TWI417649B - 十字標記運送裝置、曝光裝置、十字標記運送方法以及十字標記的處理方法 - Google Patents

Description

十字標記運送裝置、曝光裝置、十字標記運送方法以及十字標記的處理方法

本發明為有關對曝光氣氛室運送十字標記的十字標記運送裝置及配備該十字標記運送裝置的曝光裝置、十字標記的運送方法，以及十字標記的處理方法。

近年來，使用波長約5~40nm區域的超紫外線(EUV)光為曝光光源，將十字標記的圖案在感光性基板上投影曝光之投影曝光裝置，已進展到可實用化之程度。在超紫外線微影術(EUVL)用曝光裝置，因EUV光可被空氣吸收，故該裝置的收容室內有必要保持高度的真空，在十字標記的運送之際亦需要特別的辦法。

又，在EUVL用的曝光裝置能使用之十字標記，限定對短波長之光有高度透過率的玻璃材件，所以只能用反射型十字標記。在使用通常的可視光或紫外線的曝光裝置的十字標記，可用透明的薄膜形成保護膜(pellicle)保護其圖案面。但在EUV曝光裝置，因尚無對短波長之光有高度透過率的材料，故不能形成保護膜。因此，在十字標記的運送時或保管時，將十字標記用保護蓋(保護構件)覆蓋，以保護十字標記的圖案區域(例如，參考專利文獻1)。

專利文獻1：美國專利第6239863號說明書。

在十字標記用保護蓋保護運送之場合，不能避免十字標記與保護蓋接觸，在該接觸點發生灰塵。隨著十字標記 的重複運送，灰塵發生的異物疊積，形成污染十字標記的圖案區域之問題。

本發明的目的為提供一種能夠防止異物附著於十字標記的十字標記運送裝置、配備該十字標記運送裝置的曝光裝置，十字標記的運送方法，以及十字標記的處理方法。

本發明的十字標記運送裝置，為對處理氣氛室運送十字標記的運送裝置，其特徵為包括：十字標記搬入機構，將至少一部分被保護蓋覆蓋的十字標記搬入該處理氣氛室；及保護蓋搬出機構，在該十字標記搬入機構搬入該十字標記之後，將由該十字標記分離的該保護蓋搬出該處理氣氛室；以及保護潔淨機構，用以洗淨由該保護蓋搬出機構搬出的該保護蓋。

本發明的曝光裝置，為將該十字標記形成的圖案複製到感光性基板的曝光裝置，其特徵配備本發明的十字標記運送裝置。

又，本發明的曝光裝置，為將配置在曝光氣氛室內的十字標記形成之圖案複製於感光基板的曝光裝置，其特徵為包括：十字標記搬入機構，將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記搬入該曝光氣氛室；及保護蓋分離機構，在該十字標記搬入機構搬入該十字標記之後，由該十字標記將該保護蓋分離；以及保護蓋搬出機構，在該保護蓋分離機構分離保護蓋後的該十字標記，配置在該曝光氣氛室之狀態，將該保護蓋搬出。

本發明的十字標記運送方法，為對處理氣氛室運送十 字標記的運送方法，其特徵為包括：將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記搬入該處理氣氛室，在該十字標記搬入之後，從該處理氣氛室搬出由該十字標記分離的該保護蓋，再進行該保護蓋的清淨作業。

本發明的十字標記處理方法，為對十字標記實施所望之處理之方法，其特徵為包括：將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記搬送到所望之位置，將該保護蓋與該十字標記分離，對分離後的十字標記實施所望之處理，實施該處理後的十字標記用與上述保護蓋不同的蓋子覆蓋。

本發明的十字標記運送裝置，因設有洗淨覆蓋在十字標記形成的圖案區域之保護蓋的保護蓋潔淨機構，能夠除去附著在保護蓋的異物。因此能夠防止在保護蓋覆蓋之狀態，異物附著於十字標記。

本發明的曝光裝置，因配設本發明之十字標記運送裝置，能夠洗淨覆蓋十字標記的一部分之保護蓋，可除去在保護蓋附著的異物，因此能夠防止在保護蓋覆蓋之狀態，異物附著於十字標記，能施行良好曝光。

