JP3635659B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3635659B2 JP3635659B2 JP2001180454A JP2001180454A JP3635659B2 JP 3635659 B2 JP3635659 B2 JP 3635659B2 JP 2001180454 A JP2001180454 A JP 2001180454A JP 2001180454 A JP2001180454 A JP 2001180454A JP 3635659 B2 JP3635659 B2 JP 3635659B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaned
- processing tank
- tank
- turntable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、独立した複数の処理工程により被洗浄物を洗浄する洗浄装置に係るもので、例えば、各種精密加工部品やプリント回路基板、シリコンウェハーなどの各種電子部品を洗浄する洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の洗浄装置として特開昭55−99375号公報には、粗洗浄槽、超音波洗浄槽、蒸気洗浄槽を並設し、ロータリハンガーによって被洗浄物を収容したバケットを吊下げた状態で順次粗洗浄槽、超音波洗浄槽、蒸気洗浄槽に搬送し、洗浄時においてロータリハンガーに吊下げたバケットを降下させて、粗洗浄槽、超音波洗浄槽内に溜めた洗浄液に被洗浄物を浸漬して洗浄した後、蒸気洗浄槽によって被洗浄物に付着した洗浄液を除去してから搬出するように構成した洗浄装置が開示されている。
【0003】
しかし、このように、多数の洗浄槽を並設した洗浄装置においては、各洗浄槽を設置する広いスペースが必要であるため装置が大型化する。さらに、被洗浄物の洗浄工程において、被洗浄物を各洗浄槽の上部に搬送し、これを降下させて、各洗浄槽内の洗浄液に被洗浄物を浸漬して洗浄した後、被洗浄物を引き上げて次洗浄工程に搬送することから、被洗浄物を取り出すための昇降ストロークを確保する必要があるため、装置の全高も高くなるから、一層、装置が大型化する。しかも、洗浄工程が変わるたびに被洗浄物を昇降させる必要があり、処理に要する時間が長く、効率的な洗浄作業が行えない。
【0004】
本発明はこれらの問題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、洗浄装置の小型化を図ると共に処理に要する時間が比較的短い洗浄装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1の洗浄装置は、水平方向に回転するターンテーブルを設け、このターンテーブルの同一円周上に位置して被洗浄物が収納可能な複数の筒型の処理槽を設け、この処理槽の少なくとも1個の処理槽を除く前記各処理槽を介して上下一対の蓋体を対向配置し、その上下の蓋体の少なくとも何れか一方を昇降させて前記処理槽を密閉する昇降手段と、前記蓋体に連通して前記被洗浄物の洗浄・乾燥処理する洗浄・乾燥ユニットとを備えた洗浄装置であって、前記ターンテーブルを間歇的に回転させて被洗浄物を組み込みこんだ処理槽を洗浄・乾燥位置へと順次回転移送するように構成すると共に、前記各処理槽は前記ターンテーブルにバネを介して上下動自在に組み込まれ、前記上下各蓋体は各処理槽と僅かな隙間を保って保持され、前記ターンテーブルの停止時に、前記昇降手段により前記上部又は下部蓋体を昇降させて前記ターンテーブルに組み付けた各処理槽に押し付け、更に、前記バネで支持された各処理槽を同体的に昇降させて前記各処理槽を洗浄装置本体の枠状フレームの底部に立設された支柱に固定されている固定板に固定した前記上部又は下部蓋部に押し付けることを特徴とするものである。
【0006】
