JP2001066761A - 容器の洗浄乾燥装置 - Google Patents
容器の洗浄乾燥装置Info
- Publication number
- JP2001066761A JP2001066761A JP24168099A JP24168099A JP2001066761A JP 2001066761 A JP2001066761 A JP 2001066761A JP 24168099 A JP24168099 A JP 24168099A JP 24168099 A JP24168099 A JP 24168099A JP 2001066761 A JP2001066761 A JP 2001066761A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- washing
- drying chamber
- container
- box
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/72—Repair or correction of mask defects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 シリコンウエハーに対する露光マスクを入れ
る箱型容器３を洗浄水にて洗浄したのち乾燥する作業
を、自動的に行うことができるようにする。 【解決手段】 開閉扉１３を有する乾燥チャンバー１２
と、その下部の洗浄チャンバー１１とを備え、前記乾燥
チャンバー１２内にその開閉扉１３を開いて装填した前
記箱型容器３を、前記洗浄チャンバー１１内にまで下降
動して、ここで、噴出ノズル１９からの洗浄水の吹き付
けにて洗浄し、次いで、この洗浄の終わった前記箱型容
器３を、前記乾燥チャンバー１２内にまで上昇動して、
ここで、減圧状態にして乾燥する。
る箱型容器３を洗浄水にて洗浄したのち乾燥する作業
を、自動的に行うことができるようにする。 【解決手段】 開閉扉１３を有する乾燥チャンバー１２
と、その下部の洗浄チャンバー１１とを備え、前記乾燥
チャンバー１２内にその開閉扉１３を開いて装填した前
記箱型容器３を、前記洗浄チャンバー１１内にまで下降
動して、ここで、噴出ノズル１９からの洗浄水の吹き付
けにて洗浄し、次いで、この洗浄の終わった前記箱型容
器３を、前記乾燥チャンバー１２内にまで上昇動して、
ここで、減圧状態にして乾燥する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種の容器を、洗
浄水にて洗浄したのち乾燥するための装置に関するもの
である。
浄水にて洗浄したのち乾燥するための装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体チップの製造に際して使
用する露光マスク（レチクルを含む）は、図１に示すよ
うに、この露光マスク１における表裏両面又は表面に、
これに形成されているパターン膜を保護するためのペリ
クル２を装着し、上面及び一つの側面の各々に開閉蓋
４，５を備えた箱型容器３内に入れ、この状態で運搬等
の取り扱いを行うようにしているが、この取り扱い中に
おいて、前記箱型容器３の内面及び外面には、汚れが付
着するばかりか、パーティクル等の塵埃が付着すること
になるから、前記箱型容器３は、或る期間使用するごと
に、その内外面を洗浄水にて洗浄することが行われる。
用する露光マスク（レチクルを含む）は、図１に示すよ
うに、この露光マスク１における表裏両面又は表面に、
これに形成されているパターン膜を保護するためのペリ
クル２を装着し、上面及び一つの側面の各々に開閉蓋
４，５を備えた箱型容器３内に入れ、この状態で運搬等
の取り扱いを行うようにしているが、この取り扱い中に
おいて、前記箱型容器３の内面及び外面には、汚れが付
着するばかりか、パーティクル等の塵埃が付着すること
になるから、前記箱型容器３は、或る期間使用するごと
に、その内外面を洗浄水にて洗浄することが行われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来は、この
洗浄水による洗浄と、この洗浄後における乾燥を、作業
者が箱型容器を手で持った状態で行うようにしているか
ら、作業者の負担が大きいばかりか、乾燥に長い時間が
かかるので、作業能率がきわめて低いのであり、しか