又，本發明的曝光裝置，在十字標記配置在曝光氣氛中之狀態，即在至少覆蓋十字標記的一部分的保護蓋由十字標記分離之狀態，可將保護蓋搬出曝光氣氛室之外部。因此，能夠檢查搬出曝光氣氛室外的保護蓋是否有污物附著，或需洗淨保護蓋，或替換保護蓋。

本發明的運送方法，可洗淨至少覆蓋十字標記的一部分之保護蓋，故能夠除去保護蓋附著的異物。因此，能夠 防止在保護蓋覆蓋之狀態、異物附著於十字標記。

又，本發明的十字標記處理方法，在十字標記實施曝光等處理之後，使用新的保護蓋覆蓋，不再使用污染的保護蓋，故能夠防止十字標記受污染。

為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。

以下，參考圖面說明本發明第一實施例的曝光裝置。圖1示第一實施例的曝光裝置之概略構造圖。如圖1所示，該曝光裝置包括：曝光部3，用以將在十字標記形成的圖案在感光性基板上曝光；以及十字標記運送部4(十字標記運送裝置)，將該十字標記經以後說明之加載互鎖真空室(load lock)12搬入曝光部3，及將十字標記經該加載互鎖真空室12搬出該曝光部3。

十字標記運送部4包括：大氣十字標記庫6，收納有形成各種圖案的多數之十字標記；及大氣側機器人8，可由該大氣十字標記庫6搬出所定的十字標記，運送到加載互鎖真空室12；以及潔淨室10，進行清潔保護十字標記的保護蓋。在大氣十字標記庫6收納各種用保護蓋覆蓋之狀態的十字標記，各十字標記用各別對應準備的保護蓋，至少覆蓋形成圖案之部分。

圖2示覆蓋十字標記1的保護蓋2之構造圖，圖3為說明保護蓋2之構造的分解圖。保護蓋2如圖2及圖3所 示包含上蓋2a及下蓋2b。上蓋2a，例如用鋁等金屬形成有過濾網2c及透明窗2d。過濾網2c之構造可防止污物等之微粒子侵入保護蓋2內，而且空氣可充分地流通。保護蓋2如後述的通過大氣狀態與真空狀態之空間，因在保護蓋2的上蓋2a與下蓋2b閉合形成內部空間之場合，亦因有過濾網2c使保護蓋2的外部與內部空間的壓力差減小，在上蓋2a與下蓋2b沒有因壓力差產生的力量。透明窗2d，可由保護蓋2的外部觀察十字標記1之狀態。

又，上蓋2a在圖之左右側設有二個突出部2e，用此二個突出部2e掛在未圖示的保持構件保持，將下蓋2b向下拉即可分離上蓋2a與下蓋2b。又在上蓋2a設有檢測其位置用的二個位置檢測用標誌2f，用未圖示的位置測量裝置測量該標記2f的位置，可測出上蓋2a的位置。

下蓋2b，例如用鋁等金屬製造，在四個角各有兩個成對的位置決定栓2g，及三處十字標記保持用突起部2h。位置決定栓2g為在保持十字標記時，用以決定十字標記的平面方向之位置。又，該些十字標記保持用突起部2h，即利用其三個點支持十字標記。

又在下蓋2b設有由玻璃等形成的透明窗2i、2j，可由下蓋2b的下側經透明窗2i、2j觀察在十字標記的標誌或ID標誌。在圖3雖然設有二個透明窗2i、2j，但在十字標記形成的標誌或ID標誌之位置一定之場合，設置一個透明窗就可以。該十字標記1，如圖2所示的收容於保護蓋2之狀態，收納在大氣十字標記庫6。