請求項1の構成により、ターンテーブルを中心として洗浄・乾燥ユニットをコンパクトに配置することができるとともに、被洗浄物は処理槽内に収納した状態のままターンテーブルを間歇的に回転させて洗浄・乾燥位置に短時間で搬送することが可能である。また、洗浄工程・乾燥工程が切り変わる毎の被洗浄物を処理槽から出入りさせる必要がないから、処理に要する時間が短縮化される。また、ターンテーブルを回転させる際、上下各蓋体と各処理槽との間に僅かな隙間が保持されるから、確実にターンテーブルを回転させるができるとともに、洗浄時には上下各蓋体で各処理槽を密閉して効果的に洗浄・乾燥処理することが可能となる。
【0007】
本発明の請求項2の洗浄装置は、請求項1記載の洗浄装置において、洗浄・乾燥工程が完了した被洗浄物を収納した処理槽を回転して開口させ、この位置を前記被洗浄物の組み込み及び取り出し位置としたものである。
【0008】
請求項2の構成により、洗浄・乾燥工程が完了した被洗浄物を回転させて取り出し位置に搬送することで、処理槽内から被洗浄物を容易に取り出すことができ、この後、空の処理槽に被洗浄物を組み込み、テーブルの回転により、処理槽内の被洗浄物は洗浄・乾燥ユニットへと搬送される。
【0009】
本発明の請求項3の洗浄装置は、請求項1又は2記載の洗浄装置において、前記洗浄ユニットは洗浄液又はリンス洗浄液を溜める貯水槽と、密閉した前記処理槽内に前記洗浄液又はリンス洗浄液を高圧噴射する噴射手段と、この噴射手段から被洗浄物に向けて噴射された洗浄液又はリンス洗浄液を処理槽内に循環させる循環パイプとを有するとともに、前記乾燥ユニットは密閉した前記処理槽内に熱風を送る送風手段と、この送風手段から前記処理槽へ送られる熱風を処理槽の外部に排出する排気パイプを備えたものである。
【0010】
請求項3の構成により、上下の蓋体で密閉した処理槽に収納した被洗浄物に向けて洗浄液を高圧噴出することにより、高圧洗浄液は被洗浄物の表面及び密閉した処理槽の内周面に激しく当たって乱流が生じ、被洗浄物の表面を効果的に洗浄を行うことができる。こうして洗浄が完了した後、密閉した処理槽に収納した被洗浄物に向けて熱風を送風することにより、被洗浄物を効率的に乾燥することができる。
【0011】
【0012】
【0013】
【発明の実施形態】
以下、本発明の実施例を添付図面を参照して説明する。図1〜図3は、本発明の一実施例を示しており、同図において、1は洗浄装置本体である。洗浄装置本体1は水平回動自在に設けたターンテーブル2を備え、このターンテーブル2に被洗浄物Wを収容する筒型の処理槽3を取り付ける複数の開口部4が形成されている。処理槽3の上下周縁にはフランジ部5,6が形成され、前記ターンテーブル2に形成した開口部4に処理槽3を挿入した際、上部フランジ部5をターンテーブル2上に載置することによってターンテーブル2に処理槽3を吊下げ保持している。また、ターンテーブル2に取り付ける処理槽3は、上部フランジ部5とターンテーブル2との間に介在するバネ7によってターンテーブル2上から僅かに浮き上がった状態で上下動自在に取り付けられている。なお、本実施例ではターンテーブル2には5つの処理槽3が同一円周上に位置して等間隔毎に取り付けられている。
【0014】
前記ターンテーブル2の中央部には上下に貫通した回転軸9が一体的に固着されている。また、前記洗浄装置本体1の枠状フレーム1Aの底部には、上端部に固定板10を固定した支柱11が立設されるとともに、前記枠状フレーム1Aの天板の内面には取付枠12が固定されている。この取付枠12の底板13と前記固定板10との間に前記回転軸9を軸受14によって回動自在に軸支している。前記取付枠12の底板13には回転軸9を駆動する駆動モータ15が固定され、この駆動モータ15によって回転軸9を間歇的に回転駆動することによって、回転軸9に一体化した前記ターンテーブル2及びターンテーブル2に組み付けた各処理槽3を一斉に回転移送するように構成している。前記処理槽3の回転に伴う移送経路に沿って前記処理槽3を密閉する上下一対の蓋体20,20Aが設けられている。この蓋体20,20Aは1つの処理槽3を除いて残った他の処理槽3に対応して設けられている。この上下の蓋体20,20Aはそれぞれドーム状に形成され、上部蓋体20が前記取付枠12の底板13に固定され、一方、下部蓋体20Aは前記固定板10にそれぞれ固定されている。また、前記上部蓋体20は昇降手段たるシリンダ21により昇降自在に取り付けられており、前記ターンテーブル2の回転時には、上部蓋体20は上限位置にあり、ターンテーブル2に組み付けた処理槽3と上下の蓋体20,20Aとの間には僅かな隙間が形成される。