JPH1034094A - 基板カセットラックの洗浄方法 - Google Patents

基板カセットラックの洗浄方法

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JPH1034094A
JPH1034094A JP20880696A JP20880696A JPH1034094A JP H1034094 A JPH1034094 A JP H1034094A JP 20880696 A JP20880696 A JP 20880696A JP 20880696 A JP20880696 A JP 20880696A JP H1034094 A JPH1034094 A JP H1034094A
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JP
Japan
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cleaning
cassette rack
cassette
rack
washing
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Withdrawn
Application number
JP20880696A
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English (en)
Inventor
Yoshiteru Ikeda
義照 池田
Mikio Ishii
幹夫 石井
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KOKI TECHNO KK
Koki Co Ltd
Original Assignee
KOKI TECHNO KK
Koki Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板などのカセットラックを、洗浄筐体内に
おいて自動的に効率良く洗浄する方法を提供することに
ある。 【解決手段】 少なくとも正面壁の一部を開口した洗浄
筐体内の所定位置に基板のカセットラックを収容セット
したのち、カセットラックの外側下部全域を固定された
ノズルから噴出する洗浄液にて洗浄する行程、カセット
ラックの下面を除いた全域を、カセットの左右側上方に
配設した上下方向に揺動するノズルから噴出する洗浄液
にて洗浄する行程、前記洗浄液筐体の前面開口より挿入
された回動しながら前後移動するノズルから噴出する洗
浄液にて、カセットラックの内面全域を洗浄する行程、
前記各洗浄行程の選択的組み合わせによりカセットラッ
クの内外面全域を洗浄したのち、カセットラックの内外
面全域にエアーを吹き付け、残留洗浄液の水切りを行な
うことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は、半導体部品,L
CD(ガラス)基板,シリコンウエハー基板やプリント
基板などの搬送用として用いられるカセットラックに付
着した塵埃類を洗浄する方法に係る技術分野に属する。
【0002】
【従来技術とその課題】 図1に示すような、半導体部
品,LCD(ガラス)基板,シリコンウエハー基板,プ
リント基板などの部材を搬送するカセットラックは知ら
れている。このようなカセットラックの内外面や棚に付
着した塵埃類によって搬送部材が汚損又は損傷されるこ
とがあるため、カセットラックを洗浄する必要がある。
従来この種カセットラックの洗浄方法としては、洗浄液
槽中に浸漬する洗浄方法とスプレーノズルを用いた手洗
い方法とがある。前者の洗浄手段によれば、カセットラ
ックの内面細部にわたる洗浄ができないばかりか、洗浄
液の消費量が多くきわめて不経済である。又後者の洗浄
手段によれば、カセットラックの内面細部にわたる洗浄
が可能であるが、多くの時間を要し、又飛散する洗浄液
によって周辺が汚損されるとともに、労力を要するとい
う不都合がある。
【0003】本発明の目的は、基板などのカセットラッ
クを、洗浄筐体内において自動的に効率良く洗浄する方
法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】 上記目的は、少なくと
も正面壁の一部を開口した洗浄筐体内の所定位置に基板
のカセットラックを収容セットしたのち、カセットラッ
クの外側下部全域を固定されたノズルから噴出する洗浄
液にて洗浄する行程、カセットラックの下面を除いた全
域を、カセットの左右側上方に配設した上下方向に揺動
するノズルから噴出する洗浄液にて洗浄する行程、前記
洗浄液筐体の前面開口より挿入された回動しながら前後