も、洗浄の途中で、再度の汚れ及び塵埃等の付着が発生
するばかりか、作業中において箱型容器を破損するとい
う問題があった。
洗浄水による洗浄と、この洗浄後における乾燥を、作業
者が箱型容器を手で持った状態で行うようにしているか
ら、作業者の負担が大きいばかりか、乾燥に長い時間が
かかるので、作業能率がきわめて低いのであり、しか
も、洗浄の途中で、再度の汚れ及び塵埃等の付着が発生
するばかりか、作業中において箱型容器を破損するとい
う問題があった。
【０００４】本発明は、この洗浄水による洗浄と、この
洗浄後における乾燥とを、自動的に迅速に行うようにし
た装置を提供することを技術的課題とするものである。
洗浄後における乾燥とを、自動的に迅速に行うようにし
た装置を提供することを技術的課題とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、「開閉扉を有する乾燥チャンバーと、
この乾燥チャンバーの下部に配設した洗浄チャンバーと
を備え、前記乾燥チャンバーを減圧発生源に接続し、こ
の乾燥チャンバーの底板に、前記洗浄チャンバーに連通
する開口孔を設ける一方、前記洗浄チャンバー内に、昇
降機構にて上下動される昇降板を、その上昇位置におい
て当該昇降板にて前記開口孔を塞ぐように配設すると共
に、洗浄水の噴出ノズルを配設し、前記昇降板の上面
に、被洗浄容器を着脱自在に装着するブラケットを、当
該ブラケットが前記乾燥チャンバー内に突出するように
設ける。」という構成にした。
るため本発明は、「開閉扉を有する乾燥チャンバーと、
この乾燥チャンバーの下部に配設した洗浄チャンバーと
を備え、前記乾燥チャンバーを減圧発生源に接続し、こ
の乾燥チャンバーの底板に、前記洗浄チャンバーに連通
する開口孔を設ける一方、前記洗浄チャンバー内に、昇
降機構にて上下動される昇降板を、その上昇位置におい
て当該昇降板にて前記開口孔を塞ぐように配設すると共
に、洗浄水の噴出ノズルを配設し、前記昇降板の上面
に、被洗浄容器を着脱自在に装着するブラケットを、当
該ブラケットが前記乾燥チャンバー内に突出するように
設ける。」という構成にした。
【０００６】
【発明の作用・効果】この構成において、乾燥チャンバ
ーにおける開閉扉を開き、この乾燥チャンバー内に突出
しているブラケットに、被洗浄容器を装着して、前記開
閉扉を閉じたのち、前記ブラケットが設けられている昇
降板を、その昇降機構にて下降動することにより、前記
ブラケットに装着した被洗浄容器を、乾燥チャンバーの
底板における開口孔を介して洗浄チャンバー内に移行す
る。
ーにおける開閉扉を開き、この乾燥チャンバー内に突出
しているブラケットに、被洗浄容器を装着して、前記開
閉扉を閉じたのち、前記ブラケットが設けられている昇
降板を、その昇降機構にて下降動することにより、前記
ブラケットに装着した被洗浄容器を、乾燥チャンバーの
底板における開口孔を介して洗浄チャンバー内に移行す
る。
【０００７】そこで、この洗浄チャンバー内において、
前記被洗浄容器に対して噴出ノズルから洗浄水を吹き付
けることにより、被洗浄物を洗浄水にて洗浄することが
できる。
前記被洗浄容器に対して噴出ノズルから洗浄水を吹き付
けることにより、被洗浄物を洗浄水にて洗浄することが
できる。
【０００８】この洗浄が完了すると、前記昇降板を、当
該昇降板にて前記開口孔を塞ぐ位置まで上昇動すること
により、乾燥チャンバー内に水滴の付着した被洗浄容器
を移行することができると共に、この乾燥チャンバーを
密閉にして、大気圧以下の減圧状態にすることができる
から、前記被乾燥容器の表面に付着している水分を、蒸
発にて乾燥することができる。
該昇降板にて前記開口孔を塞ぐ位置まで上昇動すること
により、乾燥チャンバー内に水滴の付着した被洗浄容器
を移行することができると共に、この乾燥チャンバーを
密閉にして、大気圧以下の減圧状態にすることができる
から、前記被乾燥容器の表面に付着している水分を、蒸
発にて乾燥することができる。
【０００９】従って、本発明は、被洗浄容器の洗浄・乾
燥の全てを、当該被洗浄容器を乾燥チャンバーと洗浄チ
ャンバーとの間を移送することによって自動的に行うこ
とができるから、作業能率を大幅に向上できると共に、
洗浄の途中で、汚れ及び塵埃等が再度付着することを確
実に回避できるばかりか、被洗浄容器を損傷することを