そして、ターンテーブル2の停止時に、前記シリンダ21により上部蓋体20を降下させてターンテーブル2に組み付けた各処理槽3に押し付け、さらに、バネ7で支持された各処理槽3を同体的に降下させて該各処理槽3を固定板10に固定した下部蓋体20Aに押し付ける。これにより、上下各蓋体20,20Aで各処理槽3を密閉する。なお、上下の各蓋体20,20Aは5つの処理槽3に対して1つ少ない上下4組の各蓋体20,20Aが設けられており、各蓋体20,20Aで処理槽3を密閉した際、洗浄装置本体1の最も前側に位置する一つの処理槽3には開口する。この位置が処理槽3への被洗浄物Wの組み込み・取出し位置Aとなる。
【0015】
また、各蓋体20,20Aの取り付け位置に隣接して第1〜第3の洗浄ユニット25、26、27と乾燥ユニット28が設けられている。各洗浄ユニット25、26、27にはそれぞれ洗浄液を溜める貯水槽29及びその貯水槽29内の洗浄液を噴射する噴射手段としての洗浄用ポンプ30が備えられている。なお、洗浄用ポンプ29と前記下部蓋体20Aとはパイプ32で連通し、さらに、上下各蓋体20,20Aと洗浄槽28とを循環パイプ33,34で連通している。また、乾燥ユニット28は、送風手段たるブロアモータ40、熱風ヒータ41、フィルタ42を備えている。そして、乾燥ユニット28と上部蓋体20とがパイプ45で連通するとともに、上部蓋体20Aには、乾燥ユニット28を外部に放出する排気パイプ46が連通している。
【0016】
次に、本実施例の作用を説明する。組み込み・取出し位置Aとなる洗浄装置本体1の処理槽3は常に開口しており、処理槽3内に組み付けたバケットCに被洗浄物Wを入れる。この被洗浄物Wの搬入は手動操作でもハンバーなどのクランプ手段などによりバケットCを処理槽3内に自動的に搬入するようにしてもよい。このようにして、処理槽3内に被洗浄物Wを搬入した後、駆動モータ15を駆動してターンテーブル2を間歇的に回転させる。なお、テーブル2には5つの処理槽3が等間隔毎に組み付けられ、テーブル2は72度のピッチで間歇的に回転するように制御される。これにより、被洗浄物Wを収納した処理槽3が第1の洗浄ユニット25の洗浄位置、すなわち、上下各蓋体20,20Aの間で停止する。テーブル2が停止すると、シリンダ21により各上部蓋体20を一斉に降下させ、上部蓋体20をそれぞれ処理槽3に押し付ける。テーブル2に組み付けた上部蓋体20はバネ7によってターンテーブル2上から僅かに浮き上がった状態で上下動自在に取り付けられているため、上部蓋体20によって押し付けられた処理槽3は降下し、固定板10に固定した下部蓋体20Aに当接し、処理槽3が上下の蓋体20,20Aにより密閉される。こうして処理槽3を上下の蓋体20,20Aで密閉した状態で第1の洗浄ユニット25の洗浄用ポンプ30により、貯水槽29内の洗浄液を下部蓋体20Aから高圧噴射する。この高圧で噴射され洗浄液は筒状の処理槽3を通って上部蓋体20、循環パイプ33から貯水槽29内に循環する。このように、密閉した処理槽3に収納した被洗浄物Wに向けて洗浄液を高圧噴出することにより、高圧洗浄液は被洗浄物Wの表面及び密閉した処理槽3の内周面に激しく当たって乱流が生じ、被洗浄物Wの表面を効果的に洗浄を行うことができる。こうして第1の洗浄ユニット25で被洗浄物Wの洗浄が完了した後、シリンダ21を作動し、上部蓋体20を一斉に上昇させる。これにより、上下各蓋体20,20Aが洗浄槽3から離れ、洗浄槽3はバネ7によって復帰し、上下各蓋体20,20Aと処理槽3との間に僅かな隙間が生じる。これによりテーブル2の回転が可能となり、前記駆動モータ15の作動により、前記と同様の手段で、テーブル2を回転させて洗浄槽3内の被洗浄物Wを第2の洗浄ユニット26へ回転移送する。
【0017】
被洗浄物Wが第2の洗浄ユニット26の洗浄位置で停止すると、上部蓋体20,20Aはシリンダ21によって一斉に降下し、洗浄槽3が密閉される。この後、第2の洗浄ユニット26の洗浄用ポンプ30を作動し、貯水槽29内のリンス洗浄液を被洗浄物Wに噴射してリンス洗浄が行われる。このリンス洗浄工程時においても前述した洗浄工程と同様、上下の蓋体20,20Aで処理槽3を密閉した状態で洗浄用ポンプ30から被洗浄物Wに向けてリンス洗浄が高圧噴射され、被洗浄物Wに残留する洗浄液などが除去される。