十字標記1的圖案面，圖4示其構造之一例。圖4示十字標記的圖案面，為圖3所示的十字標記1從下側所見之平面圖。在十字標記1的圖案面含有：圖案區域24，在該圖案面的中央部分形成要複製到晶圓上的全部半導體電路等之圖案；及非反射區域22，配置在該圖案區域24的周圍，由吸收體等形成；及基準反射面21；以及標誌區域23，為形成決定位置用的標誌或ID標誌的區域。該保護蓋2，以至少能覆蓋十字標記1的圖案區域24保護該區域較佳；如能覆蓋十字標記的圖案面全部，或更進而能覆蓋十字標記之全部，保護十字標記免受污物等的附著則更佳。本實施例雖採用將十字標記全部以上蓋2a及下蓋2b包覆之構造的保護蓋，但本例也可能使用在先前技術中說明的美國專利第6239863號之說明書，揭示的保護蓋等公知的保護蓋。例如，可使用僅保護十字標記1的圖案面之保護蓋，或用僅保護十字標記1的圖案區域之保護蓋等。又，本發明亦可能使用上述該些保護蓋以外的保護蓋，只要能夠保護十字標記的一部分之十字標記保護蓋皆可適用。

又該曝光裝置包括：加載互鎖真空室(load lock chamber)12，用以接受由十字標記運送部4送來的十字標記1；及預校正室14(prealigment chamber)，進行十字標記的預先校正；及曝光部3；以及真空側機器人16，在加載互鎖真空室12與預校正室14之間搬送十字標記1及保護蓋2。該些曝光部3、預校正室14及真空側機器人16， 收容在真空氣氛室內(曝光氣氛室、處理氣氛室內)。又加載互鎖真空室12之構造可真空排氣及大氣開放。

圖5示配設有無塵過濾器莢(clean filter pod，CFP)開蓋器25的預校室14之構造，為CFP開蓋器25，及保護蓋2分離成上蓋2a與下蓋2b，及十字標記1載置在下蓋2b上之狀態的概略圖。

CFP開蓋器25是由豎板25a與橫板25b形成的一段的格架(另一片豎板25a圖示省略)，該上蓋2a的突出部2e掛在橫板25b上，即上蓋2a成懸掛之狀態。

真空側機器人16用其前端部支撐下蓋2b之狀態，由橫板25b上方，將保護蓋2降下時，上蓋2a的突出部2e被卡在橫板25b。真空側機器人16的位置再下降時，下蓋2b及其上方載置的十字標記1，仍然下降，但上蓋2a因突出部2e卡在橫板25b上，故如圖所示保持在橫板25b上，使上蓋2a與下蓋2b及十字標記1分離。在此狀態，將真空側機器人16向圖中箭頭所示之方向引退就可取出在下蓋2b載置的十字標記1。

又，在CFP開蓋器25設有校正用平台22。該校正用平台22，可向圖示的X方向及與其直交的Y方向移動，又可以與XY方向垂直的Z方向為軸轉動(θ)。又，本實施例，該搭載上蓋2a的橫板25b為固定者，但需要調整上蓋之位置之場合，可設置驅動裝置移動之。

要進行十字標記1的校正(位置調整)時，可在真空側機器人16的前端部夾住搭載十字標記1的下蓋2b之狀 態，降下真空側機器人16，則可將下蓋2b載置在校正用平台22上。在下蓋2b載置於校正用平台22之上狀態，再降下真空側機器人16，使該機器人的前端部在不接觸下蓋2b之位置，該校正用平台22的中央部分形成凸出之形狀。又校正用平台22的中央部設有貫通孔22a，此乃為供位置測量裝置，測量下蓋2b的位置及十字標記的位置使用的。其後，移動校正用平台22，可進行十字標記1的位置校正。

曝光部3，設有支持由真空側機器人16搬入的十字標記1的十字標記保持器18。十字標記保持器18在圖4所示的十字標記1的圖案面之反對面，用靜電卡盤等吸著。在十字標記1由十字標記保持器18支持之狀態，由未圖示的光源射出之光，經未圖示的光學照明系統照明的十字標記1之圖案，經未圖示的光學投影系統投影在感光性基板上，使十字標記1的圖案在感光性基板上曝光。