移動するノズルから噴出する洗浄液にて、カセットラッ
クの内面全域を洗浄する行程、前記各洗浄行程の選択的
組み合わせによりカセットラックの内外面全域を洗浄し
たのち、カセットラックの内外面全域にエアーを吹き付
け、残留洗浄液の水切りを行なうことにより達成され
る。上記目的は、請求項1において、カセットラックの
左右側上方に配設した上下方向に揺動するノズルを左右
交互に動作させ、カセットラックの上面に噴出洗浄液の
干渉による洗浄性の低下が生じないようにしたことによ
り達成される。上記目的は、請求項1又は2において、
カセットラックの内面洗浄行程と外面洗浄行程を交互に
行ない、噴出洗浄液の干渉が生じないようにしたことに
より達成される。上記目的は、請求項1〜3のいずれか
において、少なくともカセットラックの下部全域を洗浄
するノズルを、エアーによる液切りに切り換えることに
より達成される。上記目的は、請求項1〜4のいずれか
において、洗浄筐体内の圧力をミストコレクターにより
減圧し、液切り時におけるミストの外部排出効率の向上
を図ることにより達成される。
【0005】
【発明の実施の形態】 図面について、本発明洗浄方法
の実施の形態を説明する。図1は本発明の洗浄方法によ
り洗浄するカセットラックの斜視図、図2は本発明方法
を実施するための洗浄システムの説明図、図3は図2の
洗浄装置を構成する洗浄筐体の縦断正面図、図4は図3
の横断平面図、図5は図3の縦断側面図、図6はカセッ
トラック内部を洗浄し水切りする機構の要部の一部切欠
正面図である。
【0006】図1についてカセットラックAの構成を説
明する。1は平面形状が方形をした天板であって、該天
板1の左右側縁中央部には下向きコ字形の取手2が夫々
付設されている。3は4個の大きな方形窓孔3aを格子
状に形成した前記天板1と同形同大の底板で、前記天板
1と底板3の左右側縁の前後端部及び中央部を片側三本
の短冊状柱板4によって結合し、前記天板1,底板3,
柱板4により立方体を構成する。一方、前記左右柱板4
の対向内面には多数の棚片5をとりつけ、この対向する
棚片5間にLCD(ガラス),しりこんウエハー基板,
プリント基板(図示略)の側縁が橋架的に載設される。
6は前記天板1と底板3の後端縁両側に、前記棚片5上
に橋架された基板の後端部上面に当接して基板の位置決
め及び上下動を抑制する段面6aを多段的に形成した規
制杆7である。上記カセットラックAは上述のように構
成されている。
【0007】次に、図2について、ローディング装置B
→洗浄装置C→乾燥装置D→アンローディング装置Eの
順に、移載装置Fで運行されるカセットラックAの洗浄
処理機構の構成について説明する。
【0008】ローディング装置Bは、水平姿勢のスクリ
ュー軸8に往復動可能に軸架された架台9上に、カセッ
トラックAを支持し昇降させるエアシリンダー構造の昇
降体10を設け、一方、前記スクリュー軸8の軸線にそ
ってこれの上方に複数のカセットラックAの仮置枠11
を並列配設し、最外側(紙面左端)の仮置枠11に対し
て洗浄しようとするカセットラックAをスクリュー軸8
の軸線と直交する矢印方向から供給搬入するようにし、
又最内側(紙面右端)の仮置枠11に載置されているカ
セットラックAを、後述する移載装置Fにより矢印のよ
うにピックアップし、次に述べる洗浄装置Cに搬送され
るように構成されている。前記各仮置枠11の上方には
カセットラックAの確認用のセンサー(図示略)を設
け、又前記スクリュー軸8の下方には、仮置枠11と対
応する架台9の位置を確認するセンサー(図示略)が配
設される。ローディング装置Bは上述のように構成され
ている。
【0009】洗浄装置Cの構成について説明すると、1
2はカセットラックAを所定の位置に収容セットする、
少なくとも正面壁の一部が開口された洗浄筐体であっ
て、該洗浄筐体12の天井全域が開口13され、この開
口13は屋根形をしたシャッター14にて開閉しうるよ
う構成されている。このシャッター14は図から容易に
理解しうるように、洗浄筐体12の左右側壁12aの板
面方向と平行で、かつ側壁12aの外側上方に水平に配
設した2本のスクリュー軸15に架台16を往復移動可
能に軸架するとともに、この架台16上にエアシリンダ
ー17を夫々垂設し、このエアシリンダー17の上端に
前記シャッター14の両側縁を夫々固定したもので、前
記エアシリンダー17の伸縮作用及び架台16の前後移
動により洗浄筐体12の上部開口13がシャッター14
によって開閉し得るようにしたものである。図中18は
両スクリュー軸15の駆動機構である。
【0010】前記洗浄筐体12の前面壁12b外側方に
は、洗浄筐体12の前後軸線方向と平行するスクリュー
軸19を水平に配設し、このスクリュー軸19に架台2