【0018】
リンス洗浄が完了すると、前記と同様な手段により、テーブル2を回転させて洗浄槽3内の被洗浄物Wを第3の洗浄ユニット27へ回転移送する。ここでは、純水などの濯ぎ液で被洗浄物Wに残留するリンス洗浄液を除去する。この濯ぎ工程は、前述した洗浄、リンス洗浄と同様、上下の蓋体20,20Aで処理槽3を密閉した状態で洗浄用ポンプ30から被洗浄物Wに向けて純水が高圧噴射され、被洗浄物Wに残留するリンス液などが除去し、洗浄工程が完了する。
【0019】
洗浄工程が完了すると、前記と同様な手段により、テーブル2を回転させて洗浄槽3内の被洗浄物Wを乾燥ユニット28へ回転移送する。ここでは、上下の蓋体20,20Aで処理槽3を密閉した状態でブロアモータ40で送られた空気が熱風ヒータ41で加熱し、フィルタ42で濾過した熱風を被洗浄物Wに吹き付けて被洗浄物Wを乾燥させて水切りを行う。こうして洗浄・乾燥サイクルが終了する。
【0020】
被洗浄物Wの洗浄・乾燥サイクルが終了すると、テーブル2を回転させて被洗浄物Wは組み込み・取出し位置Aへと送られる。すなわち、組み込み・取出し位置Aは上下の蓋体20,20Aがないから、処理槽3は開口し、洗浄・乾燥処理された被洗浄物Wの取り出しが可能となる。こうして、処理槽3から被洗浄物Wの取り出した後、空になった処理槽3に再び被洗浄物Wを収納し、再びテーブル2を回転させて前述した洗浄サイクルを行う。
【0021】
このように、本実施例では、ターンテーブル2に複数の処理槽3を同一円周上に配置し、その処理槽3に対応して処理槽3を密閉する上下の蓋体20,20Aと被洗浄物Wの洗浄サイクルを行う第1〜第3の洗浄ユニット第1〜第3の洗浄ユニット25、26、27と乾燥ユニット28を配置したことにより、ターンテーブル2を中心として第1〜第3の洗浄ユニット25、26、27と乾燥ユニット28をコンパクトに配置することができる。また、従来は、バケットに収納した被洗浄物をバケットをハンガーで吊下げた状態で並設した他数の各洗浄槽に被洗浄物を搬送する場合、次工程の洗浄工程へ移行する際、洗浄槽から完全に被洗浄物を引き上げた状態で隣接する洗浄槽の上方まで搬送し、これを洗浄槽内に降下するように構成していたので、被洗浄物を昇降させる上下の搬送ストロークを確保するには装置全体を高くする必要がある。しかし、本実施例では、被洗浄物Wは処理槽3内に収納した状態のままターンテーブル2を間歇的に回転させて第1〜第3の洗浄ユニット25、26、27の洗浄位置と乾燥ユニット28の乾燥位置に搬送することから、被洗浄物Wを引き上げて処理槽3から出入りさせる必要がないため、装置の高さも抑えられ、より小型化することができる。また、本実施例では、被洗浄物Wを回転させる際、処理槽3と上下の蓋体20,20Aとの間に僅かな隙間が形成され、被洗浄物Wを搬送する際、ターンテーブル2がスムーズに回転する。そして、被洗浄物Wを洗浄する際、上部蓋体20をシリンダ21で降下させることによって、上部蓋体20で処理槽3の上部開口部を密閉した状態で処理槽3を下方側に押し下げ、処理槽3をバネ7の付勢力に抗して降下させて処理槽3の下部開口部を下部蓋体20Aによって密閉する。このように、上部蓋体20を僅かに降下させるだけで、上下の蓋体20,20Aで処理槽3を密閉することができるとともに、被洗浄物Wを処理槽3に収納した状態のまま、ターンテーブル2の回転により被洗浄物Wを洗浄することにより、搬送時間を短縮化することが可能となるから、効率的に洗浄処理を行うことができる。また、上下の蓋体20,20Aで密閉した処理槽3に収納した被洗浄物Wに向けて洗浄液を高圧噴出することにより、高圧洗浄液は被洗浄物Wの表面及び密閉した処理槽3の内周面に激しく当たって乱流が生じ、被洗浄物Wの表面を効果的に洗浄を行うことができる。
【0022】
以上、本実施例を詳述したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。例えば、ターンテーブルや処理槽を密閉する昇降手段は前記実施例に限るものではない。また、ターンテーブルに組み込む処理槽、ひいてはターンテーブルの周縁に配置する洗浄ユニットの数も前記実施例に限定されるものではない。さらに、1つの処理槽を常に開口させて、この位置を組み込み・取出し位置とした例を示したが、2つの処理槽を常に開口させて組み込み位置と取出し位置とを分けてもよい。また、処理槽への被洗浄物の組み込みと取出しは自動化が可能である。