其次，參考圖6的流程圖，說明使用第一實施例的十字標記運送部4，對曝光部3運送十字標記1的十字標記運送方法。

首先，用大氣側機器人8，從大氣十字標記庫6取出由保護蓋2保護的十字標記1，搬入加載互鎖真空室12(步驟S10)。

其次，在步驟S10將保護蓋2保護的十字標記1搬入加載互鎖真空室12之後，為了將該十字標記1搬入真空狀態的曝光部3，將加載互鎖真空室12真空排氣，使加載互鎖真空室12內成真空狀態(步驟S11)。此時，保護蓋內 亦真空排氣形成真空狀態。其後，使用真空側機器人16由上述之加載互鎖真空室12取出受保護蓋2覆蓋的十字標記1，再搬入預校正室14，進行十字標記1的預校正(步驟S12)。此時，可分離保護蓋2的上蓋2a。

其後，使用真空側機器人16，從預校正室14取出由保護蓋2的下蓋2b覆住的十字標記1，運送到曝光部3配設的十字標記保持部18(十字標記搬入工程)，使十字標記1吸著於十字標記保持部18(步驟S13)，再取下保護蓋2的下蓋2b。其次，在步驟S13的十字標記1吸著於十字標記保持部18之後，利用真空側機器人16從曝光部3搬出保護該十字標記1的保護蓋2之上蓋2a及下蓋2b(步驟S14，保護蓋搬出工程)，並搬入加載互鎖真空室12。加載互鎖真空室12由真空狀態轉換成大氣狀態時，在加載互鎖真空室12內污塵飛舞之可能性甚高，所以上蓋2a與下蓋2b從曝光部3搬出時，最好閉合使飛塵不會侵入其內部空間。

在保護蓋2搬入加載互鎖真空室12之後，大氣開放加載互鎖真空室12，使加載互鎖真空室12內成大氣狀態(步驟S15)。此時，保護蓋2內亦大氣開放形成大氣狀態。其後，使用大氣側機器人8，從加載互鎖真空室12搬出保護蓋2搬入潔淨室10，進行保護蓋2的潔淨作業(步驟S16，保護蓋潔淨工程)。

保護蓋2的下蓋2b設置的位置決定栓2g及十字標記保持用突起部2h，在該保護蓋2內收容十字標記1時，因 與十字標記1接觸，所以在該位置決定栓2g及十字標記保持用突起部2h週邊發生污塵之可能性高，該污塵發生的異物(污物)，會附著在十字標記保持用突起部2h及十字標記1。又因重複使用搬進搬出十字標記1，在保護蓋2及十字標記1有異物推積，進而在十字標記1的圖案區域附著異物，有污染十字標記1的圖案區域之可能。如此，因十字標記1的圖案區域受污染，使在曝光部3的十字標記1之圖案，不能在感光性基板上正確曝光，致製造之半導體元件的良品率降低。因此有必要進行在位置決定栓2g及十字標記保持用突起部2h周邊，由飛塵發生的異物之除去的潔淨作業。

在步驟S16之具體的潔淨方法，可用公知的各種洗淨方法，如濕的清洗法、乾的清洗法、或吹風等用風吹飛異物的清洗法等，各種方法皆可使用。要點為，只要能夠將對曝光有不好影響的液體、固體等物質，從保護蓋2除去的清洗方法，都可利用為本發明的潔淨方法。例如，超音波洗淨(在ABZOL^®(商標名稱，一種洗淨液)液中約三分鐘+在鹼性洗淨液中約二分鐘+在純水中約一分鐘)的清洗過程後，進行乾燥(烘乾)就可以。在步驟S16的潔淨進行之後，可用微粒計數器(particle counter)等確認有無異物附著，在無異物附著之場合可終止潔淨作業，有異物附著之場合再度進行潔淨作業。

其次，使用大氣側機器人8從潔淨室10取出潔淨後的保護蓋2，搬入加載互鎖真空室12(步驟S17)。再於步驟 S17保護蓋2搬入加載互鎖真空室12之後，將加載互鎖真空室12排氣，形成真空狀態(步驟S18)。此時，該保護蓋2內亦排氣形成真空狀態。