0を往復動可能に軸装するとともに、この架台20に、
図4〜図6で示すように先端に洗浄及び水切りノズル機
構21を備えた長尺パイプ22の基端部を回動可能に軸
装する。この洗浄及び水切りノズル機構21を備えた回
動する長尺パイプ22は、図4,図5に示すように、洗
浄筐体12の前面壁12bの中央部に形成した円筒形構
造の開口23を介して洗浄筐体12内を前後動及び回動
しながらカセットラックAを洗浄するようにしたもので
ある。
【0011】図6について前記洗浄及び水切りノズル機
構21及び長尺パイプ22の構成について説明する。長
尺パイプ22は2本の径の異るパイプ22aと22bを
同心状に二重構造としたものによって構成され、径小の
パイプ22aを径大のパイプ22bより若干長尺とな
し、パイプ22aの先端に、斜め前向きの洗浄水ノズル
24と斜め後向きの洗浄ノズル25を有するホルダー2
6を固装し、一方、径大のパイプ22bの先端に斜め前
向きのスリット構造をした水切りエアーノズル27と横
向きの同様構造からなる水切りエアーノズル28をもつ
ホルダー29を固装したものである。図中30は前記洗
浄筐体12の前面壁12bに設けた開口23を、カセッ
トラックAの洗浄作用時に閉塞し、洗浄水が開口23よ
り外部に飛散するのを防止する閉塞板である。洗浄及び
水切りノズル機構21は上述のように構成されている。
【0012】又図2に示す前記洗浄筐体12の内部両側
には、図3〜図5で示すように、両側壁12aの内面に
そって上方から複数の洗浄ノズル31aをもつパイプ3
1、このパイプ31の若干下方にスリット構造をした複
数の水切りエアーノズル32aをもつパイプ32が揺動
可能に配設されているとともに、側壁12aの下段に斜
め上向きの複数の洗浄水ノズル33aをもつパイプ33
が夫々固定的に配設されている。図4,図5のように、
前記パイプ31と33に設けられた前後端の洗浄水ノズ
ル31a,33aは夫々洗浄筐体12の中央部に向け傾
斜されており、洗浄筐体12内に収容セットしたカセッ
トラックAの前後側面が効率よく洗浄されるように構成
してある。又図4,図5に示すように、前記洗浄筐体1
2の後面壁12cの所定部位に水平姿勢のエアシリンダ
34を設け、このエアシリンダ34の両端から突設した
作用ロッド34aの両端に2本の作用杆35,36の下
端を枢着するとともに、該作用杆35,36の上端を前
記パイプ31,32の後端軸部31b,32bに夫々各
別に固定し、エアシリンダ34の左右移動により左右の
パイプ31,32が交互に上下方向に揺動しうるように
したものである。図中37はカセットラックAの支持脚
である。
【0013】38はミストコレクターで、該ミストコレ
クター38はモータ39をもつ吸引ファン40,排風筒
41及び前記洗浄筐体12の一側側壁12aに一端を接
続した可撓性ダクト42によって構成され、洗浄筐体1
2内で水切り操作が行われている時に使用し、ミストを
吸引除去するようにしたものである。前記洗浄装置Cは
上述のように構成されている。
【0014】次に、乾燥装置Dの構成について説明す
る。43は断熱構造からなる乾燥筐体で、この乾燥筐体
43には、電熱ヒータ44,モータ45をもつ杆班用の
ファン46,少量の外気をフィルター(図示略)を介し
て乾燥筐体43内に送気する給気筒47,乾燥筐体43
内の湿気を帯びた空気を外気に吸引排気する可撓性ダク
ト48をもつブロアー49が装備されている。又前記筐
体43の天壁全域は開口50されており、この開口50
は洗浄済みのカセットラックAを上方から供給し、乾燥
済みのカセットラックAを外部に取り出し次行程に排出
するためのものである。51は、乾燥筐体43の開口5
0に対して外側方から水平にスライド移動し、開口50
を閉塞可能としたシャッター板で、このシャッター板5
1の左右側下面には架台52が夫々設けてあり、この両
架台52は乾燥筐体43の両側壁の板面と平行した水平
姿勢のスクリュー軸53に螺合され、このスクリュー軸
53の回動によりシャッター板51が前後方向に移動
し、前記乾燥筐体43の開口50を開閉するように構成
されている。図中54は両スクリュー軸53を正逆回動
する駆動機構である。乾燥装置Dは上述のように構成さ
れている。
【0015】アンローディング装置Eの構成について説
明する。前記ローディング装置Bのスクリュー軸8と同
一軸線上に設けた水平姿勢のスクリュー軸55に往復動
可能に軸架された架台56上に、乾燥済みのカセットラ
ックAを支持し昇降させるエアシリンダ構造の昇降体5
7に設ける。一方、前記スクリュー軸55の軸線にそっ
てこれの上方に複数のカセットラックAの仮置枠58を
並列配設し、最内側(紙面左端)の仮置枠58に対して
乾燥済みのカセットラックaを、後述する移載装置Fに
より上方より供給載置するようにし、又最外側(紙面右
端)の仮置枠58に搬送供給されたカセットラックAを
矢印方向に搬出するようにしたものである。又前記各仮
置枠58の上方には、カセットラックAの確認用センサ
ー(図示略)を設けるとともに、前記スクリュー軸55
の下方には、仮置枠58と対応する架台56の位置を確
認するセンサー(図示略)が配設される。アンローディ
ング装置Eは上述のように構成されている。
【0016】カセットラックAの移載装置Fは、前記ロ
ーディング装置Bの最内側仮置枠11上に供給されたカ
セットラックAを、洗浄装置Cからの信号を受けてピッ
クアップし、洗浄装置Cを構成する洗浄筐体12内の所
定位置に供給載設して洗浄を行なう。そして洗浄済みの
カセットラックaを洗浄筐体12から取り出し乾燥装置
Dを構成する乾燥筐体43内にセットし乾燥する。乾燥
処理されたカセットラックAを取り出し、アンローディ
ング装置Eの最外側の仮置枠58上に下降供給する動
を、前記各装置B,C,D,Eからの信号により繰り返
し作動するものである。
【0017】次に、図についてカセットラックAの移載
装置Fの構成について説明する。59は、少なくとも、
前記ローディング装置Bを構成する最内側の仮置枠1
1,洗浄装置Cの洗浄筐体12,乾燥装置Dの乾燥筐体
43及びアンローディング装置Eの最内側の仮置枠58
の上方領域に配設され、前記各スクリュー軸8,55の
軸線にそう水平姿勢のスクリュー軸であって、このスク
リュー軸59には架台60が螺合されている。この架台
60の一側に垂直姿勢のスクリュー軸61を昇降可能に
螺合せしめるとともに、このスクリュー軸61の下端に
は回り止め機構(図示略)を備えたベース板62がとり
つけられる。更にこのベース板62の下面左右には、前
記スクリュー軸61の軸線と平行した方向にそって外側
方に伸縮動作するエアシリンダ63が夫々設けられ、こ
のエアシリンダ63の外側に、前記カセットラックAの
天板1の左右側に立設した取手2に外側方から係脱する
爪部材64を夫々設け、この両爪部材64をエアシリン
ダ63の作用で開いて閉じることにより、カセットラッ
クAの取手2を把持又は解放しうるように構成したもの
である。移載装置下は上述のように構成されている。
【0018】
【洗浄作用の説明】 上述した洗浄装置Cによるカセッ
トラックAの洗浄手段について述べる。移載装置Fによ
り洗浄筐体12内にカセットラックAが所定の位置、即
ち図3のように収容セットされると、洗浄筐体12の天
井開口13がシャッター14によって閉塞される。又洗
浄筐体12の前面に配設された長尺パイプ22が移動
し、前面壁12bに設けた開口23を介して洗浄及び水
切りノズル機構21を洗浄筐体12の内部に挿入すると
ともに、前記長尺パイプ22を回転可能に貫通した閉塞
板30を開口23に固定する。この状態でカセットラッ
クAの洗浄が可能な状態となる。
【0019】図3に示すように、複数の洗浄水ノズル3
1aが噴射される洗浄液によって、カセットラックAの
天板1の外面,柱板4の外面,柱板4間の窓部を介して
格子形状の底板3の上面及び規制杆7の外側面が洗浄さ
れるとともに、洗浄水ノズル31aの上下方向揺動によ
り前記各部の洗浄が左右交互に行われ、各洗浄水ノズル
31aが噴射される洗浄液の衝突干渉が防止され、特に
天板1の外面が効率良く洗浄され、天板1の中央部に塵
埃が残留しない。
【0020】又洗浄筐体12の左右側下端部に設けた複
数の洗浄水ノズル33aから噴射される洗浄液によっ
て、カセットラックAの格子状底板3の下面全域,柱板
4の外面,柱板4間の窓部を介して天板1の内面,規制
杆7の段面7aなどが連続的に洗浄される。
【0021】上記洗浄作用と併せて、洗浄筐体12の前
面開口23から挿入された洗浄水ノズル24,25が回
動しながら前後動する洗浄作用により、天板1の内面,
各柱板4の内面,柱板4に段設した多数の棚片5の棚
面,格子状の底板3の上面,規制杆7外周面及び段面7
aが斑なく洗浄される。
【0022】尚、前記各洗浄水ノズル31a,33a,
24,25による洗浄作用は、コンピュータ制御手段に
より連続,間欠あるいは交互に行ない、最も洗浄効率の
よい条件のもとで行なうようにする。
【0023】
【水切り作用の説明】 純水による上記洗浄作用が終了
したら、洗浄水ノズル31a,33a,24,25から
の洗浄水噴射を停止し、左右の水切りエアーノズル32
a,洗浄水をエアーに切換えた洗浄水ノズル33a,水
切りエアーノズル28からエアーを噴出させ、前記と同
様の作用でカセットラックA全面域の水切りを行なうと
同時に、洗浄筐体12に接続したミストコレクター38