【0023】
【発明の効果】
本発明の請求項1の洗浄装置は、水平方向に回転するターンテーブルを設け、このターンテーブルの同一円周上に位置して被洗浄物が収納可能な複数の筒型の処理槽を設け、この処理槽の少なくとも1個の処理槽を除く前記各処理槽を介して上下一対の蓋体を対向配置し、その上下の蓋体の少なくとも何れか一方を昇降させて前記処理槽を密閉する昇降手段と、前記蓋体に連通して前記被洗浄物の洗浄・乾燥処理する洗浄・乾燥ユニットとを備えた洗浄装置であって、前記ターンテーブルを間歇的に回転させて被洗浄物を組み込みこんだ処理槽を洗浄・乾燥位置へと順次回転移送するように構成したものであるから、ターンテーブルを中心として洗浄・乾燥ユニットをコンパクトに配置することができるとともに、被洗浄物は処理槽内に収納した状態のままターンテーブルを間歇的に回転させて洗浄・乾燥位置に短時間で搬送することができるから、効率的に洗浄工程・乾燥工程を処理できる。また、前記各処理槽は前記ターンテーブルにバネを介して上下動自在に組み込まれ、前記上下各蓋体は各処理槽と僅かな隙間を保って保持され、前記昇降手段により上部蓋体と各処理槽とを降下させて前記処理槽を下部蓋体に密着させたものであるから、ターンテーブルを回転させる際、上下各蓋体と各処理槽との間に僅かな隙間が保持され、確実にターンテーブルを回転させることができるとともに、洗浄時には上下各蓋体で各処理槽を確実に密閉することが可能となる。
【0024】
本発明の請求項2の洗浄装置によれば、請求項1記載の洗浄装置において、洗浄・乾燥工程が完了した被洗浄物を収納した処理槽を回転して開口させ、この位置を前記被洗浄物 の組み込み及び取り出し位置としたものであるから、洗浄・乾燥工程が完了した被洗浄物を取り出し位置へと回転搬送し、処理槽内から被洗浄物を容易に取り出すことができ、この後、空の処理槽に被洗浄物を組み込み、テーブルの回転により、処理槽内の被洗浄物を洗浄・乾燥処理することができる。
【0025】
本発明の請求項3の洗浄装置によれば、請求項1〜3の何れか1項記載の洗浄装置において、前記洗浄ユニットは洗浄液又はリンス洗浄液を溜める貯水槽と、密閉した前記処理槽内に前記洗浄液又はリンス洗浄液を高圧噴射する噴射手段と、この噴射手段から被洗浄物に向けて噴射された洗浄液又はリンス洗浄液を貯水槽内に循環させる循環パイプとを有するとともに、前記乾燥ユニットは密閉した前記処理槽内に熱風を送る送風手段と、この送風手段から前記処理槽へ送られる熱風を処理槽の外部に排出する排気パイプを備えたものであるから、被洗浄物の表面を効果的に洗浄を行うことができるとともに洗浄が完了した被洗浄物を効率的に乾燥することができる。
【0026】
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例を示す洗浄装置の正面図である。
【図2】 同上洗浄装置の平面から見た断面図である。
【図3】 同上洗浄装置を側面方向から見た断面図である。
【符号の説明】
1 洗浄装置
2 ターンテーブル
20,20A 蓋体
21 シリンダ(昇降手段)
25,26,27 洗浄ユニット
28 乾燥ユニット
29 貯水槽
30 洗浄用ポンプ(噴射手段)
33,34 循環パイプ
40 ブロアモータ(送風手段)
46 排気パイプ
A 組み込み・取出し位置
Claims (3)
- 水平方向に回転するターンテーブルを設け、このターンテーブルの同一円周上に位置して被洗浄物が収納可能な複数の筒型の処理槽を設け、この処理槽の少なくとも1個の処理槽を除く前記各処理槽を介して上下一対の蓋体を対向配置し、その上下の蓋体の少なくとも何れか一方を昇降させて前記処理槽を密閉する昇降手段と、前記蓋体に連通して前記被洗浄物の洗浄・乾燥処理する洗浄・乾燥ユニットとを備えた洗浄装置であって、前記ターンテーブルを間歇的に回転させて被洗浄物を組み込みこんだ処理槽を洗浄・乾燥位置へと順次回転移送するように構成すると共に、前記各処理槽は前記ターンテーブルにバネを介して上下動自在に組み込まれ、前記上下各蓋体は各処理槽と僅かな隙間を保って保持され、前記ターンテーブルの停止時に、前記昇降手段により前記上部又は下部蓋体を昇降させて前記ターンテーブルに組み付けた各処理槽に押し付け、更に、前記バネで支持された各処理槽を同体的に昇降させて前記各処理槽を洗浄装置本体の枠状フレームの底部に立設された支柱に固定されている固定板に固定した前記上部又は下部蓋部に押し付けることを特徴とする洗浄装置。