再用真空側機器人16，從加載互鎖真空室12取出保護蓋2搬入預校正室14，然後待機至由曝光部3有十字標記1搬出(步驟S19)。在由曝光部3搬出十字標記1之際，用真空側機器人16從預校正室14搬出下蓋2b，將下蓋2b搬入曝光部3。然後，在以下蓋2b覆置十字標記1之狀態搬送到預校正室14，在預校正室14閉合下蓋2b與上蓋2a，在保護蓋2內收容十字標記1。保護蓋2收容的十字標記1，經加載互鎖真空室12搬出真空狀態室之外部。

第一實施例的曝光裝置，因設有潔淨至少覆蓋十字標記1的形成圖案區域的保護蓋之潔淨室10，能夠除法附著於保護蓋2的異物。因此能夠保持保護蓋2清潔之狀態，可抑制在十字標記附著異物，故能夠進行良好之曝光。特別是該十字標記1是配置在所謂之真空氣氛室內的清淨氣體環境中之狀態，將保護蓋2搬出該真空氣氛室外，可在保護蓋2清洗之際不會污染該十字標記1。

又在十字標記1進行曝光的時間，保護蓋2只是在待機，故可利用該空置之時間進行保護蓋2的清洗，故對製造設備的單位時間之產能無不良之影響。

第一實施例，在曝光裝置配設的十字標記運送部，設有清潔保護蓋的潔淨室10，在該十字標運送部進行保護蓋的清潔，但在十字標記運送部不設置潔淨室之場合，在其 他場所進行保護蓋之清潔也可以。

又在第一實施例，對應各個十字標記各別準備保護蓋，但用一個保護蓋搬送多數個十字標記也可以。即在第一實施例中，由曝光部3搬出之用於保護蓋十字標記1的保護蓋2，經清潔後被送到預校正室14待機，但用該清潔後的保護蓋2保護搬入該曝光部3的其他十字標記亦可。

在第一實施例，本發明的運送裝置用於十字標記的曝光處理，但在十字標記進行其他處理之場合亦有適用之可能。

以下，參照圖面說明本發明的第二實施例之曝光裝置。圖7示第二實施例的曝光裝置之構造圖。如圖7所示，第二實施例的曝光裝置之構造，與第一實施例的曝光裝置之構造比較，不同之點為配備保護蓋庫30、以及可供由保護蓋覆蓋的十字標記待機的真空十字標記庫31，其他的構造與第一實施例之曝光裝置相同。因此，為說明方便對同樣的構件使用同一符號，其說明省略。

在圖1的十字標記運送部4配置有潔淨室10，但在圖7的十字標記運送部4’配設保護蓋庫30取代。在該保護蓋庫30配置多數個清潔的保護蓋。該保護蓋2與十字標記一起經加載互鎖真空室12搬送入真空氣氛室，在真空氣氛室中保護蓋2與十字標記分離、其後只有保護蓋2經加載互鎖真空室12搬出到待機側。到此項為止的工程與第一實施例相同。本實施例使用配置在保護蓋庫30的其他保護蓋，代替第一實施例的清潔保護蓋2。即將在保護蓋庫30配置 的別的保護蓋，經加載互鎖真空室搬入真空氣氛室內，用以覆蓋曝光處理後的十字標記1。將用保護蓋保護的十字標記1，送到真空十字標記庫31待機亦可，或搬出到大氣側也可以。如此則曝光裝置的側面可不需配置潔淨室10，從配置之觀點較優良。且因使用清潔後的保護蓋，故能夠防止十字標記的污染。

又在保護蓋2附註十字標記等的ID資訊之場合，在保護蓋庫30或其他場所設有ID資訊的重寫裝置較好。此種重寫，因應ID資訊的形態可用各種周知的方法，例如交換機械式條碼形成的ID或軟體式的重寫ID資訊。ID資訊可用未圖示的ID閱讀器讀取。

在第一及第二實施例，該運送裝置4、4’是設在加載互鎖真空室12的側邊，但這種配置可用例如自走式的機器人等運送十字標記取代，即亦可用在曝光裝置的側邊不配設運送裝置4、4’的全部或一部分之構造。在此種場合，有可能多數個曝光裝置共用大氣十字標記庫6或潔淨室或保護蓋庫30，如此可減小潔淨室裝置所佔的空間，比較有利。