を動作せしめて洗浄筐体12内を減圧させ、ミストの捕
集を効率よく行ない、水切り完了後全てを停止する。次
いで洗浄筐体12からシャッター14を退去させ、開口
13をオープンさせたのち、前記移載装置Fによって洗
浄,水切りされたカセットラックAを取り出し、乾燥装
置Dに搬送供給する。
【0024】
【発明の効果】 上述のように本発明の構成によれば、
次のような効果が得られる。 (a)特殊な形状,構造を有するカセットラックらは、
カセットラックの左右上方に配設した上下方向に揺動す
る洗浄水ノズルの交互洗浄作用により、噴射される洗浄
水が互いに干渉することなく効率よくカセットラックの
外面を洗浄し、又カセットラックの左右下方に設けた洗
浄水ノズルからの連続した洗浄作用によりカセットラッ
クの下面及び側面が効率よく洗浄され、併せて、カセッ
トラックの内面全域或は回動及び前後動する洗浄水ノズ
ルによって効率よく洗浄されるため、複雑構造をしたカ
セットラックが短時間に効率よく洗浄されるとともに、
水切りせしめられ乾燥効率の向上も図れる。 (b)洗浄水量も少量にて足りることから、経済的効果
も大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の洗浄方法により洗浄するカセットラ
ックの斜視図である。
【図2】 本発明方法を実施するための洗浄システムの
説明図である。
【図3】 図2の洗浄装置を構成する洗浄筐体の縦断正
面図である。
【図4】 図3の横断平面図である。
【図5】 図3の縦断側面図である。
【図6】 カセットラック内部を洗浄し水切りする機構
の要部の一部切結正面図である。
【符号の説明】
A カセットラック B ローディング装置 C 洗浄装置 D 乾燥装置 E アンローディング装置 F 移載装置 12 洗浄筐体 13 開口 14 シャッター 21 洗浄及び水切り機構 23 開口 24 洗浄水ノズル 25 洗浄水ノズル 27 水切りエアーノズル 31a 洗浄水ノズル 32a 水切りエアーノズル 33a 洗浄水ノズル 34 エアシリンダ 35 作用杆 36 作用杆

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも正面壁の一部を開口した洗浄
    筐体内の所定位置に基板のカセットラックを収容セット
    したのち、 カセットラックの外側下部全域を固定されたノズルから
    噴出する洗浄液にて洗浄する行程、 カセットラックの下面を除いた全域を、カセットの左右
    側上方に配設した上下方向に揺動するノズルから噴出す
    る洗浄液にて洗浄する行程、 前記洗浄液筐体の前面開口より挿入された回動しながら
    前後移動するノズルから噴出する洗浄液にて、カセット
    ラックの内面全域を洗浄する行程、 前記各洗浄行程の選択的組み合わせによりカセットラッ
    クの内外面全域を洗浄したのち、カセットラックの内外
    面全域にエアーを吹き付け、残留洗浄液の水切りを行な
    うことを特徴とする基板カセットラックの洗浄方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、カセットラックの左
    右側上方に配設した上下方向に揺動するノズルを左右交
    互に動作させ、カセットラックの上面に噴出洗浄液の干
    渉による洗浄性の低下が生じないようにしたことを特徴
    とする基板カセットラックの洗浄方法。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、カセットラッ
    クの内面洗浄行程と外面洗浄行程を交互に行ない、噴出
    洗浄液の干渉が生じないようにしたことを特徴とする基
    板カセットラックの洗浄方法。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかにおいて、少な
    くともカセットラックの下部全域を洗浄するノズルを、
    エアーによる液切りに切り換えることを特徴とする基板
    カセットラックの洗浄方法。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかにおいて、洗浄
    筐体内の圧力をミストコレクターにより減圧し、液切り
    時におけるミストの外部排出効率の向上を図ることを特
    徴とする基板カセットラックの洗浄方法。
JP20880696A 1996-07-19 1996-07-19 基板カセットラックの洗浄方法 Withdrawn JPH1034094A (ja)

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