- 洗浄・乾燥工程が完了した被洗浄物を収納した処理槽を回転して開口させ、この位置を前記被洗浄物の組み込み及び取り出し位置としたことを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
- 洗浄ユニットは洗浄液又はリンス洗浄液を溜める貯水槽と、密閉した前記処理槽内に前記洗浄液又はリンス洗浄液を高圧噴射する噴射手段と、この噴射手段から被洗浄物に向けて噴射された洗浄液又はリンス洗浄液を貯水槽内に循環させる循環パイプとを有するとともに、乾燥ユニットは密閉した前記処理槽内に熱風を送る送風手段と、この送風手段から前記処理槽へ送られる熱風を処理槽の外部に排出する排気パイプを備えたことを特徴とする請求項1又は2記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001180454A JP3635659B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001180454A JP3635659B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002370071A JP2002370071A (ja) | 2002-12-24 |
JP3635659B2 true JP3635659B2 (ja) | 2005-04-06 |
Family
ID=19020870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001180454A Expired - Lifetime JP3635659B2 (ja) | 2001-06-14 | 2001-06-14 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3635659B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5297057B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2013-09-25 | カヤバ工業株式会社 | 棒状部材の洗浄装置及び洗浄方法 |
KR101895746B1 (ko) * | 2018-01-11 | 2018-09-05 | 한국식품연구원 | 막김치 자동제조시스템 및 막김치 제조방법 |
KR102517814B1 (ko) * | 2018-10-08 | 2023-04-04 | 주식회사 포스코 | 소재 처리장치 |
CN110153788B (zh) * | 2019-05-21 | 2024-01-30 | 华安钢宝利高新汽车板加工(娄底)有限公司 | 刀具自动清洗设备 |
CN111285113B (zh) * | 2020-02-28 | 2021-03-16 | 绍兴德世精密机械有限公司 | 一种用于生产qpw5汽车空调用外平衡热力膨胀阀加工设备 |
-
2001
- 2001-06-14 JP JP2001180454A patent/JP3635659B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002370071A (ja) | 2002-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101992660B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 세정 방법 및 장치 | |
US6797076B1 (en) | Spray nozzle system for a semiconductor wafer container cleaning aparatus | |