又在第一及第二實施例，在每次十字標記與保護蓋分離時清潔或替換保護蓋，但亦可設定在任意的時間清潔或更換保護蓋。例如該時間可依據十字標記保護蓋的使用次數(可用十字標記的安裝次數或由大氣搬入真空的次數等為使用次數)或使用時間決定。

又該交換時間，例如可由使用人直接在鍵盤輸入，記 憶在控制部40內設置的記憶部，由控制部40依據該記憶的資料輸出替換或清潔保護蓋之指令。該記憶部與控制部40分離配置亦可。又該資料輸入記憶部的方法，使用人經由網際網路輸入亦可。又可用軟碟、USB記憶體等各種記錄媒體預先記錄資料，該記錄媒體與曝光裝置用任意方式連接，即可將清潔或替換保護蓋的時間之資料輸入控制部40。該時間之資料，可直接用處理次數或時間等資料，或輸入計算該些資料的參數，由控制部40依次數或時間計算推求使用。

亦可配設污物檢測裝置，用以檢測保護蓋的一部分，例如與十字標記接觸的十字標記保持用突起部2h、位置決定栓2g或其周邊有無污物，依據該檢測結果進行保護蓋的替換或清潔。例如，在有異物存在之場合、或異物之數量超過容許值之場合，可設定為替換或清潔之時間。此種污物檢測裝置，可用如圖5所示的光學式污物檢測裝置，該污物檢測裝置包含光源51，以及檢測52用於檢測由光源51射出後，在十字標記保護蓋反射之光。在保護蓋有異物存在時，由於異物使光散亂，在檢測器52檢測之光的強度會變化，由該項變化可測出有無異物。該異物檢測裝置，只要能檢查出所望的異物，任何種裝置皆可用，用市售的微粒計數器亦可。圖5所示之例，為在預校正室14檢測異物，但在其他場所檢測也可以。例如圖7所示的實施例，可在真空十字標記庫31設置此種異物檢測裝置，進行異物之檢測。

設在十字標記保護蓋表示固有特徵的ID標誌(該標誌可固定在保護蓋，能夠分離取下之配置也好，可重寫之標誌亦可)，最好與十字標記的ID互相關連地管理。因為在保護內收容十字標記之狀態，由曝光裝置外部的保管之場合，只要從十字標記保護蓋的ID，就可判斷裡面收容何種類的十字標記。該ID可設計成能夠由機械讀取，或由使用人直接讀取亦可。當然，保護蓋自身為透明或保護蓋設有窗口，可透過保護蓋直接確認十字標記的種類之場合，不採取上述之關連亦可。又可將十字標記保護蓋收容於十字標記SMIF Pod(RSP)中，依據在RSP附註的ID標誌管理十字標記。

在十字標記ID與十字標記保護蓋的ID有互相關連管理之場合，如前述的在作業途中要交換保護蓋之場合，需修改新保護蓋的ID使與其收容之十字標記的ID相關連，可重寫或交換新保護蓋的ID。

十字標記保護蓋的管理，需先記存十字標記保護蓋的ID，以便在多數的十字標記保護蓋之中，決定那一個十字標記保護蓋要交換或清潔。如此則有多數的十字標記保護蓋存在時，仍能獨立決定各個十字標記保護蓋的交換或清潔時期。

上述實施例中，十字標記的處理是舉曝光處理為例說明，但在例如洗淨十字標記之場合等對十字標記實施其他處理之場合，也可能適用本發明。

如上所述，本發明因能使用無異物附著的潔淨狀態之 十字標記，例如在曝光工程能夠進行所望的複製，故能夠減低最終製造之元件的不良率。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