確実に低減できる効果を有する。
燥の全てを、当該被洗浄容器を乾燥チャンバーと洗浄チ
ャンバーとの間を移送することによって自動的に行うこ
とができるから、作業能率を大幅に向上できると共に、
洗浄の途中で、汚れ及び塵埃等が再度付着することを確
実に回避できるばかりか、被洗浄容器を損傷することを
確実に低減できる効果を有する。
【００１０】しかも、本発明は、洗浄チャンバーと乾燥
チャンバーとを上下に配設し、下方の洗浄チャンバー内
において洗浄した被洗浄容器を、その乾燥チャンバー内
にその底面における開口孔から移行すると同時に、前記
開口孔を昇降板にて塞いで乾燥チャンバー内を密封して
真空乾燥するものであることにより、構造を簡単にで
き、且つ、小型化できる効果をも有する。
チャンバーとを上下に配設し、下方の洗浄チャンバー内
において洗浄した被洗浄容器を、その乾燥チャンバー内
にその底面における開口孔から移行すると同時に、前記
開口孔を昇降板にて塞いで乾燥チャンバー内を密封して
真空乾燥するものであることにより、構造を簡単にで
き、且つ、小型化できる効果をも有する。
【００１１】特に、請求項２に記載したように、前記洗
浄チャンバー内に、被洗浄容器に対する空気噴出ノズル
を、前記乾燥チャンバー内に、被洗浄容器に対する加熱
手段を各々設けることにより、洗浄後における被洗浄容
器を、これに対して空気の吹き付けにて付着水を少なく
した状態で乾燥チャンバー内に移行できることに加え
て、水滴の蒸発を加熱によって促進できるから、洗浄・
乾燥に要する時間をより短縮でき、前記の効果を助長で
きるのである。
浄チャンバー内に、被洗浄容器に対する空気噴出ノズル
を、前記乾燥チャンバー内に、被洗浄容器に対する加熱
手段を各々設けることにより、洗浄後における被洗浄容
器を、これに対して空気の吹き付けにて付着水を少なく
した状態で乾燥チャンバー内に移行できることに加え
て、水滴の蒸発を加熱によって促進できるから、洗浄・
乾燥に要する時間をより短縮でき、前記の効果を助長で
きるのである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
２及び図３の図面について説明する。
２及び図３の図面について説明する。
【００１３】この図において符号１１は、洗浄チャンバ
ーを、符号１２は、前記洗浄チャンバー１１の上面に配
設した乾燥チャンバーを各々示し、前記乾燥チャンバー
１２の前面には、開閉扉１３が設けられ、且つ、この乾
燥チャンバー１２における出口１４は、図示しない真空
ポンプ又はブロワー等の減圧発生源に接続され、更に、
この乾燥チャンバー１２における底板１５には、前記洗
浄チャンバー１１に連通する開口孔１６が穿設されてい
る。
ーを、符号１２は、前記洗浄チャンバー１１の上面に配
設した乾燥チャンバーを各々示し、前記乾燥チャンバー
１２の前面には、開閉扉１３が設けられ、且つ、この乾
燥チャンバー１２における出口１４は、図示しない真空
ポンプ又はブロワー等の減圧発生源に接続され、更に、
この乾燥チャンバー１２における底板１５には、前記洗
浄チャンバー１１に連通する開口孔１６が穿設されてい
る。
【００１４】一方、前記洗浄チャンバー１１内には、昇
降板１７を、前記乾燥チャンバー１２における底板１５
の下面にその開口孔１６を塞ぐように密接して配設し
て、この昇降板１７を、洗浄チャンバー１１内に配設し
た昇降機構１８にて昇降動するように構成し、且つ、こ
の洗浄チャンバー１１内には、前記昇降板１７の昇降経
路の左右両側に、洗浄水を内向きに噴出するようにした
洗浄水噴出ノズル１９と、空気を内向きに噴出するよう
にした空気噴出ノズル２０とを配設する。
降板１７を、前記乾燥チャンバー１２における底板１５
の下面にその開口孔１６を塞ぐように密接して配設し
て、この昇降板１７を、洗浄チャンバー１１内に配設し
た昇降機構１８にて昇降動するように構成し、且つ、こ
の洗浄チャンバー１１内には、前記昇降板１７の昇降経
路の左右両側に、洗浄水を内向きに噴出するようにした
洗浄水噴出ノズル１９と、空気を内向きに噴出するよう
にした空気噴出ノズル２０とを配設する。
【００１５】そして、前記昇降板１７の上面に、前記乾
燥チャンバー１２内に突出するブラケット２１を設け
て、このブラケット２１に、被洗浄容器を着脱自在に装
着できるように構成し、更に、前記乾燥チャンバー１２
内に、前記ブラケット２１に装着した被洗浄容器を輻射
加熱するための加熱盤２２を設ける。
燥チャンバー１２内に突出するブラケット２１を設け
て、このブラケット２１に、被洗浄容器を着脱自在に装
着できるように構成し、更に、前記乾燥チャンバー１２
内に、前記ブラケット２１に装着した被洗浄容器を輻射
加熱するための加熱盤２２を設ける。
【００１６】この構成において、乾燥チャンバー１２に
おける開閉扉１３を開き、この乾燥チャンバー１２内に
突出しているブラケット２１に、図１に示す露光マスク
用の蓋付き箱型容器被洗浄容器３を、その上面蓋４を開
いた状態で横向きに装着して、前記開閉扉１３を閉じた
のち（図２）、前記ブラケット２１が設けられている昇
降板１７を、その昇降機構１８にて下降動することによ
り、前記ブラケット２１に装着した箱型容器３を、図３
に示すように、乾燥チャンバー１２の底板１５における
開口孔１６を通して洗浄チャンバー１１内に移行する。
おける開閉扉１３を開き、この乾燥チャンバー１２内に
突出しているブラケット２１に、図１に示す露光マスク
用の蓋付き箱型容器被洗浄容器３を、その上面蓋４を開
いた状態で横向きに装着して、前記開閉扉１３を閉じた
のち（図２）、前記ブラケット２１が設けられている昇
降板１７を、その昇降機構１８にて下降動することによ
り、前記ブラケット２１に装着した箱型容器３を、図３
に示すように、乾燥チャンバー１２の底板１５における
開口孔１６を通して洗浄チャンバー１１内に移行する。
【００１７】そこで、この洗浄チャンバー１１内におい
て、前記箱型容器３に対して噴出ノズル１９から洗浄水
を吹き付けることにより、箱型容器３を洗浄水にて洗浄
することができる。
て、前記箱型容器３に対して噴出ノズル１９から洗浄水
を吹き付けることにより、箱型容器３を洗浄水にて洗浄
することができる。
【００１８】この洗浄が完了すると、前記昇降板１７
を、当該昇降板１７にて前記開口孔１６を塞ぐ位置まで
上昇動することにより、図２に示すように、乾燥チャン
バー１２内に水滴の付着した箱型容器３を移行すること
ができると共に、この乾燥チャンバー１２を密閉にし
て、大気圧以下の減圧状態にすることができるから、前
記箱型容器３の表面に付着している水分を、蒸発にて乾
燥することができる。
を、当該昇降板１７にて前記開口孔１６を塞ぐ位置まで
上昇動することにより、図２に示すように、乾燥チャン
バー１２内に水滴の付着した箱型容器３を移行すること
ができると共に、この乾燥チャンバー１２を密閉にし
て、大気圧以下の減圧状態にすることができるから、前
記箱型容器３の表面に付着している水分を、蒸発にて乾
燥することができる。
【００１９】そして、この乾燥が完了すると、乾燥チャ
ンバー１２内における減圧状態を解除したのち、開閉扉
１３を開いて、洗浄・乾燥済の箱型容器３を取り出し
て、これと引き換えに、乾燥チャンバー１２内における
ブラケット２１に次に洗浄する箱型容器３を装着して、
前記の作動を繰り返すのである。
ンバー１２内における減圧状態を解除したのち、開閉扉
１３を開いて、洗浄・乾燥済の箱型容器３を取り出し
て、これと引き換えに、乾燥チャンバー１２内における
ブラケット２１に次に洗浄する箱型容器３を装着して、
前記の作動を繰り返すのである。
【００２０】また、前記洗浄チャンバー１１内において
箱型容器３の洗浄を完了したあとで、この箱型容器３に
対して空気噴出ノズル２０から空気を吹き付けることに
より、前記箱型容器３に付着している余分の洗浄水を吹
き飛ばすことができるから、箱型容器３と一緒に乾燥チ
ャンバー１２内に持ち込む水分量を少なくすることがで
きる。
箱型容器３の洗浄を完了したあとで、この箱型容器３に
対して空気噴出ノズル２０から空気を吹き付けることに
より、前記箱型容器３に付着している余分の洗浄水を吹
き飛ばすことができるから、箱型容器３と一緒に乾燥チ
ャンバー１２内に持ち込む水分量を少なくすることがで
きる。
【００２１】更にまた、前記乾燥チャンバー１２内で乾
燥に際して、箱型容器３は、加熱盤２２からの輻射熱に
て加熱されることにより、水分を急速に蒸発することが
できる。
燥に際して、箱型容器３は、加熱盤２２からの輻射熱に
て加熱されることにより、水分を急速に蒸発することが
できる。
【００２２】なお、加熱手段としては、前記の実施の形
態による輻射加熱による加熱盤２２に限らず、他の加熱