US6374837B2 (en) | Single semiconductor wafer processor | |
US5259407A (en) | Surface treatment method and apparatus for a semiconductor wafer | |
EP2042245B1 (en) | Box cleaner for cleaning wafer shipping box | |
JP2003045839A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
US6322633B1 (en) | Wafer container cleaning system | |
US6412502B1 (en) | Wafer container cleaning system | |
JP3635659B2 (ja) | 洗浄装置 | |
JP3494293B2 (ja) | 密閉型容器の洗浄方法及び洗浄装置 | |
JP3078284B1 (ja) | 容器の連続洗浄装置 | |
JPH1034094A (ja) | 基板カセットラックの洗浄方法 | |
JPH07111963B2 (ja) | 基板の洗浄乾燥装置 | |
JP2004507102A (ja) | 半導体ウェハコンテナ洗浄装置 | |
JP4095722B2 (ja) | 半導体ウエハのポッド洗浄装置 | |
KR101045058B1 (ko) | 백 노즐 어셈블리 및 이를 구비한 기판 처리 장치 | |
JPS62502107A (ja) | 集積回路製造用の反応室として使用される石英管内の初期清浄度状態回復手段 | |
JP4043039B2 (ja) | 現像方法及び現像装置 | |
JP2002367945A (ja) | ウエーハ移載ロボットを備えたウエーハ洗浄システム | |
JPH1131676A (ja) | 洗浄システム | |
JPH07211685A (ja) | スピンナー洗浄装置 | |
KR102347973B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 | |
JPH0155573B2 (ja) | ||
JP2003168673A (ja) | ウエーハの洗浄および乾燥槽 | |
JP3899289B2 (ja) | 真空乾燥装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040830 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041015 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20041213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041226 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3635659 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080114 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090114 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100114 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110114 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110114 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120114 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130114 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130114 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |