JPH05181262A - マスク洗浄方法及び装置 - Google Patents
マスク洗浄方法及び装置Info
- Publication number
- JPH05181262A JPH05181262A JP35967091A JP35967091A JPH05181262A JP H05181262 A JPH05181262 A JP H05181262A JP 35967091 A JP35967091 A JP 35967091A JP 35967091 A JP35967091 A JP 35967091A JP H05181262 A JPH05181262 A JP H05181262A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- case
- cleaning
- washing
- cleaned
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 洗浄後のマスクを常に清浄化されたマスクケ
ースに収納させることができ、しかもマスクとマスクケ
ースとを洗浄前後において常に対応させることができる
ようにする。 【構成】 マスク１とこのマスク１を収納するマスクケ
ース２とをそれぞれ分離手段１１によってそれぞれ分離
し、分離されたマスク１及びマスクケース２を第１の洗
浄手段１２及び第２の洗浄手段１３によってそれぞれ並
行して洗浄し、洗浄後のマスク１を洗浄後のマスクケー
ス２に収納手段１４によって収納する。
ースに収納させることができ、しかもマスクとマスクケ
ースとを洗浄前後において常に対応させることができる
ようにする。 【構成】 マスク１とこのマスク１を収納するマスクケ
ース２とをそれぞれ分離手段１１によってそれぞれ分離
し、分離されたマスク１及びマスクケース２を第１の洗
浄手段１２及び第２の洗浄手段１３によってそれぞれ並
行して洗浄し、洗浄後のマスク１を洗浄後のマスクケー
ス２に収納手段１４によって収納する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置の製
造工程において用いられるウエハ露光用マスクを洗浄す
るための方法及び装置に係り、特にマスクケースに収納
されたマスクを洗浄する方法及び装置に関する。
造工程において用いられるウエハ露光用マスクを洗浄す
るための方法及び装置に係り、特にマスクケースに収納
されたマスクを洗浄する方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程においては、一般
的に、光を用いてウエハ（或いはウエハ上に形成されて
いる各種の薄膜）上のホトレジストにパターンを露光す
る。このパターン露光には、密着露光、近接露光、等倍
投影露光、縮小投影露光等、様々な方法があるが、何れ
も基本的には、所定のパターンを有する露光用マスクを
光源の光により照明し、その照明によって得られるパタ
ーンの像をホトレジストに露光する。ところで、半導体
装置の高集積化が進み、パターン幅が狭くなると、マス
クに付着した極く小さな塵埃でもパターン露光に悪影響
を及ぼす。そこで、マスクは充分に洗浄する必要があ
り、例えば有機洗浄及び無機洗浄を行ってから加熱窒素
ガス中で乾燥するようにしている。そして通常、洗浄さ
れたマスクは、マスクケース（以下、単にケースと記載
する）に収納されて露光装置まで搬送され、使用時には
ケースから取り出されて露光装置に装着される。
的に、光を用いてウエハ（或いはウエハ上に形成されて
いる各種の薄膜）上のホトレジストにパターンを露光す
る。このパターン露光には、密着露光、近接露光、等倍
投影露光、縮小投影露光等、様々な方法があるが、何れ
も基本的には、所定のパターンを有する露光用マスクを
光源の光により照明し、その照明によって得られるパタ
ーンの像をホトレジストに露光する。ところで、半導体
装置の高集積化が進み、パターン幅が狭くなると、マス
クに付着した極く小さな塵埃でもパターン露光に悪影響
を及ぼす。そこで、マスクは充分に洗浄する必要があ
り、例えば有機洗浄及び無機洗浄を行ってから加熱窒素
ガス中で乾燥するようにしている。そして通常、洗浄さ
れたマスクは、マスクケース（以下、単にケースと記載
する）に収納されて露光装置まで搬送され、使用時には
ケースから取り出されて露光装置に装着される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、マスク
を完全に洗浄しても、この洗浄後のマスクを収納するケ
ースに塵埃等が付着していると、収納されたマスクに新
たに塵埃等が付着してしまう。このため、ケースも別に
洗浄するか、或いは予め洗浄されたケースを準備する必
要がある。しかし、マスクを洗浄する前または後にケー
スを洗浄すると、全体の洗浄時間が著しく長くなるとい
う問題があった。また、半導体装置の多品種生産におけ
るＦＡ化に伴い、マスクとケースとを一体的に管理した
いという要望が高まっているが、予め洗浄されたケース
を用いる場合は、マスクを収納するケースが洗浄前後で
別のものになり、マスクとケースとを洗浄前後において
対応させることができないという問題があった。
を完全に洗浄しても、この洗浄後のマスクを収納するケ
ースに塵埃等が付着していると、収納されたマスクに新
たに塵埃等が付着してしまう。このため、ケースも別に
洗浄するか、或いは予め洗浄されたケースを準備する必
要がある。しかし、マスクを洗浄する前または後にケー
スを洗浄すると、全体の洗浄時間が著しく長くなるとい
う問題があった。また、半導体装置の多品種生産におけ
るＦＡ化に伴い、マスクとケースとを一体的に管理した
いという要望が高まっているが、予め洗浄されたケース
を用いる場合は、マスクを収納するケースが洗浄前後で
別のものになり、マスクとケースとを洗浄前後において
対応させることができないという問題があった。
【０００４】そこで本発明は、洗浄後のマスクを常に清
浄化されたマスクケースに収納させることができ、しか
もマスクとマスクケースとを洗浄前後において常に対応
させることができるようにしたマスク洗浄方法及び装置
を提供することを目的とする。
浄化されたマスクケースに収納させることができ、しか
もマスクとマスクケースとを洗浄前後において常に対応
させることができるようにしたマスク洗浄方法及び装置
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄方法において、前記マスクと前
記マスクケースとをそれぞれ分離し、分離したマスク及
びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄し、洗浄後のマ
スクを洗浄後のマスクケースに収納するものである。ま
た、本発明は、マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄装置において、前記マスクと前
記マスクケースとをそれぞれ分離する分離手段と、分離
されたマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄
する第１の洗浄手段及び第２の洗浄手段と、洗浄後のマ
スクを洗浄後のマスクケースに収納する収納手段とを具
備するものである。
に、本発明は、マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄方法において、前記マスクと前
記マスクケースとをそれぞれ分離し、分離したマスク及
びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄し、洗浄後のマ
スクを洗浄後のマスクケースに収納するものである。ま
た、本発明は、マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄装置において、前記マスクと前
記マスクケースとをそれぞれ分離する分離手段と、分離
されたマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄
する第１の洗浄手段及び第２の洗浄手段と、洗浄後のマ
スクを洗浄後のマスクケースに収納する収納手段とを具
備するものである。
【０００６】
【作用】上述のように構成された本発明によれば、マス
クとマスクケースとを分離して個別に洗浄するので、マ
スク及びマスクケースがそれぞれ完全に洗浄される。ま
た、マスク及びマスクケースを並行して洗浄するので、
マスクを洗浄する前または後にマスクケースを洗浄する
場合と比較して、全体の洗浄時間が大幅に短縮される。
そして、洗浄後のマスクが洗浄後のマスクケースに収納
されるので、マスクとマスクケースとの対応が洗浄前後
において常に一致する。
クとマスクケースとを分離して個別に洗浄するので、マ
スク及びマスクケースがそれぞれ完全に洗浄される。ま
た、マスク及びマスクケースを並行して洗浄するので、
マスクを洗浄する前または後にマスクケースを洗浄する
場合と比較して、全体の洗浄時間が大幅に短縮される。
そして、洗浄後のマスクが洗浄後のマスクケースに収納
されるので、マスクとマスクケースとの対応が洗浄前後
において常に一致する。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。図１はマスク洗浄装置の概略構成図、図２はマ
スクとマスクケースの一例を示す斜視図である。
明する。図１はマスク洗浄装置の概略構成図、図２はマ
スクとマスクケースの一例を示す斜視図である。
【０００８】まず、図２において、マスク１は、例えば
石英ガラス等からなる透明なガラス基板の表面に、クロ
ム等の薄膜によって所定の回路パターンが形成されたも
のである。なお、縮小投影露光用のマスク１の場合は拡
大された回路パターンを有し、拡大マスク或いはレチク
ルと称されるが、ここでは単にマスクという。マスクケ
ース（以下、単にケースと記載する）２は、合成樹脂等
により形成された蓋体３と、ステンレス等の金属により
形成された底板４とによって構成されている。蓋体３は
開閉用の突片３ａを有し、底板４の上面にはマスク１を
支持するための複数本のピン４ａが設けられている。そ
して、マスク１は、洗浄後にケース２に収納されて露光
装置（図示せず）まで搬送され、使用時にはケース２か
ら取り出されて露光装置に装着される。
石英ガラス等からなる透明なガラス基板の表面に、クロ
ム等の薄膜によって所定の回路パターンが形成されたも
のである。なお、縮小投影露光用のマスク１の場合は拡
大された回路パターンを有し、拡大マスク或いはレチク
ルと称されるが、ここでは単にマスクという。マスクケ