手段を適用できることはいうまでもない。
態による輻射加熱による加熱盤２２に限らず、他の加熱
手段を適用できることはいうまでもない。
【図１】シリコンウエハーに対する露光マスクとこれを
入れる箱型容器を示す斜視図である。
入れる箱型容器を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態を示す縦断正面図である。
【図３】洗浄している状態を示す図である。
３ 被洗浄容器としての箱型容器 １１ 洗浄チャンバー １２ 乾燥チャンバー １３ 開閉扉 １５ 底板 １６ 開口孔 １７ 昇降板 １８ 昇降機構 １９ 洗浄水の噴出ノズル ２０ 空気噴出ノズル ２１ ブラケット ２２ 加熱盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H095 BA02 BE12 3L113 AA01 AB06 AB10 AC01 BA12 DA08 5F046 AA21 AA28
Claims (2)
- 【請求項１】開閉扉を有する乾燥チャンバーと、この乾
燥チャンバーの下部に配設した洗浄チャンバーとを備
え、前記乾燥チャンバーを減圧発生源に接続し、この乾
燥チャンバーの底板に、前記洗浄チャンバーに連通する
開口孔を設ける一方、前記洗浄チャンバー内に、昇降機
構にて上下動される昇降板を、その上昇位置において当
該昇降板にて前記開口孔を塞ぐように配設すると共に、
洗浄水の噴出ノズルを配設し、前記昇降板の上面に、被
洗浄容器を着脱自在に装着するブラケットを、当該ブラ
ケットが前記乾燥チャンバー内に突出するように設けた
ことを特徴とする容器の洗浄乾燥装置。 - 【請求項２】前記請求項１において、前記洗浄チャンバ
ー内に、被洗浄容器に対する空気の噴出ノズルを、前記
乾燥チャンバー内に、被洗浄容器に対する加熱手段を各
々設けたことを特徴とする容器の洗浄乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24168099A JP2001066761A (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | 容器の洗浄乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24168099A JP2001066761A (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | 容器の洗浄乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001066761A true JP2001066761A (ja) | 2001-03-16 |
Family
ID=17077931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24168099A Pending JP2001066761A (ja) | 1999-08-27 | 1999-08-27 | 容器の洗浄乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001066761A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
| AT514399A3 (de) * | 2013-05-21 | 2017-08-15 | Marolt Oswald | Körperschutzmittelreinigungsvorrichtung |
| JP2018185769A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル用表面部材、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネル用表面部材の選別方法 |
| KR20220066571A (ko) * | 2020-11-16 | 2022-05-24 | (주)에스티아이 | 포드 세정장치 |
| KR20220066572A (ko) * | 2020-11-16 | 2022-05-24 | (주)에스티아이 | 포드 세정챔버 |
-
1999