1‧‧‧十字標記

2‧‧‧保護蓋

3‧‧‧曝光部

4‧‧‧十字標記運送部

6‧‧‧大氣十字標記庫

8‧‧‧大氣側機器人

10‧‧‧潔淨室

12‧‧‧加載互鎖真空室

14‧‧‧預校正室

16‧‧‧真空側機器人

18‧‧‧十字標記保持器

21‧‧‧基準反射面

22‧‧‧非反射區域

23‧‧‧標誌區域

24‧‧‧圖案區域

25‧‧‧CFP開蓋器

30‧‧‧保護蓋庫

31‧‧‧真空十字標記庫

40‧‧‧控制部

51‧‧‧光源

52‧‧‧檢測器

圖1示第一實施例之曝光裝置的構造。

圖2示第一實施例的保護蓋之構造。

圖3示說明第一實施例的保護蓋之構造的分解圖。

圖4示第一實施例的十字標記之構造的說明圖。

圖5示第一實施例的預校正室之構造的說明圖。

圖6示第一實施例的十字標記之運送方法的流程圖。

圖7示第二實施例的曝光裝置之構造。

3‧‧‧曝光部

4‧‧‧十字標記運送裝置

6‧‧‧大氣十字標記庫

8‧‧‧大氣側機器人

10‧‧‧潔淨室

12‧‧‧加載互鎖真空室

14‧‧‧預校正室

16‧‧‧真空側機器人

18‧‧‧十字標記保持器

40‧‧‧控制部

Claims (32)

