜視図、第６図は第５図のＡ−Ａ断面図、第７図
は本発明および従来のレチクル保護ケースの微小粒子付
着防止効果を示す実験データのグラフである。 ｌ・・・・・・保護ケース、２・・・・・・ケース上部
板、３・・・・・・ケース下部板、４・・・・・・上面
窓、５・・・・・・下面窓、６・・・・・・ふた、７・
・・・・・レチクル、８・・・・・・レチクルのパター
ン（パターン領域）、９・・・・・・工程番号記入領域
、１ｏ・・・・・・カメラ、１１・・・・・・光源、１
２・・・・・・カバ一部、１３・・・・・・透明窓、１
４ペリクル、１５・・・・・・ケース底（下部）板。 （ブー。 ７１図 第７図
斜視図、第２図は第１図の八−Ａ拡大部分断面図、第３
図はレチクルの平面図、第４図は保護ケースにレチクル
を収容したまま工程認識番号の読取りを説明するための
断面図、第５図は本発明の第２の実施例（レチクルを含
む）の斜視図、第６図は第５図のＡ−Ａ断面図、第７図
は本発明および従来のレチクル保護ケースの微小粒子付
着防止効果を示す実験データのグラフである。 ｌ・・・・・・保護ケース、２・・・・・・ケース上部
板、３・・・・・・ケース下部板、４・・・・・・上面
窓、５・・・・・・下面窓、６・・・・・・ふた、７・
・・・・・レチクル、８・・・・・・レチクルのパター
ン（パターン領域）、９・・・・・・工程番号記入領域
、１ｏ・・・・・・カメラ、１１・・・・・・光源、１
２・・・・・・カバ一部、１３・・・・・・透明窓、１
４ペリクル、１５・・・・・・ケース底（下部）板。 （ブー。 ７１図 第７図
Claims (1)
- 半導体装置の製造工程のうちの縮少投影露光工程で使
用する回路パターン転写用のレチクルを収容する保護用
ケースにおいて、ケースの不透明な上部板および下部板
の一部分に透明窓を設けたことを特徴とするレチクル保
護ケース。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002217A JPS63178974A (ja) | 1987-01-07 | 1987-01-07 | レチクル保護ケ−ス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62002217A JPS63178974A (ja) | 1987-01-07 | 1987-01-07 | レチクル保護ケ−ス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63178974A true JPS63178974A (ja) | 1988-07-23 |
Family
ID=11523191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62002217A Pending JPS63178974A (ja) | 1987-01-07 | 1987-01-07 | レチクル保護ケ−ス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63178974A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007132698A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Miraial Co., Ltd, | レチクルケース |
| KR20100085901A (ko) * | 2007-11-15 | 2010-07-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 마스크 케이스, 반송 장치, 노광 장치, 마스크 반송 방법 및 디바이스 제조 방법 |
| JP2011007827A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 大型精密部材収納容器 |
| JP2012012059A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 大型精密部材収納容器 |
| JP2021510209A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-04-15 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Ｇｕｄｅｎｇ Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | レチクル保持システム |
-
1987
- 1987-01-07 JP JP62002217A patent/JPS63178974A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007132698A1 (ja) * | 2006-05-12 | 2007-11-22 | Miraial Co., Ltd, | レチクルケース |
| KR20100085901A (ko) * | 2007-11-15 | 2010-07-29 | 가부시키가이샤 니콘 | 마스크 케이스, 반송 장치, 노광 장치, 마스크 반송 방법 및 디바이스 제조 방법 |
| JP2013242583A (ja) * | 2007-11-15 | 2013-12-05 | Nikon Corp | マスクケース、搬送装置、搬送方法、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
| JP2011007827A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 大型精密部材収納容器 |
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| JP2021510209A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-04-15 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Ｇｕｄｅｎｇ Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | レチクル保持システム |
| JP2021167966A (ja) * | 2018-10-29 | 2021-10-21 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | レチクル保持システム |
| JP2022051846A (ja) * | 2018-10-29 | 2022-04-01 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | レチクル保持システム |
| US11508592B2 (en) | 2018-10-29 | 2022-11-22 | Gudeng Precision Industrial Co., Ltd | Reticle retaining system |
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