- 1999-08-27 JP JP24168099A patent/JP2001066761A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5071109B2 (ja) * | 2005-12-28 | 2012-11-14 | 株式会社ニコン | レチクル搬送装置、露光装置、レチクル搬送方法、レチクルの処理方法、及びデバイス製造方法 |
| AT514399A3 (de) * | 2013-05-21 | 2017-08-15 | Marolt Oswald | Körperschutzmittelreinigungsvorrichtung |
| JP2018185769A (ja) * | 2017-04-27 | 2018-11-22 | 大日本印刷株式会社 | タッチパネル用表面部材、タッチパネル、表示装置、及びタッチパネル用表面部材の選別方法 |
| KR20220066571A (ko) * | 2020-11-16 | 2022-05-24 | (주)에스티아이 | 포드 세정장치 |
| KR20220066572A (ko) * | 2020-11-16 | 2022-05-24 | (주)에스티아이 | 포드 세정챔버 |
| KR102565731B1 (ko) | 2020-11-16 | 2023-08-17 | (주)에스티아이 | 포드 세정챔버 |
| KR102593653B1 (ko) * | 2020-11-16 | 2023-10-26 | (주)에스티아이 | 포드 세정장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6743086B2 (ja) | 半導体クリーニングシステム及び半導体清浄方法 | |
| JP3910827B2 (ja) | 液処理装置 | |
| US4694527A (en) | Mask washing apparatus for production of integrated circuit | |
| US5939139A (en) | Method of removing coated film from substrate edge surface and apparatus for removing coated film | |
| TW399104B (en) | Anti-etching process and the method thereof | |
| TWI469864B (zh) | 壓印系統、壓印方法、程式及電腦記憶媒體 | |
| JP2011186006A (ja) | 基板収納装置 | |
| JP2001232250A (ja) | 膜形成装置 | |
| JP2002282801A (ja) | 真空蒸気洗浄方法およびその装置 | |
| JP2001066761A (ja) | 容器の洗浄乾燥装置 | |
| JP2000106341A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JPH1034094A (ja) | 基板カセットラックの洗浄方法 | |
| JP3474495B2 (ja) | 基板の洗浄方法及び洗浄装置 | |
| JP2002083854A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPH1147710A (ja) | 各種容器等の被洗浄物の自動洗浄装置 | |
| JP3673329B2 (ja) | 基板処理装置および洗浄方法 | |
| JPH1157634A (ja) | 洗浄装置 | |
| JP2006269928A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
| JP3811359B2 (ja) | 液処理装置 | |
| TW471008B (en) | Substrate transport device | |
| JPH07211685A (ja) | スピンナー洗浄装置 | |
| JP2920855B2 (ja) | 洗浄処理装置 | |
| JP2019087655A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JPH057270B2 (ja) | ||
| JP2002334829A (ja) | 洗浄乾燥装置 |