ース（以下、単にケースと記載する）２は、合成樹脂等
により形成された蓋体３と、ステンレス等の金属により
形成された底板４とによって構成されている。蓋体３は
開閉用の突片３ａを有し、底板４の上面にはマスク１を
支持するための複数本のピン４ａが設けられている。そ
して、マスク１は、洗浄後にケース２に収納されて露光
装置（図示せず）まで搬送され、使用時にはケース２か
ら取り出されて露光装置に装着される。
【０００９】上記洗浄を行うマスク洗浄装置１０は、マ
スク１とケース２とをそれぞれ自動的に分離する分離手
段１１と、分離されたマスク１及びケース２をそれぞれ
並行して自動的に洗浄する第１の洗浄手段１２及び第２
の洗浄手段１３と、洗浄後のマスク１を洗浄後のケース
２に自動的に収納する収納手段１４とによって構成され
ている。
スク１とケース２とをそれぞれ自動的に分離する分離手
段１１と、分離されたマスク１及びケース２をそれぞれ
並行して自動的に洗浄する第１の洗浄手段１２及び第２
の洗浄手段１３と、洗浄後のマスク１を洗浄後のケース
２に自動的に収納する収納手段１４とによって構成され
ている。
【００１０】マスク１を収納しているケース２が分離手
段１１に搬送されてくると、この分離手段１１によって
ケース２の蓋体３と底板４とが分割されてマスク１が取
り出される。マスク１は第１の洗浄手段１２に供給され
て洗浄され、ケース２は第２の洗浄手段１３に供給され
て洗浄される。なお、これらの洗浄は、各種の薬液や純
水等の洗浄用液体による湿式洗浄及びその後の必要に応
じた乾燥、さらに各種の洗浄用気体による乾式洗浄等を
含んだものであってよい。また、その洗浄方法は各種の
方法を用いることができ、特にケース２の洗浄はブラシ
を用いるスクラブ洗浄でもよい。
段１１に搬送されてくると、この分離手段１１によって
ケース２の蓋体３と底板４とが分割されてマスク１が取
り出される。マスク１は第１の洗浄手段１２に供給され
て洗浄され、ケース２は第２の洗浄手段１３に供給され
て洗浄される。なお、これらの洗浄は、各種の薬液や純
水等の洗浄用液体による湿式洗浄及びその後の必要に応
じた乾燥、さらに各種の洗浄用気体による乾式洗浄等を
含んだものであってよい。また、その洗浄方法は各種の
方法を用いることができ、特にケース２の洗浄はブラシ
を用いるスクラブ洗浄でもよい。
【００１１】このように、マスク１とケース２とを分離
し、それぞれ個別に洗浄するので、マスク１の全体を完
全に洗浄することができ、また、ケース２も内側細部ま
で完全に洗浄することができる。また、マスク１及びケ
ース２を並行して洗浄することによって、マスク１を洗
浄する前または後にケース２を洗浄する場合と比較し
て、全体の洗浄時間を大幅に短縮することができる。
し、それぞれ個別に洗浄するので、マスク１の全体を完
全に洗浄することができ、また、ケース２も内側細部ま
で完全に洗浄することができる。また、マスク１及びケ
ース２を並行して洗浄することによって、マスク１を洗
浄する前または後にケース２を洗浄する場合と比較し
て、全体の洗浄時間を大幅に短縮することができる。
【００１２】洗浄が完了したマスク１及びケース２は収
納手段１４に供給され、この収納手段１４によってマス
ク１はケース２に収納される。なお、この収納の際に
は、マスク１が底板４のピン４ａ上に載置されて蓋体３
により覆われる。そして、マスク１を収納したケース２
は、露光装置まで搬送される。
納手段１４に供給され、この収納手段１４によってマス
ク１はケース２に収納される。なお、この収納の際に
は、マスク１が底板４のピン４ａ上に載置されて蓋体３
により覆われる。そして、マスク１を収納したケース２
は、露光装置まで搬送される。
【００１３】このように、洗浄されたマスク１が清浄化
されたケース２に直ちに収納されるので、マスク１に新
たに塵埃等が付着する恐れは全くない。また、洗浄前後
においてマスク１とケース２とが完全に対応しているの
で、例えばマスク１のロット番号とケース２のロット番
号とを関連付けることによって、洗浄後でも、どのマス
ク１がどのケース２に収納されているのかを常に把握す
ることができ、多品種生産のＦＡ化等でのウエハ露光に
おいて、マスク１とケース２とを一体的に管理すること
ができる。
されたケース２に直ちに収納されるので、マスク１に新
たに塵埃等が付着する恐れは全くない。また、洗浄前後
においてマスク１とケース２とが完全に対応しているの
で、例えばマスク１のロット番号とケース２のロット番
号とを関連付けることによって、洗浄後でも、どのマス
ク１がどのケース２に収納されているのかを常に把握す
ることができ、多品種生産のＦＡ化等でのウエハ露光に
おいて、マスク１とケース２とを一体的に管理すること
ができる。
【００１４】以上、本発明の一実施例に付き説明した
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、マスクケースは実施例以外に各種
の形状及び構造のケースを用いることができる。なお本
発明は、ウエハ露光用マスクの洗浄に限られることな
く、各種の露光用マスクの洗浄に適用することができ
る。
が、本発明は上記実施例に限定されることなく、本発明
の技術的思想に基づいて各種の有効な変更並びに応用が
可能である。例えば、マスクケースは実施例以外に各種