1. 一種十字標記運送裝置，為一種對處理氣氛室運送十字標記的運送裝置，其特徵為包括：十字標記搬入機構，將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記，搬入該處理氣氛室；及保護蓋搬出機構，在該十字標記搬入機構搬入該十字標記之後，將從該十字標記分離的該保護蓋，搬出該處理氣氛室；以及保護蓋潔淨機構，用以洗淨由該保護蓋搬出機構搬出的該保護蓋。
2. 如申請專利範圍第1項所述之十字標記運送裝置，其中配設保護蓋機構，將該保護蓋潔淨機構洗淨的該保護蓋，覆蓋在與搬入該處理氣氛室或由該處理氣氛室搬出的該十字標記不同的十字標記。
3. 如申請專利範圍第1項所述之十字標記運送裝置，其中在該處理氣氛室內配置保護蓋機構，用以將保護蓋潔淨機構洗淨的該保護蓋，覆蓋該十字標記。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之十字標記運送裝置，其中該處理氣氛室形成真空狀態。
5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之十字標記運送裝置，其中該處理氣氛室設有加載互鎖真空室，該加載互鎖真空室之室內氣氛可變換為真空狀態與大氣狀態；該搬入機構將用該保護蓋覆蓋的該十字標記，經該加載互鎖真空室搬入該處理氣氛室。
6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之十字標記運送裝置，其中該處理氣氛室即為曝光氣氛室。
7. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之十字標記運送裝置，其中該保護蓋至少覆蓋該十字標記之圖案形成區域。
8. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之十字標記運送裝置，其中該保護蓋係用於保護該十字標記。
9. 一種曝光裝置，用於將在該十字標記形成的圖案複製到感光性基板之曝光裝置，其特徵為該曝光裝置配置如申請專利範圍第1項至第8項之任一項所述之十字標記運送裝置。
10. 一種曝光裝置，用以將配置在曝光氣氛室的十字標記之圖案複製到感光性基板，其特徵為包括：十字標記搬入機構，將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記，搬入該曝光氣氛室；及保護蓋分離機構，在該十字標記搬入機構搬入該十字標記之後，從該十字標記分離該保護蓋；以及保護蓋搬出機構，在該保護蓋分離機構分離的十字標記配置在該曝光氣氛室之狀態，將該保護蓋搬出。
11. 如申請專利範圍第10項所述之曝光裝置，其中該曝光氣氛室為真空狀態。
12. 如申請專利範圍第9項至第11項中任一項所述之曝光裝置，其中該保護蓋至少覆蓋該十字標記的圖案形成區域。
13. 一種十字標記運送方法，為對處理氣氛室運送十字標記的十字標記運送方法，其特徵為包括：將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記搬入該處理氣氛室；及在該十字標記搬入後，將從該十字標記分離的該保護蓋，搬出該處理氣氛室；以及洗淨該搬出來的該保護蓋。
14. 一種十字標記運送方法，為對處理氣氛室運送十字標記的十字標記運送方法，其特徵為包括：將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記搬入該處理氣氛室；及在該處理氣氛室內，從該十字標記分離該保護蓋，以及在該分離保護蓋的十字標記配置在該處理氣氛室內之狀態，將該保護蓋搬出該處理氣氛室。
15. 如申請專利範圍第13項或第14項所述之十字標記運送方法，其中該保護蓋至少覆蓋該十字標記的圖案形成區域。
16. 一種十字標記處理方法，為一種在十字標記實施所望之處理的十字標記處理方法，其特徵為包括：將至少一部分被保護蓋覆蓋的該十字標記，運送到所望之位置；及分離該保護蓋及該十字標記；及對該分離的十字標記實施所望之處理，以及 用與該保護蓋不同的其他保護蓋，覆蓋實施該處理後的該十字標記。
17. 如申請專利範圍第16項所述之十字標記處理方法，其中該所望之處理，為在該十字標記照射照明光，將在該十字標記形成的圖案在感光性基板上曝光複製之曝光處理。
18. 如申請專利範圍第16項或第17項所述之十字標記處理方法，其中該保護蓋與該十字標記的分離，在潔淨氣氛中進行。
19. 如申請專利範圍第16項或第17項所述之十字標記處理方法，其中該保護蓋與該十字標記的分離，在真空狀態中進行。
20. 如申請專利範圍第16項或第17項所述之十字標記處理方法，其中該保護蓋至少覆蓋該十字標記的圖案形成區域。
21. 一種曝光裝置，為將遮光罩(mask)的圖案在影像面上形成之曝光裝置，其特徵為設有：控制裝置可輸出覆蓋該遮光罩之至少一部分的保護蓋之交換或洗淨時間。
22. 如申請專利範圍第21項所述之曝光裝置，其中設有記憶部，記憶該保護蓋的ID標誌。
23. 如申請專利範圍第21項或第22項所述之曝光裝置，其中加設污物檢測感應器，檢測該保護蓋有無污物附著。
24. 如申請專利範圍第21項或第22項所述之曝光裝置，其中設有記憶部，記憶該保護蓋的交換或洗淨時間。
25. 如申請專利範圍第23項所述之曝光裝置，其中設有記憶部，記憶該保護蓋的交換或洗淨之時間。
26. 一種從感光基板製造元件的方法，包括：將至少一部分被第一保護蓋覆蓋的十字標記，運送到所要的位置；將該第一保護蓋與該十字標記分離；以照明光照射分離的該十字標記，並將該十字標記上所形成的圖案曝光到該感光基板；以異於該第一保護蓋的第二保護蓋覆蓋在該曝光所使用的該十字標記。
27. 一種十字標記保護蓋的管理方法，其特徵為利用十字標記保護蓋的ID標誌，決定該十字標記保護蓋的交換或洗淨時間之方法。
28. 如申請專利範圍第27項所述之十字標記保護蓋的管理方法，其中依據該十字標記保護蓋的使用次數，決定該十字標記保護蓋的交換或清淨時間之方法。
29. 如申請專利範圍第27項所述之十字標記保護蓋的管理方法，其中依據十字標記保護蓋的使用時間，決定該十字標記保護蓋的交換或清洗時間之方法。
30. 如申請專利範圍第27項所述之十字標記保護蓋的管理方法，其中施行在該十字標記保護蓋有無異物附著之檢測，依據該檢測結果決定該十字標記保護蓋的交換或清 洗時間之方法。
31. 如申請專利範圍第27項至第30項中任一項所述之十字標記保護蓋的管理方法，其中將在該十字標記保護蓋附記的ID標誌與該十字標記的ID標誌互相關連地記存管理。
32. 如申請專利範圍第27項至第30項中任一項所述之十字標記保護蓋的管理方法，其中將在該十字標記保護蓋附記的ID標誌與計字標記的ID標誌互相關連地記存。