の形状及び構造のケースを用いることができる。なお本
発明は、ウエハ露光用マスクの洗浄に限られることな
く、各種の露光用マスクの洗浄に適用することができ
る。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マスクとこのマスクを収納するマスクケースとを分離
し、これらマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して
洗浄し、洗浄後のマスクを洗浄後のマスクケースに収納
することによって、マスク及びマスクケースをそれぞれ
完全にかつ短時間で洗浄することができ、しかもマスク
とマスクケースとを洗浄前後において常に対応させるこ
とができる。従って、洗浄されたマスクを常に清浄化さ
れたマスクケースに収納させることができると共に、マ
スク及びマスクケースの一体的な管理を極めて容易に行
うことが可能となる。
マスクとこのマスクを収納するマスクケースとを分離
し、これらマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して
洗浄し、洗浄後のマスクを洗浄後のマスクケースに収納
することによって、マスク及びマスクケースをそれぞれ
完全にかつ短時間で洗浄することができ、しかもマスク
とマスクケースとを洗浄前後において常に対応させるこ
とができる。従って、洗浄されたマスクを常に清浄化さ
れたマスクケースに収納させることができると共に、マ
スク及びマスクケースの一体的な管理を極めて容易に行
うことが可能となる。
【図１】本発明の一実施例におけるマスク洗浄装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】マスクとマスクケースの一例を示す斜視図であ
る
る
１ マスク ２ マスクケース ３ 蓋体 ４ 底板 １０ 洗浄装置 １１ 分離手段 １２ 第１の洗浄手段 １３ 第２の洗浄手段 １４ 収納手段
Claims (2)
- 【請求項１】 マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄方法において、 前記マスクと前記マスクケースとをそれぞれ分離し、分
離したマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄
し、洗浄後のマスクを洗浄後のマスクケースに収納する
ことを特徴とするマスク洗浄方法。 - 【請求項２】 マスクケースに収納された露光用のマス
クを洗浄するマスク洗浄装置において、 前記マスクと前記マスクケースとをそれぞれ分離する分
離手段と、分離されたマスク及びマスクケースをそれぞ
れ並行して洗浄する第１の洗浄手段及び第２の洗浄手段
と、洗浄後のマスクを洗浄後のマスクケースに収納する
収納手段とを具備することを特徴とするマスク洗浄装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35967091A JPH05181262A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | マスク洗浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35967091A JPH05181262A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | マスク洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05181262A true JPH05181262A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18465692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35967091A Withdrawn JPH05181262A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | マスク洗浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05181262A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
| JP2022041795A (ja) * | 2020-09-01 | 2022-03-11 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | マスクケース洗浄装置 |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP35967091A patent/JPH05181262A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
| JP2022041795A (ja) * | 2020-09-01 | 2022-03-11 | 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 | マスクケース洗浄装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |